JPS62103392A - Continuous electroplating method for metallic strip - Google Patents

Continuous electroplating method for metallic strip

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JPS62103392A
JPS62103392A JP24277785A JP24277785A JPS62103392A JP S62103392 A JPS62103392 A JP S62103392A JP 24277785 A JP24277785 A JP 24277785A JP 24277785 A JP24277785 A JP 24277785A JP S62103392 A JPS62103392 A JP S62103392A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
strip
auxiliary electrode
electrode plate
plating
metal strip
Prior art date
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Pending
Application number
JP24277785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Hirano
雅敏 平野
Kazumoto Futaki
二木 一元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP24277785A priority Critical patent/JPS62103392A/en
Publication of JPS62103392A publication Critical patent/JPS62103392A/en
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Abstract

PURPOSE:To form a plating having a uniform thickness in the transverse direction of a metallic strip on said strip without an over-coat and under-coat in the stage of subjecting the surface of the strip to continuous plating by providing freely movable auxiliary cathodes in proximity to the ends of the strip and moving the auxiliary cathodes in such a manner that the currents flowing in both auxiliary cathodes are made equal. CONSTITUTION:Electricity is conducted between the metallic strip 4 and anodes 9 disposed on both sides of the strip 4 via a cathode conductor roll 2 to plate the surface of the strip 4. The auxiliary cathodes 10, 10' are disposed in proximity to both ends of the strip 4 and the spacing from the strip 4 is made changeable by position adjusting mechanisms 11, 11'. The currents flowing in both auxiliary cathodes 10, 10' during the plating operation are inputted to a differential calculator 17 by which the difference between the currents is calculated. The output from the differential calculator 17 is inputted to an auxiliary cathode position adjuster 18 if there is the difference between both currents. The auxiliary cathodes 10, 10' are so moved by the difference in the current values that the currents of both auxiliary cathodes 10, 10' are made equal. The generation of the over-coat and under-coat in the plating layer of the strip 4 is thus prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、銅やアルミニウムのような金属ストリップ
を連続電気メッキする際に、金属ストリップのエツジ部
におけるメッキ量が中央部に比ベテ多くなるオーバーコ
ートや、前記メッキ量が中央部に比べて少なくなるアン
ダーコートの生ずることがなく、その幅方向にむらがな
く均一なメ゛ツキを施すことができる金属ストリップの
連続電気メッキ方法に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] This invention is directed to over-plating, in which the amount of plating at the edges of the metal strip is greater than that at the center, when continuously electroplating a metal strip such as copper or aluminum. The present invention relates to a continuous electroplating method for metal strips, which does not produce a coating or an undercoat in which the amount of plating is smaller than in the central part, and can be evenly and uniformly plated in the width direction of the metal strip. .

〔従来技術とその問題点〕[Prior art and its problems]

例えば、鋼ストリップを連続電気メッキするためには、
第3図に示すような垂直型電気メッキ装置を使用してメ
ッキする方法と、第4図に示すような水平型電気メッキ
装置を使用してメッキする方法とがある。垂直型電気メ
ッキ装置は、第3図に示すように、垂直型電気メッキ槽
1の漠ス) IJツノ入側および出側の上方に設けられ
たコンダククロール2,2′と、電気メッキ槽1内の下
部に設けられたジンクロール3と、フンダクタロール2
・2′の各々とジンクロール3との間において、電気メ
ッキ槽1内ケ移動中の鋼ストリップ4を間にして、鋼ス
) IJツブ4と平行に配置された1対の垂直な電極板
5,5′と6,6′とからなって(・る。銅ス) IJ
ツブ4は、メッキ浴が収容され且つ流れている電気メッ
キ槽1内を下方に次し・で上方に向って移動し、1対の
電極板5,5′および6.6′を通過する間に連続的に
電気メッキされる。
For example, for continuous electroplating of steel strip,
There are two methods: a method of plating using a vertical electroplating device as shown in FIG. 3, and a method of plating using a horizontal electroplating device as shown in FIG. As shown in FIG. 3, the vertical electroplating apparatus includes conductor crawls 2 and 2' provided above the inlet and outlet sides of the IJ horn, and the electroplating tank 1. The zinc roll 3 and fundactor roll 2 provided at the bottom of the
・A pair of vertical electrode plates arranged parallel to the steel strip 4 in the electroplating tank 1 between each of the steel strips 2' and the zinc roll 3, with the steel strip 4 moving in the electroplating tank 1 Consisting of 5, 5' and 6, 6' (・ru. copper su) IJ
The tube 4 moves downwardly and then upwardly in the electroplating bath 1 in which the plating bath is contained and flowing, while passing a pair of electrode plates 5, 5' and 6.6'. is continuously electroplated.

水平型電気メッキ装置は、第4図に示すように、水平型
電気メッキ槽7の鋼ス) IJツブ入側および出側の外
方に設げられたフンダクタロール2,2′と、電気メッ
キ槽7内の鋼ス) IJツブ入側および出frill 
K設けられたL下1対のダムロール8a、8a’および
8b、8b’と、ダムロール8a、8a’と8b、8b
’との間にお℃・て、電気メッキ槽1内を移動中の鋼ス
) IJツブ4を間にして、鋼ストリップ4と平行に配
置された1対の水平な電極板5゜5′と6,6′とから
なって(・る。鋼ストリップ4は、メッキ浴が収容され
且つ流れている電気メッキ槽7内を移動し、1対の電極
板5,5′および6,6′を通過する間に連続的に電気
メッキされる。
As shown in Fig. 4, the horizontal electroplating apparatus includes conductor rolls 2, 2' provided on the outside of the IJ tube entry and exit sides, and an electric (steel steel in plating tank 7) IJ tube inlet and outlet frill
A pair of L lower dam rolls 8a, 8a' and 8b, 8b' provided in K, and dam rolls 8a, 8a' and 8b, 8b.
A pair of horizontal electrode plates 5° 5' are placed parallel to the steel strip 4 with the IJ knob 4 between them. The steel strip 4 moves in an electroplating tank 7 in which a plating bath is contained and flowing, and is connected to a pair of electrode plates 5, 5' and 6, 6'. It is continuously electroplated while passing through.

このような方法で鋼ス) IJツブ4の両面を電気メッ
キする際に開閉となることは、第5図に示すように、渭
ストリップ4のエツジ部にメッキ電流が集中して、エツ
ジ部のメッキ量が他の部分よりも多くなるオー・ぐ−コ
ートが発生することである。
The reason why the IJ strip 4 is opened and closed when electroplating both sides of the IJ strip 4 in this way is that the plating current concentrates on the edge of the IJ strip 4, and the edge of the IJ strip 4 is This is the occurrence of an overcoat in which the amount of plating is greater than in other parts.

窮ストリップ4の片面を電気メッキする際には、第6図
に示すように、上記のようなエツジ部のオーバーコート
に加えて、非メッキ面にも電流がまわりこんでメッキさ
れる問題が発生する。
When electroplating one side of the strip 4, as shown in Figure 6, in addition to overcoating the edges as described above, a problem arises in which the current flows around the non-plated side and causes plating. do.

このように、鋼ストリップのエツジ部にオーバーコート
が生ずると、鋼ストリップをフィル状に巻いた場合に、
エツジ部が盛り上がるビルドアップ現象が生じ、オーバ
ーコート部分のメッキ皮膜同士がすれ合って疵が発生し
たり・溶接時におけるオーバーコート部分の溶接強度不
良や・オーバーコート部分の変色による外観不良を招く
等の開鎖が生ずる。
In this way, if an overcoat occurs on the edges of the steel strip, when the steel strip is wound into a fill shape,
A build-up phenomenon occurs in which the edges swell, causing the plating films on the overcoat parts to rub against each other, resulting in scratches, poor welding strength of the overcoat part during welding, and poor appearance due to discoloration of the overcoat part. An open chain occurs.

そこで、上述のような開鎖を防止するために・最近第7
図および第8図に示すように電気メッキ槽内を移動中の
鋼ス) IJツブ4の両エツジに近接して、主電極板9
,9′の長さと同程度の長さの幅の狭い補助電極板]0
.10’を配置し、主電極板9.9′と補助電極板10
.10’との間にもメッキ電流を流すことにより、列ス
トリップ40両エツソ部に集中して℃・たメンキ電流を
補助電極板10゜10′に集め、かくして、鋼ス) I
Jツブ4のエツジ部分に生ずるオーバーコートを防止し
、且つ、片面メッキの場合の非メッキ面へのメッキを防
止する方法が開発されてし・る。
Therefore, in order to prevent the above-mentioned chain opening,
As shown in Fig. 8 and Fig. 8, the main electrode plate 9
, 9' length and a narrow auxiliary electrode plate]0
.. 10', main electrode plate 9.9' and auxiliary electrode plate 10
.. By passing a plating current between the auxiliary electrode plate 10 and 10', the plating current concentrated on the outer edges of the row strip 40 is collected on the auxiliary electrode plate 10 and 10'.
A method has been developed to prevent overcoating from occurring on the edge portion of the J-tube 4 and to prevent plating on the non-plated surface in the case of single-sided plating.

上述の方法によれば、鋼ス) IJツブのエツジ部分に
生ずるオーバーコートは防止されるが、逆にエツジ部の
メッキ計が他の部分より少なくなるアンダーコートや、
貧(ストリップがその幅方向に蛇行し、鋼ストリップの
エツジと、補助電吾板との相対距離が変化した場合に、
エツジ部の電流分布が変動して、エツジ部にメッキむら
が発生する問題が生ずる。
According to the above-mentioned method, overcoating that occurs on the edges of the IJ tube (steel steel) can be prevented, but conversely, undercoating that occurs on the edges is less than other areas, and
(When the strip meanders in its width direction and the relative distance between the edge of the steel strip and the auxiliary plate changes,
A problem arises in that the current distribution at the edge portion fluctuates, resulting in uneven plating at the edge portion.

第9図は、第10図に示すように1対の主電極板9.9
′の間を通る鋼ス) IJツブ4のエツジに近接して、
鋼ス) IJツブ4と平行に補助電極板10を配置し、
鋼ス) IJツブ4のエツジと補助電極板10のエツジ
との間の距離りを変えて、鋼ストリップ4に電気賜メッ
キを施した場合における鋼ストリップ4の一方側のエツ
ジ部の中央部に対する錫付着割合である。第9図におい
て、○印はLがJOmrnの場合、Δ印はLが25nm
の場合、十印はLがsowmの場合そして@印は補助電
極板9を配置しなかった場合である。図面に示すように
、Lが1oinの場合には、エツジ部の錫付着世は中央
部に比して約15%も減少するアンダーコートが発生す
る。
Figure 9 shows a pair of main electrode plates 9.9 as shown in Figure 10.
′) near the edge of IJ knob 4,
steel) Place the auxiliary electrode plate 10 parallel to the IJ knob 4,
steel strip) When electroplating is applied to the steel strip 4 by changing the distance between the edge of the IJ tube 4 and the edge of the auxiliary electrode plate 10, the distance between the edge of the steel strip 4 on one side is This is the tin adhesion rate. In Figure 9, ○ marks indicate that L is JOmrn, and Δ marks indicate that L is 25 nm.
In the case of , the cross mark indicates the case where L is sowm, and the @ mark indicates the case where the auxiliary electrode plate 9 is not arranged. As shown in the drawing, when L is 1 oin, an undercoat occurs in which the tin deposition at the edges is reduced by about 15% compared to the center.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

従って、この発明の目的は、金属ス) IJツブに対す
る電気メッキ時に、金属ストリップのエツジ部に、オー
バーコートやアンダーコートが生ぜず、金属ストリップ
がその幅方向に蛇行しても、メッキむらが生ずることが
なく、今風ス) IJツブの幅方向に常に均一な量のメ
ッキを施すことができる金属ストリップの連続電気メッ
キ方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to prevent overcoat and undercoat from forming on the edges of the metal strip during electroplating on metal IJ tubes, and to prevent uneven plating from occurring even when the metal strip meanders in its width direction. To provide a method for continuous electroplating of a metal strip, which can always apply a uniform amount of plating in the width direction of an IJ tube.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明者等は、電気メッキ槽を移動中の金属ストリップ
の両エツジ部に近接して補助電極板を配置することによ
り、金属ス) IJツブの両エツジ部に生ずるオーバー
コートを防止する際に生ずる上述した問題を解決すべく
鋭意研究を重ねた。
The present inventors have proposed a method for preventing overcoat from forming on both edges of a metal strip by placing auxiliary electrode plates close to both edges of a metal strip that is being moved in an electroplating bath. We have conducted extensive research to solve the above-mentioned problems that arise.

本発明者等は、先づ金属ス) IJツブのエツジと補助
電極板のエツジとの間の距離と、補助電極板て流れる電
流との関係を調べた。第11図は、補助電極板の位置と
補助電極板に流れる電流との関係を示すグラフで、縦軸
は、メッキされる金属ストリップの中央部(補助電極板
と同じ表面積の部分)に流れるメッキ電流値を100%
としたときの補助Ti極板に流れる電流の割合、横軸は
、金属ストリップのエツジと補助電極板のエツジとの間
の距離である。第11図に示すように、金属ストリップ
のエツジと補助電極板のエツジとの間の距離が長くなる
に従って、補助電極板に流れる電流値は減少することが
わかった。
The present inventors first investigated the relationship between the distance between the edge of the metal IJ tab and the edge of the auxiliary electrode plate and the current flowing through the auxiliary electrode plate. Figure 11 is a graph showing the relationship between the position of the auxiliary electrode plate and the current flowing through the auxiliary electrode plate. 100% current value
The horizontal axis is the distance between the edge of the metal strip and the edge of the auxiliary electrode plate. As shown in FIG. 11, it has been found that as the distance between the edge of the metal strip and the edge of the auxiliary electrode plate increases, the value of the current flowing through the auxiliary electrode plate decreases.

次に、補助電極板の電圧値と電流値との関係を調べた。Next, the relationship between the voltage value and current value of the auxiliary electrode plate was investigated.

第12図は、金属ス) IJラッグエツジと補助電極板
のエツジとの間の距離を25朋としたときの、補助電極
板に流れる電流とその電圧との関係を示すグラフで、縦
軸は、メッキされる金属ス) IJツブの中央部に流れ
るメッキ電流値を100%としたときの補助電極板に流
れる電流の割合、横軸は、補助電極板の電圧の主電極板
の電圧に対する比である。第12図に示すように、補助
電極板の電圧を高めるに従って、補助電極板に流れる電
流値は減少することがわかった。
Figure 12 is a graph showing the relationship between the current flowing through the auxiliary electrode plate and its voltage when the distance between the metal IJ lug edge and the edge of the auxiliary electrode plate is 25 mm, and the vertical axis is The ratio of the current flowing to the auxiliary electrode plate when the plating current value flowing to the center of the IJ tube is taken as 100%. The horizontal axis is the ratio of the voltage of the auxiliary electrode plate to the voltage of the main electrode plate. be. As shown in FIG. 12, it was found that as the voltage of the auxiliary electrode plate was increased, the value of the current flowing through the auxiliary electrode plate decreased.

上記から、補助電極板の電圧、電流および補助電極板の
エツジと金属ストリップのエツジとの間の距fiLとに
は相関関係があり、電圧を固定すれば、Lの変化により
電流が変化し、電流を一定にすれば、Lの変化により電
圧が変化することがわかった。
From the above, there is a correlation between the voltage and current of the auxiliary electrode plate and the distance fiL between the edge of the auxiliary electrode plate and the edge of the metal strip.If the voltage is fixed, the current will change as L changes, It has been found that if the current is kept constant, the voltage changes as L changes.

コノ発明は、上記知見に基づくものであって、少なくと
も1枚の電極板が配置された、メッキ浴が収容されてい
る電気メッキ槽内に、金属ストリップを連続的に導き、
前記金属ストリップが前記電極板を通過する間にその表
面に連続的にメツ′キが施される金属ストリップの連続
電気メッキ方法におし・て、 前記メッキ槽内の前記電極板が配置されている位置に、
前記メッキ槽を通る金属ス) IJツブの両エツジに近
接して補助電極板を前記金属ストリップの幅方向に各々
移動自在に配置し、前記補助電極板の各々と前記電隔板
との間に電流を流すことによって、前記金属ス) IJ
ツブの両エツジ部に生ずるオーバーコートを防止すると
共に、前記補助電極板の一方と他方との電流値または電
圧値の差を連続的に検出し、その差が零となるように、
前記補助電極板の各々を前記金属ストリップの幅方向に
移動しその位置を制御することに特徴を有するものであ
る。
The present invention is based on the above findings, and includes continuously guiding a metal strip into an electroplating tank containing a plating bath in which at least one electrode plate is arranged.
In a continuous electroplating method for a metal strip, in which the surface of the metal strip is continuously plated while the metal strip passes through the electrode plate, the electrode plate is arranged in the plating bath. Where you are,
metal strips passing through the plating tank) Auxiliary electrode plates are arranged movably in the width direction of the metal strip in proximity to both edges of the IJ tube, and between each of the auxiliary electrode plates and the electrical barrier plate. By passing an electric current through the metal (IJ)
In addition to preventing an overcoat from occurring on both edges of the tube, continuously detecting the difference in current value or voltage value between one and the other of the auxiliary electrode plates so that the difference becomes zero,
The present invention is characterized in that each of the auxiliary electrode plates is moved in the width direction of the metal strip to control its position.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

次に、この発明を図面を参照しながら説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は、この発明の方法により垂直型電気メッキ装置
を使用して鋼ス) IJツブに対し連続電気メッキする
場合の一実施態様を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an embodiment of continuous electroplating of steel IJ tubes using a vertical electroplating apparatus according to the method of the present invention.

図面に示すように、フンダクタロール2に案内されて電
気メッキ槽内を移動中の鋼ス) IJツブ4を間にして
、鋼ス) IJツブ4と平行に1対の垂直な主電極板9
 (図面にはその一方のみが図示されている)が配置さ
し、訓ス) IJツブ4の両エツジに近接して、主電極
板9と同程度の長さで幅の狭℃・補助電極板10.10
’が配置されている。補助電極板10.10’の各々は
位置調整機構11,11.’により、鋼ス゛トリップ4
のエラ・ゾとの間の距離を制御し得るように、鋼ストリ
ップ4の幅方向に移動自在になっている。
As shown in the drawing, a pair of vertical main electrode plates are placed in parallel with the IJ tube 4, with the steel tube being guided by the fundactor roll 2 and moving in the electroplating tank with the IJ tube 4 in between. 9
(Only one of them is shown in the drawing. Board 10.10
' is placed. Each of the auxiliary electrode plates 10, 10' has a position adjustment mechanism 11, 11. 'by steel strip 4
It is movable in the width direction of the steel strip 4 so that the distance between the gills and the gills of the steel strip 4 can be controlled.

主電極板9は、図示しない電源の陽極側に接続され、ま
た、フンダクタロール2.はその陰極側に接続され、鋼
ストリップ4はコンダクタロール2によって通電される
The main electrode plate 9 is connected to the anode side of a power source (not shown), and is also connected to the fundactor roll 2. is connected to its cathode side, and the steel strip 4 is energized by the conductor roll 2.

補助電%板10,10’は、コンダクタロール2に電圧
調整器14を介して接続されている。補助電極板10.
10’は同電位である。12.12’は、コンダクタロ
ール2の軸に取り付けられた集電子である。
The auxiliary voltage plates 10, 10' are connected to the conductor roll 2 via a voltage regulator 14. Auxiliary electrode plate 10.
10' is at the same potential. 12.12' is a current collector attached to the shaft of the conductor roll 2.

集電子12.12’の各々と補助電極板10.10’の
各々とを結ぶ導線13の途中には、電圧調整器14と、
補助電極板10.10’の各々に流れる電流値を検出す
るための電流検出器15.15’とが設けられている。
In the middle of the conducting wire 13 connecting each of the current collectors 12, 12' and each of the auxiliary electrode plates 10, 10', there is a voltage regulator 14,
A current detector 15.15' is provided for detecting the current value flowing through each of the auxiliary electrode plates 10.10'.

電流検出器15.15’で検出された補助電極板10.
10’の各々に流れる電流値は、導線16゜16′によ
って差分演算器17に入力され、差分演算器17によっ
てその差が演算される。差分演算器17によって演算さ
れた差の値は、補助電極板位置調整器18に送られ、補
助電極板位置調整器18は、導線19.19’によって
位置調整機構11゜11′に位置調整信号を送る。
Auxiliary electrode plate 10 detected by current detector 15.15'.
The current values flowing through each of the terminals 10' are input to a difference calculator 17 through conducting wires 16 and 16', and the difference is calculated by the difference calculator 17. The difference value calculated by the difference calculator 17 is sent to the auxiliary electrode plate position adjuster 18, and the auxiliary electrode plate position adjuster 18 sends a position adjustment signal to the position adjustment mechanism 11° 11' via a conductor 19, 19'. send.

この実施態様によれば、同電位の補助電極板10.10
’の各々に流れる44=4=電流は、電流検出器15.
15’によって個別に検出され、差分演算器17によっ
て比較されその差が演算される。
According to this embodiment, the auxiliary electrode plates 10.10 at the same potential
44=4=current flowing through each of the current detectors 15.'
15', and are compared by a difference calculator 17 to calculate the difference.

補助電極板10.10’の各々に流れる電流値に差が生
じた場合は、漠ス) IJツブ4が蛇行していると判断
され、その差が零となるように、補助電極板位置調整器
18からの信号によって位置調整機構11.11′が作
動し、補助電極板1.0.10’を謂ス) IJツブ4
の幅方向に移動させてその位置を修正する。
If there is a difference in the current value flowing through each of the auxiliary electrode plates 10 and 10', it is determined that the IJ knob 4 is meandering, and the auxiliary electrode plate position should be adjusted so that the difference becomes zero. The position adjustment mechanism 11.11' is activated by the signal from the device 18, and the auxiliary electrode plate 1.0.10' is moved to the IJ knob 4.
Move it in the width direction to correct its position.

第2図は、この発明の他の実施態様を示す説明図である
。補助電極板10.10’の各々は、位置調整機構11
.’11’により、漠ストリップ4のエツジとの間の距
離を制御し得るように、鋼ス) IJツブ4の幅方向に
移動自在になっていることは、前述した通りである。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing another embodiment of the invention. Each of the auxiliary electrode plates 10.10' has a position adjustment mechanism 11.
.. As described above, '11' allows the steel strip to move freely in the width direction of the IJ tab 4 so as to control the distance between the edge and the edge of the IJ tab 4.

集電子12,1.2’の各々と補助電極板10.10’
の各々とを結ぶ導線13.13’の途中には、電圧調整
器14.14’と電流検出器15.15’とが設けられ
ている。電圧調整器14 、14’の各々には、電流制
御器20 、20’が接続されており、電流検出器15
 、15’と電流制御器20 、2 Q’とは、導、J
21,21’によって接続されている。
Each of the current collectors 12, 1.2' and the auxiliary electrode plate 10.10'
A voltage regulator 14.14' and a current detector 15.15' are provided in the middle of the conducting wire 13.13' connecting each of the two. Current controllers 20 , 20 ′ are connected to each of the voltage regulators 14 , 14 ′, and a current detector 15
, 15' and the current controller 20, 2 Q' are conductors, J
21, 21'.

予め、鋼ストリップ4のエツジ部ニオーバーコードおよ
びアンダーコートが生じない銅ストリッ7°4のエツジ
と補助電極板10 、10’との間の適正距離に対応す
る補助電極板10 、10’に流れる′1直流値を定め
、この電流値を電流制御器20.20’に入力しておく
In advance, the edge of the steel strip 4 flows to the auxiliary electrode plates 10, 10' corresponding to the appropriate distance between the edge of the copper strip 7° 4 where overcord and undercoating do not occur and the auxiliary electrode plates 10, 10'. '1 DC value is determined and this current value is input to the current controller 20, 20'.

一方、補助電極板10 、10’に流れる電流値を電流
検出器15 、15’によって連続的に検出し、検出さ
れt電流値を導線21 、21’全通って電流制御器2
0 、20’にフィードバックする。電流制御器20 
、20’は、フィードバックされた検出電流値と、予め
入力されている所定電流値とを比較し、検出電流値と所
定メッキ電流値との差を零にするための信号を電圧調整
器14 、14’に送る。
On the other hand, the current value flowing through the auxiliary electrode plates 10 and 10' is continuously detected by the current detectors 15 and 15', and the detected current value is passed through the conductors 21 and 21' and is then passed through the current controller 2.
0, 20'. Current controller 20
, 20' compares the detected current value that has been fed back and a predetermined current value that has been input in advance, and sends a signal to the voltage regulator 14, to make the difference between the detected current value and the predetermined plating current value zero. Send to 14'.

亀E調坐器14 、14’は、電流制御器20 、20
’からの信号に基づいて、補助電極板10 、10’に
流れる電流の電圧を調整し、これによって前記底流値が
所定値になるように制御する。
The turtle E adjusters 14 and 14' are current controllers 20 and 20.
The voltage of the current flowing through the auxiliary electrode plates 10 and 10' is adjusted based on the signal from the auxiliary electrode plates 10 and 10', thereby controlling the undercurrent value to a predetermined value.

このような制御によって変動した補助電極板10 、1
0’を流れる電流の電圧値は、導線22゜22′によっ
て差分演算器17に入力され、差分演算器17によって
その差が演算される。差分演算器17によって演算され
た差の値は、補助電極板位置調整器18に送られ、補助
電極板位置調整器18は、24線19 、19’によっ
て位置調整機構11゜11′に位置調整信号を送る。
The auxiliary electrode plates 10 and 1 varied by such control.
The voltage value of the current flowing through 0' is input to the difference calculator 17 through the conducting wires 22 and 22', and the difference is calculated by the difference calculator 17. The difference value calculated by the difference calculator 17 is sent to the auxiliary electrode plate position adjuster 18, and the auxiliary electrode plate position adjuster 18 adjusts the position to the position adjustment mechanism 11° 11' using the 24 wires 19 and 19'. send a signal.

この実施態様によれば、鍋ストIJツ7’4のエツジと
補助電極板10 、10’との間の距離の変化にかかわ
らず、補助電極板10 、10’の各々に一定の値の′
1流を流すために生ずる、補助電極板10と10′との
間の電圧値の差が差分演算器17によって演算される。
According to this embodiment, each of the auxiliary electrode plates 10, 10' has a constant value of '', regardless of the change in the distance between the edge of the pot strike IJ 7'4 and the auxiliary electrode plates 10, 10'.
A difference calculator 17 calculates the difference in voltage value between the auxiliary electrode plates 10 and 10' that occurs when one current flows.

そして、電圧イ匝に差が生じた場合は、鋼ストリップ4
が蛇行していると判断され、その差が零となるよりに、
補助電極板位置調整器18からの信号によって位置訳金
慎構11゜11′が作動し、補助電極板io、io’を
賄ストグラフ04の幅方向に移動させてその位置を修正
する。
If there is a difference in the voltage, then the steel strip 4
is determined to be meandering, and the difference becomes zero,
In response to a signal from the auxiliary electrode plate position adjuster 18, the positioning mechanism 11°11' is operated to move the auxiliary electrode plates io, io' in the width direction of the support graph 04 to correct their positions.

なお、上記各実施態様において、差分@算器17は、一
定の不感帯領域を有するものを使用することが、ij制
御全安定させる上において好ましい。補助電極板10 
、10’の位りを調整するための位置rA M機構11
 、11’は、例えば油圧シリンダその他適宜の移動機
構を使用することができる。また、′電圧調整器14 
、14’はサイリスタスタックのほか電圧が変化でき且
つ電流容量がとれるものでめれは何でもよい。
In each of the embodiments described above, it is preferable to use the difference@calculator 17 having a certain dead zone area in order to fully stabilize the ij control. Auxiliary electrode plate 10
, 10' position rA M mechanism 11 for adjusting the position
, 11' may use, for example, a hydraulic cylinder or other appropriate moving mechanism. In addition, 'voltage regulator 14
, 14' may be anything other than a thyristor stack that can change the voltage and have a current capacity.

上述のような制御を行なうことにより、銅ストリツf4
が蛇行して、銅ストリツf4のエツジと?it+助電極
板10 、10’との間の距離に変化が生じても、これ
に追従して補助′α極板10 、10’が移動し、上記
距離を常に一定に保つ。従って、凧ストリップ4のエツ
ジ部に生ずるオーバーコートやアンダーコートは適確に
防止される。
By controlling as described above, the copper strip f4
Is it meandering and the edge of copper strip f4? Even if there is a change in the distance between it+auxiliary electrode plates 10, 10', the auxiliary 'α electrode plates 10, 10' move to follow this change, thereby always keeping the distance constant. Therefore, overcoat and undercoat occurring on the edge portion of the kite strip 4 can be properly prevented.

例えば、垂直型′電気メッキ装置を使用して、銅ストリ
ップに連続錫メッキを施すに当シ、福助電極阪を配置し
ない場合には姻ストリップのエツジから:30朋の間の
部分に、他の部分よりも94%メッキ毒が多し・オーバ
ーコートが生じて℃・だが、補助電極板の配置により、
オーバーコートは防止できた。一方、上記部分には、逆
に他の部分よりも14%メッキ量の少なし・アンダーコ
ートやメッキむらが発生した。しかしながら、この発明
の方法によれば、アンダーコートは全く防止され、更に
、鋼ス) IJツブに左右15朋以上の蛇行が発生して
も、これに追従して補助電極板が移動する結果、エツジ
部のメッキ付着量に変動が生ぜず、メッキむらが発生す
ることはなかった。
For example, when continuous tin plating is applied to a copper strip using a vertical type electroplating apparatus, if the Fukusuke electrode plate is not placed, the other electrode is placed between 30 mm from the edge of the strip. There is 94% more plating poison than the other parts, and an overcoat occurs at °C, but due to the arrangement of the auxiliary electrode plate,
Overcoat could be prevented. On the other hand, in the above portion, on the contrary, the amount of plating was 14% lower than in other portions, and undercoating and uneven plating occurred. However, according to the method of the present invention, undercoat is completely prevented, and furthermore, even if the IJ knob meanders more than 15 mm from side to side, the auxiliary electrode plate will follow this and move. There was no variation in the amount of plating on the edges, and no uneven plating occurred.

また、水平型電気メッキ装置を使用して、鋼ストリップ
の下面のみに、メッキ浴の浴面下10朋のところで連続
片面電気亜鉛メッキを施すに当り、従来は、銅ストリッ
プの上面のエツジから25mmの間にもメッキが施され
ていたのに対し、この発明の方法によれば、下面のエツ
ジ部にアンダーフートが生ずることはなく、上面エツジ
部に生ずるメッキも、エツジから10酊までの間に減ら
すことができた。
In addition, when applying continuous single-sided electrogalvanization to only the bottom surface of a steel strip at a point 10 mm below the bath surface of the plating bath using a horizontal electroplating device, conventionally, 25 mm from the edge of the top surface of the copper strip was applied. However, according to the method of the present invention, underfoot does not occur on the edge of the bottom surface, and the plating that occurs on the edge of the top surface is also plated between the edge and the edge. was able to be reduced to

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように、この発明によれば、垂直型電気メッ
キ装置または水平型電気メッキ装置を使用して金属スト
リップに連続電気メッキするに当り、金属ス) IJツ
ブのエツジ部にオーバーコートやアンダーコートが生ぜ
ず、金属ストリップが幅方向て蛇行しても、メッキむら
が生ずることがなく、金属ス) IJツブの幅方向に常
に均一な量のメッキを施すことができる工業上源れた効
果がもたらされる。
As described above, according to the present invention, when continuously electroplating a metal strip using a vertical electroplating device or a horizontal electroplating device, an overcoat or an undercoat is applied to the edge of the metal strip. No coating occurs, and even if the metal strip meanders in the width direction, there will be no uneven plating, and a uniform amount of plating can always be applied in the width direction of the IJ tube.This is an industrial advantage. is brought about.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の方法により垂直型電気メッキ装置を
使用して連続電気メッキする場合の一実tXf、態様を
示す説明図、第2図は他の実施態様を示す説明図、第3
図は垂直型電気メッキ装置の概略縦断面図、第4図は水
平型電気メッキ装置の概略縦断面図、第5図は画面メッ
キの場合のエツジ部へのメッキ電流集中状態を示す説明
図、第6図は片面メッキの場合の非メッキ面への電流ま
わりこみ状態を示す説明図、第7図および第8図は補助
電極板を配置した場合のメッキ電流の分布を示す説明図
、第9図は鋼ス) IJツブのエツジと補助電極板との
間の距離と鋼ス) IJツブのエツジ部のメッキ付着量
との関係を示すグラフ、第10図は釦1ス) IJッグ
のエツジと補助電極板との間の距離を示す図、第11図
は補助電極板の位置と補助電極板に流れる電流との関係
を示すグラフ、第12図は補助電極板に流れろ電流とそ
の電圧との関係を示すグラフである。図面におし・て、 1・・・垂直型電気メッキ槽、 2.2′・・・コンダククロール、 3・・・ジンクロール、  4・・・酒ストリップ、5
、5’、6.6’・・・電極板、7・・・水平型電気メ
ッキ槽、8a、8a’、8b、 8b′−・・ダムロー
ル、9.9′・・・主電極板、  10.10’・・・
補助電極板、11.11’・・・位置調整機構、 12.12’・・・集電子、 13.13’・・・導線
、14.14′・・・電圧調整器、 15.15’・・・電流検出器、 16.16’・・・導線、  17・・・差分演算器、
18・・・補助電極板位置調整器、 19.19’・・・導線、  20.20’・・・電流
制御器、21.21’、22.22’・・・導線。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an embodiment of continuous electroplating using a vertical electroplating apparatus according to the method of the present invention; FIG. 2 is an explanatory diagram showing another embodiment;
The figure is a schematic vertical cross-sectional view of a vertical electroplating device, FIG. 4 is a schematic vertical cross-sectional view of a horizontal electroplating device, and FIG. Figure 6 is an explanatory diagram showing how current flows to the non-plated surface in the case of single-sided plating, Figures 7 and 8 are explanatory diagrams showing the distribution of plating current when an auxiliary electrode plate is arranged, and Figure 9 Figure 10 is a graph showing the relationship between the distance between the edge of the IJ tube and the auxiliary electrode plate and the amount of plating on the edge of the IJ tube. Figure 11 is a graph showing the relationship between the position of the auxiliary electrode plate and the current flowing through the auxiliary electrode plate, and Figure 12 is a graph showing the relationship between the current flowing through the auxiliary electrode plate and its voltage. It is a graph showing the relationship. In the drawings, 1... Vertical electroplating tank, 2. 2'... Conductor roll, 3... Zin roll, 4... Sake strip, 5
, 5', 6.6'... Electrode plate, 7... Horizontal electroplating bath, 8a, 8a', 8b, 8b'-... Dam roll, 9.9'... Main electrode plate, 10 .10'...
Auxiliary electrode plate, 11.11'... Position adjustment mechanism, 12.12'... Current collector, 13.13'... Conductive wire, 14.14'... Voltage regulator, 15.15'. ...Current detector, 16.16'...Conductor, 17...Difference calculator,
18... Auxiliary electrode plate position adjuster, 19.19'... Leading wire, 20.20'... Current controller, 21.21', 22.22'... Leading wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 少なくとも1枚の電極板が配置された、メッキ浴が収容
されている電気メッキ槽内に、金属ストリップを連続的
に導き、前記金属ストリップが前記電極板を通過する間
にその表面に連続的にメッキが施される金属ストリップ
の連続電気メッキ方法において、 前記メッキ槽内の前記電極板が配置されている位置に、
前記メッキ槽を通る金属ストリップの両エッジに近接し
て補助電極板を前記金属ストリップの幅方向に各々移動
自在に配置し、前記補助電極板の各々と前記電極板との
間に電流を流すことによって、前記金属ストリップの両
エッジ部に生ずるオーバーコートを防止すると共に、前
記補助電極板の一方と他方との電流値または電圧値の差
を連続的に検出し、その差が零となるように、前記補助
電極板の各々を前記金属ストリップの幅方向に移動しそ
の位置を制御することを特徴とする金属ストリップの連
続電気メッキ方法。
Claims: A metal strip is successively guided into an electroplating tank containing a plating bath in which at least one electrode plate is arranged, while the metal strip passes through the electrode plate. In a continuous electroplating method for a metal strip in which the surface of the metal strip is continuously plated, at a position in the plating bath where the electrode plate is arranged,
auxiliary electrode plates are arranged movably in the width direction of the metal strip in proximity to both edges of the metal strip passing through the plating bath, and a current is passed between each of the auxiliary electrode plates and the electrode plate. This prevents an overcoat from occurring on both edges of the metal strip, and continuously detects the difference in current or voltage value between one and the other of the auxiliary electrode plates so that the difference becomes zero. . A continuous electroplating method for a metal strip, characterized in that each of the auxiliary electrode plates is moved in the width direction of the metal strip to control its position.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0378069U (en) * 1989-12-01 1991-08-07
JP2009173952A (en) * 2008-01-21 2009-08-06 Nippon Mining & Metals Co Ltd Edge over coat preventing device and method of manufacturing electroplated material using the same
US7837841B2 (en) 2007-03-15 2010-11-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatuses for electrochemical deposition, conductive layer, and fabrication methods thereof

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