JPS6210124Y2 - - Google Patents

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JPS6210124Y2
JPS6210124Y2 JP13128976U JP13128976U JPS6210124Y2 JP S6210124 Y2 JPS6210124 Y2 JP S6210124Y2 JP 13128976 U JP13128976 U JP 13128976U JP 13128976 U JP13128976 U JP 13128976U JP S6210124 Y2 JPS6210124 Y2 JP S6210124Y2
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JP
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paper
pedestal
pattern
synthetic resin
base material
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JP13128976U
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JPS5350269U (ja
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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C66/00General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts
    • B29C66/70General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material
    • B29C66/71General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material characterised by the composition of the plastics material of the parts to be joined

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  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Paper (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は彫刻台座に顔写真等彫刻された彫刻画
像の偽造改竄防止を目的とするパスポート用透し
地紋入り合成紙に関するものである。
一般に紙などに透し地紋を設けて、書類等の偽
造防止をすることは古くから知られている技術で
あるが、地紋入り合成紙としては、実公昭49−
18134号が知られている。前記のごとく透し地紋
を紙葉に入れる技術は古くからあるが、合成紙に
透かし地紋を入れ、該透し地紋入り合成紙に彫刻
台座を有するものは現在に至るまでつくられてい
ない。
従来使用されているパスポートは、普通紙葉に
写真を貼付したものがほとんどであり、写真の張
り代え等による偽造を防止することは困難であつ
た。また、パスポート自体を再製することも容易
であつた。パスポート自体の再製防止のため、地
紋入り紙葉を用いたパスポートも考案されたが、
前記の理由、つまり写真の張り代え等により偽造
は容易であつた。また、天然紙であるため耐久性
に劣り、かなりの疲幣が予想されるパスポート用
紙葉としては不充分であつた。
本考案は以上の欠点に着目し、偽造困難なパス
ポートを提供せんとするものである。パスポート
用紙葉としては耐久性に優れる合成紙を用いるこ
ととし、かつ、紙葉自体の再製を防止するために
透し地紋入り合成紙をパスポート用紙葉として選
び、画像設置手段としては、写真貼付ではなく、
彫刻台座を設け、該彫刻台座に画像を彫刻顕現し
た考案を提供した。
すなわち、本考案はポリエチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリスチレン等の透明若しくは半透明で厚
さ20μ以上の柔軟性を有する合成樹脂基材1の一
方の面に適宜色彩の染料、顔料を以て印刷その他
の手段で地紋或は着色面2を形成した後、前記合
成樹脂基材1の両面に紙化加工部3を施した後、
地紋或は着色面形成面と反対側に前記合成樹脂基
材1、及び紙化加工部3と異なる色彩の染料、顔
料を含むインキを以て彫刻台座部4を形成したパ
スポート用透し地紋入り合成紙である。
以下本考案を図面を用いて詳細に説明する。第
1図は本考案の実施の一例を示す断面図で、1は
ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等
の透明、若しくは半透明の合成樹脂基材である。
この合成樹脂基材1の一方の面には適宜色彩の染
料、顔料をもつて、グラビア印刷法、オフセツト
印刷法、凸版印刷法、シルクスクリーン印刷法等
任意の印刷法により透し地紋或は着色面2を形成
する。更にこの基材1の両面に紙化加工部3を施
すことによつて透し地紋を入れた合成紙を形成す
る。この紙化加工部3は既知の種々の紙化加工方
法に依るが、一例を挙げればクレー、タルク、炭
酸カルシウム、チタン等の顔料を基材上に塗布し
不透明性や筆記適性を付与させるものである。さ
らにこの合成紙の地紋形成面と反対側に前記合成
樹脂基材1、紙化加工部3と異なる色彩の染料、
顔料を含むインキをもつて、彫刻台座4を形成し
たものである。
この彫刻台座部4は筆記適性に優れた紙加工部
面に形成されるので台座形成が比較的簡単で、か
つ、一度台座を形成した後は不用意に剥離するこ
とがない。
本考案は上記の如き構成になつているので、地
紋印刷面と反対側の紙化加工面に形成した彫刻台
座部4に電子彫刻機等を用いて写真原稿の彫刻を
行ない、彫刻台座に写真原稿の濃淡に対応する大
小深浅の微小凹溝の集合からなる彫刻画像5を刻
設する。
この彫刻台座形成に際してはその形成位置が非
常に重要な意味をもつてくる。結論から先にのべ
るならば、台座形成位置は常に合成樹脂基材1を
はさんで、地紋或いは着色面2と反対側、つまり
地紋印刷のない面の紙化加工部3もしくは、台座
部分に地紋印刷のされていない紙化加工部3でな
ければならない。その理由は、地紋印刷のある紙
化加工面に彫刻台座を形成し、これを切削する
と、地紋層も同時に切削されてしまうからであ
る。さらに詳しくこれを説明すると、充分な濃度
階調を有する画像を台座上に顕現するためには、
切削深度は最深部において60〜100μが必要であ
る。しかるに地紋入り合成紙においてはその構造
上、台座を設けた場合でも、台座表面より地紋印
刷面までの深度は45μの厚さ(台座5μ、紙化加
工部40μ)が普通最大限であり、深度45μ以上の
切削点においては地紋に全て切削されてしまうわ
けである。彫刻台座4はインキの性質上及び印刷
法上、最大の場合でも10μが限度であり、普通は
5μ前後の厚さが適当である。また紙化加工部3
の厚さは製作技術上40μ限度である。このため地
紋層と同側面に彫刻台座4を設けることは実用に
際し、適当でなく、彫刻台座4は地紋層2と反対
面もしくは地紋層のない部分に設けねばならな
い。
以上の理由により、本考案合成紙の構造上の各
層の厚さは必然的に限定されてくるわけで、台座
4は5μ前後、紙化加工部3は40μ以下、合成樹
脂基材20μ以上地紋層は5μ前後となる。なお合
成樹脂基材1は材料の入手の容易さ等の点から
100〜150μのものを普通使用する。
また、偽造防止効果を一層高めるため、地紋に
濃度階調をもたせることもよく、さらに正版地紋
(ポジ)、逆版地紋(ネガ)でもよく、また全面的
に所定紋様等を付し、さらに全面に着色してもよ
いことはもちろんである。
以上の如く本考案は通常の紙葉を用いたパスポ
ート同様、印刷や書込みが可能であり、加うるに
使用上予想される疲幣に対しても充分な耐久性を
もち、特定の厚みを有し、さらに柔軟性があるの
で小冊子などを製作する際の製本適性にも優れ、
しかも彫刻画像を切削しようとしてまず台座の画
像を削りとつた際、台座を構成する染料や顔料は
多少紙化加工部に浸透しているので紙化加工部表
面までも切削しない限り偽造はできない。そこで
更に該表面を切削するならば紙化加工部の脆弱性
により、合成樹脂基材の反対側に形成した透し地
紋が当該透明の基材を通して露見してしまうか、
紙化加工部が台座の切削とともに剥ぎ取られて、
台座に彫刻した画像自体が不明瞭になつたり、破
壊されてしまい、なんらかの物理的細工をした事
実が直ちに発見できるのである。
これは彫刻部を有する彫刻台座4をなんらかの
形で細工した場合、紙化加工部3にも不可避的に
引張り力が作用するからであり、このような作用
により偽造が非常に困難であるという特徴を有す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案にかゝる合成紙の拡大断面図、
第2図は第1図に示す合成紙に彫刻像を彫刻した
拡大断面図である。 1は合成樹脂基材、2は透し地紋或は着色面、
3は紙化加工部、4は彫刻台座、5は彫刻画像。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン
    等の透明若しくは半透明で厚さ20μ以上の柔軟性
    を有する合成樹脂基材1の一方の面に適宜色彩の
    染料、顔料を以て印刷その他の手段で地紋或は着
    色面2を形成した後、前記合成樹脂基材の両面に
    紙化加工部3を施した後、地紋或は着色面形成面
    と反対側に合成樹脂基材1及び紙化加工部3と異
    なる色彩の染料、顔料を含むインキを以て、彫刻
    台座部4を形成したことを特徴とするパスポート
    用透し地紋入り合成紙。
JP13128976U 1976-10-01 1976-10-01 Expired JPS6210124Y2 (ja)

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JP13128976U JPS6210124Y2 (ja) 1976-10-01 1976-10-01

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JP13128976U JPS6210124Y2 (ja) 1976-10-01 1976-10-01

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Publication Number Publication Date
JPS5350269U JPS5350269U (ja) 1978-04-27
JPS6210124Y2 true JPS6210124Y2 (ja) 1987-03-09

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JP13128976U Expired JPS6210124Y2 (ja) 1976-10-01 1976-10-01

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2172550B (en) * 1985-01-24 1988-11-16 Svecia Antiqua Ltd A method for the manufacture of a material in the form of paper sheets or a paper web provided with a watermarklike pattern.

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JPS4914200A (ja) * 1972-03-16 1974-02-07
GB1413587A (en) * 1972-05-19 1975-11-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic engraving system
JPS5150699A (ja) * 1974-10-30 1976-05-04 Kyodo Printing Co Ltd

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