JPS6193829A - Activation apparatus - Google Patents

Activation apparatus

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JPS6193829A
JPS6193829A JP21700084A JP21700084A JPS6193829A JP S6193829 A JPS6193829 A JP S6193829A JP 21700084 A JP21700084 A JP 21700084A JP 21700084 A JP21700084 A JP 21700084A JP S6193829 A JPS6193829 A JP S6193829A
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JP
Japan
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electrode
ion extraction
high voltage
voltage power
excitation
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Application number
JP21700084A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoji Ikeda
池田 承治
Koichi Tsutsui
晃一 筒井
Toshiyuki Saito
俊行 斎藤
Tsugunari Inagaki
稲垣 傳也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Dengyo Corp
Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Dengyo Corp
Nippon Paint Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01TSPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
    • H01T19/00Devices providing for corona discharge
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment

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Abstract

PURPOSE:To prevent the adhesion of conductive fine particles to matter to be treated, by interposing a dielectric material between at least one of an exciting electrode and an ion draw-out electrode and the matter to be treated within the space between both electrodes so as to cover the surface of at least one of both electrodes. CONSTITUTION:Matter 18 to be treated is inserted in the treatment space 12 between an exciting electrode 11 and an ion draw-out electrode 14. When high AC voltage is applied between an opposed electrode 9 and the exciting electrode 11, the gas in the space 12 is ionized on the surface of the exciting electrode 11 to generate plasma. Because an electric field, wherein electrons are directed to the ion draw-out electrode 14 from the exciting electrode 11, is generated in the treatment space 12, the surface of the matter 8 in the side of the exciting electrode 11 is activated by the minus ion in the plasma. A dielectric material 13 is interposed between the matter 8 and the ion draw-out electrode 14 and the plasma ion generated from the exciting electrode 11 is prevented from local concn.

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野〕 この発明は、物体の表面を活性化させる活性化装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical Field) The present invention relates to an activation device for activating the surface of an object.

〔背景技術〕[Background technology]

粉粒体、フィルム、各種成形物等物体の表面を活性化さ
せ、親水性、親媒性、親油性あるいは易分散性等を付与
するかまたは向上させるに当たり、プラズマ中のイオン
を被処理物体に照射する方法がある。
When activating the surface of objects such as powders, films, and various molded objects to impart or improve hydrophilicity, philophilicity, lipophilicity, or easy dispersibility, ions in plasma are applied to the object to be treated. There is a method of irradiation.

そのような方法を実現する装置として、第1図fatに
みるようなものが開発された。このものは、平板状の対
向筒ifと、第1図(blの平面図にみるような長い切
欠3aを多数有する平板状(メツシュ状)の励起電極3
の間に誘電体2が介在されて両電極1.3に交流高電圧
電源4が接続されており、励起電極3と、空間5をはさ
んでこれに対向するイオン引出電極6とが直流高電圧電
源7で接続されている構造であった。このものは、各種
気体雰囲気下において励起電極3の表面に面状のプラズ
マが発生するようになっている。他方、励起電極3とイ
オン引出電極6との間には、励起電極3からイオン引出
電極6へ電子が向かう電界が生じている。そのため、励
起電極3表面に発生したプラズマの中から°−”イオン
のみが引き出され、励起電極3とイオン引出電極6との
間に挿入された物体8が、励起電極3例の表面に“−°
イオンによる活性化作用を受けるようになっていた。
As a device for realizing such a method, a device as shown in FIG. 1 fat was developed. This device consists of a flat opposing cylinder if, and a flat (mesh-like) excitation electrode 3 having many long notches 3a as shown in the plan view of FIG. 1 (bl).
An AC high voltage power source 4 is connected to both electrodes 1.3 with a dielectric 2 interposed between them, and the excitation electrode 3 and an ion extraction electrode 6 facing it with a space 5 in between It had a structure in which it was connected by a voltage power source 7. This device is designed to generate planar plasma on the surface of the excitation electrode 3 under various gas atmospheres. On the other hand, an electric field is generated between the excitation electrode 3 and the ion extraction electrode 6 in which electrons move from the excitation electrode 3 to the ion extraction electrode 6. Therefore, only °-" ions are extracted from the plasma generated on the surface of the excitation electrode 3, and the object 8 inserted between the excitation electrode 3 and the ion extraction electrode 6 is attached to the surface of the three excitation electrodes. °
It was now subject to the activation effect of ions.

しかしながら、このものは、イオン引出111M6表面
に傷があったりすると、励起電極3からのイオン引出し
が局部的になり、物体の活性化が局部に集中してしまう
という恐れがあった。また、励起′ll極3を構成して
いる導体微粒子が、放電によって物体8表面に付着した
り、物体8内に混入したりして、物体8に所望の活性化
が得られなくなってしまうという恐れもあった。
However, in this case, if there is a scratch on the surface of the ion extractor 111M6, there is a fear that the ion extraction from the excitation electrode 3 will be localized and the activation of the object will be concentrated locally. Furthermore, the conductive fine particles constituting the excitation pole 3 may adhere to the surface of the object 8 or be mixed into the object 8 due to the discharge, making it impossible to obtain the desired activation of the object 8. There was also fear.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

そこで、この発明は、物体に所望の活性化が得られる活
性化装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide an activation device that can obtain desired activation of an object.

[発明の開示〕 発明者らは、上記の目的を達成するために97゜検討を
重ね、この発明を完成した。
[Disclosure of the Invention] In order to achieve the above object, the inventors have completed this invention after 97 degrees of study.

この発明は、間に誘電体を介在させた板状の対向電極と
板状の励起電極とが交流高電圧電源に接続されていて、
前記励起電極が板状のイオン引出電極と空間を介して対
向するとともに高電圧電源で接続されており、励起電極
とイオン引出電極との間の前記空間に発生した放電状態
下に挿入された被処理物体が活性化されるようになって
いる活性化装置であって、前記空間内において少なくと
も一方の電極と被処理物体との間に電極面を覆うように
して誘電性材料が介在されていることを特徴とする活性
化装置をその要旨とする。以下、これを、その実施例を
あられす図面に基づいて詳しく説明する。
In this invention, a plate-shaped counter electrode and a plate-shaped excitation electrode with a dielectric interposed therebetween are connected to an AC high voltage power source,
The excitation electrode faces the plate-shaped ion extraction electrode with a space in between and is connected to a high voltage power source, and the object inserted under the discharge state generated in the space between the excitation electrode and the ion extraction electrode. An activation device for activating a processing object, wherein a dielectric material is interposed in the space between at least one electrode and the processing object so as to cover the electrode surface. The gist of the activation device is as follows. Hereinafter, an embodiment thereof will be described in detail based on the accompanying drawings.

第2図にみるように、間に誘電体10を介在させた平板
状の対向電極9と、第3図の平面図にみるような長い切
欠11aを幅方向に多数有する板状(メツシュ状)の励
起電極11とが交流高電圧電源4に接続されている。励
起電極11は、処理空間12および平板状の誘電性材料
(ライナ) 13を介して板状のイオン引出電極14と
対向している。誘電性材料13は、前記処理空間12に
挿入される被処理物体8とイオン引出電極14との間に
介在されており、イオン引出電4i14の電極面を覆っ
ている。励起電極11とイオン引出′21極14とは直
流高電圧電源7で接続されている。
As shown in FIG. 2, a flat opposing electrode 9 with a dielectric 10 interposed therebetween, and a plate-like (mesh-like) plate-like electrode having many long notches 11a in the width direction as shown in the plan view of FIG. The excitation electrode 11 is connected to the AC high voltage power supply 4. The excitation electrode 11 faces a plate-shaped ion extraction electrode 14 via a processing space 12 and a plate-shaped dielectric material (liner) 13 . The dielectric material 13 is interposed between the object to be processed 8 inserted into the processing space 12 and the ion extraction electrode 14, and covers the electrode surface of the ion extraction electrode 4i14. The excitation electrode 11 and the ion extraction '21 pole 14 are connected by a DC high voltage power supply 7.

このような装置は、活性の内容により、真空状態下また
は、酸素ガス、窒素ガス等各種の気体雰囲気下で使用さ
れる。また、高温、低温、高圧。
Such devices are used under vacuum conditions or under various gas atmospheres such as oxygen gas, nitrogen gas, etc., depending on the activity. Also high temperature, low temperature and high pressure.

低圧等各種環境条件下で使用される。使用にあたっては
、第2図にみるように、励起電極11とイオン引出電極
14との間の処理空間12に被処理物体8を挿入させる
。対向電極9と励起電極11との間に交流高電圧を印加
すると、励起電極11の表面で空間12内の気体が電離
してプラズマが発生する。処理空間12では、励起電極
11からイオン引出電極14に電子が向かう電界が生じ
ている。そのため、物体8は、励起電極1111Jの表
面が前記プラズマ中の1−”イオンで活性化される。前
述したように、物体8とイオン引出電極14との間には
、誘電性材料13が介在されイオン引出電+i14の電
極面を覆っている。そのため、励起電極11で発生した
プラズマイオンが局部的に集中することがないので、物
体8の噛部等局部に活性化が集中するようなことがない
のである。
Used under various environmental conditions such as low pressure. In use, as shown in FIG. 2, the object to be processed 8 is inserted into the processing space 12 between the excitation electrode 11 and the ion extraction electrode 14. When an AC high voltage is applied between the counter electrode 9 and the excitation electrode 11, the gas in the space 12 is ionized on the surface of the excitation electrode 11, and plasma is generated. In the processing space 12, an electric field is generated in which electrons move from the excitation electrode 11 to the ion extraction electrode 14. Therefore, the surface of the excitation electrode 1111J of the object 8 is activated by the 1-'' ions in the plasma. As described above, the dielectric material 13 is interposed between the object 8 and the ion extraction electrode 14. Therefore, the plasma ions generated at the excitation electrode 11 will not be locally concentrated, so that the activation will not be concentrated locally such as the biting part of the object 8. There is no.

なお、この実施例では、励起電極とイオン引出電極とに
、励起電極を陰極としイオン引出@掻を陽極とするよう
直流高電圧電源が使用されていた。
In this example, a DC high voltage power supply was used for the excitation electrode and the ion extraction electrode so that the excitation electrode was used as a cathode and the ion extraction @ ion extraction electrode was used as an anode.

しかし、その電源の代わりに、実施例とは極性を逆にし
た直流高電圧電源7a(第4図(a)に図示)や交流高
電圧電源4a(第4図(b)に図示)を使用したり、第
4図(C)または第4図(dlにみるように、交流高電
圧11fi4aと直流高電圧電源7(または?a)を重
畳した電源を使用したりしても構わない0図中、4は対
向電極と励起電極とに接続されている交流高電圧電源で
ある。また、前記実施例では、イオン引出電極が平板状
のものであった。
However, instead of that power source, a DC high voltage power source 7a (shown in FIG. 4(a)) or an AC high voltage power source 4a (shown in FIG. 4(b)) with the polarity reversed from that of the embodiment is used. Or, as shown in Figure 4(C) or Figure 4(dl), it is okay to use a power source that combines AC high voltage 11fi4a and DC high voltage power source 7 (or ?a). Inside, 4 is an AC high voltage power supply connected to the counter electrode and the excitation electrode.Furthermore, in the above embodiment, the ion extraction electrode was in the form of a flat plate.

しかし、代わりに、第5図にみるように、励起電極11
と同形状のもの、すなわち長い切欠14aを幅方向に多
数有する板状のイオン引出電極14′が使用されても良
い、それにより、処理空間12内の電界が適度に集中さ
れる。
However, instead, as shown in FIG.
A plate-shaped ion extraction electrode 14' having the same shape as the above, that is, a plate-shaped ion extraction electrode 14' having a large number of long notches 14a in the width direction, may be used, whereby the electric field in the processing space 12 is appropriately concentrated.

第6図および第7図は、この発明にかかる活性化装置の
それぞれ異なる実施例をあられす、これらの装置は、第
2図に示す装置とほぼ同じ構造をしているので、図面上
、同じ構成部分については同じ符号を付し、説明を省略
する。
6 and 7 show different embodiments of the activation device according to the present invention. These devices have almost the same structure as the device shown in FIG. The same reference numerals are given to the constituent parts, and the explanation thereof will be omitted.

第6図に示す装置は、平板状の誘電性材料(ライナ)1
5が、処理空間12に挿入される被処理物体8と励起電
極11との間に介在されている。
The device shown in FIG. 6 consists of a flat dielectric material (liner) 1
5 is interposed between the object to be processed 8 inserted into the processing space 12 and the excitation electrode 11 .

この誘電性材料15は、励起電極11の電極面を覆って
いる。そのため、引出しイオンの局部的集中を防止する
のみでなく、励起電極11が放電や機械的摩耗によって
発生させる導体微粒子が、被処理物体8に付着したり混
入したりすることを防止するという効果もある。
This dielectric material 15 covers the electrode surface of the excitation electrode 11 . Therefore, it not only prevents local concentration of extracted ions, but also prevents conductor fine particles generated by the excitation electrode 11 due to discharge or mechanical wear from adhering to or mixing with the object to be processed 8. be.

第7図に示す装置は、処理空間12に挿入される被処理
物体8と、励起i!極11およびイオン引出電極14の
両電極との間にそれぞれ平板状の誘電性材料(ライナ)
15.13が介在されている、このようにして、活性化
作用の局部集中を防止するとともに、導体微粒子が被処
理物体8に付着したり混入したりすることも防止するよ
うにしても良い。
The apparatus shown in FIG. 7 includes an object to be treated 8 inserted into a treatment space 12 and an excitation i! A flat dielectric material (liner) is provided between the pole 11 and the ion extraction electrode 14.
15 and 13 are interposed. In this way, it is possible to prevent the activation effect from being concentrated locally, and also to prevent the conductor fine particles from adhering to or mixing with the object to be processed 8.

88図に示す装置は、第6図の装置における平板状のイ
オン引出電極14の代わりに、長い切欠14aを幅方向
に多数有する板状(メツシュ状)のイオン引出電極14
′が使用されたものである、それにより、処理空間12
に適度な電界の集中が与えられる。勿論、第6図の装置
と同様の効果が得られる。
The device shown in FIG. 88 uses a plate-like (mesh-like) ion extraction electrode 14 having a large number of long notches 14a in the width direction, instead of the flat ion extraction electrode 14 in the device shown in FIG.
' is used, so that the processing space 12
A suitable electric field concentration is applied to the Of course, the same effect as the device shown in FIG. 6 can be obtained.

第9図に示す装置は、第7図の装置における平板状のイ
オン引出電極14の代わりに、長い切欠14aを幅方向
に多数有する板状のイオン引出電極14′が使用された
ちのである。それにより、処理空間12に適度な電界の
集中が与えられる。
In the apparatus shown in FIG. 9, a plate-shaped ion extraction electrode 14' having a large number of long notches 14a in the width direction is used instead of the flat ion extraction electrode 14 in the apparatus shown in FIG. As a result, an appropriate concentration of electric field is given to the processing space 12.

勿論、第7図の装置と同様の効果が得られる。Of course, the same effect as the device shown in FIG. 7 can be obtained.

第5図ないし第9図の装置において、励起電極11とイ
オン引出電極14(または14′)とが、第2図の装置
と同様の直流筋電圧電:f!A7で接続されていた。こ
れらの装置においても、前記直流高電圧?llt源7の
代わりに、第4図(a)〜(dlに示すような各種高電
圧電源が使用され得る。
In the devices shown in FIGS. 5 to 9, the excitation electrode 11 and the ion extraction electrode 14 (or 14') are similar to the device shown in FIG. It was connected via A7. Even in these devices, the above-mentioned DC high voltage? Instead of the llt source 7, various high voltage power supplies as shown in FIGS. 4(a)-(dl) may be used.

第10図ないし第15図は、これまでに図面に基づいて
説明した各種実施例において、交流高電圧?iR4を、
励起電極11とイオン引出電橿工4、 (または14′
)との間の高電圧ii源に共用するようにした装置を示
す、これにより、処理空間12に、励起1!極一対向電
極間と同期した電界が形成されるため、励起1!極11
からのイオン照射率が向上する。
Figures 10 to 15 show AC high voltage? iR4,
Excitation electrode 11 and ion extractor 4, (or 14'
), thereby providing an excitation 1! to the processing space 12. An electric field synchronized between the opposite electrodes is formed, so the excitation is 1! pole 11
The ion irradiation rate from

第16図はこの発明にかかる活性化装置のさらに別の実
施例をあられしている。このものは、第5図の装置にお
けるイオン引出電極14′に対して、処理空間12とは
反対側の面に誘電体16を介して平板状の第2の対向電
極17が設置されていて、イオン引出電極14′と第2
の対向電極17とが交流高電圧電源4bで接続されてい
る。これにより、誘電性材料13の表面に沿いイオン引
出電極14′から沿面放電が発生するので、イオン引出
型+ffi 14 ’の処理空間12と面する個所にお
いても気体が励起されて面状のプラズマが発生する。し
かも、プラズマ中の特定イオンは、直流高電圧電源7が
作り出す電界により、処理空間12に引き出される。そ
のため、処理空間12に挿入された被処理物体8は、イ
オン引出電極14′と面する面においてもプラズマによ
る活性化処理がなされる。この場合、イオン引出電極1
4’と面する被処理物体8表面に対してプラズマをより
効率良く付与するため、誘電性材料13の厚みをできる
だけ薄くすることが好ましい0例えば、イオン引出電極
14′表面に薄(コーティングするようにしても良い、
この装置は、第5図の装置と同様、被処理物体の局部的
な活性化が防止されるようになっている。なお、第5図
と同じ構成部分については図面に同じ符号を付し、説明
を省略した。
FIG. 16 shows yet another embodiment of the activation device according to the present invention. In this device, a flat second counter electrode 17 is installed on the opposite side of the processing space 12 with a dielectric 16 in between, with respect to the ion extraction electrode 14' in the apparatus shown in FIG. The ion extraction electrode 14' and the second
are connected to a counter electrode 17 by an AC high voltage power source 4b. As a result, a creeping discharge is generated from the ion extraction electrode 14' along the surface of the dielectric material 13, and the gas is also excited in the area facing the processing space 12 of the ion extraction type +ffi 14', resulting in a planar plasma. Occur. Moreover, specific ions in the plasma are drawn out into the processing space 12 by the electric field generated by the DC high voltage power supply 7. Therefore, the object to be processed 8 inserted into the processing space 12 is activated by plasma also on the surface facing the ion extraction electrode 14'. In this case, the ion extraction electrode 1
In order to more efficiently apply plasma to the surface of the object to be processed 8 facing 4', it is preferable to make the thickness of the dielectric material 13 as thin as possible. You can also
This apparatus, like the apparatus shown in FIG. 5, is designed to prevent local activation of the object to be treated. Components that are the same as those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals in the drawing, and their explanations are omitted.

第17図に示す装置は、第16図の装置における処理空
間12内において、そこに挿入された被処理物体8と励
起電極11との間に平板状の誘電性材料15が介在され
ているものである。誘電性材料工5は、励起電極11の
電極面を覆っており、放電や機械的摩耗によって励起電
極11表面から発生する導体微粒子が被処理物体8に付
着したり混入したりすることを防止する11 iJ電性
材料15は、処理空間12の電界をあまり弱めることの
ないように、厚みができるだけ薄くなっていることが好
ましい、1例えば、励起電極11表面に薄くコーティン
グするようにしても良い、この装置でも、第16図の装
置と同様、イオン引出電極14′の処理空間12と面す
る個所においても気体が励起されて面状のプラズマが発
生する。そのため、被処理物体8は、イオン引出電極1
4’と面する面においてもプラズマによる活性化処理が
なされる。また、この装置は、第7v!Jの装置と同様
、活性化作用の局部集中が防止されるとともに、導体微
粒子が被処理物体8に付着したり混入したりすることも
防止される。なお、第16図と同じ構成部分については
図面に同じ符号を付し、説明を省略した。
The apparatus shown in FIG. 17 is the apparatus shown in FIG. 16 in which a flat dielectric material 15 is interposed between the object to be processed 8 inserted therein and the excitation electrode 11 in the processing space 12. It is. The dielectric material 5 covers the electrode surface of the excitation electrode 11 and prevents conductor fine particles generated from the surface of the excitation electrode 11 due to discharge or mechanical wear from adhering to or mixing with the object to be treated 8. 11 The iJ electric material 15 is preferably as thin as possible so as not to weaken the electric field in the processing space 12 too much.1 For example, it may be thinly coated on the surface of the excitation electrode 11. In this apparatus as well, as in the apparatus shown in FIG. 16, gas is excited at the portion of the ion extraction electrode 14' facing the processing space 12, and planar plasma is generated. Therefore, the object to be processed 8 is the ion extraction electrode 1
The surface facing 4' is also subjected to plasma activation treatment. Also, this device is the 7th v! Similar to the apparatus of J, local concentration of the activation effect is prevented, and conductor fine particles are also prevented from adhering to or being mixed into the object 8 to be processed. Note that the same components as in FIG. 16 are denoted by the same reference numerals in the drawing, and their explanations are omitted.

第16図または第17図に示す装置において、励起電極
11とイオン引出電極14′とが接続されている直流高
電圧電源70代わりに、第4図(83〜rb)に示すよ
うな各種高電圧電源が使用され得る第18図および第1
9図はそれぞれ、第16図に示す装置および第17図に
示す装置と電源を異にする装置をあられす、これら装置
では、イオン引出電極14’と第2の対向電極17とが
接続されている交流高電圧電源が、対向1i極9と励起
電極11とが接続されている交流高電圧電R4との共用
になっている。すなわち、励起電極11と第2の対向電
極17とが接続され、イオン引出電極14′と対向電極
9とがt!続されることによって、交流高電圧電源をひ
とつに減らしているのである。これらの装置においても
、励起電極11とイオン引出電極14′とが接続されて
いる直流筋電圧電217ii7の代わりに、第4図(a
)〜Fdlに示すような各種高電圧電源が使用され得る
In the apparatus shown in FIG. 16 or 17, instead of the DC high voltage power supply 70 to which the excitation electrode 11 and the ion extraction electrode 14' are connected, various high voltage sources as shown in FIG. 4 (83 to rb) are used. 18 and 1 where the power supply can be used
FIG. 9 shows a device having a different power source from the device shown in FIG. 16 and the device shown in FIG. 17, respectively. In these devices, the ion extraction electrode 14' and the second counter electrode 17 are connected. The AC high voltage power source R4 is used in common with the AC high voltage power source R4 to which the opposite pole 9 and the excitation electrode 11 are connected. That is, the excitation electrode 11 and the second counter electrode 17 are connected, and the ion extraction electrode 14' and the counter electrode 9 are connected at t! This reduces the number of AC high voltage power supplies to one. In these devices as well, instead of the DC muscle voltage generator 217ii7 to which the excitation electrode 11 and the ion extraction electrode 14' are connected, the
) to Fdl may be used.

第20TyJおよび第21図はそれぞれ、第18図に示
す装置および第19図に示す装置と電源を異にする装置
をあられす、これら装置では、励起電極11とイオン引
出電極14′とが接続されている高電圧電源が、励起電
極11と対向電極9とが接続されている交流高電圧電源
4との共用になっている。すなわち、励起電極11と第
2の対向電極17とが接続され、同時に交流高電圧電R
4に接続されているのである。これにより、処理空間1
2に、交流高電圧電源4と同期した電界が形成されるた
め、励起電極11からのイオン照射率が向上する。
20TyJ and FIG. 21 respectively show devices with different power supplies from the device shown in FIG. 18 and the device shown in FIG. 19. In these devices, the excitation electrode 11 and the ion extraction electrode 14' are connected. The high voltage power source is shared with the AC high voltage power source 4 to which the excitation electrode 11 and counter electrode 9 are connected. That is, the excitation electrode 11 and the second counter electrode 17 are connected, and at the same time, the AC high voltage electric current R
It is connected to 4. As a result, processing space 1
Second, since an electric field is formed in synchronization with the AC high voltage power supply 4, the ion irradiation rate from the excitation electrode 11 is improved.

この発明にかかる活性化装置を構成する励起電極および
イオン引出電極には、実施例では、長い切欠を幅方向に
多数有する形状のものがあった。
In the embodiment, the excitation electrode and ion extraction electrode constituting the activation device according to the present invention had a shape having a large number of long notches in the width direction.

このように、被処理物体に面する面が曲率の小さい凹凸
面に形成されていれば、処理空間に対して適度な電界の
集中が与えられるため好ましい、そのような形状として
、他に、ストリップ状(細長い一片からなる形状、その
ような片や細長い切欠とから形成されり板状、スリット
状)、ブラシ状等がある。しかし、励起i!極は平板状
であっても構わない。
In this way, if the surface facing the object to be processed is formed into an uneven surface with a small curvature, it is preferable because an appropriate concentration of electric field is given to the processing space. There are shapes (shape consisting of a long thin piece, plate shape formed from such a piece or a long thin notch, slit shape), brush shape, etc. However, excitation i! The poles may be flat.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明にかかる活性化装置は、間に誘
電体を介在させた板状の対向電極と板状の励起TL極と
が交流高電圧電源に接続されていて、前記励起電極が板
状のイオン引出電極と空間を介して対向するとともに高
電圧電源で接続されており、励起電極とイオン引出電極
との間の前記空間に発生した放電状態下に挿入された被
処理物体が活性化されるようになっている活性化装置で
あって、前記空間内において少なくとも一方の電憚と被
処理物体との間に電極面を覆うようにして誘電性材料が
介在されていることを特徴としている、したがって、励
起1を極と被処理物体との間に誘電性材料が介在された
場合には、励起電極から発生する導体微粒子が被処理物
体に付着したり混入したりすることが防止されるという
効果がもたらされる。また、イオン引出電極と被処理物
体との間に誘電性材料が介在された場合には、物体の局
部に活性化が集中するようなことがなく、物体表面全域
にわたって活性化がなされるという効果がもたらされる
。すなわち、被処理物体が挿入される空間内においてそ
の空間を形成する少なくとも一方の電極と被処理物体と
の間に?l!極面を覆うようにして誘電性材料が介在さ
れているので、被処理物体に所望の活性化が得られると
いう効果がもたらされるのである。
As described above, in the activation device according to the present invention, a plate-shaped counter electrode and a plate-shaped excitation TL pole with a dielectric interposed therebetween are connected to an AC high voltage power supply, and the excitation electrode is connected to an AC high voltage power source. It faces a plate-shaped ion extraction electrode through a space and is connected to a high voltage power supply, and the inserted object is activated under the discharge state generated in the space between the excitation electrode and the ion extraction electrode. The activation device is characterized in that a dielectric material is interposed in the space between at least one of the electrodes and the object to be processed so as to cover the electrode surface. Therefore, when a dielectric material is interposed between the excitation electrode and the object to be processed, it is possible to prevent the conductor particles generated from the excitation electrode from adhering to or mixing with the object to be processed. This has the effect of being done. In addition, when a dielectric material is interposed between the ion extraction electrode and the object to be processed, activation is prevented from concentrating on a local part of the object, and activation occurs over the entire surface of the object. is brought about. That is, in a space into which the object to be processed is inserted, between at least one electrode forming the space and the object to be processed? l! Since the dielectric material is interposed so as to cover the polar surface, the effect of obtaining the desired activation of the object to be processed is brought about.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a3は活性化装置の従来例をあられす正面図、
同図(blは前記活性化装置を構成する励起電極をあら
れす平面図、第2図はこの発明にかかる活性化装置の一
実施例をあられす正面図、第3図は第2図の活性化装置
を構成する励起電極をあられす平面図、第4図tat〜
(d)はこの発明にかかる活性化装置を構成する電源の
それぞれ異なる態様をあられす図面、第5図ないし第2
1図はこの発明にかかる活性化装置のそれぞれ異なる実
施例をあられす正面図である。 4.4a、4b・・・交流高電圧電源 7.7a・・・
直流高電圧電源 8・・・被処理物体 9・・・対向m
ff510.16・・・誘電体 11・・・励起電極 
12・・・処理空間 13.15・・・誘電性材料 1
4.14′・・・イオン引出電極 17・・・第2の対
向電橿第1図(a) 第1図(b) 第2図 第3図 第4図 (a)    (b)    (c)    (d)7
      7a i5図 第8図 第10図 第11図 第14図 第17図 第18図 第19図 第20図
Figure 1 (a3 is a front view of a conventional example of an activation device;
The same figure (bl is a plan view of the excitation electrode constituting the activation device, FIG. 2 is a front view of an embodiment of the activation device according to the present invention, and FIG. 3 is a plan view of the excitation electrode constituting the activation device). A plan view of the excitation electrodes constituting the conversion device, Figure 4.
(d) is a drawing showing different aspects of the power source constituting the activation device according to the present invention, FIGS. 5 to 2.
FIG. 1 is a front view showing different embodiments of the activation device according to the present invention. 4.4a, 4b... AC high voltage power supply 7.7a...
DC high voltage power supply 8...Object to be processed 9...Opposing m
ff510.16...Dielectric material 11...Excitation electrode
12...Processing space 13.15...Dielectric material 1
4.14'...Ion extraction electrode 17...Second opposing electrode Fig. 1 (a) Fig. 1 (b) Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4 (a) (b) (c) (d)7
7a i5Figure 8Figure 10Figure 11Figure 14Figure 17Figure 18Figure 19Figure 20

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)間に誘電体を介在させた板状の対向電極と板状の
励起電極とが交流高電圧電源に接続されていて、前記励
起電極が板状のイオン引出電極と空間を介して対向する
とともに高電圧電源で接続されており、励起電極とイオ
ン引出電極との間の前記空間に発生した放電状態下に挿
入された被処理物体が活性化されるようになつている活
性化装置であつて、前記空間内において少なくとも一方
の電極と被処理物体との間に電極面を覆うようにして誘
電性材料が介在されていることを特徴とする活性化装置
(1) A plate-shaped counter electrode with a dielectric interposed therebetween and a plate-shaped excitation electrode are connected to an AC high voltage power source, and the excitation electrode faces the plate-shaped ion extraction electrode with a space interposed therebetween. and an activation device connected to a high voltage power source so that the object to be treated inserted into the discharge state generated in the space between the excitation electrode and the ion extraction electrode is activated. An activation device characterized in that a dielectric material is interposed in the space between at least one electrode and the object to be processed so as to cover the electrode surface.
(2)イオン引出電極の被処理物体が挿入される空間と
は反対側に、誘電体を介して板状の第2の対向電極が設
置されていて、イオン引出電極と前記第2の対向電極と
が交流高電圧電源で接続されている特許請求の範囲第1
項記載の活性化装置。
(2) A plate-shaped second counter electrode is installed on the opposite side of the ion extraction electrode from the space into which the object to be processed is inserted, with a dielectric interposed therebetween, and the ion extraction electrode and the second counter electrode Claim 1, in which the and are connected by an AC high voltage power supply.
Activation device as described in section.
(3)イオン引出電極と第2の対向電極とが接続されて
いる交流高電圧電源が、励起電極と対向電極とが接続さ
れている交流高電圧電源との共用である特許請求の範囲
第2項記載の活性化装置。
(3) Claim 2, in which the AC high voltage power supply to which the ion extraction electrode and the second counter electrode are connected is shared with the AC high voltage power supply to which the excitation electrode and the counter electrode are connected. Activation device as described in section.
(4)励起電極とイオン引出電極とが接続されている高
電圧電源が、励起電極と対向電極とが接続されている交
流高電圧電源との共用である特許請求の範囲第1項ない
し第3項のいずれかに記載の活性化装置。
(4) Claims 1 to 3, wherein the high voltage power supply to which the excitation electrode and the ion extraction electrode are connected is shared with the AC high voltage power supply to which the excitation electrode and counter electrode are connected. The activation device according to any one of paragraphs.
(5)励起電極が、長い切欠を幅方向に複数個有する板
状のものである特許請求の範囲第1項ないし第4項のい
ずれかに記載の活性化装置。
(5) The activation device according to any one of claims 1 to 4, wherein the excitation electrode has a plate shape having a plurality of long notches in the width direction.
(6)イオン引出電極が、長い切欠を幅方向に複数個有
する板状のものである特許請求の範囲第1項ないし第5
項のいずれかに記載の活性化装置。
(6) Claims 1 to 5, wherein the ion extraction electrode is plate-shaped with a plurality of long notches in the width direction.
The activation device according to any one of paragraphs.
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