JPS6193695A - Generation of lattice-like wire pattern - Google Patents

Generation of lattice-like wire pattern

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JPS6193695A
JPS6193695A JP59214403A JP21440384A JPS6193695A JP S6193695 A JPS6193695 A JP S6193695A JP 59214403 A JP59214403 A JP 59214403A JP 21440384 A JP21440384 A JP 21440384A JP S6193695 A JPS6193695 A JP S6193695A
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pattern
lattice
wiring pattern
grid
wiring
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岡 常雄
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子回路基板の電源配線或いはアース配線と
なる格子状配線パターン内に非導通パターンを自動的に
形成できる格子状配線パターン形成方法に関するもので
ある。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention provides a method for forming a lattice-like wiring pattern that can automatically form a non-conducting pattern in a lattice-like wiring pattern that becomes the power supply wiring or ground wiring of an electronic circuit board. It is related to.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子回路基板は、多層配線構成が一般的で、電源配線或
いはアース配線は、数mmのピンチの格子状パターンが
比較的多く採用されている。このような格子状配線パタ
ーンに対して、部品の挿入孔や接続ピンの挿入孔等を形
成する時、配線パターンと接触しないように、格子状配
線パターンの一部を削除する必要がある。
Electronic circuit boards generally have multilayer wiring configurations, and grid patterns with pinches of several millimeters are relatively often used for power supply wiring or ground wiring. When forming component insertion holes, connection pin insertion holes, etc. in such a grid wiring pattern, it is necessary to remove a part of the grid wiring pattern so as not to contact the wiring pattern.

このような電子回路基板の配線パターンは、近年コンピ
ュータを利用して作成するものであり、格子状配線パタ
ーンの場合には、その格子状配線パターンの幅や間隔等
のデータがファイルに格納されているから、そのデータ
を読出し、且つ外周を規定する情報を入力することによ
り、その規定された外周内に続出データに従った格子状
配線パターンが形成され、ディスプレイ装置に表示され
ることになる。そして、表示された格子状配線パターン
に対して、部品の挿入孔等に対応した非導通パターンを
形成する為の入力操作を行うものである。
In recent years, wiring patterns for electronic circuit boards like this are created using computers, and in the case of grid-like wiring patterns, data such as the width and spacing of the grid-like wiring patterns are stored in files. By reading out the data and inputting information defining the outer periphery, a lattice-like wiring pattern according to the successive data is formed within the defined outer periphery and displayed on the display device. Then, an input operation is performed on the displayed lattice-like wiring pattern to form a non-conducting pattern corresponding to a component insertion hole or the like.

所望の配線パターンが形成されると、そのデー夕をアー
トワーク装置等に加えて、配線パターン形成用露光マス
クとなるフィルムを自動作成するものである。
When a desired wiring pattern is formed, the data is added to an artwork device or the like to automatically create a film that serves as an exposure mask for forming the wiring pattern.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

格子状配線パターンに対する非導通パターンの入力は、
キーボードやマうス等の入力装置を用いて行われるが、
挿入孔等と格子状配線パターンとが接触しないように、
所定の間隔が保たれること。
Inputting a non-conducting pattern to a grid wiring pattern is as follows:
This is done using an input device such as a keyboard or mouse, but
Make sure that the insertion hole etc. and the grid wiring pattern do not come into contact with each other.
The specified distance must be maintained.

が必要であり、その為に、形成すべき非導通パターンの
寸法と関連して、格子状配線パターンの格子辺の消去作
業を行うことになるから、配置位置の指定と共に繁雑な
作業となるものであった。又このような非導通パターン
が多数の場合には、格子状配線パターン内に、それぞれ
の非導通パターンの内抜き形成を行う為の作業時間が非
常に長くなる欠点があった。
Therefore, it is necessary to erase the grid sides of the grid wiring pattern in relation to the dimensions of the non-conducting pattern to be formed, which is a complicated task along with specifying the placement position. Met. In addition, when there are a large number of such non-conducting patterns, there is a drawback that the working time for forming each non-conducting pattern by hollowing it out within the lattice-like wiring pattern becomes extremely long.

本発明は、前述の従来の欠点を改善することを目的とす
るものであや。
The present invention aims to improve the above-mentioned conventional drawbacks.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の格子状配線パターン形成方法は、格子状配線パ
ターンの幅を零と見做して、この格子状配線パターン内
に形成すべき非導通パターンの拡大処理を行うもので、
格子状配線パターンの幅の1/2と、非導通パターンと
配線パターンとの間で必要とする最小間隔との和を加え
た寸法に拡大するものである。そして、拡大された非導
通パターン内の格子状配線パターンの格子辺を消去する
ことにより、配線パターンとの間で所定の間隔を有する
非導通パターンの内抜きを行った格子状配線パターンを
形成するものである。
The grid-like wiring pattern forming method of the present invention assumes that the width of the grid-like wiring pattern is zero, and performs a process of enlarging a non-conducting pattern to be formed within the grid-like wiring pattern.
The size is expanded to the sum of 1/2 the width of the lattice-like wiring pattern and the minimum interval required between the non-conducting pattern and the wiring pattern. Then, by erasing the lattice sides of the lattice wiring pattern within the enlarged non-conductive pattern, a lattice wiring pattern is formed in which the non-conductive pattern is hollowed out and has a predetermined distance from the wiring pattern. It is something.

〔作用〕[Effect]

格子状配線パターンの幅を1/2した値と、非導通パタ
ーンと配線パターンとの間で必要とする最小間隔とを加
算した値を、非導通パターンに加えて拡大し、この拡大
された非導通パターン内の格子状配線パターンの格子辺
を消去して、配線パターンと非導通パターンとの間に所
定の間隔を有する格子状配線パターンを作成するもので
あり、非導通パターンの拡大処理や、格子辺の消去処理
は、図形処理に於ける拡大、縮小の処理や、図形型なり
の消去処理等を適用して実現することができ、外周デー
タを人力するだけで、自動的に非導通パターンの内抜き
を行った格子状配線パターンを作成することができる。
The value obtained by adding 1/2 the width of the lattice wiring pattern and the minimum interval required between the non-conductive pattern and the wiring pattern is added to the non-conductive pattern and expanded, and this expanded non-conductive pattern is This method erases the lattice sides of the lattice wiring pattern in the conductive pattern to create a lattice wiring pattern with a predetermined interval between the wiring pattern and the non-conductive pattern, and it also involves enlarging the non-conducting pattern, Grid side deletion processing can be achieved by applying enlargement and reduction processing in graphic processing, deletion processing for the shape type, etc., and non-conductive patterns can be automatically created just by manually inputting the peripheral data. It is possible to create a lattice-like wiring pattern with inner cutouts.

〔実施例〕〔Example〕

以下図面を参照して、本発明の実施例について詳細に説
明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は本発明の実施例のブロック図であり、1はプロ
セッサ(CPU) 、2はプログラム等を格納した領域
と共に、領域A、B、Cを有するメモリ(MEM) 、
3,4.5は入出力制御装置(Ilo) 、6はキーボ
ード等の入力装置、7はディスプレイ装置、8はパター
ン・データにより露光、現像等を行ってマスクパターン
等のフィルムを出力するアートワーク装置、9はファイ
ル装置である。ファイル装置9に格子状配線パターンの
配線幅、ピッチ等のデータや非導通パターン・データ等
を含む回路パターン・データが格納されているものであ
る。
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, in which 1 is a processor (CPU), 2 is a memory (MEM) having areas A, B, and C as well as an area for storing programs, etc.
3, 4.5 is an input/output control device (Ilo), 6 is an input device such as a keyboard, 7 is a display device, and 8 is an artwork that performs exposure, development, etc. according to pattern data and outputs a film such as a mask pattern. The device 9 is a file device. The file device 9 stores circuit pattern data including data on the wiring width and pitch of the lattice wiring pattern, non-conducting pattern data, and the like.

最初に、プロセッサ1の制御により、ファイル装置9か
ら回路パターン・データを読出して、メモリ2の領域A
に格納する。次に入力装置6から格子状配線パターンの
外周を指定する外周データを入力する。プロセッサ1は
、この外周データをメモリ2の領域Bに格納する。そし
て、プロセッサ1は、外周データと、回路パターン・デ
ータのうちの格子状配線パターン・データとを読出して
、指定された外周内に格子パターンを生成して、メモリ
2の領域Bに格納すると共に、入出力制御装置4を介し
てディスプレイ装置7に加える。それによって、ディス
プレイ装置7には指定された外周内に所定のピンチの格
子パターンが表示される。
First, under the control of the processor 1, circuit pattern data is read from the file device 9 and
Store in. Next, outer circumference data specifying the outer circumference of the lattice wiring pattern is inputted from the input device 6. Processor 1 stores this outer circumferential data in area B of memory 2. Then, the processor 1 reads the outer circumference data and the lattice wiring pattern data of the circuit pattern data, generates a lattice pattern within the designated outer circumference, and stores it in the area B of the memory 2. , is applied to the display device 7 via the input/output control device 4. Thereby, a predetermined pinch grid pattern is displayed on the display device 7 within the designated outer periphery.

次に、プロセッサ1は、メモリ2の領域Aから非導通パ
ターン・データを一つ読出し、この非導通パターンの拡
大処理を行ってメモリ2の領域Cに格納する。この拡大
処理は、格子状配線パターンの線幅を零と見做して、(
格子状配線パターン幅)X (1/2)+ (導体間の
最小間隔)−付加寸法、を求めて、この付加寸法の値を
非導通パタ、−ンの寸法に付加する演算処理を行うもの
であり、図形処理に於ける拡、大、縮小処理に類似した
処理により実現することができる。
Next, the processor 1 reads out one piece of non-conducting pattern data from the area A of the memory 2, performs an enlargement process on this non-conducting pattern, and stores it in the area C of the memory 2. This enlargement process assumes that the line width of the lattice wiring pattern is zero.
Grid pattern wiring pattern width) x (1/2) + (minimum spacing between conductors) - Additional dimension This can be realized by processing similar to enlarging, enlarging, and reducing processing in graphic processing.

次に、プロセッサ1は、メモリ2の領域B、  Cから
読出した格子パターンと拡大した非導通パターンとの重
なりの識別を行うものである。なお、非導通パターン・
データには、配置位置を指定する位置データも含まれて
いるので、拡大された非導通パターンの一部と格子パタ
ーンとが重なる場合も容易に識別することができるもの
である。そして、非導通パターン内の格子パターンの格
子辺の消去を行うものである。この場合に、拡大された
非導通パターンの外周と交差する格子辺を含めて消去す
るものである。この格子辺消去処理は、図形処理に於け
る図形型なり部分の消去処理と同様な処理で実現するこ
とができる。この格子辺の消去処理を行った格子パター
ンをメモリ2の領域Bに格納する。
Next, the processor 1 identifies the overlap between the lattice patterns read from areas B and C of the memory 2 and the enlarged non-conducting pattern. In addition, the non-conductive pattern
Since the data also includes position data specifying the arrangement position, it is possible to easily identify a case where a portion of the enlarged non-conducting pattern overlaps with the lattice pattern. Then, the lattice sides of the lattice pattern within the non-conductive pattern are erased. In this case, the lattice sides that intersect with the outer periphery of the enlarged non-conductive pattern are also erased. This lattice edge erasing process can be realized by a process similar to the erasing process of a figure-shaped part in graphic processing. The lattice pattern whose lattice sides have been erased is stored in area B of the memory 2.

メモリ2の領域Aに非導通パターンが残っていれば、残
っている非導通パターンの一つを読出して、前述と同様
な拡大処理、領域Bに格納されている格子パターンに対
する格子辺の消去処理を行って、メモリ2の領域已に格
納する。
If a non-conducting pattern remains in area A of the memory 2, one of the remaining non-conducting patterns is read out and subjected to the same enlargement process as described above and the process of erasing the lattice sides of the lattice pattern stored in area B. and stores it in the memory 2 area.

格子辺の消去処理により、周囲の格子パターンから完全
に分離された格子辺が生じることがある。このような場
合は、格子辺の追加により周囲の格子パターンと連続さ
せる為の処理、或いは、非導通パターンの配置位置変更
処理等を行うことになる。
The process of erasing grid edges may result in grid edges that are completely separated from the surrounding grid pattern. In such a case, processing for making the pattern continuous with the surrounding grid patterns by adding grid sides, or processing for changing the arrangement position of the non-conducting pattern, etc., will be performed.

非導通パターンについての処理が総て終了すると、メモ
リ2の領域Bには、非導通パターンの内抜きを行った格
子状配線パターンのデータが格納されていることになり
、この格子状配線パターン・データを入出力制御装置5
を介してアートワーク装置8に出力すると、格子状配線
パターン・データに従ったパターンの露光、現像により
、電子回路基板の格子状配線パターン・フィルムが作成
されて出力されるものである。
When all the processing for the non-conducting pattern is completed, the area B of the memory 2 stores the data of the lattice-like wiring pattern in which the non-conducting pattern has been hollowed out. Data input/output control device 5
When outputted to the artwork device 8 via the lattice wiring pattern data, a lattice wiring pattern film of an electronic circuit board is created and outputted by exposing and developing a pattern according to the lattice wiring pattern data.

第2図及び第3図は格子状配線パターンの説明図であり
、格子状配線パターンの外周データとして、a (x+
、y+ )+  b (x+、yj)、c (xm。
FIG. 2 and FIG. 3 are explanatory diagrams of the grid-like wiring pattern, and as the outer circumferential data of the grid-like wiring pattern, a (x+
,y+)+b(x+,yj),c(xm.

yJ )、  d  (xm、yi+)、  e  (
xi、yh)、  f  (X=、)’、)を入力装置
6等から入力する。この外周データは、ライトペン等に
より直接ディスプレイ装置の表示画面に入力する手段を
採用することも可能である。又、矩形の外周の場合は、
4点の座標情報を入力すれは良いことになる。
yJ ), d (xm, yi+), e (
xi, yh), f (X=, )', ) are input from the input device 6 or the like. It is also possible to employ means for directly inputting this outer circumference data onto the display screen of the display device using a light pen or the like. Also, in the case of the outer circumference of a rectangle,
It is good to input the coordinate information of four points.

又格子状配線パターン・データが前述のように読出され
て、指定された外周a −= f内に所定のピッチの格
子パターンが形成される。又斜線を施したPl、P2.
P3は非導通パターンを示し、これらの非導通パターン
PI、P2.P3は、順次そのデータがメモリ2の領域
Aから読出されて、鎖線で示すように拡大処理されるも
のである。この拡大処理は、前述のように、格子状配線
パターンの線幅を零と見做して、その格子状配線パター
ンの幅の1/2と、配線パターンと非導通パターンとの
間に必要とする最小間隔との和を付加寸法として、非導
通パターンp1.P2.P3に加える処理を行うもので
ある。
Also, the lattice wiring pattern data is read out as described above, and a lattice pattern with a predetermined pitch is formed within the designated outer periphery a-=f. Also, the hatched Pl, P2.
P3 indicates a non-conductive pattern, and these non-conductive patterns PI, P2 . In P3, the data is sequentially read from area A of the memory 2 and enlarged as shown by the chain line. As mentioned above, this enlarging process assumes that the line width of the lattice wiring pattern is zero, and requires 1/2 of the width of the lattice wiring pattern and the space between the wiring pattern and the non-conducting pattern. The non-conductive pattern p1. P2. It performs processing added to P3.

拡大された非導通パターン内、即ち、鎖線内の格子パタ
ーンの格子辺を消去することにより、第3図に示すよう
に、非導通パターンPL、P2゜P3の周囲に内抜き領
域Nl、N2.N3が形成された格子状配線パターンと
なる。そして、非導通パターンと配線パターンとは、少
な(とも、格子状配線パターンの幅の1/2と、必要最
小限度の間隔との和の値の間隔を有するものとなり、部
品等を挿入しても短絡事故の発生がない配線パターンと
なる。
By erasing the lattice sides of the lattice pattern within the enlarged non-conducting pattern, that is, within the chain lines, hollow regions Nl, N2 . This results in a lattice-like wiring pattern in which N3 is formed. Then, the non-conducting pattern and the wiring pattern have a small distance (both of which are equal to the sum of 1/2 the width of the lattice wiring pattern and the minimum necessary distance), so that parts etc. This also results in a wiring pattern that does not cause short-circuit accidents.

又非導通パターンの配置位置によっては、格子状配線パ
ターンが、島状に分離される場合が生じる。これは、作
成された格子状配線パターンを順次走査して、内抜き領
域によって周囲が包囲された配線パターンが存在するか
否かを調べることによって検出できるから、島状に分離
されていることを検出した場合には、格子辺を追加する
か、又は、非導通パターンの配置位置の変更を行うこと
になる。
Furthermore, depending on the arrangement position of the non-conductive pattern, the grid-like wiring pattern may be separated into islands. This can be detected by sequentially scanning the created lattice-like wiring pattern and checking whether there is a wiring pattern surrounded by a hollow area, so it can be detected that the wiring pattern is separated into islands. If detected, a grid side is added or the placement position of the non-conductive pattern is changed.

第4図は本発明の実施例のフローチャートの−例を示す
ものであり、回路パターン・データをファイル装置9か
ら読出して、メモリ2の領域Aに格納し、外周を指定す
る外周データを入力装置6等から入力する。それにより
、領域Aから格子状配線パターン・データの読出しを行
い、指定外周内に格子パターンを生成する。
FIG. 4 shows an example of a flowchart of an embodiment of the present invention, in which circuit pattern data is read from the file device 9, stored in area A of the memory 2, and outer circumference data specifying the outer circumference is input to the input device. Input from 6th grade. Thereby, lattice wiring pattern data is read from area A, and a lattice pattern is generated within the designated outer periphery.

次にメモリ2の領域Aから非導通パターン・データを読
出して、非導通パターンの拡大処理を行い、この拡大さ
れた非導通パターン内の格子辺を消去して、内抜きが形
成された格子状配線パターン・データをメモリ2の領域
Bに格納する。
Next, the non-conductive pattern data is read from area A of the memory 2, the non-conductive pattern is enlarged, and the lattice sides in the enlarged non-conductive pattern are erased to form a lattice with hollows formed. The wiring pattern data is stored in area B of the memory 2.

メモリ2の領域Aに非導通パターンが残っているか否か
判断し、残っている場合は、非導通パターンの読出しを
行うことになり、又残っていない場合は、格子状配線パ
ターンの形成が終了したことになり、アートワーク装置
8へそのデータが転送され、格子状配線パターン・フィ
ルムが作成さ゛  れて出力されるこ、とになる。
It is determined whether or not a non-conductive pattern remains in area A of the memory 2, and if it remains, the non-conductive pattern is read out, and if it does not remain, the formation of the lattice wiring pattern is completed. Then, the data is transferred to the artwork device 8, and a lattice wiring pattern film is created and output.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明は、格子状配線パターンの
幅を零と見做して、格子状配線パターン内に形成すべき
部品挿入等の為の非導通パターンを、格子状配線パター
ンの幅の1/2と、非導通パターンと配線パターンとの
間で必要とする最小間隔との和を加えた寸法に拡大する
処理を行い、この拡大された非導通パターン内の格子状
配線パターンの格子辺を消去する処理を行うことにより
、非導通パターンの内抜きを行った格子状配線パターン
を形成するものであり、格子状配線パターンの外周デー
タを入力するだけで、自動的に所望の回路パターンに於
ける非導通パターンに対応した内抜きを形成することが
できるので、電子回路基板用の格子状配線パターンの形
成を簡単且つ短時間で行うことができる利点がある。
As explained above, the present invention assumes that the width of the lattice wiring pattern is zero, and creates a non-conductive pattern for inserting a component to be formed in the lattice wiring pattern by adjusting the width of the lattice wiring pattern. The lattice of the lattice-like wiring pattern in this enlarged non-conducting pattern is enlarged to the sum of 1/2 of By performing the process of erasing the sides, a lattice-like wiring pattern is formed by cutting out the inside of the non-conducting pattern. Just by inputting the outer circumference data of the lattice-like wiring pattern, the desired circuit pattern is automatically created. Since it is possible to form a hollow corresponding to a non-conductive pattern in an electronic circuit board, there is an advantage that a lattice-like wiring pattern for an electronic circuit board can be formed easily and in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例のブロック図、第2図及び第3
図は格子状配線パターンの作成過程の説明図、第4図は
本発明の実施例のフローチャートの一例を示すものであ
る。 1はプロセッサ(CPU) 、2はメモリ (MEM)
3〜5は入出力制御装置(Ilo) 、6は入力装置、
7はディスプレイ装置、8はアートワーク装置、9はフ
ァイル装置である。
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 and FIG.
The figure is an explanatory diagram of the process of creating a lattice-like wiring pattern, and FIG. 4 shows an example of a flowchart of an embodiment of the present invention. 1 is the processor (CPU), 2 is the memory (MEM)
3 to 5 are input/output control devices (Ilo), 6 is an input device,
7 is a display device, 8 is an artwork device, and 9 is a file device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 非導通パターンの内抜きを行った電子回路基板の格子状
配線パターンを作成する方法に於いて、格子状配線パタ
ーンの幅を零と見做し、該格子状配線パターン内に形成
すべき非導通パターンを、前記格子状配線パターンの幅
の1/2と、非導通パターンと配線パターンとの間で必
要とする最小間隔との和を加えた寸法に拡大し、該拡大
された非導通パターン内の格子状配線パターンの格子辺
を消去して、非導通パターンの内抜きを行うことを特徴
とする格子状配線パターン形成方法。
In a method for creating a grid-like wiring pattern for an electronic circuit board in which a non-conducting pattern is hollowed out, the width of the grid-like wiring pattern is regarded as zero, and the non-conducting pattern to be formed within the grid-like wiring pattern is The pattern is enlarged to a size equal to the sum of 1/2 of the width of the lattice-like wiring pattern and the minimum interval required between a non-conductive pattern and a wiring pattern, and within the enlarged non-conductive pattern. A method for forming a lattice-like wiring pattern, comprising erasing lattice sides of the lattice-like wiring pattern to cut out non-conducting patterns.
JP59214403A 1984-10-15 1984-10-15 Generation of lattice-like wire pattern Granted JPS6193695A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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