JPS62110748A - ゼオライトの再生法 - Google Patents
ゼオライトの再生法Info
- Publication number
- JPS62110748A JPS62110748A JP16443686A JP16443686A JPS62110748A JP S62110748 A JPS62110748 A JP S62110748A JP 16443686 A JP16443686 A JP 16443686A JP 16443686 A JP16443686 A JP 16443686A JP S62110748 A JPS62110748 A JP S62110748A
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- Japan
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- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は含水アセトンの脱水処理に使用したゼオライト
の再生法に関する１゜ 従来の技術 アセトン中の水分を除去する方法として、蒸留に、にる
方法があるか、水分的２０００〜３０００ｐｐｍが経済
的な採算分岐点となっており、より低水分のアセトンを
工業的に得るにはゼオライトによる水分吸着方法が有利
であり、約１０ｐｐｍ〜２００ ｐｐｍの低水分アセト
ンが取得できる（特開昭４．８−５２７’１４）。アセ
トン脱水処理に利用したゼオライトは加熱処理により吸
着された水およびアセトンを脱着させて再使用するのが
一般的である。
の再生法に関する１゜ 従来の技術 アセトン中の水分を除去する方法として、蒸留に、にる
方法があるか、水分的２０００〜３０００ｐｐｍが経済
的な採算分岐点となっており、より低水分のアセトンを
工業的に得るにはゼオライトによる水分吸着方法が有利
であり、約１０ｐｐｍ〜２００ ｐｐｍの低水分アセト
ンが取得できる（特開昭４．８−５２７’１４）。アセ
トン脱水処理に利用したゼオライトは加熱処理により吸
着された水およびアセトンを脱着させて再使用するのが
一般的である。
介す決しようとする問題点
上記ゼオライトの再生において、アセトンはカルボニル
基を有し化学的に不安定でありゼオライト上でその塩基
性にｊ；る触媒作用を受けてアセトン自身が反応して高
沸点物（例、ジアセトンアルコール、メシチルオキシド
）が生成し、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の
劣化の原因になるとされている。このように、アセトン
のような反応性の高い有機物の共存下での再生方法は実
用的な方法がなく、ゼオライトを経済的に再生できる方
法の開発が望まれている。
基を有し化学的に不安定でありゼオライト上でその塩基
性にｊ；る触媒作用を受けてアセトン自身が反応して高
沸点物（例、ジアセトンアルコール、メシチルオキシド
）が生成し、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の
劣化の原因になるとされている。このように、アセトン
のような反応性の高い有機物の共存下での再生方法は実
用的な方法がなく、ゼオライトを経済的に再生できる方
法の開発が望まれている。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、ゼオライトの能力の劣化を進めることな
く、経湾的に有利な再生方法を種々検討した結果、本発
明を完成した。
く、経湾的に有利な再生方法を種々検討した結果、本発
明を完成した。
すなわち、本発明は閉鎖系を循環する加熱不活性ガスの
系に含水アセトンの脱水処理に使用したゼオライトをお
き、加熱不活性ガスを該ゼオライトに接触させつつアセ
トンお、１−び水を系外に凝縮除去することを特徴とす
るゼオライトの再生法である。
系に含水アセトンの脱水処理に使用したゼオライトをお
き、加熱不活性ガスを該ゼオライトに接触させつつアセ
トンお、１−び水を系外に凝縮除去することを特徴とす
るゼオライトの再生法である。
本発明の再生法の対象となるゼオライトは、種々の化学
工業等において発生する含水アセトンを常法により脱水
処理に使用したものであれば特に限定されない。含水ア
セトンの発生ずる例としては、アセトンを用いる糖のケ
タール化反応（例、Ｌ−ソルボースにアセトンを反応さ
什るジアセトン−Ｌ−ソルボースの製造）があげられる
。再生に供されるゼオライトは、水分約１０００〜４０
００ｐｐｍの含水アセトンを、常法により、たとえばゼ
オライトの充填塔に通液し、脱水処理しｋものが用いら
れる。アセトンにはジアセトンアルコール、メジデルオ
キシド、フォロンなどの不純物が若干含まれていてもよ
い。
工業等において発生する含水アセトンを常法により脱水
処理に使用したものであれば特に限定されない。含水ア
セトンの発生ずる例としては、アセトンを用いる糖のケ
タール化反応（例、Ｌ−ソルボースにアセトンを反応さ
什るジアセトン−Ｌ−ソルボースの製造）があげられる
。再生に供されるゼオライトは、水分約１０００〜４０
００ｐｐｍの含水アセトンを、常法により、たとえばゼ
オライトの充填塔に通液し、脱水処理しｋものが用いら
れる。アセトンにはジアセトンアルコール、メジデルオ
キシド、フォロンなどの不純物が若干含まれていてもよ
い。
該処理に用いたゼオライトには水と共にアセトンも吸着
されているのが通常である。ゼオライトの種類は通常、
脱水処理に用いるものであれば特に限定されず、例えば
平均孔径が約３〜４オングストロームのものが一般に用
いられる。具体例としてはゼオラム３ＡＳＧ（東洋曹達
製）、モレキュラーンーブ３Ａ（ユニオン昭和製）、ミ
ズカシーブス４．Ａ−１５ＰＮ０６（水沢化学制）など
があげられる。
されているのが通常である。ゼオライトの種類は通常、
脱水処理に用いるものであれば特に限定されず、例えば
平均孔径が約３〜４オングストロームのものが一般に用
いられる。具体例としてはゼオラム３ＡＳＧ（東洋曹達
製）、モレキュラーンーブ３Ａ（ユニオン昭和製）、ミ
ズカシーブス４．Ａ−１５ＰＮ０６（水沢化学制）など
があげられる。
次に、本発明で使用される不活性ガスは、化学的反応性
が不活性なガスであればよく、好ましい例としては、窒
素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスが挙げられ、特に
窒素ガスが好ましく利用できる。
が不活性なガスであればよく、好ましい例としては、窒
素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスが挙げられ、特に
窒素ガスが好ましく利用できる。
不活性ガスは、閉鎖系において、大気圧を越える定圧下
、例えば約０１〜２０ｋｇ／ ｃｍ” Ｇ 、好ましく
は約０．１〜５ ｋｇ／ ｃ＋ｎ２Ｇ 、標準状態に換
算したガスの線速度約０．１〜５ｍ／秒、好ましくは約
０．１〜２ｍ／秒で、ブロワ−で循環させ、脱水処理後
のゼオライトに接触せしめる。これによって水およびア
セトンを脱着せしめ、ゼオライトの再生が行なわれる。
、例えば約０１〜２０ｋｇ／ ｃｍ” Ｇ 、好ましく
は約０．１〜５ ｋｇ／ ｃ＋ｎ２Ｇ 、標準状態に換
算したガスの線速度約０．１〜５ｍ／秒、好ましくは約
０．１〜２ｍ／秒で、ブロワ−で循環させ、脱水処理後
のゼオライトに接触せしめる。これによって水およびア
セトンを脱着せしめ、ゼオライトの再生が行なわれる。
本発明の再生法は、例えば第１図に示されるような工程
に従って好まし〈実施される。まず、バルブ１４．１９
を開けて、ゼオライトを充填した吸着塔２へ、含水アセ
トン管６を通して含水アセトンを通過させる。この処理
によ−）て含水アセトン中の水分はゼオライト１に吸着
され脱水アセトン管ｌＯより脱水アセトンを収得できる
。ゼオライトが脱水能力を失った後、バルブ１４．１９
を閉じ、バルブｌ ５，１７を開けて、再生で使用する
不活性ガスを、不活性ガス供給管１１より通じてゼオラ
イト供給塔２に残存している含水アセトンを排出アセト
ン管７から押し出すと同時に供給塔内を不活性ガスで置
換せしめろ。ゼオライトにに付着または吸着したアセト
ン量は一般に、ゼオライト量に対して約１５〜３５屯量
％、水分…約７〜１５重爪％である。
に従って好まし〈実施される。まず、バルブ１４．１９
を開けて、ゼオライトを充填した吸着塔２へ、含水アセ
トン管６を通して含水アセトンを通過させる。この処理
によ−）て含水アセトン中の水分はゼオライト１に吸着
され脱水アセトン管ｌＯより脱水アセトンを収得できる
。ゼオライトが脱水能力を失った後、バルブ１４．１９
を閉じ、バルブｌ ５，１７を開けて、再生で使用する
不活性ガスを、不活性ガス供給管１１より通じてゼオラ
イト供給塔２に残存している含水アセトンを排出アセト
ン管７から押し出すと同時に供給塔内を不活性ガスで置
換せしめろ。ゼオライトにに付着または吸着したアセト
ン量は一般に、ゼオライト量に対して約１５〜３５屯量
％、水分…約７〜１５重爪％である。
次にバルブ１５．１７を閉じ、バルブ１６を開け、ゼオ
ライト層に上記のように閉鎖系下でブロワ−４によって
循環し、ガスヒーター５で加熱した不活性ガスを接触せ
しめ、アセトン及び水を脱着、蒸発せしめるが、この場
合比較的低温の加熱不活性ガスを接触させてアセトンを
脱着せしめる工程と、さらに温度を高めて水を脱着せし
める工程に分けて実施することが実用的により好ましい
。
ライト層に上記のように閉鎖系下でブロワ−４によって
循環し、ガスヒーター５で加熱した不活性ガスを接触せ
しめ、アセトン及び水を脱着、蒸発せしめるが、この場
合比較的低温の加熱不活性ガスを接触させてアセトンを
脱着せしめる工程と、さらに温度を高めて水を脱着せし
める工程に分けて実施することが実用的により好ましい
。
すなわち、このような接触方法によってアセトン自身が
反応して高沸点物等の副生成物の発生量を少なくするこ
とができ、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の劣
化を有利に押えることができる。
反応して高沸点物等の副生成物の発生量を少なくするこ
とができ、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の劣
化を有利に押えることができる。
上記において、アセトンを脱着せしめる際の温度は加熱
不活性ガスにより、アセトンの沸点よりも高く、少なく
ともアセトンが炭化しない温度にゼオライトを加熱すれ
ばよいが、通常は約６０〜１２０℃に加熱することによ
って目的が達せられる。不活性ガス量は標準状態に換算
して吸着塔内の線速度が約０．１〜５ｍ／秒、好ましく
は約０．１〜２ｍ／秒になるように循環■しめろ。
不活性ガスにより、アセトンの沸点よりも高く、少なく
ともアセトンが炭化しない温度にゼオライトを加熱すれ
ばよいが、通常は約６０〜１２０℃に加熱することによ
って目的が達せられる。不活性ガス量は標準状態に換算
して吸着塔内の線速度が約０．１〜５ｍ／秒、好ましく
は約０．１〜２ｍ／秒になるように循環■しめろ。
かくしてゼオライト層を通過させた後のアセトンを含む
不活性ガスはゼオライト通過ガス管８からガス冷却器３
を通過させ、凝縮アセトンを凝縮液管９を通じて除去す
るが、この場合不活性ガス中のアセトン濃度が約３００
ｍｇ／ｆｆ以下、好ましくは約＋ｏＯｍｇ／ρ以下に
なるように冷却する。
不活性ガスはゼオライト通過ガス管８からガス冷却器３
を通過させ、凝縮アセトンを凝縮液管９を通じて除去す
るが、この場合不活性ガス中のアセトン濃度が約３００
ｍｇ／ｆｆ以下、好ましくは約＋ｏＯｍｇ／ρ以下に
なるように冷却する。
上記のアセトン蒸発工程で副生成物が発生してもアセト
ンと共に凝縮するため不活性ガス中の副生酸物濃度は再
生中に増加することなくゼオライトの性能を劣化させな
い濃度（通常５〜ｌ０ｍｇ／Ｑ以下）に保つことができ
る。
ンと共に凝縮するため不活性ガス中の副生酸物濃度は再
生中に増加することなくゼオライトの性能を劣化させな
い濃度（通常５〜ｌ０ｍｇ／Ｑ以下）に保つことができ
る。
アセトンを蒸発させたゼオライト層には、次いでさらに
温度を高めた不活性ガスを接触させながら通過させ水を
脱着せしめろ。この場合の接触温度は約２００〜２５０
℃の範囲が好ましい。接触後の水分を含む不活性ガスは
冷却器３を通過させ凝縮水を凝縮液管９を通じて除去後
り→Ｊ−イクルさせる。
温度を高めた不活性ガスを接触させながら通過させ水を
脱着せしめろ。この場合の接触温度は約２００〜２５０
℃の範囲が好ましい。接触後の水分を含む不活性ガスは
冷却器３を通過させ凝縮水を凝縮液管９を通じて除去後
り→Ｊ−イクルさせる。
上記におけるアセトンおよび水の凝縮除去はこれらを含
む不活性ガスを約−５〜４０℃に冷却することにより行
なわれる。また冷却に用いられる冷媒はプロセスの特性
により海水、工業用水または他の冷媒などを任意に選択
使用できる。
む不活性ガスを約−５〜４０℃に冷却することにより行
なわれる。また冷却に用いられる冷媒はプロセスの特性
により海水、工業用水または他の冷媒などを任意に選択
使用できる。
水分を脱着させた後ガスヒーター５を止め、＝５〜４０
℃の不活性ガスをゼオライト層に接触させながら通過さ
せゼオライトを冷却せしめる。
℃の不活性ガスをゼオライト層に接触させながら通過さ
せゼオライトを冷却せしめる。
接触後の不活性ガスはガス冷却器３で冷却しリサイクル
させる。ゼオライト層を約３０〜５０℃へ冷却せしめて
全再生操作を終了する。
させる。ゼオライト層を約３０〜５０℃へ冷却せしめて
全再生操作を終了する。
」１記の操作の間、不活性ガスは、アセトン水の蒸発脱
着操作ではガス排出管１２を通じて系内を一定圧力に保
つようにバルブ１８を調整して排出され、ゼオライトの
冷却操作ではバルブ１７を調整してガス供給管１１を通
じて系内に不活性ガスを供給する。不活性ガスの消費量
は１回の再生につき充填塔及びガス管全容量の約２〜１
０倍量に留めることができる。
着操作ではガス排出管１２を通じて系内を一定圧力に保
つようにバルブ１８を調整して排出され、ゼオライトの
冷却操作ではバルブ１７を調整してガス供給管１１を通
じて系内に不活性ガスを供給する。不活性ガスの消費量
は１回の再生につき充填塔及びガス管全容量の約２〜１
０倍量に留めることができる。
寒廚貫
実施例１
ゼオライト［ゼオラム３ΔＳ Ｇ （東洋曹達）］を充
てんした２５ｍｍφＸ Ｉ ３５ Ｏｎ＋ｍｌｌの塔へ
水分３０００ｐｐｍを含んだアセトンを該ゼオライトが
脱水能力を失うまで通液した。このゼオライト充填塔に
、１２０℃の窒素ガスを圧力０．３ｋｇ／ｃｍ”Ｇ 、
循環量１．５ｍ３／Ｈ（線速度０．８５ｍ／ ５ｅｃ）
で通過させた後、冷却器で一２〜Ｏ℃まで冷却し窒素ガ
ス中のアセトンを凝縮回収した。次いで、浴出口温度が
６０℃まで上昇した時点で窒素ガス温度を２３０℃まで
加熱してゼオライト充填塔を通過させた後、冷却器で３
０〜３５℃まで冷却して窒素ガス中の水を凝縮回収した
。浴出口温度が２００℃まで」１昇すると次に ３５℃
の窒素ガスを循環してゼオライト充填塔出口が４０℃に
なるまで冷却した。
てんした２５ｍｍφＸ Ｉ ３５ Ｏｎ＋ｍｌｌの塔へ
水分３０００ｐｐｍを含んだアセトンを該ゼオライトが
脱水能力を失うまで通液した。このゼオライト充填塔に
、１２０℃の窒素ガスを圧力０．３ｋｇ／ｃｍ”Ｇ 、
循環量１．５ｍ３／Ｈ（線速度０．８５ｍ／ ５ｅｃ）
で通過させた後、冷却器で一２〜Ｏ℃まで冷却し窒素ガ
ス中のアセトンを凝縮回収した。次いで、浴出口温度が
６０℃まで上昇した時点で窒素ガス温度を２３０℃まで
加熱してゼオライト充填塔を通過させた後、冷却器で３
０〜３５℃まで冷却して窒素ガス中の水を凝縮回収した
。浴出口温度が２００℃まで」１昇すると次に ３５℃
の窒素ガスを循環してゼオライト充填塔出口が４０℃に
なるまで冷却した。
以上の操作を１サイクルとして３０ザイクルまで実施し
たときの窒素消費量、ゼオライトの水分吸着能力１強度
及び結晶性を測定した。その結果を第１表に示す。
たときの窒素消費量、ゼオライトの水分吸着能力１強度
及び結晶性を測定した。その結果を第１表に示す。
第 １ 表
来上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
■標準状態の容量
第１表に示されるように、本発明によると車掌ガスの消
費量が少なくして、ゼオライトを再生できる。
費量が少なくして、ゼオライトを再生できる。
実施例２
ゼオライト［モレキュラーシーブ３Ａ型（ユニオン昭和
）］を充填した２５ｎ＋ｍφｘ１３５０ｍｍＨの塔へ水
分３０００ ｐｐｍを含んだアセトンをゼオライトが脱
水能力を失うまで通液した。その後実施例１と同条件で
２０サイクルまで実施したときの窒素消費量と、再生を
行ったゼオライトに対して水分吸着能力、耐圧強度およ
び結晶性を測定した結果を第２表に示す。
）］を充填した２５ｎ＋ｍφｘ１３５０ｍｍＨの塔へ水
分３０００ ｐｐｍを含んだアセトンをゼオライトが脱
水能力を失うまで通液した。その後実施例１と同条件で
２０サイクルまで実施したときの窒素消費量と、再生を
行ったゼオライトに対して水分吸着能力、耐圧強度およ
び結晶性を測定した結果を第２表に示す。
第 ２ 表
ｘ」１記の通液、再生操作にイ・１第１）１１のゼオラ
イトを意味する。
イトを意味する。
実施例３
実施例１のゼオラム３ＡＳＧ（東１１″、曹達）充填塔
で窒素ガスの圧力２．０ｋｇ／ Ｃｍ２（： 、循環１
？ｔ１．Ｏｍ’／ Ｈ（線速度０．５７ｍ／５ｅｃ）と
し、その他は実施例１と同条件で２０サイクルまで実施
したときの窒素消費量と、再生を行ったゼオライＩ・の
物性を測定した結果を第３表に示す。
で窒素ガスの圧力２．０ｋｇ／ Ｃｍ２（： 、循環１
？ｔ１．Ｏｍ’／ Ｈ（線速度０．５７ｍ／５ｅｃ）と
し、その他は実施例１と同条件で２０サイクルまで実施
したときの窒素消費量と、再生を行ったゼオライＩ・の
物性を測定した結果を第３表に示す。
第３表
８上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
実施例４
ゼオライト ［ミズカシーブス４Ａ−１５ＰＮ０６（水
沢化学制）］を充填した２５ｍｍφ×１３５０ｍｍｌ−
１の塔へ水分３０００ ｐｐｍを含んだアセトンを該ゼ
オライトが脱水能力を失うまで通液した。
沢化学制）］を充填した２５ｍｍφ×１３５０ｍｍｌ−
１の塔へ水分３０００ ｐｐｍを含んだアセトンを該ゼ
オライトが脱水能力を失うまで通液した。
このゼオライト充填塔で圧力９ｋｇ／ｃｍ’Ｇ、循環ｊ
−ｔｔ ０ 、 ５ ｍ”／ Ｈとし、その他は実施例
１と同一条件で再生を行い通液再生を２０ザイクルまで
実施した時の窒素消費量と再生を行ったゼオライトの吸
着能及び耐圧強度の測定結果を第４表に示す。
−ｔｔ ０ 、 ５ ｍ”／ Ｈとし、その他は実施例
１と同一条件で再生を行い通液再生を２０ザイクルまで
実施した時の窒素消費量と再生を行ったゼオライトの吸
着能及び耐圧強度の測定結果を第４表に示す。
ゞ上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
比較例
ゼオライト［ゼオラム３ＡＳＧ（東洋曹達）］を充填し
た２５ｍｍφｘ Ｉ ３５ Ｏｎ＋ｍ１−１の塔で再生
圧力０．２ｋｇ／ＣＭ’Ｇ、再生ガスとして常に新窒素
を循環することなく使用した。その他の温度条件は実施
例Ｉと同条件とし、２０サイクルまで実施したときの窒
素消費量を第５表に示す。
た２５ｍｍφｘ Ｉ ３５ Ｏｎ＋ｍ１−１の塔で再生
圧力０．２ｋｇ／ＣＭ’Ｇ、再生ガスとして常に新窒素
を循環することなく使用した。その他の温度条件は実施
例Ｉと同条件とし、２０サイクルまで実施したときの窒
素消費量を第５表に示す。
（以下余白）
第 ５ 表
８上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
第５表の結果に示されるように、本発明方法に比較して
窒素消費量が極めて大である。
窒素消費量が極めて大である。
発明、の効果
本発明によると、含水アセトンの脱水処理に用いたゼオ
ライトをその水分吸着能力、耐久性をほとんど低下させ
ることなく再生でき、かつその再生に使用する不活性ガ
スの消費量は極めて少なくてすみ、工業的に有利なぜオ
ライド再生法が提供される。特に、不活性ガスを閉鎖系
で循環させながら使用することによって、再生工程中に
おける不活性ガスの消費量は再生処理工程中の温度変化
に対して系内の圧力を一定に保つために８茨な程度です
み、ゼオライト再生コスｉ・の低減をはかることができ
る。かくして得られた再生ゼオライトは、再度、含水ア
セトンの脱水処理に有効に１１１用し得る。
ライトをその水分吸着能力、耐久性をほとんど低下させ
ることなく再生でき、かつその再生に使用する不活性ガ
スの消費量は極めて少なくてすみ、工業的に有利なぜオ
ライド再生法が提供される。特に、不活性ガスを閉鎖系
で循環させながら使用することによって、再生工程中に
おける不活性ガスの消費量は再生処理工程中の温度変化
に対して系内の圧力を一定に保つために８茨な程度です
み、ゼオライト再生コスｉ・の低減をはかることができ
る。かくして得られた再生ゼオライトは、再度、含水ア
セトンの脱水処理に有効に１１１用し得る。
第１図は、本発明を実施するだめの工程図の１例を示し
、図中の番号は次の各工程部分を示す。 １ ゼオライト充填層 ２ 吸着塔 ３ ガス冷却器 ４ ブロワ− ５ガスヒーター ６ 含水アセトン管 ７ 排アセトン管 ８ ゼオライト通過ガス管 ９ 凝縮液管 １０ 脱水アセトン管 １１ 不活性ガス供給管 １２ 不活性ガス排出管 Ｊ３ 加熱ガス管 １４〜１９バルブ
、図中の番号は次の各工程部分を示す。 １ ゼオライト充填層 ２ 吸着塔 ３ ガス冷却器 ４ ブロワ− ５ガスヒーター ６ 含水アセトン管 ７ 排アセトン管 ８ ゼオライト通過ガス管 ９ 凝縮液管 １０ 脱水アセトン管 １１ 不活性ガス供給管 １２ 不活性ガス排出管 Ｊ３ 加熱ガス管 １４〜１９バルブ
Claims (2)
- （１）閉鎖系を循環する加熱不活性ガスの系に含水アセ
トンの脱水処理に使用したゼオライトをおき、加熱不活
性ガスを該ゼオライトに接触させつつアセトンおよび水
を系外に凝縮除去することを特徴とするゼオライトの再
生法 - （２）比較的低温の加熱不活性ガスと接触させつつアセ
トンを脱着せしめる工程とさらに温度を高めて水を脱着
せしめる工程に付し、アセトンおよび水をそれぞれ凝縮
除去することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
再生法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16443686A JPH0783833B2 (ja) | 1985-07-16 | 1986-07-11 | ゼオライトの再生法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15757285 | 1985-07-16 | ||
| JP60-157572 | 1985-07-16 | ||
| JP16443686A JPH0783833B2 (ja) | 1985-07-16 | 1986-07-11 | ゼオライトの再生法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62110748A true JPS62110748A (ja) | 1987-05-21 |
| JPH0783833B2 JPH0783833B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=26484971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16443686A Expired - Lifetime JPH0783833B2 (ja) | 1985-07-16 | 1986-07-11 | ゼオライトの再生法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0783833B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017148741A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 日立造船株式会社 | ゼオライト膜複合体の再生方法 |
| CN110548364A (zh) * | 2019-10-17 | 2019-12-10 | 清远先导材料有限公司 | 一种回收分子筛吸附的特种气体的方法和装置 |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP16443686A patent/JPH0783833B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017148741A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 日立造船株式会社 | ゼオライト膜複合体の再生方法 |
| CN110548364A (zh) * | 2019-10-17 | 2019-12-10 | 清远先导材料有限公司 | 一种回收分子筛吸附的特种气体的方法和装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0783833B2 (ja) | 1995-09-13 |
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