JPS6190702A - 遠心式薄膜真空濃縮装置における蒸発面の洗滌機構 - Google Patents
遠心式薄膜真空濃縮装置における蒸発面の洗滌機構Info
- Publication number
- JPS6190702A JPS6190702A JP21108784A JP21108784A JPS6190702A JP S6190702 A JPS6190702 A JP S6190702A JP 21108784 A JP21108784 A JP 21108784A JP 21108784 A JP21108784 A JP 21108784A JP S6190702 A JPS6190702 A JP S6190702A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation surface
- rotor
- washing
- washing liquid
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/22—Evaporating by bringing a thin layer of the liquid into contact with a heated surface
- B01D1/222—In rotating vessels; vessels with movable parts
- B01D1/223—In rotating vessels; vessels with movable parts containing a rotor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は遠心式薄膜真空濃縮装置における蒸発面の洗滌
a4’Jに関するものである。
a4’Jに関するものである。
遠心式薄膜真空濃縮装置は、真空槽内にE/L斗状のロ
ータを備えた連続式の濃縮装置であってロータを回転さ
せつ\、その蒸発面の中心部に被処理液を注ぎ、これを
遠心力により蒸発面全体に拡開させることによって被処
理液の表面積を拡大させて波線能率を高めるものである
。
ータを備えた連続式の濃縮装置であってロータを回転さ
せつ\、その蒸発面の中心部に被処理液を注ぎ、これを
遠心力により蒸発面全体に拡開させることによって被処
理液の表面積を拡大させて波線能率を高めるものである
。
この装置は被処理液をロータの蒸発面の中心部に注ぎ、
この処理液が蒸発面の周辺部に到ったところで槽外に汲
み出すものであるから、例えば噴霧乾燥装置の様に被処
理液が乾燥室の内壁等に付着して取出しが困難になった
り、焦げを生じたりする不具合は全たく無いが、M÷縮
作業を継続的に行なう場合には、濃縮液の8.類によっ
ては蒸発面に固形物が付着し熱効率を低下させるため、
定期的に蒸発面を洗滌することが必要とされる。また、
作業を中断する場合や被処理液を変更する場合には各作
業の終了時に蒸発面を洗滌することが必要とされる。
この処理液が蒸発面の周辺部に到ったところで槽外に汲
み出すものであるから、例えば噴霧乾燥装置の様に被処
理液が乾燥室の内壁等に付着して取出しが困難になった
り、焦げを生じたりする不具合は全たく無いが、M÷縮
作業を継続的に行なう場合には、濃縮液の8.類によっ
ては蒸発面に固形物が付着し熱効率を低下させるため、
定期的に蒸発面を洗滌することが必要とされる。また、
作業を中断する場合や被処理液を変更する場合には各作
業の終了時に蒸発面を洗滌することが必要とされる。
この場合従来は、真空槽にロータの下部が漬かる程度の
洗滌液を入れ、ロータを緩やかに回転させることにより
洗滌していた。しかしながらこの方法では、ロータの蒸
発面は単に洗滌液に漬かるだけであるから極めて洗滌効
果が低いのであって、固形物や粘才IA液を除去するに
は長時間を要した。しかも、固形物等は一旦洗滌液中に
溶は込んだのち再びロータの蒸発面や背面に付着するか
ら、これを取除くためには洗滌液は溶解物が無くなるま
で新たなものと取り換えなければならない。そのため大
量の洗滌液と長い時間とを要したのである。
洗滌液を入れ、ロータを緩やかに回転させることにより
洗滌していた。しかしながらこの方法では、ロータの蒸
発面は単に洗滌液に漬かるだけであるから極めて洗滌効
果が低いのであって、固形物や粘才IA液を除去するに
は長時間を要した。しかも、固形物等は一旦洗滌液中に
溶は込んだのち再びロータの蒸発面や背面に付着するか
ら、これを取除くためには洗滌液は溶解物が無くなるま
で新たなものと取り換えなければならない。そのため大
量の洗滌液と長い時間とを要したのである。
本発明はか\る欠点を解消したものであって真空槽を前
部シェルと後部シェルとに分けて形成し、後部シェルに
対して前部シェルを開閉自在として、槽内の洗滌を極め
て容易に行なうことができるようにすると共に食品や医
薬品等の空気による汚染を嫌う材料を処理する場合に対
処して、蒸発面に対して洗滌液を噴射するノズルを備え
、ロータを回転させつ\蒸発面に洗滌液を噴射すること
により蒸発面に付着する固定物等を洗い流すものであり
、これによって真空槽を密閉したま\、極めて能率よく
洗滌をすることができるようにしたものである。
部シェルと後部シェルとに分けて形成し、後部シェルに
対して前部シェルを開閉自在として、槽内の洗滌を極め
て容易に行なうことができるようにすると共に食品や医
薬品等の空気による汚染を嫌う材料を処理する場合に対
処して、蒸発面に対して洗滌液を噴射するノズルを備え
、ロータを回転させつ\蒸発面に洗滌液を噴射すること
により蒸発面に付着する固定物等を洗い流すものであり
、これによって真空槽を密閉したま\、極めて能率よく
洗滌をすることができるようにしたものである。
以下本発明を図示の実施例に基づいて具体的に説明する
。
。
図中符号1は真空槽、2はロータである。ロータの蒸発
面3を外気から遮断して空気による汚染を防ぐと共に槽
内を減圧して被処理液の濃縮効果を高めるものであって
、一端に吸引ダクト4が接続されており、更に該ダクト
には図示しない真空ポンプが取付けられていて槽内を減
圧するようになっている。また、真空槽1は後部シェル
5と前部シェル6とに分けて形成されており、後部シェ
ル5は架台7に固定されると共にこれにロータ2が取付
けられている。一方前部シエル6は後部シェルフに対し
てシj、閉自在となっており、更に温度計8.41.き
窓9、並びに被処理液供給パイプ10、濃縮液吸出管1
1等が取付けられている。
面3を外気から遮断して空気による汚染を防ぐと共に槽
内を減圧して被処理液の濃縮効果を高めるものであって
、一端に吸引ダクト4が接続されており、更に該ダクト
には図示しない真空ポンプが取付けられていて槽内を減
圧するようになっている。また、真空槽1は後部シェル
5と前部シェル6とに分けて形成されており、後部シェ
ル5は架台7に固定されると共にこれにロータ2が取付
けられている。一方前部シエル6は後部シェルフに対し
てシj、閉自在となっており、更に温度計8.41.き
窓9、並びに被処理液供給パイプ10、濃縮液吸出管1
1等が取付けられている。
ロータ2は5服斗状に形成されており、回転軸12に取
付けられてモーフ13により回転する。また、ロータ2
は内部がジャケラ) +iti造になっており図示しな
いボイラとの間で蒸気を循環させて蒸発面3を適宜な温
度に保つようになっている。
付けられてモーフ13により回転する。また、ロータ2
は内部がジャケラ) +iti造になっており図示しな
いボイラとの間で蒸気を循環させて蒸発面3を適宜な温
度に保つようになっている。
被処理液供給パイプ10は蒸発面の中心部に向けて開口
していて、この部分に被処理液を注出するようになって
おり、一方、濃縮液吸出管11は開口端が蒸発面3の周
縁部に達してここから濃縮液を機外へ吸い出すようにな
っている。
していて、この部分に被処理液を注出するようになって
おり、一方、濃縮液吸出管11は開口端が蒸発面3の周
縁部に達してここから濃縮液を機外へ吸い出すようにな
っている。
符号14は洗滌液噴射ノズルである。このものは蒸発面
3の付着物を洗い流すもので蒸発面に向けて洗滌液を噴
射するものである。
3の付着物を洗い流すもので蒸発面に向けて洗滌液を噴
射するものである。
蒸発面を洗滌するときはロータ2を適当な速度で回転さ
せながら蒸発面2に対して洗滌液を噴射する。従って噴
射ノズル14は蒸発面3の全面にわたって洗滌液を噴射
するようにする必要はないのであって蒸発面2の中心部
と外縁とを結ぶ線上に噴射すれば結局蒸発面の全面に対
して噴射したこととなる。
せながら蒸発面2に対して洗滌液を噴射する。従って噴
射ノズル14は蒸発面3の全面にわたって洗滌液を噴射
するようにする必要はないのであって蒸発面2の中心部
と外縁とを結ぶ線上に噴射すれば結局蒸発面の全面に対
して噴射したこととなる。
尚、この場合において、洗滌液のドレンパイプ15を圧
送ポンプ16に接続して、洗滌液を循環して使用すれば
、洗滌液の使用量を少なくすることができるから、高価
な洗滌液を使用することも可能となるのである。
送ポンプ16に接続して、洗滌液を循環して使用すれば
、洗滌液の使用量を少なくすることができるから、高価
な洗滌液を使用することも可能となるのである。
以上詳述した様に本発明はロータ2の蒸発面3に向けて
洗滌液噴射ノズル14を設け、ロータ2を回転させなが
ら蒸発面3に洗滌液を噴射するようにしたから、ロータ
2を任意の高速度で回転することが出来ること\なり、
その結果蒸発面3に噴射される洗滌液と蒸発面3との衝
動力が強くなり、又蒸発面3上を流れる洗滌液の流速が
速くなって洗滌効果が著るしく向上し、従来の方法に比
べて少ない洗滌液で、格段に速く、且つ完全な洗滌を行
なうことができるのである。
洗滌液噴射ノズル14を設け、ロータ2を回転させなが
ら蒸発面3に洗滌液を噴射するようにしたから、ロータ
2を任意の高速度で回転することが出来ること\なり、
その結果蒸発面3に噴射される洗滌液と蒸発面3との衝
動力が強くなり、又蒸発面3上を流れる洗滌液の流速が
速くなって洗滌効果が著るしく向上し、従来の方法に比
べて少ない洗滌液で、格段に速く、且つ完全な洗滌を行
なうことができるのである。
図は本発明の一実施例を示す縦断面図である。
Claims (1)
- 真空槽内に濾斗状のロータを設けた遠心式薄膜真空濃縮
装置の蒸発面に向けて洗滌液噴射ノズルを取付け、ロー
タを回転させつゝ蒸発面に洗滌液を噴射してこれを洗滌
するようにしたことを特徴とする蒸発面の洗滌機構
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21108784A JPS6190702A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 遠心式薄膜真空濃縮装置における蒸発面の洗滌機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21108784A JPS6190702A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 遠心式薄膜真空濃縮装置における蒸発面の洗滌機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6190702A true JPS6190702A (ja) | 1986-05-08 |
Family
ID=16600197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21108784A Pending JPS6190702A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 遠心式薄膜真空濃縮装置における蒸発面の洗滌機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6190702A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110203983A (zh) * | 2019-06-20 | 2019-09-06 | 北京机械设备研究所 | 一种离心式低压蒸馏装置及低压蒸馏方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5294873A (en) * | 1976-01-30 | 1977-08-09 | Feres Vaclav | Thin membrane evaporator particularly for highhboiling point substances |
JPS5481498A (en) * | 1977-12-09 | 1979-06-28 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | Drying treat system for radioactive liquid waste |
-
1984
- 1984-10-08 JP JP21108784A patent/JPS6190702A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5294873A (en) * | 1976-01-30 | 1977-08-09 | Feres Vaclav | Thin membrane evaporator particularly for highhboiling point substances |
JPS5481498A (en) * | 1977-12-09 | 1979-06-28 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | Drying treat system for radioactive liquid waste |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110203983A (zh) * | 2019-06-20 | 2019-09-06 | 北京机械设备研究所 | 一种离心式低压蒸馏装置及低压蒸馏方法 |
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