JPS62112774A - 乱反射蒸着膜の形成方法 - Google Patents
乱反射蒸着膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS62112774A JPS62112774A JP60253248A JP25324885A JPS62112774A JP S62112774 A JPS62112774 A JP S62112774A JP 60253248 A JP60253248 A JP 60253248A JP 25324885 A JP25324885 A JP 25324885A JP S62112774 A JPS62112774 A JP S62112774A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- substrate
- metal
- deposited film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野：
近年、液晶表示用背景板、液晶表示用光拡散シート、ビ
デオプロジェクタ−用スクリーンなどの用途に、乱反射
特性を有するノートが用（・られている。本発明は良好
で簡便な乱反射蒸着膜の形成方法に関する。
デオプロジェクタ−用スクリーンなどの用途に、乱反射
特性を有するノートが用（・られている。本発明は良好
で簡便な乱反射蒸着膜の形成方法に関する。
従来技術及び発明が解決しようとする問題点：従来、乱
反射シートｖ得ろ方法としては、Ａ、シリカ、ガラスピ
ーズなど乞樹脂中に分散し、シート上に塗工し、然る後
にＡｄなとの金属を蒸着する方法、 Ｂ、真珠顔料（塩基性炭酸鉛、二酸化チタン被覆雲母な
ど）などの光拡散性物質ケノート上定塗工もしくは樹脂
中に分散しシートとする方法、Ｃ０内部に光拡散性組織
暑有する材料（発泡体、紙、不織布など）７利用する方
法、およびり、金属表面のサンドブラストなどによる粗
面化もしくは、合Ｆｙ、幀１脂フィルム表［頂を機械的
（こ粗面化したのちて金属ケ蒸着ｊろ方法、 などが知られている。
反射シートｖ得ろ方法としては、Ａ、シリカ、ガラスピ
ーズなど乞樹脂中に分散し、シート上に塗工し、然る後
にＡｄなとの金属を蒸着する方法、 Ｂ、真珠顔料（塩基性炭酸鉛、二酸化チタン被覆雲母な
ど）などの光拡散性物質ケノート上定塗工もしくは樹脂
中に分散しシートとする方法、Ｃ０内部に光拡散性組織
暑有する材料（発泡体、紙、不織布など）７利用する方
法、およびり、金属表面のサンドブラストなどによる粗
面化もしくは、合Ｆｙ、幀１脂フィルム表［頂を機械的
（こ粗面化したのちて金属ケ蒸着ｊろ方法、 などが知られている。
Ａは顔料および樹脂を選択する必要があ１）、所望の反
射牛〒１生ケ得ろためには、□顔ｔ１やビーズ７つでζ
（度分布、配合量、塗工状態なとて細心の管理が必要で
ある。Ｂは光拡散性物質の分散状態の管理が難しく、ま
たＣの内部に光拡散性組織を含むものやＤでは、該組織
の均一性の確保、異物、チリなどの混入を防止すること
がむずかしい。
射牛〒１生ケ得ろためには、□顔ｔ１やビーズ７つでζ
（度分布、配合量、塗工状態なとて細心の管理が必要で
ある。Ｂは光拡散性物質の分散状態の管理が難しく、ま
たＣの内部に光拡散性組織を含むものやＤでは、該組織
の均一性の確保、異物、チリなどの混入を防止すること
がむずかしい。
本発明は、上記の従来技術の問題点にかんがみ鋭意検討
した結果、乱反射特性を与えるために、基材温度を蒸着
金属融点に対する特定条件下に設定した場合、金属蒸着
膜に用いろ金属の固有の性質に基づき、乱反射時性？発
現する膜形成が可能な事に着眼したもので、金属蒸着膜
の形成時に粗面化する新規な乱反射膜の形成方法に関す
る。
した結果、乱反射特性を与えるために、基材温度を蒸着
金属融点に対する特定条件下に設定した場合、金属蒸着
膜に用いろ金属の固有の性質に基づき、乱反射時性？発
現する膜形成が可能な事に着眼したもので、金属蒸着膜
の形成時に粗面化する新規な乱反射膜の形成方法に関す
る。
この方法によれば、前述した従来技術（Ａ） 、 （Ｄ
）における金属蒸着膜形成法乞用いる乱反射膜の製造の
上で必須である基材シートの粗面化の前処理工程（塗工
、サンドブラストなど）が不要となり、かつ真空中での
加工（蒸着）のために、チリ、異物などの混入もきわめ
て少なくなり、製品性能面での優位性とともに工程の簡
略化にともなう生産性の同上により著しい経済効果が得
られる。
）における金属蒸着膜形成法乞用いる乱反射膜の製造の
上で必須である基材シートの粗面化の前処理工程（塗工
、サンドブラストなど）が不要となり、かつ真空中での
加工（蒸着）のために、チリ、異物などの混入もきわめ
て少なくなり、製品性能面での優位性とともに工程の簡
略化にともなう生産性の同上により著しい経済効果が得
られる。
問題点を解決するだめの手段：
本発明は、Ｂｉ 、 Ｓｎ 、 Ｐｂ 、 Ｚｎ 、
Ｃａ 、 Ｉｎ 、 Ａｇ。
Ｃａ 、 Ｉｎ 、 Ａｇ。
Ｃｕ 、 Ａｕ 、 ｋｌなどの金属の蒸着時に、基板
上での凝縮過程において、基板温度Ｔｓ（Ｋ）と該金属
の大気圧での融点Ｔｍ（Ｋ）がＴｓ＞（％）Ｔｍの時に
は該金属がいったん気相から液相（液滴）にかわり、液
滴がある程度大きくなってから結晶化（固体化）する蒸
着膜の形成メカニズムが乱反射膜もたらす薄膜構造乞形
成するという実験的事実の発見にもとづくものである。
上での凝縮過程において、基板温度Ｔｓ（Ｋ）と該金属
の大気圧での融点Ｔｍ（Ｋ）がＴｓ＞（％）Ｔｍの時に
は該金属がいったん気相から液相（液滴）にかわり、液
滴がある程度大きくなってから結晶化（固体化）する蒸
着膜の形成メカニズムが乱反射膜もたらす薄膜構造乞形
成するという実験的事実の発見にもとづくものである。
乱反射特性は蒸着膜上の微小球（結晶化部）の大きさに
より変わり、微小球の大きさは基板温度により変えるこ
とができ、基板温度なＴｓ＞（％）Ｔｍの条件に設定す
ることにより、任意の反射特性のジートン得ることがで
きる。
より変わり、微小球の大きさは基板温度により変えるこ
とができ、基板温度なＴｓ＞（％）Ｔｍの条件に設定す
ることにより、任意の反射特性のジートン得ることがで
きる。
基板としては、ガラス、セラミックス、紙、金属、プラ
スチックス等のシートあるいはバルク状物が挙げられろ
。プラスチックフィルム（例えば、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリエチレン。
スチックス等のシートあるいはバルク状物が挙げられろ
。プラスチックフィルム（例えば、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリエチレン。
ポリプロピレン、ポリイミドなど）を基板とじて用いろ
場合には、大気圧下の融点の犬ぎさから、工ｎ （Ｔｍ
＝ ４３０（Ｋ） ） 、 Ｓｎ （５０５（Ｋ））
、Ｂｔ（５４５（Ｋ）） 、 Ｃｄ （５９３（Ｋ））
、 Ｐｂ （６０１（Ｋ） ）。
場合には、大気圧下の融点の犬ぎさから、工ｎ （Ｔｍ
＝ ４３０（Ｋ） ） 、 Ｓｎ （５０５（Ｋ））
、Ｂｔ（５４５（Ｋ）） 、 Ｃｄ （５９３（Ｋ））
、 Ｐｂ （６０１（Ｋ） ）。
Ｚｎ （６９３（Ｋ））などが好適である。たとえば、
ポリエステルフィルム乞基板として使用し、Ｓｎを本発
明に従って蒸着する場合、Ｔ ｓ ＞ （Ｘ） Ｔｍの
条件からＴｓ＞６４°Ｃに設定し、蒸着時のポリエステ
ルフィルムの熱変形を抑制するため尾Ｔｓ＜１５０′″
Ｃに制限すれば、熱変形のなし・良好な乱反射蒸着フィ
ルムを得ることができる。
ポリエステルフィルム乞基板として使用し、Ｓｎを本発
明に従って蒸着する場合、Ｔ ｓ ＞ （Ｘ） Ｔｍの
条件からＴｓ＞６４°Ｃに設定し、蒸着時のポリエステ
ルフィルムの熱変形を抑制するため尾Ｔｓ＜１５０′″
Ｃに制限すれば、熱変形のなし・良好な乱反射蒸着フィ
ルムを得ることができる。
実施例１
ポリエステルフィルム（東しルミラー、１００μ）を１
００°Ｃに予め加熱し、かつ該温度に保持したま捷シャ
ッターを開き、ノズル開口（ｌ、５順ψ）のグラファイ
ト製るつぼ１４５０℃に加熱し熔融したＳｎ （Ｔｍ
＝ ５０５（Ｋ）） ｋ ６０分間、該フィルムに蒸着
した。（真空度２．ＯＸ １０ Ｔｏｒｒ ）蒸着表
面は雲っており、フィルム側から見た蒸着面も雲ってい
た。乱反射特性を見ろためにＨｅ−Ｎｅ レーザービ
ーム（波長： ６３２．）ｌ！ ｒｒｒｍ 、最大高カ
ニ １７７ＬＷ。
００°Ｃに予め加熱し、かつ該温度に保持したま捷シャ
ッターを開き、ノズル開口（ｌ、５順ψ）のグラファイ
ト製るつぼ１４５０℃に加熱し熔融したＳｎ （Ｔｍ
＝ ５０５（Ｋ）） ｋ ６０分間、該フィルムに蒸着
した。（真空度２．ＯＸ １０ Ｔｏｒｒ ）蒸着表
面は雲っており、フィルム側から見た蒸着面も雲ってい
た。乱反射特性を見ろためにＨｅ−Ｎｅ レーザービ
ーム（波長： ６３２．）ｌ！ ｒｒｒｍ 、最大高カ
ニ １７７ＬＷ。
スポット径：２順ψ）を入射角Ｏ°で試料（蒸着面）に
入射し、ｌＯ〜６０°の反射角における反射光強度乞フ
ォトダイオードで検知した。その結果２図１ （ａ）に
示す。該試料は１０〜６０° の反射角において角度に
依存しない良好な乱反射特性Ｙ有するとともに透過性も
有する。（波長５５０ｒＬｍで全光線透過率９％） 実施例２ ポリエステルフィルム（東しルミラ−１００μ）に実施
例１と同様にＳｎχ蒸着した。蒸着開始時には、基板温
度Ｔｓｇ基板冷却装置（水冷）７用いて２５°Ｃに設定
し、蒸着終了直前にＴ ｓ ：＞ （％）Ｔｍ乞みたす
Ｔｓ＝１００°Ｃとなるように基板加熱装置（赤外線ラ
ンプ）により温度調節を行ないＳｎを６０分間蒸着した
。
入射し、ｌＯ〜６０°の反射角における反射光強度乞フ
ォトダイオードで検知した。その結果２図１ （ａ）に
示す。該試料は１０〜６０° の反射角において角度に
依存しない良好な乱反射特性Ｙ有するとともに透過性も
有する。（波長５５０ｒＬｍで全光線透過率９％） 実施例２ ポリエステルフィルム（東しルミラ−１００μ）に実施
例１と同様にＳｎχ蒸着した。蒸着開始時には、基板温
度Ｔｓｇ基板冷却装置（水冷）７用いて２５°Ｃに設定
し、蒸着終了直前にＴ ｓ ：＞ （％）Ｔｍ乞みたす
Ｔｓ＝１００°Ｃとなるように基板加熱装置（赤外線ラ
ンプ）により温度調節を行ないＳｎを６０分間蒸着した
。
該試料はフィルム側からみると鏡面であり、表面（蒸着
面）からみると雲って（・た。実施例１と同様て乱反射
膜１生を測定した結果を図１（ｂ）ｌ／Ｃ示す。蒸着初
期におけろ鏡面膜の効果：・でより反射性が向上し、市
販の液晶表示体用反射シート（図１（Ｃ））と同等の性
能２示して（・ろ。
面）からみると雲って（・た。実施例１と同様て乱反射
膜１生を測定した結果を図１（ｂ）ｌ／Ｃ示す。蒸着初
期におけろ鏡面膜の効果：・でより反射性が向上し、市
販の液晶表示体用反射シート（図１（Ｃ））と同等の性
能２示して（・ろ。
比較例１
ポリエステルフィルム（東しルミラー１ＯＯμ厚み）の
温度を基板冷却装置により一定（２０”Ｃ）に保ちこれ
に実施例１，２と同様にＳｎを蒸着した。該試料はフィ
ルム側からみても、蒸着面からみても鏡面で、乱反射特
性も全く示さない。図１（ｄ） 発明の効果 本発明は、Ｂｉ 、 Ｓｎ ＋ Ｐｂ ｌ Ｚｎ ＋
Ｃｄ 、 Ｉｎ ＋ Ａｇ ＋Ｃｕ 、 Ａｕ 、 ｋ
ｌなどの金属のうちの少なくとも一種の金属を、Ｔｓ’
＞（％）Ｔｍの特定温度範囲に保った基板上に蒸着する
ことにより、乱反射蒸着膜を形成する方法であり、その
効果を列挙すると以下の通りである。
温度を基板冷却装置により一定（２０”Ｃ）に保ちこれ
に実施例１，２と同様にＳｎを蒸着した。該試料はフィ
ルム側からみても、蒸着面からみても鏡面で、乱反射特
性も全く示さない。図１（ｄ） 発明の効果 本発明は、Ｂｉ 、 Ｓｎ ＋ Ｐｂ ｌ Ｚｎ ＋
Ｃｄ 、 Ｉｎ ＋ Ａｇ ＋Ｃｕ 、 Ａｕ 、 ｋ
ｌなどの金属のうちの少なくとも一種の金属を、Ｔｓ’
＞（％）Ｔｍの特定温度範囲に保った基板上に蒸着する
ことにより、乱反射蒸着膜を形成する方法であり、その
効果を列挙すると以下の通りである。
（１）基板表面の粗面化工程および、もしくは基板の光
拡散性付与が不要となり、製造工程が簡略化できる。
拡散性付与が不要となり、製造工程が簡略化できる。
（２）真空中での加工のため、チリ、異物などの混入７
著しく低減でき、製品歩留りが向上する。
著しく低減でき、製品歩留りが向上する。
第１図は本発明の実施例１、実施例２、市販反射シート
比較例１の乱反射特性を示す図である。 （ａ） 実施例１（ｃ）市販の反射／−ト（ｂ）
／／２ （ｄ）比較例１特許出願人 山陽国策
バルブ株式会社（外５名） 阜１図 反ｗ！ｒ拘 （°） 手続補正９ １、事件の表示 昭和６０年特許！Ｊ′Ｉ第２５３２４８号２、発明の名
称 乱反射蒸着膜の形成力法 ３、補正をする者 事件との関係 行許出頴人 住所 名称 （２３４） 山陽国策バルブ株式会社４、代理
人 ｓ、！′ｌｔ＋正の大・１求 明細９［発明の詳細な説明］の掴 ６、補正の内容 （１） 明細書を下記のように補正する。 頁 行 補正前 補正後３ ８ 蒸着
金属融点 蒸着金属の融点５ １５ るつぼ
るつぼを５ １８ 雲っており 曇ってお
り５１８〜１９ 雲っていた 蛍っていた７７〜
８ 図１（ｄ） （図１（ｄ））以
上
比較例１の乱反射特性を示す図である。 （ａ） 実施例１（ｃ）市販の反射／−ト（ｂ）
／／２ （ｄ）比較例１特許出願人 山陽国策
バルブ株式会社（外５名） 阜１図 反ｗ！ｒ拘 （°） 手続補正９ １、事件の表示 昭和６０年特許！Ｊ′Ｉ第２５３２４８号２、発明の名
称 乱反射蒸着膜の形成力法 ３、補正をする者 事件との関係 行許出頴人 住所 名称 （２３４） 山陽国策バルブ株式会社４、代理
人 ｓ、！′ｌｔ＋正の大・１求 明細９［発明の詳細な説明］の掴 ６、補正の内容 （１） 明細書を下記のように補正する。 頁 行 補正前 補正後３ ８ 蒸着
金属融点 蒸着金属の融点５ １５ るつぼ
るつぼを５ １８ 雲っており 曇ってお
り５１８〜１９ 雲っていた 蛍っていた７７〜
８ 図１（ｄ） （図１（ｄ））以
上
Claims (2)
- （１）シート状基板の表面に、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｚｎ
、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌのうちの少なく
とも一種の金属を蒸着し乱反射蒸着膜を形成する工程に
おいて、シート状基板の温度（Ｔ＿ｓ（Ｋ））と該金属
の大気圧での融点（Ｔ＿ｍ（Ｋ））との関係を、Ｔ＿ｓ
＞（２／３）Ｔ＿ｍに保ちながら蒸着膜を形成すること
を特徴とする乱反射蒸着膜の形成方法。 - （２）シート状基板の表面に金属を蒸着し乱反射蒸着膜
を形成する工程において、始めはＴ＿ｓ≦（２／３）Ｔ
＿ｍとし、次いでＴ＿ｓ＞（２／３）Ｔ＿ｍとすること
により、連続的に蒸着膜の構造を変化させ、所望の乱反
射特性を得ることを特徴とする乱反射蒸着膜の形成方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60253248A JPS62112774A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | 乱反射蒸着膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60253248A JPS62112774A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | 乱反射蒸着膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62112774A true JPS62112774A (ja) | 1987-05-23 |
Family
ID=17248622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60253248A Pending JPS62112774A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | 乱反射蒸着膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62112774A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0467298A2 (en) * | 1990-07-16 | 1992-01-22 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Diffusion reflector |
| US5134038A (en) * | 1989-10-05 | 1992-07-28 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic recording medium with controlled grain morphology and topology |
| US5427867A (en) * | 1989-05-22 | 1995-06-27 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Substrate used for magnetic disk and magnetic recording medium using the substrate |
| JP2008235945A (ja) * | 2008-07-03 | 2008-10-02 | Sharp Corp | 発光素子 |
-
1985
- 1985-11-12 JP JP60253248A patent/JPS62112774A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5427867A (en) * | 1989-05-22 | 1995-06-27 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Substrate used for magnetic disk and magnetic recording medium using the substrate |
| US5134038A (en) * | 1989-10-05 | 1992-07-28 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic recording medium with controlled grain morphology and topology |
| EP0467298A2 (en) * | 1990-07-16 | 1992-01-22 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Diffusion reflector |
| JP2008235945A (ja) * | 2008-07-03 | 2008-10-02 | Sharp Corp | 発光素子 |
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