JPS6198345A - イミドまたはアンモニウム塩を含む改良されたテルル像形成組成物およびフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、イミドまたはアンモニウム塩を含む改良され
たテルル像形成組成物およびフィルムＩこ関するもので
ある。

餐 １、　　　　　　　　　　　像または像の複製を形成す
るための種々の方法が知られている。成る種の場合、使
用する像形成材は特定の有機化合物である。これら従来
公知の方法の幾つかは、たとえばハロゲン化銀のような
無機化合物と１種もしくはそれ以上の特定種類の有機化
合物との混合物を増感剤として使用する。

像を形成するためにテルル化合物を使用する新しい写真
技術が１９７５年７月１７日付米国特許出願第５９６，
６４６号（現在米国特許第４，１４２，８９６号）に開
示されている。この米国特許第４，１４２，８９６号に
よれば、成る種の遣元され得るテルル化合物と還元剤先
駆体との組合せを基板上にフィルム状の被覆を形成する
のに適したノ２イングまたはマトリックス中に使用して
、エマルジョンが形成される。これから作成されたフィ
ルムは、後記する技術で知られているように活性エネル
ギ１こ対しさらされ、次いで現像される。熱現像が好適
である。

米国特許第４，１４２，８９６号の写真技術に使用する
よう記載された飛程かのテルル化合物は、　　　　　　
　　　　またとえば式 ％式％ 〔式中、Ｒは少なくとも１個のカルボニル基を有する有
機基であり、Ｘはハロゲン、好ましくは塩素であり、か
つＸは１．２もしくは３でありｘ　＋　ｙ　＝　４であ
る〕 ζこよって示すことができる。有機基Ｒは２個の独立し
た基であっても、或いは互いに結合して環式化合物を形
成してもよい。米国特許第４，１４２，８９６号に示さ
れた他の化合物群は有機テルル化合物であって、エチレ
ン性もしくはアセチレン性炭化水素のテトラハロゲン化
テルル付加物と考えられまたは特定化することができる
。これら化合物の幾つかは式 ％式％ 〔式中、ＲおよびＲ１はそれぞれエチレン性炭化水素の
残基であり、Ｘはハロゲン、好ましくは塩素である〕、 によって示すことができる。

有用であることが判明した他の種類の感光性テルル化合
物はハロゲン化テルル化合物、たとえば式 ％式％ 〔式中、ｎは２〜４の整数であり、ｎ＋ｍ＝４である〕 の化合物である。像形成過程におけるこの種のハロゲン
化テルル化合物の使用は、チャン等に係る米国特許第４
，０６６，４６０号明Ｉ！ｉＩ書に開示されている。

さらに他の種類の有用なテルル化合物が米国特許第４，
１０６，９３９号明細書に記載されている。

これらの化合物は、芳香族環に直接または間接に結合さ
れた窒素が１〜４個の炭素原子を有するアルキルにより
置換された芳香族アミンのテトラハロゲン化テルル付加
物であり、この付加物はジアゾ基を含まない。

たとえば、上記したようなテルル化合物は、増感剤とし
て作用する還元剤先駆体と組み合せて使用することがで
きる。この還元剤先駆体は、活性化エネルギの作用の下
で照射エネルギを吸収しかつ適当な水素供与体から不安
定な水素を抽出して強力な還元剤となる化合物である。

この強力な還元剤は、テルル化合物を二価のテルル化合
物または単体状のテルルまで還元する。いずれの場合も
、光学濃度の変化が生じて、情報を記録するのに適遣 Ｊ　　　　　　　　　　　　Ｌ、た像形成をもたらす。

一般的意味において上記半 反応は、次の反応メカニズム ｐＱ−４’ｐＱ　−＋　”ｐＱ ａＰＱ’ｐ２ＲＨ−＋ＰＱ−に２＋Ｒ−Ｒ（Ｒ’）２争
ＴｅｌｌＸ２＋　　２ＰＱｅＨ２−＋　　２ＰＱ　＋　
　２Ｒ’Ｈ＝Ｔｅ＋２ＨＸ〔式中、ＰＱは還元剤先駆体
増感剤であり、ＩＰＱはそのｆ！ｃｉ励起シングレット
状態であり、！ＰＱはそのトリプレット状態であり、Ｒ
Ｈは水素供与体であり、ＰＱ−Ｒ２はその還元状態にお
ける還元剤先駆体であり、（Ｒ′）２＃Ｔｅ−Ｘ２は還
元され傅るテルル家形成化合物である〕により示すこと
ができる。

この意味において、水素供与体を特に供給する必要はな
いが、各種のアルコールを所望に応じ使用しうろことに
注目すべきである。特に水素供与体が供給されないと、
不安定水素がしばしばノＳインダとして使用された有機
樹脂から抽出されつる。

他の場合、増感剤がそれ自身で水素供与体となり、　　
　　　　　　１これは少なくともＩＰｌの好適瑠感剤、
すなわちイソプロポキシナフトキノンについての場合で
あることが知られている。

テルル写真法の変形法がベルギー特許第８５４゜１９３
号明細書に記載されており、この場合式１式％ の成る種のジオールを、上記感光剤き組み合せて使用す
るための水素供与体として使用することができる。上記
式においてＵｌＯおよびＲ１１は水素および各種の有ａ
置換基を示す。２は、２個のヒドロキシ置換された炭素
原子の間における直接的炭素−炭素結合とすることがで
き、或いは種々の任意結合基とすることもできる。上記
ジオールをさらに充分説明するため、ベルギー特許第８
５４゜１９３号明Ｉｔ＃書をここに用いる。このベルギ
ー特許において、これらジオールは水素供与体として作
用すると云われる。その後の研究は、これが完全には正
確でないことを示唆している。事実、ジオールの主要部
分はテルル化合物との錯体を形成すると思われる。

この知見は一般式 ％式％ のジオールの発見をもたらし、これらジオールはテルル
系の写真フィルムに使用すると改善された特徴を有する
。

基Ｒは単純な脂肪族基（たとえばアルキルもしくはアル
ケニル）とすることができる。或いは、基Ｒはカルボニ
ル基（たとえばアシル基）を有することもできる。しか
しながら、好ましくは基Ｒは芳香族基である。芳香族環
が１個のメチレン基によりエーテル酸素から分離されて
いる場合、最良の結果が得られる。これらジオールの一
層完全な説明は１９７９年９月１０日付米国特許出願第
７３．７００号（米国特許第４，２８１，０５８号）に
記載され、これをここに参考のため用いる。

感光剤としてテルル化合物を使用するさらに他の変形法
は、いわゆる「遮蔽された還元剤」として知られたもの
を包含する。有機テルル化合物を還元する多数の化合物
、たとえばフエニト９ンが知られている。この棟の化合
物の還元能力は、適当な置換により「遮蔽コし、すなわ
ち禁止することができる。この種の場合、置換基がテル
ル化合物の光還元の際に遊離された反応生成物により開
裂しうるものであれば、遮蔽された還元剤を使用して次
のメカニズムを介し光応答を増幅することができる。

光＋増感剤→光活性還元剤。

光活性還元剤キテルル化合物→テルル＋副生物。

副生物＋遮蔽された還元剤→遮蔽解除された還元剤。

Ｊ蔽解除された還元剤＋テルル化合物→テルル＋（！１
］ヶ、。

Ｉ′ 一般的に使用される有機テルル化合物は還元反応の副生
物としてハロゲン化水素（特に環化水素）を遊離し、か
つたとえばフェニドンのような還元剤はアミノ化合物で
あるため、最も効果的に使用される遮蔽剤はアミノ基の
窒素をアミド０に変換する化合物である。したがって、
典型的な遮蔽された還元剤は式 を有する化合物である。遮蔽された還元剤のより完全な
説明は１９７８年７月１９日付の（ルギー特許第８６３
，０５２号明細書に見ることができ、これを参考のため
ここに用いる。

ベルギー特許第８６３，０５２号明ｍ８に記載さ　　　
　　　　　　　１れな遮蔽された還元剤の代案として新
しい種類の遮蔽された還元剤を使用することもできこれ
ら還元剤は一般式 ％式％ 〔式中、Ｙは水素またはＣＮＨＲ”である〕により示さ
れ、この化合物は少なくとも１個のＩ Ｃ−ＮＨ−Ｒ’基を有する。上記式において、Ｒ１はア
ルキル、アルカノイル、アルコキシカルボニル、フェニ
ル、ベンジル、ベンゾイル、ニトロフェニル、ベンジル
カルボニル、フェニルメチル、フェニルメチルマタはフ
ェニルプロピルカルボニルもしくはアミノカルボニルと
することができる。

Ｒ＊、Ｈ４およびＲ４はそれぞれ独立して水素、アルキ
ルもしくはフェニルおよびアミノとすることカテキル。

Ｒ１はフェニル、ニトロフェニル、ハロフェニル、アル
キル、モノ−、ジーもしくはトリーハロアルキル、（ン
ソイル、アルキノＬ／７エ二ルマタはアルキルシアノフ
ェニルとすることができる。遮蔽基は、還元剤のアミノ
基の水素部位のいずれか一方もしくは両方で置換するこ
とができる。上記アルキル基は７個までの炭素原子を有
することができる。この種の化合物は便利には、原料（
ｐａｒｅｎｔ　）ヒドラジンもしくはピラゾリンと式 ％式％ のイソシアネートとの反応により得ることができる。こ
れら遮蔽された還元剤の一層完全な説明は１９８２年７
月２０日付米国特許第４，３４０，６６２号公報に見ら
れ、これを参考のためここに用いる。

実際上、上記成分すなわちテルル誘導体と、還元性先駆
体増感剤と、たとえばグリコールおよび遮蔽された還元
剤のような追加成分とを適当なマトリックス中で組み合
せてエマルジョンを形成し、これを適当なキャリヤもし
くは基板上にフィルムとして展延することができる。フ
ィルムにおける潜像は、像形成エネルギ（たとえば光像
）に露出して形成される。

潜像を形成させた後、米国特許第４．１４２，８９６号
に記載されたように、露出フィルムを加熱することによ
り可視像を現像する。

フィルムの感度、又は露光時間に関する感度は、像を形
成するのに必要とされるエネノシギ量により決定される
。多くの用途につき、比較的急速な像形成フィルムを得
るのが望ましく、さらにフィルムにより形成される像の
光学濃度に比べて低い光源　　　　　　　　　　学ａ度
を有するものが望ましい。

ｊ 本発明によれば、テルル化合物と遺元剤先躯体と遮蔽さ
れた還元剤とを含有する上記の有機テルル像形成系が改
善される。より詳細には、熱にかけたＶＡ（たとえば熱
現像の場合）或いは化学反応にかけた際アンモニアを発
生する窒素含有有機化金物またはアミン化合物を像形成
フィルム組成物中に含ませて、フィルムの性能を改善し
うることが判明した。１種もしくはそれ以上のこの種の
化金物を含ませれば、感度（＠光度）を改善（増大）さ
せかつ／またはこの棟の組成物で作成した像形成フィル
ムを現像した後の露出部分の光学濃度を改善（増大）さ
せ、かつ／またはフィルムの未露出部分における背景か
ぶりもしくは光学濃度を減少させるという予期せぬ結果
をもたらす。これら組成物は、上記したように他の成分
を含有することができる。

適する窒素含有の有機化合物は成る種のイミドおよび成
る種の有機アンモニウム塩を包含する。　　　　　　　
　　１本発明に使用するイミド０は窒素が環の一部を構
成する有機環式化合物の種類であって、この窒素はさら
に環の１部を構成する窒素に結合された２個のアシル基
を有する。一般にフィルムの性能（たとえば感度の増大
、露出部分の光学濃度の増大、または未露出部分のかぶ
り減少などの性質）を改善する任意のイミド９または有
機アンモニウム塩を使用することができる。好ましくＣ
友望ましくない悪影響を及ぼすような化合物は回避され
る。適するイミドは、次式 ％式％ 〔式中、Ｒ１およびＲ６はそれぞれ独立して水素、３個
もしくはそれ以下の炭素原子を有するアルキル、ヒドロ
キシアルキル、ヒドロキシル、フェニル、ベンジルまた
は３個もしくはそれ以下の炭素原子を有するアルコキシ
であり　Ｈｌ、Ｒ８％Ｒ４、Ｒ１％Ｒ？　およびＲ１は
それぞれ独立して水素、３個もしくはそれ以下の炭素原
子を有するアルキル、フェニルまたはベンジルである〕 の化合物を包含する。一般に、Ｒおよび／またはＲ６が
ヒドロキシルまたはアルキルである場合に特に良好な結
果が得られる。一般に、Ｒ１またはＲ６が３個より少な
い炭素原子を有するアルキルである場合に一層良好な結
果が得られ、アルキルがメチルである場合に最良の結果
が得られる。

一般にイミド化合働程有利ではないが、適する奪 １ｊ　　　　　　　　　　　有機アンモニウム塩は、次
式％式％ 〔式中　１１　、Ｂｌ　、ＨａおよびＲ４はそれぞれ独
立して、水素、３個もしくはそれ以下の炭素原子を有す
るアルキル、フェニル、ベンジル、メチレン、エチリデ
ンまたはプロピリデンである〕の化合物を包含するうこ
れらアンモニウム塩は対応のカルボン酸化合物から鋳導
することができる。

本発明において有用な特定イミドの例はスクシンイミド
、マレイミド、フタルイミド、Ｎ−メチルマレイミド、
ピロメリトジイミド、Ｎ−エチル７、イ、１−１Ｎ、Ｎ
・−７゜−７エ：−Ｖ”／）１いイ、　　　　　　　１
ドおよびＮ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−メチルス
クシンイミド、Ｎ−メチルグルタルイミド、Ｎ−メチル
−２，３−ジメチルスクシンイミド、Ｎ−メチル−３−
メチルグルタルイミド、Ｎ−ヒドロキシグルタルイミド
、Ｎ−ヒドロキシマレイミド、Ｎ−／ｇチルー２．２−
ジメチルグルタルイミド、Ｎ−メチル−３，３−ジメチ
ルグルタルイミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメチルグル
タルイ□　ミドおよびＮ−エチルグルタルイミドを包含
する。

特定アンモニウム塩の例はマレイン酸アンモニウム、コ
ハク酸アンモニウム、イタコン酸アンモニウム、２．２
−ジメチルコハク酸アンモニウムおよびフタル酸アンモ
ニウムを包含する。

特定の理論に拘束されるものでないが、熱現像の際、イ
ミドまたは有機アンモニウム塩化合物はアミンに変換さ
れるか或いは有機テルル材料に対し還元剤として作用す
るアンモニアを遊離し、さらに遮蔽された還元剤は遮蔽
解除されるとアンモニアもしくはアミンの存在下で一層
活性となり、より多量の有壜テルル物質を遺元すると思
われる。

さらに、一般に上記のイミドおよびアンモニウム塩は後
記する有機溶媒に可溶性であり、これら溶媒は望ましく
はフィルム形成組成物の各成分を含有する均質な分散物
の溶液を作成するのに使用される。一般に、可能ならば
有（ｋ溶媒に可溶性である成分を使用して、フィルムの
製造に際し沈澱物が生ずる傾向を減少させるのが有利で
あり、この沈澱は望ましくなく、かつフィルムを使用不
能にする。

フィルム形成組成物に存在させるイミドまたはアンモニ
ラ１１塩の量は変化することができろう一般に、改良さ
れたフィルムを形成するのに必要な最小量は存在しない
。しかしながら、改善の程度は、それぞれ特定のフィル
ム組成およびイミドもしくはアンモニウム塩につき所定
量まで存在させるイミドまたはアンモニウム塩の量ＩＣ
関係する。

その量を越えると、一般にフィルムの光応答が低下する
。特定組成に対する特定イミドもしくはアンモニウム塩
の最適量は、単に種々の量の特定イミ１もしくはアンモ
ニウム塩を含有するフィルムることができる。たとえば
、後記実施例３に示したフィルムの場合、感度に対する
スクシンイミドの最適量は、テルル像形成化合物０．６
２５Ｆ当り約０．８ｇであった。実施例７に示すフィル
ムについては、感度に対するＮ−メチルマレイミドの最
適量は、テルル像形成化合物０．６２１当り約０．７８
４．９であった。

本発明により作成されるエマルジョンはテルル化合物と
、還元剤先駆体と、遮蔽された還元剤と、適当なバイン
ダとを含有する。必要に応じ、他の成分もこのエマルジ
ョンに含ませることができる。

セ　　　　　　　ツォー７．、□。よい６．、、□４，
２８□、ｏ５８；□ 号のグリセリル化合物も含ませることができる。

さらに、好ましくは米国特許第４，２８１，０５８号の
グリセリル化合物を含ませる場合、１９８４年５月１日
付発行の米国特許第４，４４６，２２４号明細書に開示
されたようにアルコールを含ませることもできる。１９
８４年５月１５日付発行の米国特許第４，４４８，８７
７号明細書に示されたように、水を含ませることもでき
る。たとえば１９８４年５月２９日付発行の米国特許第
４，４５１，５５６号明細書に記載されたような塩基も
含ませることができる。

債形式テルル　　　多数の像形成テルル化合物が従来技
術に示されており、これら化合物は一般に本発明に有用
である。一般に本発明は、後記するように、還元剤先駆
体の存在下で同様な還元反応を受けるようなこれらおよ
びその他のテルル化合物の使用を包含する。

多くのテルル化合物は、像形成プロセスに使用　　　　
　　　　１するのに特に適した成る種の性質を有するこ
とが判明した。一般に、これらは上記の像形成および現
像プロセスの結果、単体状のテルルがテルル化合物から
沈着するような化合物である。テルルは連鎖形成特性を
有し、一般に写真目的に有用なテルル化合物（好ましく
は細い針状物を包含する）から沈着し、これら化合物は
急速に核形成しかつ結晶として成長することができ、こ
の結晶は連鎖としてかつ主として針状結晶とし【成長す
る。この種の連鎖または針状物は不透明であって、優秀
な光散乱の特徴を有し、熱もしくはその他の現像の後に
観察される良好な光学濃度を与える。

・・　　　　　酸化物生成を含む作用は、主として表面
効果に制限され、この表面効果は針状物または連鎖の本
体を通して分解を生ずる作用と区別される。

好ましくは、テルル像形成化合物は、たとえばチャン等
の米国特許第４．１４２，８９６号明細書に開示された
ような有機テルル化合物である。これらの化合物は、本
来増感剤特性を有する（かつ／または別の増感剤と混合
し５る）有機テルル化合物であって、テルルが有機テル
ル物質の少なくとも１個の炭菓原子または有機基に直接
結合されており、この有機テルル化合物は粒子または波
ａ照射の形態の像形成エネルギの作用に呼応して変化し
うる構造および検出可能な特性を有し、他の検出可能な
特性を有する異なる４造の物質を生成する。像形成プロ
セスから生じた異なる構造および異なる検出可能な特性
を有する物質は、しばしば「像形成化合物」と呼ばれる
。

テルル像形成化合物はたとえば米国特許第４．０６２，
６８５号公報に開示されたような有機金属化合物とする
ことができ、この米国特許をここに参考のため用いる。

本発明の実施に使用される像形成有機テルル化合物の特
に有利な種類は、テルル原子に直接結合された有機基と
ハロゲンとを含有する有機化合物からなり、有＋４基に
少なくとも１個のカルボニル基を有する。それらの成る
イ道のものは、ハロゲン化テルルの付加物、特に四塩化
テルルと有嶺化合物、特に有機化合物に少なくとも１個
のカルボニル基を有するケトンなどの発色団との付加物
である。したがって、これらはテルル原子に直接結合し
たハロ２ン（すなわち塩素、臭素、沃素およびフッ素）
を含有する有機テルル化合物または付加物と考えられ、
または特性化することができる。

この特定ｆｅｄの像形成化合物の殆んどは、２個のカル
ボニル含有の有機基を有する。本発明の実施に特に有用
なものはハロゲンとして塩素を有するが、成る場合には
一般に大して満足しえないが他のハロゲンを存在させる
こともできる。像形成化　。

金物は、以下に記載するように使用し５る任意特定のマ
）　ＩＪラックス料に対し可溶性または均簀分散性とな
るように選択すべきである。この種の像１　　　　　　
　　　　形成有機テ・・ル化合物の多くは式％式％ 〔式中、Ｒは少なくとも１個のカルボニル基を有する有
機基であり、１（ａｌはハロゲン、特に塩素であり、Ｘ
は１．２または３であり、ｘ＋ｙ−４であり、ただしＴ
ｅは有機基における炭素に直接結合されている〕 によって示すことができる。好ましくはＸは２または３
である。

（以下余白） を 池のものは式 ％式％ 〔式中、几はカルボニル含有の有機基であシ、Ｈａｔは
ハロゲンである〕 によって示すことができる。

Ｒ基は脂肪族、環式脂肪族または芳香族（単核または二
枚）或いはその組み合せとすることができ、連鎖または
環中に１個もしくはそれ以上のへテロ原子を有すること
ができる。これは、所望の像形成効果を促進しうる１＋
は少なくとも阻害しない各種の有機もしくは無機の基に
より置換され或いは未置換とすることができ、これら基
の例はオキシアルキル基に対応するａ、−〇、アルキル
、アセｆル、ニトロ、ＯｇＮ％ＣＭ、、Ｂｒ、　Ｆ　な
どである。一般的に云えば、トリハライド基を有する前
記の有機テルル像形成化合物（たとえば三塩化アセトフ
ェノンテルル）は比較的低い融点（約７０〜８０℃）を
有する傾向があり、２個のハロゲン原子を有するほぼ同
様な化合物よシも吸湿性が大でありかつ安定性が低く、
したがってこの種のトリハロゲン化物は本発明の実施に
使用するのにやや劣る。

より限定されたａ類のこの特定ａ類の像形成有機テルル
化合物は式 ％式％ 〔式中、Ａ「は上記したように置換もしくは未置換とし
うる芳香族炭化水素基であ夛、ＨａＬはハロゲン、特に
塩素でちる〕 Ｋより示すことができる。この種類の化合物（特にＨａ
Ｌが塩素であるもの）は本発明の実施に使用される像形
成有機テルル化合物に関し本発明の特に有利な具体例で
ある。

本発明の実施に有用であると考えられる、有機基にカル
ボニル基を持たず、テルルが炭素に直接結合されている
他の種類の像形成有機テルル化合物は、エチレン性また
はアセチレン性炭化水素のテトラハロゲン化テルル付加
物と考えられま九は特性化しうる化合物である。これら
化合物は一般に、１〜２モル、特に２モルのエチレン性
もしくはアセチレン性炭化水素を１モルのテトラハロゲ
ン化テルルと反応させて便利に製造され、この用途に特
に好適なものはＴｅ　Ｏｔ４である。これら化合物の成
る種のものは、式 ＨａＬ　−Ｒ’−Ｔｅ−几・−ＨａＬ　　およびＨａＬ （ＨａＬ−Ｒ’入−Ｔｅ　　　ＨａＬｙ〔式中、Ｒ６お
よびＶはそれぞれエチレン性炭化水素の残基たとえばア
ルケンもしくはシクロアルケンであり、Ｈａｔは塩素、
臭素もしくは沃素、特に塩素であシ、Ｘは１〜３であシ
、ｘ　＋ｙ　＝４である〕 セ ；”　　　　　　ＫＪニー）Ｃ７Ｊ＝：ｆｃ＆′６Ｚ−
ｔ”ｔｋ、Ｂ。

テトラハロゲン化テルルが付加されてこの種の像形成有
機チルＡ・化合物を生成しうるエチレン性およびアセチ
レン性炭化水素の例はプロピレン、ブテン−１，インブ
チレン、ブテン−２，２，３−ジメチル−２−ブテン、
３．３−ジメチル−１−ブテン、２．４−ジメチル−１
−ペンテン、４４−ジメチル−１−ペンテン、ス５−ジ
メチル−３−へキセノ、ジペンテン、Ｌｌ−ジフェニル
−エチレン、１−ヘプテン、１−ヘキセン、２−メチル
−１−ヘキセン、３−メチル−１−ヘキセン、４−メチ
ル−１−ヘキセン、２−エチル−１−へキセノ、２−イ
ソプロピル−１−ヘキセン、２−メチル−１−ペンテン
、２−メチル−２−ペンテン、２−エチル−２−ペンテ
ン、３−メチル−１−ペンテン、ピペリレン、ビニルシ
クロヘキセン、ビニルシクロペンテン、２−ビニルナフ
タレン、ｌ。

＆４−トリビニルシクロヘキセン、４−メチル−１−Ｓ
′り°−キ″に７・　３−メチＡ／−１−９り°へ　　
　　　　　　　　（キセノ、１−メチル−１−シクロヘ
キセン、１−メチル−１−シクロペンテン、シクロヘプ
テン、シクロペンテン、シクロヘキセン、４４−’）メ
チル−１−シクロヘキセン、２−、＋１チルブテン−１
，３−メチルブテン−１および１−オクテン、各種のア
ルケン類の低級アルキルおよび低級アルコキシ紡導体、
たとえばシクロヘキセン、１−ペンチン、２−ペンチン
、１−ヘキシンおよヒ３−）チル−１−ブチンである。

上記有機テルル化合物並びＫその多くの例の製造につい
ては、米国特許第４１４２．８９６号明細書に充分水さ
れており、これを参考のためここに用いる。

上記したように、ハロゲンが塩素および臭素よりなる群
から選択される少なくとも１ｍのテルルのテトラハロゲ
ン化物も本発明における像形成材料として有用である。

この種のハロゲン化テルルは米国特許第４０６４４ｓｏ
号公報に充分記載されておシ、これを参考のためここに
引用する。これら結像性材料の成る種のものは式 ％式％ 〔式中、ｎは１〜４の整数であり、ｍ　＋　ｎ　＝　４
である〕 によって示すことができる。使用しうる典呈的なテトラ
ハロゲン化テルルはＴｅ０ＬいＴｅ０Ｌ雪Ｂｒｓおよび
ＴｅＧｊＢｒｓである。Ｔｅ０ｔ４が特に有用である。

これらテトラハロゲン化テルルおよび像形成化合物とし
てのその使用の充分な説明については、米国特許第４０
６６．４６０号を参照することができる。

さらに他のｆｊ類の像形成化合物は、チャン等に係る米
国特許第４１０＆９３９号明Ｉ／４Ｂ−ｓに記載された
テトラハロゲン化テルルから誘導される成る種の化合物
であろうこれらの関連化合物は、ジメチルアニリンの四
塩化テルル付加物によシ例示されるようなテトラハロゲ
ン化テルルと芳香族アミ、ンとの付加物であり、この付
加物はジアゾ基を含まない。Ｊ：９詳細には、これらの
テト２ハロゲン化テルルは、テトラハロゲン化テルルを
、芳香族基に直接または間接に結合された窒素が１〜４
個の炭１ｇＭ子を有するアルキＡ／によシ置換されてい
る芳香族アミンと結合させて生成され、像形成有機テル
ル材料はジアゾ基を含まない。

テトラハロゲン化テルルのこれら芳香族アミン付加物は
チャン等に係る米国特許第４１０へ９３９号明細書に充
分記載され、これをここに参考のため用いる。

活性テルル化合物は、所望に応じ、たとえば酸化テルル
またはテルル塩を適当な有機化合物と組み合せて使用す
ることによシその場で生成させることもできる。しばし
ば、その場での生成は酸の存在により促進される。たと
えば、ビス（アセトフェノン）テルルジクロライドまた
は酸化テルル或いはアルカリ金属チルシートｙｔｚｔ−
下記するグリ銀 ・１　　　　　　　　　　：！−ルの１ｓと結合させて
、活性でおるテルル−有機化合物錯体を生成させること
ができる。この反応はたとえば上記したような有機テル
ル化合物とジオールとの間の反応に類似すると思われる
。

予備的情報によれば、反応は酸性の媒体により促進され
ることが示唆される。少量の酸たとえば無水塩化水素を
添加することができる。或いは、ハロゲン含有のテルル
化合物も必要な酸性を与えるであろう。

１反肚乞凰生 テルル像形成化合物の他に、本発明の像形成系は還元剤
先駆体または増感剤を含むことができ、これは上記にし
たように活性化エネルギーの作用下で水素供与体から不
安定水素を抽出して像形成テルル化合物に対し還元剤と
なるような性質を有する化合物である。次いで、この活
性化された還元剤はテルル化合物を還元して、所望の像
を形成する。水素供与体は外部の水素源、たとえば特に
叡 天 ゛　この目的で供給されるアルコールとすることができ
る。しかしながら、水素供与体は、還元剤先駆体の分子
構造の一部でちる適当な基であってもよ（Ｓｏ 本発明に有用な好適還元剤先駆体はキノン、特に２−イ
ソプ四ボギシナ７トキノン、９，１０−フエナンテンキ
ノン（９，１０−ｐｈｅｎａｎｔｈｅｎｅｑｕｉｎｏｎ
ｅ　）および２−１−ブチルアント２キノンでちる。他
の好適な還元剤先駆体は、１９８４年７月１７日付発行
の米国特許第４４６へ６７８号明細書に開示されている
。その他の特定の還元剤先駆体は次のものを包含する。

３−クロａ　−２−イソプロポキシ−Ｌ４−ナフトキノ
ン、３−クロロ−２−イソプ鴛ポキシー１４４−アント
２キノン、３−クロロ−２−イソプロポキシ−＆７−ジ
フエエルーＬ４−ナフトキノン、３−クロロ−２−（３
’−ペントキシ）−Ｌ４−ナフトキノン、３−クロロ−
２−（２′−ブトキシ）　−１，４−ナフトキノン、３
−クロロ−２−（３’３’−ジメチル−２′−ブトキシ
）−Ｌ４−す７トキノン、２．３−ジイソプロポキシ−
Ｌ４−ナフトキノン、３−クロロ−２−メトキシ−１，
４−ナフトキノン、λ３−ジメトキシーＬ４−ナフトキ
ノン、３−りはロー２−（ｔ−ブトキシ）−Ｌ４−す７
トキノン、３−り筒口−２−エトキシーム４−ナフトキ
ノン、３−クロロ−２−（ｎ−ブトキシ）−Ｌ４−す７
トキノン、３−クロロ−２−（２’−メチルプロポキシ
）−Ｌ４−ナフトキノンおよび２−インプロポキシ−Ｌ
４−アントラキノン。上記８類からの特に有用な還元剤
先駆体は３−クロロ−２−インプロポキシ−Ｌ４−ナフ
トキノン、３−クロａ−２−イングロボキシーＬ４−ア
ント２キノンおよび２．３−シイソゲ筒ポキシー１．４
−ナフトキノンを包含する。これら還元剤先駆体は、可
視領域における電磁放射に対し良好な感度を示すと共に
、フィルムが良好な感度を有するようにさせる。

キノンではないがベンゾフェノンも還元剤先駆体として
有用であシ、同様に多数のよシ単純なケトンが存在する
。

還元剤先駆体の選択において重要な要素は、還元剤先駆
体が応答するスペクトル領域である。この理由で、単純
なケトンは、可視光を記録するのに一般に有用でない。

何故なら、それらのスペクトル感度は遠紫外領域にある
からである。

次のものが、約４００ａｍまでの範囲で敏感であυ、し
たがって紫外領域においてのみ有用である還元剤先駆体
の例である。ベンゾフェノン、アセトフェノン、Ｌ５−
ジフェニル−１１３１５−ペンタントリオン、ニンヒド
リン、４４′−ジブロモベンゾフェノンおよびＬ８−ジ
クロロアントラキノン。

その他各種の還元剤先駆体も使用することができ、特に
置換もしくは未置換の多核キノンの種類であシ、これら
種類の幾つかを挙げれば次の通り、　　　　　　　ｆｓ
！ｅ　１．２−＜ｙＸ７　ｙ　ｌ′５“／ｙ、　２−）
ｆｉ、ｌ　　　　　　　　　　　ルアントラキノン、１
−クロロアントラキノン、７、＆９．１０−テトラヒド
ロナフタセンキノン、気１０−アントラキノンおよび１
，４−ジメチルアントラキノン。必らずしも全ての還元
剤先駆体が所定の各像形成材料に対し、たとえ使用する
還元剤先駆体の感度の範囲における像形成エネルギーの
利用性を考慮しても、有効または同等に有効でろるとは
限らず、かつ特定の像形成材料と特定の還元剤先駆体と
の組み合せを適当に選択することが所望もしくは最適結
果を達成するのに必要とされることか了解されよう。し
かしながら、この種の選択は比較的容易に行なうことが
できる。

一般に、上記に関し注目すべきことは、還元剤先駆体が
シングレットおよびトリプレットにおけ＊　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　＊るηπ
状態を有することである。π、π　状態よシも低いエネ
ルギを有しかつ大抵の場合少なくとも＊ 最低エネルギーのπ、π　状態を有する化合物は感光性
において有効でないが、成る特定例において＊　　　　
　　　　　　　　　　１ π→π　転移よシ低いエネルギーη→π　を有する試験
を満たす化合物は、還元剤先駆体として機能しない。し
かしながら、上記の考慮は、主として所定の化合物が本
発明の実施に使用するための還元剤先駆体として機能す
るかどうか予め決定するのに有効である。いずれくせよ
、いかなる場合にも所望の像形成化合物と還元剤先駆体
とを使用する試験エマルジョンを作成することにょシ、
必要に応じ簡単な予備実験を容易に行なうことができる
。

成る種の場合、外部の増感剤は必要でない。たとえば、
２５０〜３００　ｎｍの範囲の波長において、大抵の有
機テルル化合物は直接に光分解され、かつ成る種の他の
テルル化合物、特にハロゲン化物は可視スペクトルの實
色部分に対し敏感である。

電子により像形成を達成しようとする場合、付加的増感
剤は必要とされない。何故なら、電子は像形成材料の直
接的分解を行なうからである。

以下、成る種の好適な還元剤先駆体の製造につき説明す
る。一般に、好適なナフトキノンまたはアントラキノン
を生成させるには、適当な出発物質を適当なアルコキシ
ドと反応させて、所望の還元剤先駆体を生成させる。

一般式 〔式中、テはアルコキシであシかつｒはアルコキシもし
くはクロルである〕 の還元剤先駆体を生成させることが望ましい場合、λ３
−ジクロ０−１．４−ナフトキノンをたとえばナトリウ
ムアルコキシドのような金属アルコキシドと反応させ、
この場合アルコキシドは所望のアルコキシ基に対応する
。この金属アルコキシドは、アルコールをたとえばナト
リウムのような活性な金属と反応させて生成させること
ができる。たとえば、ナトリウムとイソプロパツールと
の反応は１、ナトリウムイソプロポキシドを生成する。

たとえば２，３−シイツブ四ポキシー１．４−ナフトキ
ノンを生成させるには、ナトリウムイソプロポキシドを
ム３−ジクロローＬ４−ナフトキノンと好ましくは室温
で反応させて、ａ３−ジイソプロポキシ−１，４−ナフ
トキノンを生成させる。２−クロロ−３−インプロポキ
シ−１４４−ナフトキノンも同様に製造されるが、ただ
しアルコキシドｔ１３−ジクロロ−Ｌ４−ナフトキノン
の冷却（好ましくは０〜５℃、或いはほぼ水浴温度）懸
濁物へ徐々に添加する。このようにして、クロル基の１
個のみがインプロポキシ基によシ置換される。１個のア
ルコキシ基と１個のクロル基とを有する他の還元剤先駆
体、たとえば３−クロロ−２−（２’−ブトキシ）−Ｌ
４−ナフトキノン、２−りはロー３−イソプロポキシ−
Ｌ４−アントラキノンおよび２−／ａａ−３−イソプロ
ポキシ−ａ７−ジフェニル−Ｌ４−ナフトキノンも同様
に製造すること３　　　　　　　　　　ができる。後者
の２種の化合物は、それぞれス３−ジクロロ−Ｌ４−す
７トキノンおよび２．３−ジクロロ−へツージフェニル
−１，４−ナフトキノンから製造されるであろう。

ＶおよびＹ３が異なるアルコキシであれば、一方のアル
コキシドを徐々に加えて１個のクロルを置換し、かつ生
成物を回収し、次いでこの生成物を同様にして他方のア
／Ｉ／；キシドと反応させる。

一般式 〔式中、ｙｌはアルコキシであルかつｙＪは水素、クロ
ルまたはアルコキシである〕 の還元剤先駆体は、２−クロローム４−アント２キノン
（ｙＭが水素でおる場合）またはス３−ジクロローＬ４
−アントラキノン（ｙａがクロルまたはアルコキシであ
る場合）ｔ−、ナフトキノンにつき前記したように、適
当な金属アルコキシドと反応　　　　　　　　　１させ
て製造することができる。

一般式 〔式中、Ｙはアルコキシであシカ１つＹｌは水素、クロ
ルを九はアルコキシでチル〕 の還元剤先駆体は、λ３−ジフェニルブタジェンを酢酸
中で４３−ジクロロベンゾキノンと反応させて２．３−
ジクキローａ７−ジフェニル−１，４−ナフトキノンを
生成させ、次いでこれを４３−ジクロロ−Ｌ４−ナツト
キノンにつき前記したように金属アルコキシドと反応さ
せて製造することができる。代案として、Ｙｌが水素で
ちる場合は、２−クロロペンゾキノンを４３−ジクロロ
ベンゾキノンの代りに使用する。

１羨 塩基を含ませることもできる。塩基を含ませれば、感度
（感光度）ｔ−向上させかつ／またはこの種の組成物で
作成された像形成フィルムの現像後に露出部分の光学濃
度を改善するという予期せぬ請来が得られる。さらに、
塩基を含ませれば、フィルムの未露出部分の背景かぶシ
または光学ハ度を減少させることもできる。

塩基は有様もしくは無機とすることができ、遮蔽された
還元剤をイオン化するのに充分なアルカリ性とすべきで
ある。一般に、フィルムの性能（たとえば感度増大、露
出部分の光学濃度の増大、または未露出部分のかぶシ減
少）を改善する任意の塩基を使用することができる。好
ましくは、望ましくない悪影響を及ぼす塩基は避けられ
る。適する無機塩基はたとえば金属水酸化物および水酸
化アンモニウムを包含する。よシ詳細には、アルカリ金
属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物を使用する
ことができる。有用なアルカリ金属木酸化物はリチウム
、ナトリウム、カリウム、ルビジラムおよびセシウムの
水酸化物を包含する。

水酸化リチウムが好適なアルカリ金属水酸化物である。

有用なアルカリ土類金属水酸化物はマグネシウム、カル
シウムおよびバリウムの水酸化物を包含する。金属水酸
化物の水利型も使用することができる。２種以上の塩基
を像形成フィルム組成物に含ませうろことも予想される
。代案として、有機塩基はアミン化合物または窒素原子
含有の複素環式化合物とするもできる。

本発明に使用するのに適し九アミンは脂肪族または芳香
族であってもよい第１．第２および第３級アミンを包含
する。

よシ詳細には、適するアミンはたとえばメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、ｎ、　　ジーｎ−お
よびトリーｎ−プロピルアミン、貞 １１　　　　　　　　　　　　イングロビルアミン、ｎ
−ブチルアミン、イソプ）□ チルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチル
アミンおよびｎ−テトラデシルアミンのようなアミンで
ある。一般に、式 ％式％ 〔式中、８は脂肪族（たとえばＯＨ，、Ｃ４Ｈｓ、ｃｓ
ｌ（ｗ、ＯｓＨ，など）である〕 のアミンが適している。

Ｒ基は未置換であっても或いは各種の有機基もしくけ無
機基忙よ多置換されていてもよく、これら置換基は所望
の像形成効果を阻害しないものとする。

たとえばピリジンおよびピペリジンのような環式化合物
も適してシシ、所望の像形成効果を阻害しないような各
種の有機もしくは無機基によ多置換されていても或いは
未置換であってもよい。

理論によシ拘束されないが、塩基は遮蔽された還元剤を
イオン化させて、イオン化された遮蔽された還元剤とテ
レル陽イオンと像形成エネルギに　　　　　　　　　１
フィルムを露出した後に還元剤先駆体により形成された
潜保との間における錯体の形成を促進すると思われる。

この錯体は、電子移動に対し極めて鋭敏であって、可視
像の形成を促進すると思われる。

一般に、アルカリ土類金属またはアルカリ金属水酸化物
が有機塩基よりも好適である。塩基からの金属イオンは
、還元剤先駆体との有利な錯体を形成して、還元剤先駆
体をよシ活性にすることができる。

フィルム形成組成物に存在させる塩基の量は変化するこ
とができる。一般に、改良されたフィルムを形成するの
に必要とされる塩基の最少量は存在しない。しかしなが
ら、改良の程度は、特定の各フィルム組成および塩基に
つき所定量まで存在させる塩基の量に関係する。この量
を越えると、一般にフィルムの光応答が低下する。特定
組成に対する特定塩基の最適量は、単に種々の量の特定
塩基を含有するフィルム形成組成物を作成しかつこれか
ら作成されたフィルムの性能をテストすることにより容
易に決定することができる。

遮蔽された還元剤 本発明によれば、遮蔽された還元剤を含ませる。

すなわち、典型的な遮蔽された還元剤は化合物１−フェ
ニル−２−ベンゾイルアミド−３−ピラゾリジノン（１
−ｐｈｅｎｙｌ　−２−ｂｅｎｚｏｙｌａｍｉｄｏ　−
３−ｐｙｒａｚｏｌｌｄｌｎｏｎｅ　） である。遮蔽された還元剤についてのより完全な説明は
、１９７８年７月１９日付けのベルギー特許第８１５３
．０５２号明細書に見られ、これを参考のためここに用
いる。

ベルギー特許第８６３０５２号明細書に記載された遮蔽
された還元剤の代替として、新しい種類の遮蔽された還
元剤を使用することもでき、これは一般式 ％式％ 〔式中、Ｙは水素または０ＮＨＲ’である〕（″“゛７
″”″“７″″″″５°“ ７（フェニル、ベンジル、ベンゾイル、ニトロフェニル
、ベンジルカルボニル、フェニルメチル、フエ二ルエチ
／Ｌ／ｉりはフェニルグロビルカルボニ〃或いはアミノ
カルボニルとすることができる。Ｗ。

Ｗおよびｔはそれぞれ独立して水素、アルキＮｔたはフ
ェニルおよびアミノとすることができるっＢ％フェニル
、ニドｐフェニル、ハロフエニ〃、アルキル、七ノー、
ジーもしくはトリーハロアルキル、ベンゾイル、アルキ
ルフェニルまたはプルキルシアノフェニルとすることが
できる。遮蔽基は、還元剤のアミン基の水素部位のいず
れか一方または両方で置換することができる。上記アル
キル基は７個までの炭素原子を有することができる。

これらの化合物は便利には、原料ヒドラジンもしくはピ
ッゾリンと式 ％式％ のイソシアネートとの反応によシ得ることができる。こ
れら遮蔽された還元剤についてのより完全暇 な説明は、１９８２年７月２０日付の米国特許第４３４
へ６６２号明細書に見られ、これを参考のためここに用
いる。

区り二上 本発ＢＡＫよれば、テルル化合物と反応して活性中間錯
体を生成するジオールをも含ませることができる。この
錯体の化学は充分には理解されていないが、一般にこの
錯体はテルル１そルに対して約２モルのジオールを必要
とすると忠われる。好ましくは、存在させる場合ジオー
ルは、錯体を生成するための最小量より過剰で使用され
る。何故なら、ジオールは還元剤先悪体の反応−必要と
される水素源を供給するための不安定な水素の原料とし
ても機能するからである。

塩基の使用を含む本発明はジオールの存在なしにも実施
しうるが、特に遮蔽された還元剤が存在する場合にはジ
オールの存在が好適である。ジオールの存在は、未露出
領域の光学濃度を著しく減少させるよう作用する（すな
わち露出領域と未露出領域との間のフントラストを増大
させる）。したがって、遮蔽された還元剤をジオールの
不存在下で使用しうるが、遮蔽された還元剤を含有する
テルルフィルム組成物は遮蔽された還元剤の還元能力が
遮蔽基によシ完全には禁止されないので未露出領域に比
較的−高い光学澁度を与える傾向がある。

像形成組成物を配合するのく使用しうる一群のジオール
は式 〔式中、Ｒ６およびＲｏのそれぞれは独立して水素、炭
化水素基（直鎖および分枝鎖を含む）および環式炭化水
素基、ヒドロキシアル中ル基、アルコキシカルボニル基
、シクロアルキル基またはアリール基を示し、 ２はアリーレン基（たとえばフェニレン）基（−ｏｗＣ
−）、基（−０Ｒ１°＝□Ｂ１１）、　　（ここでｎは
整数たとえばｌまたは２を示す）を示し、８思０および
Ｗｌのそれぞれは水素またはアルキル基或いは炭素環ま
たは複素環の部分からの基を示す〕 のジオールである。さらに、２は存在しなくても良く、
すなわち２個のヒドロキシ置換された炭素が直接に相互
結合することもある。下表は使用しうる多数のジオール
を示している。

Ｉ　　　　　Ｈ−ＨＢＰ１９８ ３　　　　ＨｓＯ−ＨＢＰ１８９ ４　　　　ＨｓＣ−−０ＨＨＢＦ１８３５　　　　　　
Ｈ−０ヨＯ−ＨＭＰ５２−５４噸 、＋　　　　　　　　　７　　　ＨＯ（ｃＨｓ）４　　
　　　　　ＨＢＰ　１７８ＡＩｋＮ９上記ジオールの充
分な説明は、ベルギー特許第８５４１９３号明細書に見
られ、これを参考のためここに用いる。

しかしながら、好ましくはジオールは上記ベルギー特許
に開示されたよりも多くの錯体ａｆＡである。これら多
くの錯体ジオールは、米国特許第４２８１．０５８号の
主題で６９これを参考のためここに用いる。

米国特許第４２８ＬＯ５ａ号明−俸に記載された好適な
ジオールは式 ％式％ の化合物である。この化合物において、Ｂ１１はアルキ
ル、アシル、チアゾリニル、アルケニル、フェニル、ア
ルキルフェニル、アルケニルフェニル、とドａキシアル
キルフェニル、ベンジル、アルキルベンジル、アルコΦ
ジベンジル、ヒドロヤシアメ ルキルペンジルおよびハロペンシルなどの基とすること
ができる。

上記化合物の「チオ」同族体も使用することができる（
すなわち、基８ｔがオキシ結合の代シにチオ結合によシ
グリセロール残基に結合した化合物）。

上記構造の好適な化合物は、基Ｂ１ｍがベンジルもしく
は置換されたベンジルであるような化合物でちる。上記
構造のジオールの使用は、これらジオールがベルギー特
許第８５４１９３号明細書に記載されたジオールよシも
未露出領域の光学戯度を減少させるのに効果的であるた
め、好適であることが判明した。

櫃漕１はＬ一 本組成における上記の主成分に加えて、種々の目的で補
助成分をも含ませることができる。たとえば、成る種の
物質は本発明による未露出の未使用乾燥フィルム組成物
の保存寿命を向上させ、かつ成る場合にはさらに前記フ
ィルム組成物の感度を向上させることが判明した。この
種の追加もしくは補充物質の列は分子中にエーテルもし
くはポリエーテル結合を含み、たとえばポリエチレン−
２０ノルビタンモノツクリン酸、ポリエチレン−２０ソ
ルビタンモノオレイン酸、ポリオツクスー１０、ポリオ
ツクスーＳＯ，ポリオツクスー７５０゜ポリエチレング
リコール−４００ジステアリン酸、ポリエチレングリコ
ール−６００ジステアリン酸、ポリ（Ｌ３−ジオキソ２
ン）、ポリ（ナト２ヒドロフラン）、ポリ（Ｌ３−ジオ
中セパン）、ポリ（Ｌ３−ジオキサン）、ポリアセトア
ルデヒド、ポリオキシメチレン、ポリオキシメチレンの
脂肪酸エステル、ポリ（シクロヘキサンメチレンオキシ
ド）、ポリ（４−メチル−Ｌ３−ジオキサン）、ポリオ
キジエタン、ポリフェニレンオキシド、ポリ〔λ３−ビ
ス（へ四メチル）オキソシクロブタン〕、ポリ（オキシ
プロピレン）グリコールエポキシ樹脂、および酸化プロ
ピレンと酸化メチレンとの共重合体のような物質または
重合体である。

この種の物質を像形成フィルム組成物中に、その重量に
対し一般に５〜２０重量−の種々の量で配合することが
できる。成る種の場合、これらは所、　　定の貯蔵条件
下において棚ざらし寿命または貯蔵寿命を５０−程度或
いはそれよシずつと大きく向上させ、または長期化し、
さらに４々の場合フィルム感度を効果的に増大させるこ
とも示されている。

さらに、一般的に云えば還元糖の像形成フィルムに含ま
せれば、このフィルムを上記のように像形成させ、かつ
次いでたとえば特にこの像形成フィルムを新たに作成し
または最初に作成してからほぼ１日以内である場合、約
１２０〜１５０℃にて約１５秒間程度現像すると像領域
の濃度（０，Ｄ像−〇、Ｄ背景）の向上をもたらすこと
が判明した。

；　　　　　　　　　　この種のフイ″１は・像形成１
ネ“ギーに露出し、１ １°　　　　　　　　　　かつ次いで現像すると、本発
明の通常の実施におけるネガ加工方式に比較して、ポジ
像の形成をもたらす（すなわち光学濃度は露出領域にお
けるよシも未露出領域において大である）。さらに、像
形成組成物に還元糖を含ませれば、像形成エネルギーに
露出した後に、より低温たとえば室温においてさえ数時
間たとえば一般に１０．１−２または１５時間で像の現
像を可能にする。使用しうる還元糖は多極にわたシ、そ
の例はデキストロース、グルコース、アラビノース、エ
リスロース、フルクトース、ガラクトース、フコース、
マンノースおよびリボースである。特に効果的なものは
デキストロース、アラビノース、ガラクトース、フコー
スおよびリボースである。これら還元糖は、種種の量で
使用しうるが、一般に像形成組成物における像形成有機
テルル物質の量に対し当ｔまたは若干少ないまたは多い
素とすることができる。

多くの場合、滑らかな連続フィルムの被覆に役も 立つことが周知されたシリコーン油などの物質を少量含
ませることも望ましい。

フィルムの感度および／または露出後の光学濃度を増大
させる効果を示−しうるような他の数種の補助成分を使
用することもできる。これらの補助成分は、一般式 〔式中、Ｒ’−Ｒ’はそれぞれ独立して水素もしくはア
ルキルとすることができる〕 たとえば（Ｎ、Ｎ−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−
１，４−ナフトキノン（インドフェノールブルー））、
インダン−Ｌ３−ジオン誘導体たとえば２−フェニルイ
ンダン−Ｌ３−ジオンのようなインドアニリン染料、並
びに一般式 〔式中、ｎ＝＋１．２もしくは３であシ、Ｘはり鴛ルも
しくはイオドである〕 を有するシアミツ染料、たとえばＬ１゛−ジエチル−４
２′−カルボシアミンクロライド（塩化ビナシアツール
）を包含する。マトリックス材料がたとえば水のような
望ましくない成分を大気中から吸収しないよう注意すべ
きである。

マトリックス材料 本発明によるフィルム組成物は、上記各成分および任意
成分を適当なマトリックス中に溶解して完成される。マ
トリックスは活性成分において可能な限シ濃厚なものと
すべきであシ、すなわち好ましくは最少量のマトリック
スが使用される。マトリックスの量は、各種の活性成分
を固溶体として保持するのに充分な量とすべきである。

追加量のマトリックスも使用しうるが、これは明らかに
活性成分の濃度を希釈し、したがってフィルム組成物の
光応答を遅延する傾向がある。勿論、マトリツクス材料
の選択は、任意特定組成物につき最大溶解度を与えるべ
く使用活性成分に関連させねばならない。

像形成有機テルル物質および必要に応じ別の増感剤を配
合して像形成フィルムまたは被覆を生成させるためのマ
トリックス材料は、室温で固体であ）、比較的多数の物
質から選択することができる。これらは望ましくは少な
くとも部分的に非晶質の性質を有し、特に望ましくはガ
ラス質の極性非晶質材料であって、望ましくは約２００
℃を越えないガラス転移温度を有し、このガラス転移温
度は約ＳＯ℃程度とすることもでき、より好ましくけ約
８０〜１２０″Ｃの範囲とすべきである。これらは一般
に高分子材料である。その例はシアノエチル化澱粉、セ
ルロースおよびシアノエチル化の置換度が≧２のアミロ
ース、ポリピニルーペンセ １１　　　　　　　　　　　シフエノン、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエチレン小 テレフタレート（ｒＭＹＬＡＩＬＪ　）　、セｋ　ａ　
−Ｘ　エステルおよびエーテルたとえば酢酸セルロース
、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸
セルロース、アセチルセルロース、メチルセルロースジ
エチルセルロース）ヒドロキシグロビルセル四−ス、ポ
リビニルカルバゾール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルメ
チルケトン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルメチルエーテル、塩化ビニリデンとア
クリロニトリルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルブチラール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレ
ートポリビニルピロリドン、スチレンブタジェン共重合
体、ポリアミド、ポリアクリルおよびポリメタクリルア
ルキルエステル、たとえばポリメチルメタクリルレート
およびポリエチルメタクリレート、ポリビニルメチルエ
ーテルと無水ｉレイン酸との共重合体、たとえば１２／
８５．　６／９５に、１５／９５５’、１５／９５Ｅ、
Ｂ　　７９．Ｂ−９８などノヨうすｒＦＯ１’ＬＭＶＡ
ＲＪ　（登ＭＦＪ標）としてモンナントカンパニー社か
ら市販されているような各種のポリビニルホルマール樹
脂である。

特に有用なものはポリビニルホルマール１５／９５チで
あ）、これは２４０００〜４Ｇ、Ｇｏｏの範囲の分子ｆ
を有する白色のさらさらした粉末であシ、ポリビニルホ
ルマールの−として表わして約８２−のホルマール含有
量を有し、高い熱安定性と優秀な機械耐久性とたとえば
脂肪族炭化水素および鉱物油、動物油および植物油のよ
うな物質に対する耐性とを有する。これらの高分子物質
または樹脂、並びＫその製造は当業界で知られている。

さらに、特に有用なものは商品名「０ＡＢＪ　特Ｋ　「
ＯＡ　Ｂ５０Ｏ−５Ｊとしてイーストマン・コダック・
カンパニー社により市販されている各種の酢酸酪酸セル
ロースポリマーである。

これらは像形成フィルムまたは被覆もしくは層に配合し
うる像形成有機テルル物質、増感剤およびその他任意の
成分を均一組成物として保持するためのキャリヤとして
作用し力）つＮ膜を形成して最終像形成フィルムの機械
的耐久性を与える乾燥したもしくはほぼ乾燥したフィル
ム形成材料として機能する他、少なくともその多くはさ
らに重要なことには容易に抽出しうる水素源を供給する
ことによシ像形成過程で化学的もしくは物理的役割を演
すると思われ、したがって後記するように潜像形成メカ
ニズムにおいて重要な役割を演すると思われる。成る種
の堝会、マトリックスの粘度を減少させるのが望ましく
、これはたとえば成る種の可塑剤たとえばジブチルツク
レートもしくはジフェニル７タレートを添加して行なう
ことができ、この添加は高い光学υ度の像を形成する傾
向を示すが、背景かぶシを増大させるという欠点をも示
す傾向がある。

塩基性の基を有するａｌ類のマトリックス材料は像形成
有機テルル物質と錯体化し、したがって錯体化が生ずる
程度までこのマトリックス材料金使用するのは避けるべ
きである。

水 さらに、組成物は水をも含むことができる。一般に、フ
ィルム形成性組成物の他の成分と組み合せる前に、マト
リックス材料へ少量の水を加えれば、フィルムの感度を
向上させるよう作用する。

し力）しながら、過度の水は、フィルム形成性組成物の
各成分を混合する際に酸化テルルを沈澱させることがあ
り、したがって回避すべきである。水の使用に関するよ
シ完全な説明は、１９８４年５月１５日付けの米国特許
第４４４８，８７７号に見られる。

アルコール 本発明の組成物には、さらにアルコールも含ませること
ができる。好ましくは、上記のジオール１　　　　　　
　　　が１成物中“存在す６場飢７″°−″１使肘゛ｉ
　　　　　　　　　る。アルコールおよびジオールはテ
ルル化合物との錯体を形成して、向上した感度および／
または改善された背景かぶシを有するフィルムを形成す
る。アルコールは一級、二級または三級とするととがで
きる。たとえばｎ−ブタノールおよびｎ　−グロパノー
ルのような一級の一価アルコールが好適である。アルコ
ールの使用に関するよシ完全な説明は、１９８４年５月
１日付けの米国特許第４４４ａ２２４号に見られる。

フィルム組成物の作成 一般に溶液または均質分散物として作成しかつ基板上に
被覆もしくは成せる儂形成材組成物のフィルムまたは薄
層を↓造する際、特に成分を有機溶媒中に溶解または均
質分散させるのが望ましい。

適する溶媒の例はメチルエチルケトン（Ｉｌｉ（ＦｉＫ
）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、クロａホルム、
テトラヒドロ７ラン（ＴＨＦ）、ジメチルアセタミド（
ＤＭ人）、ジオキサン、ジクロルメタンおよびユ、イ！
Ｉｘｆｖ：ｙ−ｉえ、。う。。。１お、１　　　　　１
合物、或いは他の有機溶媒との混合物である。特に有用
な溶媒は、ジクロルメタンとメチルエチルケトンとのｓ
ｏ：ｓｏ混合物である。溶液または均質分散物を任意適
当な方法で基板上に薄層化させた後、これら有機溶媒の
大部分を、好ましくは比較的低温度にてしばしば好まし
くは減圧下でフィルムまたは被覆がほぼ接触乾燥状態に
なるまで蒸発させ、このような接触乾燥状態の被覆は特
に取シ扱いおよび処理目的で望ましい。一般的に云って
この種のフィルムまたは被覆は接触乾燥状態とすること
もできるが、これはフィルムが有機溶媒を含有しないこ
とを意味するものでないと了解すべきである。事実、仕
上げフィルムまたは被覆は像形成エネルギーに露出する
前にフィルムまたは被覆に対し約２〜３重ｆｆ１−の程
度の有機溶媒たとえばジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
を含有するのが極めて望ましい。何故なら、この存在は
潜像形成および／または現像工程後に得られる最終的像
に関しこの系の感度において好適な役割を演すると思わ
れるからである。ＤＭＦｔたはその他の有機溶媒の全部
またはほぼ全部を、像形成および現像に先立つ未使用フ
ィルムから除去すれば、しばしば感度の低下をもたらす
。いずれにせよ、未使用像形成フィルムの乾燥をほぼ有
機溶媒が全く存在しない点まで行ない、これにｌ感度を
不当に低下させた場合には、フィルムを像形成エネルギ
ーに露出する前にこのフィルムに対し少量の有機溶媒を
添加して感度を増大させまたは復帰させることができる
。

像形成フィルムまたは被覆の厚さは変化しうるが、一般
に約１〜約３５μｍの範囲でわシ、約５〜１５μｍが一
般に良好な平均値である。ミリメートル−としての厚さ
において、これは約ｏ、ｏ　ｏ　ｏ　ｓ〜約０．０５ｍ
もしくはそれ以上、たとえばα０５〜５ｍの範囲で変化
しうるが、選択される厚さは像形成フィルムを使用する
特定用途に依存する。

像形成有機テルル物質の製造並びに被覆取り扱いおよび
処理操作は、必要に応じ、当業者に容易に理解されるよ
うな適当な光茶件下で行なわれる。

たとえば、被覆組成物の配合並びに被覆および乾燥操作
は便利には、アンパライトフィルター透過光（５５０ｎ
ｍにて弱い透過）の下で行なわれる。

像形成前の乾燥フィルムは望ましくは暗所に貯蔵される
。成る場合には、所定成分と成る種の金属との接触を回
避する必要があ夛、さもないとたとえば還元のような望
ましくない反応が生じうる。

一般に、使用する槽、容器、攪拌器などはガラスまたは
その他のガラス質材料或いは被覆成分に対し不活性な材
料で作成して、汚染または生じうる望ましくない反応を
防止すべきである。一般Ｋ、像形成組成物は選２基板上
へ被覆する直前に作成するのが有利である。一般に、暗
所および合理的、　　　　　　Ｋｆｌ　４　Ｌ　＜　ｔ
ｉＭ（ｔ、Ｈ！ＨＩＤｏａ　ｔ、＊ｓ＊ａｉ＜１．１　
　　　　　　　　　　湿度条件である適する貯蔵条件下
において、像形成組成物の安定性は良好である。

１象形成組成物において、マトリックスと像形成有機テ
ルル材料および還元剤先駆体の割合は変化することがで
きる。使用する像形成有機テルル材料が上記したような
所望の感度特性を固有にまたは付随的に有するものであ
る特殊の場合、別途の還元剤先駆体は必要でない。しか
しながら、このような場合でさえ、使用する特定の像形
成有機テルル材料が本来有する性質とは全く異なる感度
特性を有しうる別途のまたは追加の還元剤先駆体を使用
するのが望ましい。いずれにせよ、一般的に、有機溶媒
を除き下記するように少なくとも大抵の場合マトリック
ス材料（これは一般に固体材料すなわち室温で固体であ
る）は他の材料のいずれよりも過剰の量で使用され、一
般に像形成組成物中に存在する全物質に対しｓｏ１以上
、特に９０重１Ｓまでの範囲の多量で存在させる。同様
に、一般に通常固体の材料でちる像形成有機テルル材料
　　　　　　　　１は、マトリックス１００部当り約１
〜約２０部を構成し、一般にマトリックス１００部当シ
約５〜１０部である。別途の成分であって一般に固体で
ある還元剤先駆体は、通常それより少ない割合で使用さ
れ、一般に像形成組成物に対し約５〜２０重量％、特に
約６〜１５重ｉ−の範囲であるが、成る場合にはその割
合はそれより相当高くすることもでき、像形成有機テル
ル物質の割合とほぼ同じｔ＋は若干越える割合であって
もよい。さらに、上記成分の割合に関し、還元剤先駆体
の面積密度は、望ましくは還元剤先駆体の吸収帯域にお
けるフィルム上へ約７０〜９５チのホトンが吸収される
ように通釈するのが望ましい。それよシ著しく高い濃度
の還元剤先駆体は、未露出フィルムの暗色を残し、した
がって利点が得られない＠一般に、多くの場合、最適結
果は像形成有機テルル材料のモル濃度を還元剤先駆体の
モル濃度Ｋｔｌぼ近似させることによシ得られる。重合
体マトリックス材料の濃度は、像形成有機テルル材料、
増感剤および使用する場合にはその他の補充成分の沈澱
をもたらさずに実質的に非晶質のフィルムを形成するよ
うな濃度とすべきである。さらに、過剰の重合体マトリ
ックス材料はフィルムの感度を低下させる傾向がめる。

ジオールの食は、テルル化合物１モル当シ少なくとも２
モルのジオールを供給し、好ましくは６：１０モル比ま
でを与えるのに充分な濃度で存在させるべきである。上
記したように、本発明によれば、２：１のモル比におけ
るジオールとテルル化合物との間で錯体が形成され、か
つそれより過剰のジオールは還元剤先駆体と反応させる
ための不安定水素源を供給するのに有用であることが示
唆される。それより多量のジオールも、所望に応じ使用
することができる。これら多量のジオールを使用すれば
、成る程度改良された結果が得られる◎　しかしながら
、ジオールの量を増大させても仕上げフィルムの光応答
の改善を与えないような見返りの少ない点が存在する。

遮蔽された還元剤はテルル士大化合物に対し１〜２００
重量−の量で存在させることができる。

極めて少量の遮蔽された還元剤によってさえ本発明によ
れば測定上改良された感度が見られ、成る軛四内におい
て改良度はフィルム中に配合される遮蔽された還元剤の
量に比例する。しかしながらここでも効果低減の法則が
見られ、テルル化合物の量よ＃）２〜４倍程度の多量の
遮蔽された還元剤を配合しうるが、この多量の使用を越
えると、得られる光応答の増大は配合する遮蔽された還
元剤の増加量と見会わなくなる。

上記フィルム形成組成物は任意適当な基板上へ施こされ
る。ガラス、磁器、紙および各種のプラスチック基板が
適していると判明した。フィルム状材料を形成する目的
で、透明性が明らかに望ま奪 ｔｌ　　　　　　　　　　　Ｌ／い。この目的で、ポリ
エチレンテレフタレートのフィルムが特に適していると
判明した。その他の基板はたとえばポリイミド、ナイロ
ンおよびトリアセチルセルロースを包含する。

定着 露出および現像（この現像は加熱によシ達成することか
できる）の後、フィルムは米国特許第４１４２．８９６
号明細書に記載されたように定着することができる。さ
らに、フィルムはこれをたとえばイソプロパツールのよ
うなアルコールド接触させて定着することもできる。た
とえばアセトンのような少量のケトンもアルコールと共
に含ませることかできる。特に有用なものは、イソプロ
パノ−／Ｌ／ｓｏ部／アセト７１部（容ｇｋＫよる）の
溶液であるう テルル系フィルム組成物の配合および使用に関する当業
者が使用しうるその他の事項は、米国特許第４１４＆８
９６号明細書から明らかである。

以下、実施例によシ本発明をさらに説明する：１五−」 本発明によらないテルル像形成フィルムを作成しかつ試
験した。α６２５ｇのビス（アセトフェノン）テルルツ
ク２０ライドと、α３００ｇのイソプロポキシナフトキ
ノン（ＩＰＮＱ）と、０．３８りの２−クロセー３−イ
ングロポキシ−Ｌ４−す７トキノン（０ＩＰＮＱ　）と
、０．６２５　ｇの遮蔽された１−フェニル−３−ピラ
ゾリドン と、２．４９のオルト−メトキシベンジルグリセリルエ
ーテルと、＆Ｏａｔのｎ−ブタノールと、３１１９のり
チウムヒドロキシドおよびＱ、５−の水と、３即のイン
ドフェノールブルーと、３００１１９のフェニルインダ
ンジオンと、さらに水Ｌ５−および塩化メチレンとメチ
ルエチルケトンとのｓｏ：ｓ。

混合物（体９　）　１６０　ｙｎｌとを含有する１　０
．４２９のＣλＢ−５００−５とを、均質な粘性溶液が
得られるまで完全な暗所にて室温で攪拌した。次いで、
この溶液全１ｒＩｔ当り約２ｇのビス（アセトフェノン
）テルルジクロライドの被覆割合でＭＹＬＡＲ（登録商
標）基板に被覆し、得られたフィルムを５０〜５５℃の
オープン内で３時間加熱した。

フィルムを１１工程と約０．５〜１０５の光学濃度範囲
とを有する写真工程タブレットｔ−介し像形成エネルギ
ーに露出させて、フィルムの写真応答性を試験した。こ
の工程タブレットを露出に際しフィルムと接触させた。

ハネウェル・ストボナール・モデル１７０屋のキセノン
フラッシュ管ヲ使用して、フィルム力）ら約ｌＯインチ
離間させた像形成エネルギーを供給した。露出後、この
フィルムを１５０〜１５５℃の具度に４０−４５秒間加
熱して、フィルムｆ：現像した。フィルムの最大光学濃
度（ＯＤ　ＭＡＸ　）は１４５であり、最小光学銀度も
しくはかぶり（ＯＤ　ＭＩＮ　）はα５６であった（マ
クベス・モデルＴ−Ｐ５０４型デンシトメータにより赤
色フィルタを用いて測定）。かぶり＋１の光学濃度にお
けるフィルムの感度はＬ７３０エルグ／−であると計算
された。

例２ 本発明によらないテルル像形成フィルムを作成しかつ試
験した。α６２５ｇのビス（アセトフェノン）テルルジ
クａライドと、α６３ｇの４３−ジイソプロポキシ−Ｌ
４−す７トキノンＣＤＩＰＮＱ）と、α６２５ｇの遮蔽
されなｌ−フェニル−３−ピラゾリドン 萬　　　　　　　　　　　　　　　　０１１′□ と、１４ｇのオルト−メトキシベンジルグリセリルエー
テルと、３．０Ｗｔのｎ−ブタノールと、ｂ、５−の水
を含む３■のリチウムヒドロキシドと、３■のインドフ
ェノールブルーと、３００〜のフエ二ｌルインダンジオ
ンと、４１ｎｇのビナシアツールクロライドと、さらに
水Ｌ５−および塩化メチレンとメチルエチルクトンとの
ｓｏ：ｓｏ混合物（体積）１６０−を含有する１ｏ４２
ｇの（３ＡＢ−５ＧＯ−６とを、均質な粘性消液が得ら
れるまで完全な暗所にて室温で攪拌した。次いで、この
溶液を１ゴ当シ約２ｇのビス（アセトフェノン）テルル
ジク四ライドの被覆割合でＭＹＬＡＲ←登録商標→基板
上に被覆し、得られたフィルムを５０〜５５℃のオープ
ン内で３時間加熱した。

このフィルムを１１工程と約α５〜λ０５の光学綻度範
囲とを有する写真工程タブレットを介し像形成エネルギ
ーに露出して、フィルムの写真応答性を試験した。工程
タブレットを露出に際しフ　　　　　　　　　　１イル
ムと接触させた。ハネウェル・ストロボナール１Ｉ−ｆ
：デル７１０型のキセノンフラッシュ管を使用して、フ
ィルムから約１０インチ離間した像形成エネルギーを供
給した。露出後、フィルムを１５０〜１５５℃の温度に
４０〜４５秒間加熱してフィルムを現像した。フィルム
の最大光学濃度（ＯＤ　ＭＡＸ　）は１８８でＳ１シ、
かつ最小光学濃度またはかぶり（ＯＤ　ＭＩＮ　）はａ
ｓｉであった（マクベス・モデルＴ−ｐｓｏ４ｇデンシ
トメータにより赤外フィルタを用いて測定）。かぶシ＋
１の光学濃度におけるフィルムの感度は１．０２０エル
グ／−であると計算された。

例３ 例２に示したと同じ手順を使用してフィルムを作成しか
つ試験したが、ただしこの場合種々の量のイミドを組成
中へ配合することによシ数種のフィルムを本発明にした
がって作成した。使用したイミドはスクシンイミドであ
シ式 次の結果が得られた。

０．２　　　　　　　α６００　　　　　α６１　　　
＆４３α４　　　　　　１，５００　　　　　Ｇ、５０
　　１０６α６　　　　　８７０　　　　α６６　　λ
５２０．８　　　　　　８５０　　　　０．５７　　４
．２００．９　　　　　　８８０　　　　０．５１　　
　α８４１．０　　　　　　９１０　　　　　ＣＬ７３
　　４１１Ｌ２　　　　　　１．５００　　　　　α７
１　　　α５０１．４　　　　　　　　　　　１，５０
０　　　　　　　　　Ｇ、フＯλ６２撚−」 例２に示したと同じ手順を使用してフィルムを作成しか
つ試験したが、ただしこの場合フイルムはスクシンイミ
ドｔｍ成物中に配合することにより本発明にしたがって
作成した。次の結果が得られた〇 （Ｌ８　　　　　　５２０　　　　　　（Ｌ６３　　４
６２例５ 例１に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のマレイミドを組
成物中に配合することによシ本発明にしたがって数穏の
フィルムを作成した。マレイミドは次の式を有するＯ 、　　　　　　？１ｆ）Ｍ＊”ｔ−５ｂｎ＊。

：１ ６８６　　　　　　　　ＬＯＯＯα６０　　　λ４７８
８２　　　　　　　１．５００　　　　　　　０．３７
　　　　＆６２例６ 例１に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験し、この場合種々の量のイミド、７タルイミドに組
成物中に配合した。７タルイミドは次の式を有する＠ 次の結果が得られた。

例７ 例５に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合極々の量のＮ−メチルマレ
イミドを組成物中に配合して本発明によりフィルムを作
成した。Ｎ−メチルマレイミドは次の式を有する。

ＯＨ。

次の結果が得られた。

２２４　　　　　　　Ｌ７００　　　　　α６７　　　
＆９８３３６　　　　　　　Ｌｉ２Ｏ２α６１　　４０
２４４８　　　　　　　ＬＩＧＯＯ，６４＆８２６７２
　　　　　　　ＬＯＯＯＯ，６７ｔｔＯ７８４８４０、
。　０．６３　　λ８０９９６　　　　　　８５Ｇ　　
　　　（Ｌ６０　　　λ８４Ｌ１０８　　　　　　　Ｌ
ＩＧＯα６８　　４．０Ｇ１．２２０　　　　　　１．
Ｚｏｏ　　　　　α６２　　４１５Ｌ３３２　　　　　
　１，３００　　　　０．５８　　１８２例８ 例２に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成し力）
つ試験したが、ただしこの場合Ｎ−メチルマレイミドを
組成物中に配合して本発明にしたがいフィルムを作成し
た。次の結果が得られた。

例９ 例１に示し念と同じ手順音用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のピロメリトジイ
ミドを組成物中に配合して本発明にしたがいフィルムを
作成した。ピロメリトジイミドは次の式を有する。

次の結果が得られた。

ピロメリトジイミドの量　力〜鉱シ＋１の感度＋７＠Ｏ
Ｄ例ＩＫ示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しか
つ試験したが、ただしこの場合種々の盆のＮ−エチルマ
レイミドを組成物中に配合して本発明にしたがいフィル
ムを作成した。Ｎ−エチルマレイミドは次の式を有する
＠ 書 ＯＨ，ＯＨ，を 次の結果が得られた。

Ｎ−エチルマレイミド　力〜シリ＋１の感度ｒ＠０Ｄ１
２６　　　　　　　　　１．６００　　　　　　　　α
５６　　　　λ５６２５２　　　　　　　　　１．５０
０　　　　　　　　α６０　　　　１６５３７８　　　
　　　　　　１．８００　　　　　　　　（Ｈ６７４１
０５０４Ｈ７００（Ｈ５０１４６ ６３６Ｈ７０００，７７＆６７ ７５６　　　　　　　　　１．７００　　　　　　　　
α６８　　　　４０６８８２　　　　　　　　　　Ｈ５
００４５６ａ４６Ｌｏｏｓ　　　　　　　　　　ｔ、ｓ
ｏｏ　　　　　　　　α５３　　　　　＆５３Ｌ１３４
　　　　　　　　　　Ｈ４００α６０　　　　４０２Ｌ
２６０”　　　　　　１，２００　　　　　α６５　　
４１８＊沈澱生成 例１１ 例１に示したと同じ手頴を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のＮ、Ｎ’−ｐ−
フェニレンシマレイきドを組成物中に配合して本発明に
したがいフィルムを作成したつＫＮ’−ｐ−〕二ニレし
ジマレイミドは次の式を有する。

次の結果が得られた。

例１２ 例１に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のＮ−ヒドロキシ
スクシンイミド（ＮＨ８）を組成物中に配合して本発明
にしたがいフィルムを作成した。Ｎ−ヒドロキシスクシ
ンイミドは次の式を有する。

次の結果が得られた。

例１３ 例１に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のマレイン酸アン
モニウムを組成物中に配合して本発明にしたがいフィル
ムを作成した。マレイン酸アンモニウムは次の式を有す
る。

次の結果が得られた。

剋−ユ」 例１に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のコハク酸アンモ
ニウムを組成物中に配合して本発明にしたがいフィルム
を作成した。コハク酸アンモニウムは次の式ｔＶする・ 次の結果が得られた。

例１５ 例１に示したと同じ手順を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々の量のタコン酸アンモ
ニウム（ａｎｗｎｏｎムｕｍ　ｔａｃｏｎａｔｅ　）を
組成物中に配合して本発明にしたがいフィルムを作成し
た。タコン酸アン峰ニウムは次の式を有する。

次の結果が得られ九〇 例１６ 例１に示したと同じ手項を用いてフィルムを作成しかつ
試験したが、ただしこの場合種々のｔのＺ２−ジメチル
コハク酸アンそニウム（ＡＤＭＩ９）ｔ−組成物中に配
合して本発明にしたがいフィルムを作成した。人ＤＭＳ
Ｆｉ次の式を有する。

次の結果が得られた。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）像形成組成物から製造され像を形成するために熱
   現像しうるフィルムにおいて、像形成用組成物が、 （ａ）テルル像形成化合物と、 （ｂ）活性化照射の作用下で水素供与体から不安定水素
   を抽出して、像形成用テルル化合物に対し還元剤となる
   還元剤先駆体と、 （ｃ）遮蔽された還元剤と、 （ｄ）前記還元剤先駆体と反応させるための不安定水素
   源と、 （ｅ）前記テルル化合物、還元剤先駆体、遮蔽された還
   元剤、不安定水素源および有機化合物を、基板へ適用し
   うる組成物を形成するのに有効な量で組み合せたマトリ
   ックスと を含み、前記組成物は、フィルムの感度、現像光学濃度
   および背景かぶりから選択される１つもしくはそれ以上
   の特徴を改善し、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 水素、３個もしくはそれ以下の炭素原子を有するアルキ
   ル、ヒドロキシル、フェニル、ベンジルまたは３個もし
   くはそれ以下の炭素原子を有するアルコキシであり、Ｒ
   ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾７およびＲ＾８は
   それぞれ独立して水素、３個もしくはそれ以下の炭素原
   子を有するヒドロキシアルキル、フェニルまたはベンジ
   ルである〕 で表わされるイミド、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ および ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾９、Ｒ＾１＾０、Ｒ＾１＾１およびＲ＾１
   ＾２はそれぞれ独立して水素、３個もしくはそれ以下の
   炭素原子を有するアルキル、ヒドロキシフエニル、ベン
   ジル、メチレン、エチリデンもしくはプロピリデンであ
   る〕 で表わされるアンモニウム塩、並びにフタル酸アンモニ
   ウムよりなる群から選択された有機化合物を含むことを
   特徴とする像形成用の改良された熱現像しうるフィルム
   。
2. （２）有機化合物がスクシンイミドからなることをさら
   に特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフィルム。
3. （３）有機化合物がマレミミドからなることをさらに特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載のフィルム。
4. （４）有機化合物がフタルイミドからなることをさらに
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフィルム。
5. （５）有機化合物がＮ−メチルマレイミドからなること
   をさらに特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフィル
   ム。
6. （６）有機化合物がＮ−エチルマレイミドからなること
   をさらに特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフィル
   ム。
7. （７）有機化合物がピロメリトジイミドからなることを
   さらに特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフィルム
   。
8. （８）有機化合物がＮ，Ｎ′−ｐ−フェニレンジマレイ
   ミドからなることをさらに特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載のフィルム。
9. （９）有機化合物がＮ−ヒドロキシスクシンイミドから
   なることをさらに特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   のフィルム。
10. （１０）有機化合物がイミドからなることをさらに特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載のフィルム。
11. （１１）有機化合物をマレイン酸アンモニウム、コハク
    酸アンモニウム、イタコン酸アンモニウム、２，２−ジ
    メチルコハク酸アンモニウムおよびフタル酸アンモニウ
    ムよりなる群から選択されていることをさらに特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載のフィルム。