JPS62104217U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS62104217U JPS62104217U JP19527585U JP19527585U JPS62104217U JP S62104217 U JPS62104217 U JP S62104217U JP 19527585 U JP19527585 U JP 19527585U JP 19527585 U JP19527585 U JP 19527585U JP S62104217 U JPS62104217 U JP S62104217U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- collimator lens
- laser
- light
- scanning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Description
第１図〜第２図は本考案の実施例を示すもので
、第１図は本考案のレーザビーム走査装置の斜視
図、第２図はその平面図、第３図Ａ並びにＢはそ
の光量補正フイルターの断面図並びにその光透過
率を示すグラフ図、第４図は光量補正後のレーザ
ビームの光量分布を示すグラフ図をそれぞれ示し
、また第５図〜第８図は従来のレーザビーム走査
装置を示し、第５図はその斜視図、第６図はその
平面図、第７図は第５図の―面断面図、第８
図は第５図の一部拡大側面図をそれぞれ示し、ま
た第９図は半導体レーザから照射されるレーザビ
ームの光量分布を示すグラフ図、第１０図はコリ
メータレンズを通過したレーザビームの光量分布
を示すグラフ図、第１１図はフレア光の発生を示
すグラフ図をそれぞれ示している。 〔符号説明〕、１……基台、２……半導体レー
ザ、３……コリメータレンズ、４……光量補正フ
イルター、５……ポリゴンミラー、６……ｆθレ
ンズ、７，８……シリンドリカルレンズ、９……
装置カバー、１０……フイルター層、１１，１２
……反射ミラー。
、第１図は本考案のレーザビーム走査装置の斜視
図、第２図はその平面図、第３図Ａ並びにＢはそ
の光量補正フイルターの断面図並びにその光透過
率を示すグラフ図、第４図は光量補正後のレーザ
ビームの光量分布を示すグラフ図をそれぞれ示し
、また第５図〜第８図は従来のレーザビーム走査
装置を示し、第５図はその斜視図、第６図はその
平面図、第７図は第５図の―面断面図、第８
図は第５図の一部拡大側面図をそれぞれ示し、ま
た第９図は半導体レーザから照射されるレーザビ
ームの光量分布を示すグラフ図、第１０図はコリ
メータレンズを通過したレーザビームの光量分布
を示すグラフ図、第１１図はフレア光の発生を示
すグラフ図をそれぞれ示している。 〔符号説明〕、１……基台、２……半導体レー
ザ、３……コリメータレンズ、４……光量補正フ
イルター、５……ポリゴンミラー、６……ｆθレ
ンズ、７，８……シリンドリカルレンズ、９……
装置カバー、１０……フイルター層、１１，１２
……反射ミラー。
Claims (1)
- 光源として半導体レーザを使用し、この光源か
らのレーザビームをコリメータレンズを介し光偏
向器へ照射させて偏向走査するレーザプリンタの
レーザビーム走査装置において、上記コリメータ
レンズと光偏向器との間には、コリメータレンズ
を通過したレーザビームの光量分布をガウス分布
型に修正するため、周縁部へ向つてその光透過率
が同心円状に低下する光量補正フイルターを配設
したことを特徴とするレーザプリンタのレーザビ
ーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19527585U JPS62104217U (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19527585U JPS62104217U (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104217U true JPS62104217U (ja) | 1987-07-03 |
Family
ID=31153018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19527585U Pending JPS62104217U (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62104217U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013060022A (ja) * | 2006-03-15 | 2013-04-04 | Ricoh Co Ltd | 画像処理方法及び画像処理装置 |
-
1985
- 1985-12-20 JP JP19527585U patent/JPS62104217U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013060022A (ja) * | 2006-03-15 | 2013-04-04 | Ricoh Co Ltd | 画像処理方法及び画像処理装置 |