JPS6163997A - Memory device - Google Patents

Memory device

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JPS6163997A
JPS6163997A JP59185790A JP18579084A JPS6163997A JP S6163997 A JPS6163997 A JP S6163997A JP 59185790 A JP59185790 A JP 59185790A JP 18579084 A JP18579084 A JP 18579084A JP S6163997 A JPS6163997 A JP S6163997A
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JP
Japan
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line
data
word line
word
memory cell
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Application number
JP59185790A
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Japanese (ja)
Inventor
Hikari Morita
光 森田
Michihiro Yamane
山根 道広
Tadamichi Kawada
川田 忠通
Nobuo Tsuda
津田 伸生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To read and write data in plural directions by connecting the word and bit lines in common among memory cells arrayed in K and L directions. CONSTITUTION:A memory cell 19 consists of K units (K>=2, integer) of FET 22 and 23, K pieces word lines 24 and 25, L pieces (K>=L>=1, integer) of bit lines 26 and 27, and a 1-bit information holding means 21 containing an input/ output terminal. Then the M-th (K>=M>=1, integer) FET gate is connected to the M-th word line for K units of FET 22 and 23. Then the other end of the M-th FET is connected to an optional one of bit lines 26 and 27. Then plural units of cells 29 are distributed in an array form 28, and both word and bit lines are connected in common among cells 19 distributed in K and L directions. The cells are selected in the direction K; while data are written and read out in the direction L respectively.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複数方向からの選択が可能なメモリ装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a memory device that allows selection from multiple directions.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、各種のメモリ装置が種々提案されているが、画像
認識や文字認識などの分野で必要とされているような複
数方向からの選択に好適なメモリ装置が得られていない
Although various types of memory devices have been proposed in the past, a memory device suitable for selection from multiple directions, which is required in fields such as image recognition and character recognition, has not yet been obtained.

まず、従来から提案されている1トランジスタ形ダイナ
ミツクメモリセルから構成されるメモリ装置を第11図
に示す。
First, FIG. 11 shows a memory device constructed from a one-transistor type dynamic memory cell that has been proposed in the past.

第11図(a)に示すように、メモリセル1は、−個の
入出力端子2を持つコンデンサ3による情報保持手段と
1例えばnチャネルMI3形隠界効果トランジスタで構
成されたトランジスタ4と、信号線5と、信号線6とを
有する。信号線5はメモリセル1を選択するワード線で
らり、信号線6Fi。
As shown in FIG. 11(a), the memory cell 1 includes an information holding means by a capacitor 3 having - input/output terminals 2, a transistor 4 constituted by, for example, an n-channel MI3 type hidden field effect transistor, It has a signal line 5 and a signal line 6. The signal line 5 is a word line for selecting the memory cell 1, and the signal line 6Fi.

メモリセル1への書き込みデータ又はメモリセル1から
の読み出しデータを転送するビン)lでろる。コンデン
サ5は、一端ケ入出力、メt4子2に接続し他端を接地
する。コンデンサ5の入出力端子2はトランジスタ4を
介してピント線6に接続される。一方、トランジスタ4
のゲートHワード線5に接続されている。
It is possible to transfer write data to memory cell 1 or read data from memory cell 1 (bin) l. The capacitor 5 has one end connected to the input/output terminal and the met4 terminal 2, and the other end grounded. The input/output terminal 2 of the capacitor 5 is connected to the focus line 6 via the transistor 4. On the other hand, transistor 4
The gate of the gate H is connected to the word line 5.

このような構成ケ有する従来のメモリセル1にデータを
4き込むには、書き込むデータと同相の4位をビット砂
6に印部し、ワードH5を高電位にする。ここでは、論
理値“1”に昌りf、位を、論理値“0′に低電位を対
応させる。ワード線5が高電位なので、トランジスタ4
がオン状態となり、導通するので、ビット線6の411
:位と入出力端子2のlJL泣が寺しくなるようにコン
デンサ3が充放電され、メモリセル1にデータが得キ込
まれる。このデータ全保持するにはワード、!’j! 
5 k低電位とし、トランジスタ4金オフ状すとするこ
とで、入出力端子2とビット線6との+yr を非導通
とし、コンデンサ3とピント勝6とを切す離セばよい。
To write four pieces of data into the conventional memory cell 1 having such a configuration, the fourth position having the same phase as the data to be written is marked on the bit sand 6, and the word H5 is set to a high potential. Here, the logic value "1" corresponds to the digit f, and the logic value "0' corresponds to a low potential. Since the word line 5 is at a high potential, the transistor 4
turns on and becomes conductive, so bit line 6 411
: The capacitor 3 is charged and discharged so that the IJL voltage of the input/output terminal 2 becomes high, and data is acquired and input to the memory cell 1. Word, to keep all this data! 'j!
By setting the potential to 5k low and turning off the transistor 4, +yr between the input/output terminal 2 and the bit line 6 is made non-conductive, and the capacitor 3 and the focus signal 6 are disconnected.

データtgみ出すには、ビットabtプリチャージして
高4位にした後に、ワード線5t−高電位にして、コン
デンサ5に蓄積された電荷をビット線6に伝え、コンデ
ンサ5に論理値“1”が書き込まれている場合、入出力
端子2は高電位であるため、高電位となっているビット
線6の電位が変化しないことにより、論理値“1″が読
み出される。
To read out data tg, after precharging bit abt and setting it to high level 4, the word line 5t is set to high potential, the charge accumulated in capacitor 5 is transferred to bit line 6, and capacitor 5 is set to logic value "1". When " is written, the input/output terminal 2 is at a high potential, so the potential of the bit line 6, which is at a high potential, does not change, so that a logic value of "1" is read out.

一方、コンデンサ3に論理1卓“0″が書き込まれてい
る場合、入出力端子2は低を位であるため、高′rd、
位となっているビット線6の電位が引き下げられること
により、論理値“0″が読み出される。
On the other hand, when the logic 1 table "0" is written in the capacitor 3, the input/output terminal 2 is in the low position, so the high 'rd,
By lowering the potential of the bit line 6, which is at the current level, a logical value of "0" is read out.

メモリセルjfi電荷の#!Rを利用して情報を蓄える
ダイナミックな動作を行う。そのため1時間の経過に伴
いコンデンサ3に蓄積した゛電荷が構成するので、再書
き込みが一定の周期でなされる必要がある。又、コンデ
ンサ5に蓄積した電荷量は、データの読み出しに快い減
少するので、データの読み出し直後にも、再書き込みか
なされる必要がおる。
# of memory cell jfi charge! Use R to perform dynamic operations that store information. Therefore, since the electric charge accumulated in the capacitor 3 over the course of one hour constitutes the data, rewriting must be performed at regular intervals. Further, since the amount of charge accumulated in the capacitor 5 decreases quickly when reading data, it is necessary to perform rewriting immediately after reading data.

第11図(alのメモリセk 1 t−m行n列にmX
n個配列し、第11図(b)に示されるように、メモリ
装置7を構成する。第1(1=1.2.・・・、tn)
のワード線5に対応してアドレスx1″f、選択し。
Fig. 11 (memory cell k 1 of al, mX
n pieces are arranged to form the memory device 7 as shown in FIG. 11(b). 1st (1=1.2...,tn)
Address x1″f is selected corresponding to word line 5 of .

xl、x2.・・・、xnで示すビット176f:、介
してメモリセル1であるOll、 C112,・・・、
  C1nのデータをそれぞれ読み書きする。
xl, x2. ..., bit 176f indicated by xn: Oll, which is memory cell 1, C112, ...,
Read and write data of C1n respectively.

次に、従来から提案されている6トランジスタ形疑似ス
タテイツクメモリセルから構成されるメモリ装置を第1
2図に示す。
Next, we will introduce a memory device consisting of a six-transistor type pseudo static memory cell that has been proposed in the past.
Shown in Figure 2.

第12図(alに示すように、メモリセル8は、−個の
入出力端子2を持つ疑似スタティック形のツリンブフロ
ップ9による情報保持手段と1例えばnチャネルMIS
形諷界効果トランジスタで構成されたトランジスタ4と
、信号線5と、信号線6とを七する。
As shown in FIG. 12 (al), the memory cell 8 includes an information holding means consisting of a pseudo-static twin flop 9 having - input/output terminals 2, and an information storage means such as an n-channel MIS.
A transistor 4 constituted by a pseudo-field effect transistor, a signal line 5, and a signal line 6 are provided.

信号線5はメモリセル8を選択するワード線であり、信
号線6はメモリセル8への古き込みデータ又はメモリセ
ル8からの欣み出しデータを転送するビット線でおる。
The signal line 5 is a word line for selecting a memory cell 8, and the signal line 6 is a bit line for transferring old data to the memory cell 8 or data extracted from the memory cell 8.

疑似スタティック形のフリソブフロンフ”9は5イ固の
トランジスタ10−14から構成され、例えばトラン/
メタ10,11゜12ijnチヤネルIJIs形屯昇効
果トランジスタ、トランジスタ1 s + 14Vip
チャネルMIS形電界効果トランジスタである。トラン
ジスタ10゜11はその一端をそれぞれトランジスタ1
!i、14に接続され、他端は共通に接地される。又、
トランジスタ13.14のトランジスタ10.11と接
続しない側の端子は共通に電源端子15に接続される。
The pseudo-static type Frisobfronf 9 consists of 5 hard-wired transistors 10-14, e.g.
Meta 10,11゜12ijn channel IJIs type step-up effect transistor, transistor 1s + 14Vip
This is a channel MIS type field effect transistor. Transistors 10 and 11 each have one end connected to transistor 1.
! i, 14, and the other end is commonly grounded. or,
The terminals of the transistors 13 and 14 that are not connected to the transistors 10 and 11 are commonly connected to the power supply terminal 15.

トランジスタ12の2端子はそれぞれ入出力端子2と疑
似フリップフロップ?内の端子16とに接続されている
。信号線17は書き込み制御信号線でトランジスタ12
のゲートに接続され、トランジスタ4のゲートはワード
線5に接続されている。書き込み制御信号線17は書き
込み時は低電位とし、それ以外の時は高電位とする。
Are the two terminals of transistor 12 input/output terminal 2 and pseudo flip-flop? It is connected to the terminal 16 inside. The signal line 17 is a write control signal line and the transistor 12
The gate of the transistor 4 is connected to the word line 5. The write control signal line 17 is set at a low potential during writing, and set at a high potential at other times.

この様な構成t−Wするメモリセル8にデータを育き込
むには、書き込むデータと同相の電位をビット線6に印
加し、ワード線5全高亀位にする。
In order to grow data in the memory cell 8 having such a configuration tW, a potential in phase with the data to be written is applied to the bit line 6, and the total height of the word line 5 is set to the maximum height.

この様にすると、ワード線5に制御されるトランジスタ
4がオン状態となり、4通するので、ビン4ト線6の電
位が疑似スタティック形フリンプフロツプ9の入出力端
子2に伝えられる。このとさ、書き込み制御卸信号締1
7を低’f!J、位とすればトラン・/スタツクはオフ
状態となり、疑似スタティック形フリンプ70ツブ?i
lt、入出力端子2と端子16が切り離され、開ループ
となる。開ループとなつ九疑似スタティック形7リツプ
70ツブ9には容易に端子2から入力されるデータの′
1位が書き込ま土する。この様にして、メモリセル8に
データが浮き込まれる。このデータを保持するには書き
込み制御信号線17を旨電位にして疑似スタティック形
フリップフロップ9を閉ループ状態にするQ データを読み出すには、第11図の場合と同様に、ビッ
ト椋6金プリチャージして高電位にしt後に、ワード線
5を尚逼位にする。この様にするとピント線6に疑1以
スタティック形クリップフロップ9の端子2の電位が伝
えられ、このビット線のべ位の変化を検出することに裏
って、データが 。
In this manner, the transistor 4 controlled by the word line 5 is turned on and conducts 4 bits, so that the potential of the bin 4t line 6 is transmitted to the input/output terminal 2 of the pseudo-static flip-flop 9. In this case, write control wholesale signal tightening 1
7 low'f! If it is set to J, the trans/stack will be in the off state, and the pseudo-static flimp 70 tubes? i
lt, the input/output terminal 2 and the terminal 16 are separated, forming an open loop. 9 pseudo-static type 7 lips 70 tubes 9 which form an open loop can easily accept the data input from terminal 2.
1st place is written. In this way, data is loaded into the memory cell 8. To hold this data, set the write control signal line 17 to the same potential and put the pseudo-static flip-flop 9 in a closed loop state. To read the data, as in the case of FIG. After t, the word line 5 is set to high potential. In this way, the potential of the terminal 2 of the static clip-flop 9 is transmitted to the focus line 6, and the data is transmitted while detecting the change in the level of the bit line.

読み出される。Read out.

メモリセル8km’f′Tn列にmXn個配列し、第1
2図ft)lに示されるように、メモリ装置18i構成
する。第1(i=1.2.・・・+m)のワード線5に
対応してアドレスX1を選択し、xl、 x2.・・・
、 xnテyT<すピント線6を介してメモリセル8で
ある011、O12,・・・、 C1nのデータをそれ
ぞれ視み書きする。
mXn memory cells are arranged in 8km'f'Tn rows, and the first
The memory device 18i is configured as shown in Figure 2 ft)l. Address X1 is selected corresponding to the first (i=1.2...+m) word line 5, and xl, x2 . ...
, xnTyT<S The data in the memory cells 8, 011, O12, . . . , C1n, are written visually through the focus line 6, respectively.

ところで、画像認識や文字認識などの分野においては、
処理すべき画像や文字のデータを格納したバタンメモリ
装置のデータを読み書きするのに、一般に、煩雑な処理
または大索のハードウェアの付加が必要であった。
By the way, in fields such as image recognition and character recognition,
Reading and writing data from a button memory device that stores image and character data to be processed generally requires complicated processing or the addition of extensive hardware.

例えば、文字認識においては、第15図(aJに示すよ
うに、1個の文字データ’lx軸方向(横方向)、斜め
右上方向、斜め左上方向、Y軸方向(縦方向〕の4方向
に走査することが必要となる。
For example, in character recognition, as shown in Figure 15 (aJ), one character data is It is necessary to scan.

第13図(b)に、第11図または第12図に示し九メ
モリ装置において、m=7.n=5としたバタンメモリ
装置へ文字“F″を4き込んだ場合を示す。この場合は
、7ワード×5ビットの単一次元アドレスメモリ装置が
用いられる。第13図(t)l中のアドレスXl5X7
、ビット線x1″−x5は、第11図および4312図
と同一の迎旨で用いられる。
FIG. 13(b) shows that in the nine memory devices shown in FIG. 11 or 12, m=7. The case where four characters "F" are written into the button memory device with n=5 is shown. In this case, a 7 word by 5 bit single dimensional address memory device is used. Figure 13(t) Address Xl5X7 in l
, bit lines x1''-x5 are used with the same intent as in FIGS. 11 and 4312.

X軸方向にデータを走査する場合  選択方向がメモリ
装置のワード線の方向と一致するので、一度のアドレス
選択で、X軸方向の1ワ一ド分のデータの読み出しがで
きる。
When scanning data in the X-axis direction Since the selection direction coincides with the word line direction of the memory device, one word of data in the X-axis direction can be read by selecting an address once.

えば、第12図ftJのr K3上の5ビットのデータ
を読み出すには、アドレスX7でビット線x1、アドレ
スX6でビット線x2、アドレスX5でビットg x 
5、アドレスX4でビット1jx4、アドレスX5でビ
ン)d x 5の各データを順次読み出すことになる。
For example, to read 5 bits of data on rK3 in ftJ in Figure 12, read bit line x1 at address X7, bit line x2 at address X6, and bit line g x at address X5.
5. At the address X4, bit 1jx4 and at address X5, the data of the bin) d x 5 are sequentially read out.

従って、この場合、斜め右上方向に一回走査するのにビ
ット数分の5回の選択が必要となる。
Therefore, in this case, one scan in the diagonal upper right direction requires five selections equal to the number of bits.

えば、413図(blの7?線上の5ビットのデータt
dみ出すには、アドレスX7でビット線x5、アドレス
X6でピント線x4、アドレスX5でビットGx5、ア
ドレス線X4でビット線x2、アドレスX3でピント線
x1の各データを順次読み出すことになる。従って、こ
の場合、斜め左上方向に一回走査するのにビット数分の
5回の選択が必要となる。
For example, in Figure 413 (5-bit data t on the 7? line of bl)
In order to read out data from the bit line x5 at address X7, the focus line x4 at address X6, the bit Gx5 at address X5, the bit line x2 at address line X4, and the focus line x1 at address X3, each data is sequentially read out. Therefore, in this case, one scan in the diagonal upper left direction requires five selections equal to the number of bits.

Y軸方向にデータを走査する場合  走査すべき特定の
ビット線について、アドレスX1Sx7まで順次読み出
す。従って、Y方向に一回走査するのに、7回の選択が
必要となる。
When scanning data in the Y-axis direction: Read out sequentially up to address X1Sx7 for a specific bit line to be scanned. Therefore, seven selections are required to scan once in the Y direction.

以上のことから、一般にm行n列の単一次元アドレスメ
モリ装置では、ワード線と異なる方向に1回走査するの
に、最悪m回の選択が必要となる。
From the above, in general, in a single-dimensional address memory device with m rows and n columns, one scan in a direction different from the word line requires m selections at worst.

第14図は、第15図の例゛に見られる走査時間の増加
を短縮するために、走査方向別に、専用のバタンメモリ
装置tを備えた例である。第14図tarK示す7行5
列のメモリ装置はX軸方向用のメモリ装置である。14
14図(blに示す11行5列のメモリ装置は斜め右上
方向用のメモリ装置である。
FIG. 14 shows an example in which a dedicated button memory device t is provided for each scanning direction in order to reduce the increase in scanning time seen in the example of FIG. 15. Figure 14 tarK shows 7 rows 5
The column memory device is a memory device for the X-axis direction. 14
The memory device arranged in 11 rows and 5 columns shown in FIG. 14 (bl) is a memory device for use in the diagonally upper right direction.

第14図IC)に示す11行5列のメモリ装fiは斜め
左上方向用のメモリ装置である。414図(dJに示す
5行7列のメモリ装置はY軸方同月のメモリ装置である
The memory device fi shown in FIG. 14 IC) with 11 rows and 5 columns is a memory device for use in the diagonally upper left direction. The memory devices in the 5th row and 7th column shown in Figure 414 (dJ) are the memory devices in the same month on the Y axis.

ここで、各方向のデータの走査は、俗メモリ装置へのア
ドレス選択−回の、τf6み出しによりできるが、その
ためには、あらかじめ文字データを走査方向に応じて第
14図に示すように配置し直して4(固の各メモリ装は
に−1,キ込んでお(操作が加わり、かつ4倍以上のメ
モリ装置が必要となる。なお、第14図中のX印は、未
使用のメモリセルを示す。
Here, data scanning in each direction can be performed by τf6 extraction of address selection to the general memory device, but in order to do so, character data must be arranged in advance according to the scanning direction as shown in FIG. 4 (additional operations and require more than 4 times as many memory devices. Note that the X marks in Figure 14 indicate unused memory devices). A memory cell is shown.

以上述べた様に、従来の羊−次元アドレスのメモリ装置
z 2用いて、メモ!J 裟let固有のワード線の方
向と異なる方向へデータを走査しようとすると。
As mentioned above, using the conventional sheep-dimensional address memory device Z2, memo! If you try to scan data in a direction different from the direction of the word line specific to JS.

メモリ装置への選択回数は、走査するビット数に青しい
回数だけ必要となり、メモリ装置へのアクセス時間が膨
大となる欠、蝋があった0又、メモリ装置への選択回数
上増加で七ないためには、走査方向別に、データkhら
かじめ再配置道シて格納してお(メモリ装置が必要と7
より、付加]・−ドウエア量が増大するだけでなく、句
、)XJしたメモリ装置のそれぞれに対応する走査方向
のデータがメモリ装置への1回の選択で読み出せるよう
に、あらかじめ再配置してf)き込んでおく煩雑な操作
も必要になるという欠点があった。
The number of selections to the memory device is equal to the number of bits to be scanned, and the access time to the memory device becomes enormous. In order to do this, the data should be stored in advance according to the scanning direction (memory device is required).
This not only increases the amount of hardware, but also requires rearranging the data in the scanning direction corresponding to each memory device in advance so that it can be read out with a single selection to the memory device. f) It has the disadvantage that it requires complicated operations to be performed.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、復数方向からのデータの読み舊龜が可
能なメモリ装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a memory device that can read data from multiple directions.

〔発明の構成及び作用〕[Structure and operation of the invention]

本発明はメモリセルを、K個(K≧2、整数)のトラン
ジスタと、K本のワード線と、L本(K≧L≧1、整数
〕のピント線と、入出力端子1個全備える1ビットの情
報保持手段とから構成し、Ki囚のトランジスタ各々に
ついてM番目(K≧M≧1、整数〕のトランジスタのゲ
ートとM番目のワード線とを接続し、M番目のトランジ
スタの他端はL本のビット線のうちの任意の1本に接続
する。このメモリセルのa舷個をアレイ状に配宜し、ワ
ード線およびピント線のそれぞれ七に方向およびL方向
に配置されているメモリセル団で共通に接続し、に方向
から選択でき、L方間からデータを読み書き又fi、読
み出しする。
The present invention includes a memory cell including K transistors (K≧2, an integer), K word lines, L focus lines (K≧L≧1, an integer), and one input/output terminal. For each Ki transistor, the gate of the Mth transistor (K≧M≧1, integer) is connected to the Mth word line, and the other end of the Mth transistor is connected to the gate of the Mth transistor (K≧M≧1, integer). is connected to any one of the L bit lines.A number of these memory cells are arranged in an array, and are arranged in the seven direction and L direction of the word line and focus line, respectively. A group of memory cells are commonly connected, and the direction can be selected, and data can be read and written from the L direction.

以下本発明の実施例金図面金滲照して詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to detailed drawings.

第1図は本発明の第1の実施例を示す。第1図(2L)
に第1の実施例のメモリセルの回路図を示す。
FIG. 1 shows a first embodiment of the invention. Figure 1 (2L)
2 shows a circuit diagram of the memory cell of the first embodiment.

メモリセル19ij、−個の入出力端子20を持つコン
デンサ21による情報保持手段と、例えばnチャネルM
IS形電界効果トランジスタで構成されたトランジスタ
22.23と、2本のワード線24.25と、2本のビ
ット線26.27とを有する。2本のワード線24.2
5はそれぞれメモリセル19を選択する第1のワード線
、第2のワード線であり、2本のピッ)4426.27
はそれぞれメモリセル19への書き込みデータ又はメモ
リセル19からの読み出しデータを転送する第1のヒツ
ト線、第2のビット線である。コンデンサ21け、一端
を入出力端子20に接続し他端を接地する。コンデンサ
21の入出力端子20は、トランジスタ22を介して第
1のビットl1i126に接続され、トランジスタ26
を介して第2のビット線27に接続される。さらにトラ
ンジスタ22゜23のゲートはそれぞれ第1のワード線
24、第2のワード線25に接続されている。
Memory cell 19ij, information holding means by a capacitor 21 having - input/output terminals 20, and, for example, an n-channel M
It has transistors 22, 23 formed of IS type field effect transistors, two word lines 24, 25, and two bit lines 26, 27. Two word lines 24.2
5 is a first word line and a second word line that select the memory cell 19, respectively, and there are two pins) 4426.27.
are a first bit line and a second bit line that transfer write data to the memory cell 19 or read data from the memory cell 19, respectively. One end of the capacitor 21 is connected to the input/output terminal 20, and the other end is grounded. The input/output terminal 20 of the capacitor 21 is connected to the first bit l1i126 via the transistor 22, and
It is connected to the second bit line 27 via. Further, the gates of the transistors 22 and 23 are connected to a first word line 24 and a second word line 25, respectively.

このような構成をMするメモリセル19にデータを書き
込むには、書き込むデータと同相の電位を第1のビット
線26に印加し、第1のワード線24を高成位にし、第
2のワード線25を低電位にする。この様にすると、第
1のワード線24により制御されるトランジスタ22が
オン状態となり、導通するので、第1のビット線26の
電位と入出力端子20の電位とが同′亀位となるように
コンデンサ21が充放電させられる。この様にして、メ
モリセル19にデータが件き込まれる。このデータを保
持するにはワード機24.25を共に低電位とし、トラ
ンジスタ22.25をそれぞれオフ状態とすることで、
入出力端子20と他のビット線26.27との間をそれ
ぞれ非導通とし、コンデンサ21とビット線26.27
とを切り離す。
To write data to the memory cell 19 having such a configuration, a potential in phase with the data to be written is applied to the first bit line 26, the first word line 24 is set to a high level, and the second word line 24 is set to a high level. Bring line 25 to a low potential. In this way, the transistor 22 controlled by the first word line 24 is turned on and conducts, so that the potential of the first bit line 26 and the potential of the input/output terminal 20 are at the same level. The capacitor 21 is charged and discharged. In this way, data is loaded into the memory cell 19. To hold this data, both the word machines 24 and 25 are set to a low potential, and the transistors 22 and 25 are each turned off.
The input/output terminal 20 and the other bit lines 26, 27 are made non-conductive, and the capacitor 21 and the bit lines 26, 27 are disconnected.
Separate from.

メモリセル19では、第1のワード線と第1のビット線
との組み合わせと、第2のワード線と第2のビット線と
の組み合わセとが対称な構成となっているので、上述の
説明と同様に、第2のワード線25と第2のビット線2
7との組み合わせによつても全く同様にデータの書き込
みが出来る。
In the memory cell 19, the combination of the first word line and the first bit line and the combination of the second word line and the second bit line have a symmetrical configuration, so that the above explanation is possible. Similarly, the second word line 25 and the second bit line 2
7, data can be written in exactly the same way.

データをiλみ出す匹二セ、吊111:コ4(alに示
される1トランジスタ形ダイナミツクメモリセルと同様
に、躬1のピッHF926=1プリチヤージして高電位
にした後に、ル1のワード?P’p 24 *高電位に
して、コンデンサ21に蓄t、1でれた電荷を第1のピ
ント線26に伝え、この電位の変化ケ検出することによ
つ℃、データが読み出される。同様に、第2のピットル
寝27をプリチャージして高電位にした段に1.!PJ
2のワード腺25全高厄位にすることによっても、デー
タの読み出しが行える。ここで、第1のワード線24と
第1のビット線26との組み合わせによる読み出し動作
゛と、2g2のワード線25と第2のビット線27との
組み合わせによる訣み出し動作とは全く独立に行5こと
が出来る。
111:4 (Similar to the 1-transistor type dynamic memory cell shown in 1), after precharging the 1st pin HF926=1 to a high potential, ?P'p 24 *The electric potential stored in the capacitor 21 is transferred to the first focus line 26 by setting it to a high potential, and by detecting a change in this potential, data is read out. Similarly, 1.!PJ
Data can also be read by setting the word gland 25 to the full height. Here, the read operation by the combination of the first word line 24 and the first bit line 26 and the read operation by the combination of the 2g2 word line 25 and the second bit line 27 are completely independent. Row 5 can be done.

更に、第1のワード線24と第1のビット線26との組
み合わせによる一跡き込み動作を行う一方で、第2のワ
ード線25と第2のビット線27との組み合わせによる
読み出し動作を行うことが出来る。
Further, while a write operation is performed by the combination of the first word line 24 and the first bit line 26, a read operation is performed by the combination of the second word line 25 and the second bit line 27. I can do it.

同様に、5g2のワード線25と第2のビット線27と
の組み合わゼによる1導き込み動作を行う一方で、第1
のワード線24と第1のビット線26との組み合わせに
よる読み出し動作を行うこ゛とも出来る。
Similarly, while performing a 1 lead-in operation using the combination 0 of the 5g2 word line 25 and the second bit line 27, the first
It is also possible to perform a read operation using a combination of the first word line 24 and the first bit line 26.

以上の構成により、2方回からデータの読み曹きが同等
に行える2次元の夕°イナミツクメモリセルを構成する
ことができる。なお、/モリセル19は電荷の蓄積を利
用して情報を蓄えるダイナミックな動作を行う。そのた
め、通常のダイナミックメモリセルと同様に時間の経過
に伴いコンデンサ21の電荷が放電するので、再書き込
みが一定の周期でなされる必要がある。又、コンデンサ
21に蓄積され九電荷量は、データの読み出しに伴い減
少するので、データの読み出し直後にも、再書き込みが
なされる必要がある。
With the above configuration, it is possible to configure a two-dimensional dynamic memory cell that can equally read data from two directions. Note that the /Mori cell 19 performs a dynamic operation of storing information by utilizing the accumulation of charge. Therefore, as with a normal dynamic memory cell, the charge in the capacitor 21 is discharged over time, so rewriting must be performed at regular intervals. Furthermore, since the amount of electric charge accumulated in the capacitor 21 decreases as data is read, rewriting must be performed immediately after data is read.

第1図(blは、第1図(a)に示したメモリセル19
をm行n列にmxn個配列配列第1の実施例でおるメモ
リ装[28の概念図でらる。メモリ装置28を構成する
のに必要なアドレス回路、伯号紗躯動回路等は、従来の
ダイナミックメモリ装置に用いられている回路と同様の
回路が使用出来るので、第1図(blではそれらをすべ
て省略しである。
FIG. 1 (bl is the memory cell 19 shown in FIG. 1(a)
The first embodiment is a conceptual diagram of a memory device [28] having m×n arrays arranged in m rows and n columns. For the address circuit, block movement circuit, etc. required to configure the memory device 28, circuits similar to those used in conventional dynamic memory devices can be used. All are omitted.

信号線24はX@方方向選択した場合のワード線となり
、アドレスX1.X2.・・・、 Xmを選択し、信号
線25はY軸方向に選択した場合のワード線となり、ア
ドレスy1.Y2.・・・、Ynを選択し、信号線26
はxm方方向91択した場合のピント線を表わし、信号
線27はY軸方向に選択した場合のビット線を表わす。
The signal line 24 becomes a word line when the X@ direction is selected, and corresponds to the address X1. X2. ..., Xm is selected, and the signal line 25 becomes the word line when selected in the Y-axis direction, and the address y1. Y2. ..., select Yn and connect the signal line 26
represents the focus line when the x-m direction 91 is selected, and the signal line 27 represents the bit line when the Y-axis direction is selected.

第1図(blの様に配列されたメモリセル19から、ア
ドレスXi (i=1.2 、・・・+”)全選択し仇
み出すとメモリセルGi1 、O12、・・・。
When all addresses Xi (i=1.2, . . . +") are selected and extracted from the memory cells 19 arranged as shown in FIG. 1 (bl), the memory cells Gi1, O12, . . .

Ginのデータが得られ、C1j、C2j 、 ・= 
、 Cmj (j=j、2.・・・、n)のデータ金読
み出したい場合はアドレスYj を選択すればよい。こ
の様にして従来の単一次元アドレスのメモリ装Lr〔で
は不可能であった2万回からデータの、1工み+’F 
*ケ四寺に行える2次元のダイナばツクメモリ装置tケ
実現できる。
Gin data is obtained, C1j, C2j, ・=
, Cmj (j=j, 2..., n), select address Yj. In this way, data can be transferred from 20,000 times to 1+'F, which was impossible with the conventional single-dimensional address memory device Lr.
*It is possible to realize a two-dimensional dynamic memory device.

第2図に本晃明の・↓32の夫施例ケ示す。Figure 2 shows an example of Komei Moto's ↓32.

4g2図(alにメモリセルの回路図を示す。メモリセ
ル29に、−個の入出力端子20ケ持つ疑似スタテイツ
ク形の7リツプ70ツブ30による情報保持手段と、例
えばnチャネルMIS形電界効果トランジスタで1:i
4成されたトランジスタ22.25と、2本のワード線
24.25と、2本のビット線26.27とを有する。
Figure 4g2 (Al shows the circuit diagram of the memory cell. The memory cell 29 includes information holding means by a pseudo-static type 7-lip 70-tube 30 having 20 input/output terminals, and an n-channel MIS type field effect transistor, for example. So 1:i
It has four transistors 22.25, two word lines 24.25, and two bit lines 26.27.

2本のワード線24゜25はそれぞれメモリセル2?を
選択するA1のワード線、第2のワード線であり、2本
のビット線26.27はそれぞれメモリセル29への書
き込みデータ又はメモリセル29からの読み出しデータ
金転送する第1のピント線、第2のビット線でらる。疑
1以フリップフロップ50は51固のトランジスタ31
へ35から構成され1例えばトランジスタ51,52,
551dnチャネルMIS形電界効果トランジスタ、ト
ランジスタ54.55はpチャネルMIS形電界効果ト
ランジスタである。トランジスタ51,52(fJ、、
その一端ヲトランジスタ54.55にそれぞれ接続され
、他端は共通に接博される。又、トランジスタ54,5
5のトラン7スタ51,52と接続しない側の端子は共
通に11t 源端子56に接続される。トランジスタ3
3の2端子&1それそ)を入出力端子2oと疑似フリッ
プフロンプロ0内のパ・高子37とに1と伏されている
The two word lines 24° and 25 each correspond to memory cell 2? The word line A1 is the second word line, and the two bit lines 26 and 27 are the first focus line, which transfers write data to the memory cell 29 or read data from the memory cell 29, respectively. It comes from the second bit line. For question 1, the flip-flop 50 is a 51-wire transistor 31.
35, for example, transistors 51, 52,
551dn channel MIS type field effect transistor, transistors 54 and 55 are p channel MIS type field effect transistors. Transistors 51, 52 (fJ,,
One end thereof is connected to transistors 54 and 55, respectively, and the other end is commonly connected. Moreover, the transistors 54, 5
The terminals on the side not connected to the transistors 51 and 52 of No. 5 are commonly connected to the 11t source terminal 56. transistor 3
The 2 terminals of 3 & 1 and so on are set as 1 to the input/output terminal 2o and the terminal 37 in the pseudo flip-flop processor 0.

19号線38は+1」き込み訓fl(ハリ19でトラン
ジスタ53のゲートに接続δれている。會き込み制御信
号線38は書き込み時は低゛電位とし、それ以外の時は
昂「載位とする。疑似フリップフロップの入出力端子2
0i、)ランシスタ22を介して第1のビット線26に
接続さh、トラン7スタ23を介して第2のビット、腺
27に接続烙れる一方、トランジスタ22.25のゲー
トはそれぞれ第1のワード線24、第2のワード線25
に接続され【いる。
The line 19 line 38 is connected to the gate of the transistor 53 by the line 19. Assume that the input/output terminal 2 of the pseudo flip-flop is
0i,) is connected to the first bit line 26 via a transistor 22, and to the second bit line 27 via a transistor 23, while the gates of the transistors 22, 25 are connected to the first bit line 26, respectively. Word line 24, second word line 25
connected to.

このような構成ヲ刹するメモリセル29にデータを舒き
込む蚤では、書き込むデータと同相の電位を41のビッ
ト線26に印加し、第1のワード線24i高1位にし、
第2のワード線25と書き込み制御信号〜58を低電位
にする。この様にすると、第1のワード線24にmlJ
 ff1llされるトランジスタ22がオン状態となり
、4通するので、第1のビット線26の電位が疑1以ス
タティック形フリップフロップ50の入出力端子20に
伝えられる。
When data is to be sown into the memory cell 29 having such a configuration, a potential in phase with the data to be written is applied to the 41 bit lines 26, and the first word line 24i is set to the high 1st position.
The second word line 25 and write control signal ~58 are set to low potential. In this way, mlJ is applied to the first word line 24.
The transistor 22 connected to ff1ll is turned on and conducts four signals, so that the potential of the first bit line 26 is transmitted to the input/output terminal 20 of the static flip-flop 50.

このとき、赴き込み制御信号線38が低電位であるので
トランジスタ55はオフ状態であり、疑(以スタティッ
ク形フリンプフロップ30は入出力端子20と端子37
とが切り離され開ループとなる。
At this time, since the input control signal line 38 is at a low potential, the transistor 55 is in an off state, and the static type flip-flop 30 is connected to the input/output terminal 20 and the terminal 37.
are separated, forming an open loop.

開ループとなった疑似スタティック形クリップフロップ
30Vi容易に端子20がら入力されるデータの1位が
書き込まれる。この様にして、メモリセル29にデータ
が書き込まれる。このデータを保持するには書き込み制
−信号線58i高電位にして疑似スタティック形フリッ
プフロップ30i閉ループ状態にする。メモリセル29
では、第1のワード線24と第1のビット線26との組
み合わせと、第2のワード線25と第2のビット線27
との組み合わせとが対称な構成となっているので、上述
の説明と同様に、第2のワード線25と第2のビット線
27との組み合わセによっても全く同様にデータの書き
込みが出来る。
The first position of the data input from the terminal 20 is easily written into the pseudo-static clip-flop 30Vi which is in an open loop. In this way, data is written into the memory cell 29. To hold this data, the write-only signal line 58i is set to a high potential and the pseudo-static flip-flop 30i is placed in a closed loop state. memory cell 29
Now, the combination of the first word line 24 and the first bit line 26, and the combination of the second word line 25 and the second bit line 27
Since the configuration is symmetrical to the combination of the second word line 25 and the second bit line 27, data can be written in exactly the same way as described above.

データtaみ出すには、第1の実施例と同様に、ホ1の
ビット線26fプリチヤージして高電位にしfc後に、
小1のワード線24ケ16′ト玩位にする。
To read data ta, as in the first embodiment, pre-charge the bit line 26f of ho1 and set it to a high potential after fc.
The word lines for the first grade are set to 24 digits and 16'.

この様にすると第1のビット線26に疑似スタティック
形クリップフロップ50のy;M+20の電位が伝えら
れ、このビットHの電位の変化を検出することによって
、データが読み出される。同様に、第2のピント線27
を)゛リブーヤー・ンして晶電位にした後に、楊2のワ
ード線25を品軍位にすることによっても、データの読
み出しが行える。ここで、第1のワード線24と累1の
ビット線26との組み合わせによるmUみ出し動作と、
第2のワード線25と第2のビット線27との組み合わ
セによる読み出し動作とは全く独立に行うことが出来る
。更に、渠1のワード線24と渠1のビット線26との
組み合わセによるr)き込み動作奮行う一力で、第2の
ワードflが25と42のビット線27との組み合わセ
による穐み出し動作1行うことが出来る。同様に、第2
のワード線25と第2のビット線27との組み合わセ(
′こよる−8き込み動作を行う一方で、第1のワード線
24と41のビット線26との組み合わせによる+il
Cみ出し動作を行うことも出来る。
In this way, the potential of y;M+20 of the pseudo-static clip-flop 50 is transmitted to the first bit line 26, and data is read by detecting a change in the potential of this bit H. Similarly, the second focus line 27
Data can also be read by setting the word line 25 of the wire 2 to the high voltage level after re-yarning () to set it to a crystal potential. Here, the mU extraction operation by the combination of the first word line 24 and the first bit line 26,
The read operation can be performed completely independently of the read operation performed by the combination of the second word line 25 and the second bit line 27. In addition, the second word fl is activated by the combination of the word line 24 of the conduit 1 and the bit line 26 of the conduit 1. Extrusion operation 1 can be performed. Similarly, the second
The combination of the word line 25 and the second bit line 27 (
' While performing the -8 write operation, +il due to the combination of the first word line 24 and 41 bit lines 26
C protrusion operation can also be performed.

以上の構成により、2L回からデータの読み書きが同等
に行える2次元の疑似スタティックメモリセルを構成す
ることができる。
With the above configuration, it is possible to configure a two-dimensional pseudo-static memory cell that can equally read and write data from 2L times.

第2図(blは、第2図(2L)に示したメモリセル2
?t m h n列にmXn個配列した第2の実施ダ]
であるメモリ装f59の概念図である。メモリ装置59
を構成するのに必すなアドレス回路、信号線NA動回路
邊は従来の疑似スタティックメモリ装置に用いらnてい
る回路と同体の回路が使用出来るので、第2図(b)で
はそれらをすべて省略してるる〇信号線24はX1lj
1万回に選択した場合のワードM諺となりアドレスX1
.I2.・・・、 Xm  を選択し、(it刊綿線2
5Y軸方向に選択した場合のワード線となりアドレスY
l、Y2.・・・、Ynを選択し、信号線26はX軸方
向に選択し友場合のビット線を表わし、信号にダ27は
Y軸方向に選択した場合のピント線を表わ丁。−I42
図(blの様に配列されたメモリセル29は、アドレス
X1(1=1.2.・−、m )f(選択し読み出すと
メモリセルC111,C12,・・・、 Ginのデー
タが得られ、C1j 、C2j、”・、 Qmj (j
 =’ +2.・・・、n−)のデータ’i +rjC
み出し之い、3+4合はアドレスYjを選択すればよい
。このへにして従来の単一次元アドレスのメモリ装置ぺ
でtま不用能で(った2方向からデータの、・1み;L
lき全回’9に行える2次元の疑f以スタティックメモ
リ」妾置ケ実工吃できる。
FIG. 2 (bl is the memory cell 2 shown in FIG. 2 (2L))
? tmh Second implementation in which mXn pieces are arranged in n columns]
FIG. 2 is a conceptual diagram of a memory device f59. Memory device 59
The same circuits as those used in conventional pseudo-static memory devices can be used for the address circuit and signal line NA movement circuit that are essential for configuring the memory device. Omitted: Signal line 24 is X1lj
If selected 10,000 times, the word M proverb becomes address X1
.. I2. ..., select Xm, (It publication cotton line 2
5 When selected in the Y-axis direction, this is the word line and the address Y
l, Y2. ..., Yn is selected, the signal line 26 represents the bit line when selected in the X-axis direction, and the signal line 27 represents the focus line when selected in the Y-axis direction. -I42
The memory cells 29 arranged as shown in the figure (bl) have the address X1 (1=1.2..-, m) f (selecting and reading the data of the memory cells C111, C12,..., Gin). , C1j , C2j,”・, Qmj (j
=' +2. ..., n-) data 'i +rjC
If the number is 3+4, address Yj should be selected. In this case, conventional single-dimensional address memory devices are no longer available (only data can be transferred from two directions;
The two-dimensional tests that can be carried out in '9 all the time can be performed using static memory.

245図に本発明の・11,3の只lルすを示す。Fig. 245 shows only 11,3 of the present invention.

、」!1四(1)に示す様に、メモリセル40は、−個
の入出力・1子20を持つ情報E里持十段41としてヒ
ユーズ41−1と、例えばnチャネルMIS形、dが効
果トランジスタで構成されたトランジスタ22.25と
、2本のワード線24,25と、2本のビット−26,
27とk 44する。2本のワード線24 、25はそ
れぞれメモリセル40を選択する41のワードシ賛、第
2のワード線でろり、2本のビットξ泉26,27はそ
れぞれメモリセル40へり−3)[き込みデータ只ベメ
ーT:リセル40からの読み出しデータ゛七転送する毛
1のビット線、第2のピントr>Jである。ヒユーズ4
1−1は、一端上入出力端子20に接続し11!!端を
接地する。ヒユーズ41−1の入出力y:幕子20は、
トランジスタ22を介して第1のビット線26に接続さ
れ、トランジスタ23を介して第2のビット線27に接
続される一方、トランジスタ22.25のゲートはそれ
ぞれ第1のワード線24、第2のワード線25に接続さ
れている。
,”! As shown in 14(1), the memory cell 40 has a fuse 41-1 and a fuse 41-1, for example, an n-channel MIS type, and d is an effect transistor. transistors 22 and 25, two word lines 24 and 25, and two bit lines 26,
27 and k 44. The two word lines 24 and 25 are used to select the memory cell 40, respectively, and the second word line selects the memory cell 40, and the two bits 26 and 27 are used to select the memory cell 40, respectively. Data only (T): Read data from the recell 40 (7) Transferring bit line 1, second focus r>J. Fuse 4
1-1 is connected to the upper input/output terminal 20 at one end, and 11! ! Ground the end. Input/output y of fuse 41-1: The curtain 20 is
The gates of the transistors 22.25 are connected to the first word line 24, the second bit line 27, respectively, through the transistor 22 and the second bit line 27 through the transistor 23, while the gates of the transistors 22. Connected to word line 25.

メモリセル40はヒユーズ41−1に過電流?l−流し
、それ全溶断するか否かで書き込み状at固定する読み
出し専用のメモリセルである。
Is there an overcurrent in the fuse 41-1 of the memory cell 40? This is a read-only memory cell whose write state is fixed at at depending on whether or not it is completely blown out.

このような構成tiするメモリセル40からデータを読
み出すとき、第1の実施例、第2の実施例と同様に、第
1のピント線26iプリチャージして高′電位にした後
に、第1のワード線124を高電位する。この様にする
と、第1のワード線24に制御されるトランジスタがオ
ン状態となりメモリセル40のヒユーズが溶けていない
場合は入出力端子20は接地されているので、プリチャ
ージされている第1のビット線26は低電位に引き下げ
られる。一方、ヒユーズが溶けている場合は入出力端子
20は接地されていないので、プリチャージされている
第1のビット線26は高1位のままとなる。この様なf
481のビット線の1位の変化を検出することによって
、データが読み出される。
When reading data from the memory cell 40 having such a configuration, similarly to the first embodiment and the second embodiment, after precharging the first focus line 26i to a high potential, the first focus line 26i is precharged to a high potential. The word line 124 is brought to a high potential. In this way, when the transistor controlled by the first word line 24 is turned on and the fuse of the memory cell 40 is not melted, the input/output terminal 20 is grounded, so the precharged first Bit line 26 is pulled to a low potential. On the other hand, if the fuse is blown, the input/output terminal 20 is not grounded, so the precharged first bit line 26 remains at the high level. f like this
Data is read by detecting a change in the first bit line of 481 bit lines.

同様に、第2のビット線27をプリチャージして尚電位
にした後に、第2のワード線25を高電位にすることに
工ってt、データの読み出しが行える。ここで、第1の
ワード線24と第1のビット線26との組み合わせによ
る読み出し動作と、第2のワード砂25と42のビット
線27との組み台わセによる1σCみ出し動作とは全く
狼立に行うことが出来る。
Similarly, after the second bit line 27 is precharged to a new potential, data can be read by setting the second word line 25 to a high potential. Here, the read operation by the combination of the first word line 24 and the first bit line 26 and the 1σC extraction operation by the combination of the second word line 25 and the bit line 27 of 42 are completely different. You can do it in a stand-up manner.

上述の説明では情報保持手段にヒユーズを用いているが
、第5図(blに示される様に、ヒユーズの池に、入出
力端子20に一端を接続し地端を接地するフローテイン
ググー)MIS形屯界効果トランジスタ41−2、入出
力端子20−1に一端を接続し他端を接地したダイオー
ド41−5.あるいは入出力端子20に一端を接線し他
端を接地し之ダイオード接伏のMrS形亀界効果トラン
ジスタ4l−4t−用いてメモリセル40t−構gfる
こともできる。これらの情報保持手段に共通なことは、
入出力端子を接地ま友はハイインピーダンスな状態に固
定することによって、2値の論理値″1″ま友は“O″
を読み出すことである。なお、70−テイングゲー)M
rS形電界効果トランジスタ41−2のゲートへの状態
書き込み手段には従来使用されているフローティングゲ
ートMIS形邂界効果トランジスタを用いたFROMと
同様の書き込み手段が使用できるので、第5図tblで
はそれらを省略して示しである。
In the above explanation, a fuse is used as the information holding means, but as shown in FIG. A field effect transistor 41-2, a diode 41-5 with one end connected to the input/output terminal 20-1 and the other end grounded. Alternatively, the memory cell 40t-gf can be constructed using MrS type turtle field effect transistors 4l-4t- with one end connected to the input/output terminal 20 and the other end grounded and diode grounded. What these information retention methods have in common is that
By fixing the input/output terminals in a high impedance state when grounded, the binary logic value "1" is set to "O".
It is to read out. In addition, 70-Teing Game) M
As the state writing means to the gate of the rS type field effect transistor 41-2, writing means similar to FROM using a conventionally used floating gate MIS type field effect transistor can be used. is omitted.

以上の構成により、2万回からデータの読み出しが同等
に行える2次元のリードオンリメモリセルを構成するこ
とができる。
With the above configuration, it is possible to configure a two-dimensional read-only memory cell that can equally read data from 20,000 times.

第3図(C1は、第5図(&)に示したメモリセル40
をm行n列にmXn個配列した第5の実施例であるメモ
リ装置42の概念図である。メモリ装置42全構成する
のに必−女なアドレス回路、信号組縞動回路券は従来の
リードオンリメモリ装置に用いられている回路と同様の
回路が使用出来るので、fpJ5図(C1ではそれらケ
すべて?il晴1−である。
FIG. 3 (C1 is the memory cell 40 shown in FIG. 5 (&)
FIG. 4 is a conceptual diagram of a memory device 42 according to a fifth embodiment in which mXn cells are arranged in m rows and n columns. For the address circuit and signal group stripe circuit which are essential for configuring the entire memory device 42, circuits similar to those used in conventional read-only memory devices can be used. Everything is clear 1-.

信号線24はX軸方向に選択した場合のワード線となり
アドレス)l、X2.・・・、Xrnを選択し、信号線
25はY軸方向に選択した場合のワード線となりアドレ
スY1.Y2.・・・、Ynを選択し、信号線26はX
軸方向に選択した場合のビット線を表わし、信号線27
はY@刀方間選択した場合のビット線を表わす。第3図
(C1の様に配列されたメモリセル40は、アドレスX
1(i=1.2.・・・、l1l)’!!i−選択し、
状み出すとメモリセルO1j、rj12.・・・、 G
inのデータが得られ、C1j 、C2j 、・= 、
 (jmj (j =1.2 、・+、 n)のデータ
を読み出したい場合はアドレスYj t−選択すればよ
い。この様にして従来の単一次元アドレスのメモリ装置
では小可能でめった2万回からデータの読み出しを同前
に行える2次元のリードオンメモリ装置を実現出来る。
The signal line 24 becomes a word line when selected in the X-axis direction, and serves as the address) l, X2 . , Xrn is selected, and the signal line 25 becomes the word line when selected in the Y-axis direction, and becomes the address Y1. Y2. ..., Yn is selected, and the signal line 26 is
Represents the bit line when selected in the axial direction, and the signal line 27
represents the bit line when Y@Tokata is selected. FIG. 3 (Memory cells 40 arranged as shown in C1 are located at address
1(i=1.2...,l1l)'! ! i-Select;
When the memory cells O1j, rj12 . ..., G
In data is obtained, C1j , C2j , .= ,
(If you want to read the data at jmj (j = 1.2, . . . +, n), you can select the address Yj t-. It is possible to realize a two-dimensional read-on memory device that can read data from one time to the next at the same time.

第1の一実Ilj倒、第2の実施例、第5の実施例は。The first example, the second example, and the fifth example are as follows.

2万回からデータを選択できるメモリ装置としては、同
じものでおる。各実施例の違いは、−個の入出力端子’
i−?Jつ情報保持手段として、コンデンサか、疑1以
スタティック7リツブフロンブユーズかの違いから生じ
ている。従って、以下の実施例では、メモリセルの情報
保持手段としてコンデンサを代表さセ′″C説明をし、
同様の疑似スタティックフリップ70ツブ、ヒユーズ等
による実施例は省略する。
The memory device that can select data from 20,000 times is the same. The difference between each embodiment is - input/output terminals'
i-? This is due to the difference between a capacitor and a static 7-tube fluorocarbon as the information retention means. Therefore, in the following embodiments, a capacitor is used as a representative means for storing information in a memory cell.
Embodiments using similar pseudo-static flip 70 tubes, fuses, etc. will be omitted.

WJ4図、第5図に本発明の第4の実施例、第5の実施
例および第6の実施例を示す。
A fourth embodiment, a fifth embodiment, and a sixth embodiment of the present invention are shown in FIG. 4 and FIG. 5, respectively.

第4図に、第4の実施例、第5の実施例および第6の実
施例に共通なメモリセル45の回路図を示す。メモリセ
ル45は、−個の入出力端子44を持つコンデンサ45
による情報保持手段と、例えばnチャネルMrS形電界
効果トランジスタで構成され几トラン7スタ46,47
と、2本のワード線48.49と、ピント#!50と七
Mする。
FIG. 4 shows a circuit diagram of a memory cell 45 common to the fourth, fifth, and sixth embodiments. The memory cell 45 includes a capacitor 45 having - input/output terminals 44.
information holding means, for example, an n-channel MrS type field effect transistor, and seven transistors 46, 47.
, two word lines 48.49, and focus #! 50 and 7M.

2本のワード線48.49はそれぞれメモリセル43を
選択する第1のワード線、第2のワード線であり,ビッ
ト線50はメモリセル45への誉き込みデータ又はメモ
リセル43からの読み出しデータを転送するピント線で
ろる。コンデンサ45は、一端を入出力端子44に接続
し他端を接地する。コンデンサ45の入出力端子44は
、トランジスタ46を介してビット線50に接続され、
トランジスタ47i介してビット線50に接続される。
The two word lines 48 and 49 are a first word line and a second word line for selecting the memory cell 43, respectively, and the bit line 50 is used for writing data into the memory cell 45 or reading data from the memory cell 43. Use the focus line to transfer data. The capacitor 45 has one end connected to the input/output terminal 44 and the other end grounded. The input/output terminal 44 of the capacitor 45 is connected to the bit line 50 via the transistor 46.
It is connected to the bit line 50 via the transistor 47i.

マタトランジスタ46 、47のゲートはそれぞれ第1
のワード948、第2のワード線4?にそれぞれ接続さ
れている。
The gates of the master transistors 46 and 47 are the first
word 948, second word line 4? are connected to each.

このような構成を有するメモリセル45にデータt−S
き込むには、書き込むデータと同相の電位をビット線5
0に印加し、第1のワード線48t−高逼位にし、巣2
のワード線49を低電位にする。
Data t-S is stored in the memory cell 45 having such a configuration.
To write data, apply a potential in phase with the data to be written to bit line 5.
0, set the first word line 48t to high level, and set the first word line 48t to high level.
The word line 49 of is set to a low potential.

この様にすると、第1のワード線48に制御されるトラ
ンジスタ46がオン状714となり、導通するので、ビ
ット線50の′電位と入出力端子44とを同祇位とする
よ5にコンデンサ45が充放″戒させられる。この様に
して、メモリセル43にデータが4Fき込まれる。この
データを保持するにはワード線48.4?’i共に低電
位とし、トランジスタ46、47fそれぞれオフ状態と
することで,入出力端子44とビット線50との間を非
導通とし、コンデンサ45とビット線とを切り離す。メ
モリセル45では、第1のワード線とビット線との組合
わせと、第2のワード線とビット線との組み合わせとが
対称な構成となっているので、上述の説明と同様に、第
2のワードlIJ49とビットII#s。
In this way, the transistor 46 controlled by the first word line 48 turns on 714 and conducts, so that the potential of the bit line 50 and the input/output terminal 44 are at the same level. In this way, 4F of data is written into the memory cell 43. To hold this data, both word lines 48.4?'i are set to a low potential and transistors 46 and 47f are turned off. By setting the state, the input/output terminal 44 and the bit line 50 are made non-conductive, and the capacitor 45 and the bit line are separated.In the memory cell 45, the combination of the first word line and the bit line, Since the combination of the second word line and the bit line is symmetrical, the second word lIJ49 and bit II#s are similar to the above description.

との組み合わセによっても全く同様にデータの書き込み
が出来る。
Data can be written in exactly the same way by combining it with .

データを読み出すには、ビット線50iプリチヤージし
て高電位にした後に、第1のワード線48を高電位にす
る。この機にするとコンデンサ45に蓄積された電荷を
ピント線50に伝え、この電位の変化を検出することに
よって、データが読み出される。同様に、ビット線50
をプリチャージして高電位にした後に、第2のワード線
49を高゛眠位にすることによっても、データの読み出
しが行える。
To read data, the first word line 48 is brought to a high potential after the bit line 50i is precharged to a high potential. At this time, the charge accumulated in the capacitor 45 is transmitted to the focus line 50, and data is read by detecting a change in this potential. Similarly, bit line 50
Data can also be read by precharging the word line 49 to a high potential and then setting the second word line 49 to a high sleep state.

以上の構成により、1本のビット線で2方向からデータ
の読み4@が同等に行える2次元のダイナミックメモリ
セルを構成することができる。なお、メモリセル43は
■荷の蓄積を利用して情報を蓄えるダイナミンクなシ(
11作を行う。そのため、J…常のダイナばツクメモリ
セルと同様に時間の経過に牛いコンデンサ45の「ル荷
が放電するので、再書き退入が一定の判明でなされる必
要がある。
With the above configuration, it is possible to configure a two-dimensional dynamic memory cell that can equally read data from two directions using one bit line. Note that the memory cell 43 is a dynamic system that stores information using accumulation of loads.
He made 11 works. Therefore, as with ordinary dynamic memory cells, the load in the capacitor 45 is discharged over time, so rewriting and rewriting must be performed with constant clarity.

2、コンデンサ45に蓄積されたイ荷量は、データの読
み出しに伴い減少するので、データの読み出し直後にも
、再書き込みがなされる必要がある。
2. Since the amount of charge accumulated in the capacitor 45 decreases as data is read, rewriting must be performed immediately after data is read.

第5図ta+は、第4図に示したメモリセル45f。FIG. 5 ta+ is the memory cell 45f shown in FIG.

m61列にmXn個配列した粛4の実施例でおるメモリ
装@51−1の概念図である。メモリ装置51−1を構
成するのに必要なアドレス回路、信号総駆動回路寺は従
来のダイナミックメモリ装置に用いられている回路と同
様の回路が使用出来るので、fJs図ta+ではそれら
勿すべて省略してるる。
FIG. 4 is a conceptual diagram of a memory device @51-1 in the fourth embodiment in which mXn memory devices are arranged in m61 columns. The address circuit and total signal drive circuit necessary to configure the memory device 51-1 can be the same circuits as those used in conventional dynamic memory devices, so they are all omitted in the fJs diagram ta+. Teruru.

信号線48はX軸力向に選択した場合のワード線となり
アドレスXi、X2.・・・tXmk選択し、信号線4
9 i Y ill方回方向択した場合のワード線とな
りアドレスY1.Y2.・・・、Ynを選択し、信号線
50はX軸、Y軸両方に選択した場合の共通のビットi
t表わす。X、Y軸面方向について、ワード線はそれぞ
れm本、n本のままであるが、ビット線はm+n−1本
となる。従って、メモリ装置51−1をX方向について
選択すると、m行m+n−1列のメモリ装置となり、Y
方向について選択すると、n行m+n−1列のメモリ装
置となる。
The signal line 48 becomes a word line when the X-axis force direction is selected, and corresponds to addresses Xi, X2, . ...Select tXmk, signal line 4
9 i Y ill This is the word line when the direction is selected, and the address Y1. Y2. ..., Yn is selected, and the signal line 50 is the common bit i when selected for both the X axis and Y axis.
t represents. In the X and Y axis directions, the number of word lines remains m and n, respectively, but the number of bit lines becomes m+n-1. Therefore, if the memory device 51-1 is selected in the X direction, it becomes a memory device with m rows and m+n-1 columns, and Y
Selecting the direction results in a memory device with n rows and m+n-1 columns.

メモリセルGij (1=m1.2.−、m  j−1
,2,・−。
Memory cell Gij (1=m1.2.-, m j-1
,2,・-.

n)を88図(2)の様に配列すると、ビット線/m1
.。
n) as shown in Figure 88 (2), the bit line/m1
.. .

/111−11. /m−21,−,115,121,
/11. /12゜/I S、−、/I n−2,11
n−1,11n  ft転送されるデータは、第6図(
&)に示される様な各軸方向に選択した場合の対応間・
糸、又は第6図(b)に示される様なY軸方向に選択し
た場合の対応関係の様に決まる。第6図(al、(b)
における、Oljの厳え字で、1〉m又はj>nのイ1
ηヶ持つcljは存在、しないものとする。第7図ta
r、tblは、それぞれ第6図(al、tl)1中の対
地表に示される仝の部分を除いた結果を示す。第7図(
aJはX軸方向に選択した場合の対応関係を変数t1′
、 t21 、 ・、・、 tnI  に関して示し、
第7図(blはY軸方向に選択した場合の対応関係を変
数11’ 、 12″、 = 、 /m”に関して示す
。第7図(aJと第7図(bJとを比較すると、第7図
ta+ t一時計方向に90度回転したものが第7図(
b)となっている。すなわち、共通のビット線から、ワ
ード線の選択方向により、異なる方向のメモリセルの組
み合わせ ・のデータを得ることができる。この様に従
来の単一次元アドレスのメモリ装置では不可能であった
直交した2方向からのデータのi、jl:み、′−1き
を、ワード線の逗択方向により、共通のビット線から行
える2次元のダイナミックメモリ装置を実現できる。
/111-11. /m-21,-,115,121,
/11. /12゜/I S, -, /I n-2,11
The data transferred by n-1, 11n ft is shown in Figure 6 (
The corresponding distance when selecting each axis direction as shown in &)
The correspondence relationship is determined in the case of selecting the yarn or the Y-axis direction as shown in FIG. 6(b). Figure 6 (al, (b)
In the strict character of Olj, 1〉m or j>n is 1
It is assumed that clj with η exists or does not exist. Figure 7 ta
r and tbl respectively indicate the results obtained by excluding the portion shown above the ground in FIG. 6 (al, tl) 1. Figure 7 (
aJ is the correspondence relationship when selected in the X-axis direction as variable t1'
, t21, ・,・, tnI,
Figure 7 (bl shows the correspondence relationship when selected in the Y-axis direction with respect to variables 11', 12'', =, /m''. Comparing Figure 7 (aJ and Figure 7 (bJ), Figure ta + t is rotated 90 degrees clockwise in Figure 7 (
b). That is, data for combinations of memory cells in different directions can be obtained from a common bit line depending on the word line selection direction. In this way, data i, jl: and '-1 from two orthogonal directions, which was impossible in conventional single-dimensional address memory devices, can be transferred to a common bit line by selecting the word line selection direction. A two-dimensional dynamic memory device can be realized.

45図tb+は、第4図に示したメモリセル43をm6
1列にmXn1固配列した第5の実施例であるメモリ装
!α51−2の概念図である。メモリ装置51−2 k
+:’j成するのに必を7よアドレス回路、信号g駆動
回路−,J?は従来の夕”イナミンクメモリ装置に用い
られている回路と同1手の回路が使用出来るので、第5
図(b)ではそれらケすべて省略しである。
Figure 45tb+ shows the memory cell 43 shown in Figure 4 as m6.
A fifth embodiment of the memory device in which mXn1 is fixedly arranged in one column! It is a conceptual diagram of α51-2. Memory device 51-2k
+:'j To form the address circuit, signal g drive circuit -, J? Since the same circuit as that used in the conventional YINAMINK memory device can be used, the fifth
All of them are omitted in Figure (b).

信号線48はX <ib方向に選択した・IA合のワー
ド線となりアドレスX1.X2.・・・、Xmを選択し
、信号側49はメモリセルの並び’2x軸方回に1個分
変位し、Y軸方向211分変位する方向に選択した、い
わゆる桂馬跳び方向に選択した場合のワード線となりア
ドレスR11、R21、R12,R22,R15,R2
5゜・・・、 Ran、 R2n、 Ran、 −、R
mn  f選択し、信号線50はX軸方向、桂馬跳び方
向の2方回に選択した場合の共通のビット線x1.x2
.・・・txnt”表わす。
The signal line 48 becomes a word line when selected in the direction of X<ib and corresponds to the address X1. X2. ..., Xm is selected, and the signal side 49 is selected in a direction in which the memory cell row is displaced by 1 in the x-axis direction and 211 minutes in the Y-axis direction, which is the so-called Katsura horse-jumping direction. Word lines and addresses R11, R21, R12, R22, R15, R2
5゜..., Ran, R2n, Ran, -, R
mn f is selected, and the signal line 50 is a common bit line x1. x2
.. ...txnt".

この結果、X軸方向のワード線はm本であり、桂馬跳び
方向のワード線はm −1−2n −2本であり、ビッ
ト線はn本となる。従って、メモリ装置51−2をY方
向について選択すると、m61列のメモリ装置となり、
桂馬跳び方向について選択すると、m−1−2n−2行
n列のメモリ装置となる。
As a result, there are m word lines in the X-axis direction, m -1-2n -2 word lines in the Keizai direction, and n bit lines. Therefore, if the memory device 51-2 is selected in the Y direction, it becomes a memory device with m61 columns,
When selecting the direction of the horse jump, it becomes a memory device with m-1-2n-2 rows and n columns.

この様に従来の単一次元アドレスのメモリ装置では不可
能であった、水平方向と桂馬跳びと称される斜め右上が
り方向の2方向からデータの読みKきを、ワード線の選
択方向により、共通のビット線から行える2次元のダイ
ナミックメモリ装置を実現できる。
In this way, data can be read from two directions, horizontally and diagonally upward to the right, which is impossible with conventional single-dimensional address memory devices, by changing the word line selection direction. A two-dimensional dynamic memory device can be realized using a common bit line.

第5図(C)は、第4図に示し几メモリセル45をm≧
nの場合においてm61列にmxn個配列配列第6の実
施例であるメモリ装置51−5の概念図である。メモリ
装置ff151−5 金tΔ成するのに会戦なアドレス
回路、1a号線駆i1+Q回路等は従来のダイナミック
メモリ装置に用いられている回路と同様の回路が使用出
来るので、第5図(clではそれらをすべて省略しであ
る。
FIG. 5(C) shows the memory cell 45 shown in FIG.
FIG. 12 is a conceptual diagram of a memory device 51-5 according to a sixth embodiment in which m61 columns are arranged in m×n arrays in the case of n. Memory device ff151-5 Since the address circuit, line 1a drive i1+Q circuit, etc. that are required to form the metal tΔ can be the same circuits as those used in conventional dynamic memory devices, the circuits shown in Figure 5 (cl. All of them have been omitted.

信号線48はxm方向に選択した場合のワード線となり
アドレスX1.X2.・・・、Xmを選択し、信号線4
?はメモリセルの並びlx軸方方向1個分変位し、Y@
方方向1固分変位する斜、め方向について選択した信号
純金連結することによって、メモリセルのY軸方向の並
び1列につき1飼を選択するワード線となり、アドレス
R1,R2,・・・+Rm’に選択し、信号線50はx
i方向、斜め方向の2方向に選択した場合の共通のビッ
ト線x1.x2.・・・、xnt−表わす。この結果、
x他方向のワード線はm本であり、斜め方向のワード線
はm本であり、ビット線はn本となる。従って、メモリ
装置5l−5tl−X軸方向および斜め方向について選
択すると、共にm行n列のメモリ装置となる。
The signal line 48 becomes a word line when the xm direction is selected and corresponds to the address X1. X2. ..., select Xm and connect signal line 4
? is displaced by one memory cell row in the lx axis direction, and Y@
By connecting the signals selected in the diagonal direction and diagonal direction by one solid displacement in the direction, it becomes a word line that selects one cell per row of memory cells in the Y-axis direction, and addresses R1, R2, . . . +Rm ', and the signal line 50 is
Common bit line x1 when selected in two directions i-direction and diagonal direction. x2. ..., xnt-represents. As a result,
There are m word lines in the other x direction, m word lines in the diagonal direction, and n bit lines. Therefore, if the memory devices 5l-5tl--X-axis direction and diagonal direction are selected, the memory devices will both have m rows and n columns.

この様に従来の単一次元アドレスのメモリ装置では不可
能であった、水平方向と斜め右上がり方向の2方向から
りデータの読み書きを、ワード約の選択方向により、共
通のピント心から行える2次元のタ゛イナミックメモリ
装置會笑現できる。
In this way, data can be read and written from two directions, horizontally and diagonally upward to the right, which was impossible with conventional single-dimensional address memory devices. A dynamic memory device assembly can be realized.

第4の実施例、第5の実施例、第6の実施セ1jにより
共通して言えることは、ビット編1本につき、選択する
メモリセル上1個以下とするワード線の接続関係であれ
ば、ワード線の接続関係は任意に選べることである。
What can be said in common from the fourth embodiment, the fifth embodiment, and the sixth embodiment 1j is that if the word line connection relationship is one or less on the selected memory cell for each bit edition, , the connection relationship of the word lines can be arbitrarily selected.

第8図に本発明の第7の実施例を示す。FIG. 8 shows a seventh embodiment of the present invention.

188図(aJにメモリセルの回路図を示す。メモリセ
ル52は、−個の入出力端子55を持つコンデンサ54
による情報保持手段と、例えばnチャネルMIS形電界
効果トランジスタでm5!J、ちれたトランジスタ55
〜58と、4本のワードlFM59〜62と、2本のビ
ット?is6 ’ + 6 ’と七Mする。
The circuit diagram of the memory cell is shown in FIG. 188 (aJ).
m5! information holding means and, for example, an n-channel MIS type field effect transistor. J, broken transistor 55
~58, 4 words lFM59-62, and 2 bits? is6' + 6' and 7M.

4本のワード線59−1s 2はそれぞれメモリセル5
2を選択する第1〜第4のワード線でらり、2本のビッ
ト線65.64はそれぞれメモリセル52への誉き込み
データまたはメモリセル52がらの訣み出しデータを転
送する第1、第2のビット線である。コンデンサ54は
、一端を入出力端子53に接続し他端を接地する。コン
デンサ54の入出力端子55はトランジスタ55,57
゜58を弁じてり131のピント線65VC汰絖され、
トランジスタ56全介して第2のビット線64に接続さ
れる。壕だ、トランジスタ55〜58のゲートはそれぞ
れワード線59〜62に接続され【いる。
Four word lines 59-1s 2 each correspond to a memory cell 5.
The first to fourth word lines 65 and 64 select the first to fourth word lines, respectively, and the two bit lines 65 and 64 select the first to fourth word lines 65 and 64, respectively. , the second bit line. The capacitor 54 has one end connected to the input/output terminal 53 and the other end grounded. The input/output terminal 55 of the capacitor 54 is connected to the transistors 55 and 57.
The focus line of 131 is 65VC, with the angle of 58°.
The transistor 56 is connected to the second bit line 64 through all the transistors 56 . The gates of transistors 55-58 are connected to word lines 59-62, respectively.

この上うl &”i4 Bkケ七するメモリセル52に
データを−Nき込むには、−Fき込むデータと同相の電
位を渠1のピント佇63に印加し、第1のワード線59
葡簡′東位にし、その他りワード線60〜62を低′−
位にする。この様にすると、41のワード線59に制御
されるトランジスタ55がオン状態となり、;淳辿する
ので、うf−1のビット線65の′電位と入出力・高子
55とt向曳1立とするようにコンデンサ54が充放+
riざセらり、 4゜この様にして、メモリセル52に
データがJトき込1れる。このデータを保持する+’v
 h全ワードw!、’! 59〜62’Jfl低電位に
する。これは全トランジスタ55〜58をそれぞれオフ
状態とすることで、入出力端子55と第1のビット線6
5、第2のピント線64との間をそれぞれ非専通とし、
コンデンサ54に蓄積された電荷を放′屯さセないため
である。メモリセル52では、第1のワード線と!−1
−81のビット線との組み合わセと、i、g2のワード
線と第2のビット線との組み合わセと、第3のワード線
と51S1のピント線との組み合わせと、第4のワード
線と第1のピント線との組み合わセとが封部な構成とな
っているので、上述の説明と同、様に、第2のワード線
60と第2のピント線64との組み合ゎセ、第3のワー
ド線61と第1のビット線63との組み合わ−ヒ、及び
第4のワード線62と第1のビット線63との組み合わ
セによっても同様にデータの書き込みが出来る。
In order to write -N data into the memory cell 52 which is to be filled with -F, a potential in phase with the data to be read is applied to the focus position 63 of channel 1, and the first word line 59
Place the board in the east position, and set the other word lines 60 to 62 in the low position.
rank. In this way, the transistor 55 controlled by the word line 59 of 41 is turned on and traces; The capacitor 54 is charged so that the
4. In this way, data is loaded into the memory cell 52. Keep this data +'v
All words lol! ,'! 59-62'Jfl low potential. This is done by turning off all the transistors 55 to 58, so that the input/output terminal 55 and the first bit line 6
5. Make the area between the second focus line 64 non-exclusive,
This is to prevent the charge accumulated in the capacitor 54 from being dissipated. In the memory cell 52, the first word line and! -1
−81 bit line combination set, i, g2 word line and second bit line combination set, third word line and 51S1 focus line combination set, fourth word line and Since the combination with the first focus line has a sealed structure, similarly to the above explanation, the combination with the second word line 60 and the second focus line 64, Data can be written in the same way by the combination of the third word line 61 and the first bit line 63 and the combination of the fourth word line 62 and the first bit line 63.

データを1洸み出すには、第1のビット線6゛5をプリ
チャー7しで尚t4i泣VCL、た段しこ、第1のワー
ド諌5ソを局cIL位にする。この任にするとコンデン
サ54に蓄稍石れ1こtl; (a“jが第1のビット
組65に伝えられ、この、1ε67の変化f1:検出す
ることによって、データカ脣にみ出さiする。同様(・
ご、第2のビット酸64にプリチャー・/して商f九位
にした後に、第2のワードi60を高iij位にするこ
とによっても、データの、にみ出しが行える。又、第1
のピット線65全プリチヤージして茜颯位にした後に、
第5のワード線61’rM中1位にすることによっても
、第1のビット線65全プリチヤージして畠電位にした
労に、第4のワード線62を高1E位にすることによっ
ても、データの読み出しが行える。
To read one line of data, the first bit line 6'5 is set to the precharger 7, and the first word line 6'5 is set to the level CIL. If this is done, the capacitor 54 will be filled with a defective tl; Similarly (・
Data can also be spilled out by precharging the second bit acid 64 to make the quotient f 9th, and then setting the second word i 60 to the high iij position. Also, the first
After pre-charging all pit lines 65 and putting Akane in the position,
By setting the fifth word line 61'rM to the first position, or by setting the fourth word line 62 to the high 1E level while the first bit line 65 is fully precharged to the Hatake potential, Data can be read.

ここで1.、l’、1、渠3.又は第4のワード線と第
1のピント線との組み合わせによる読み出し創作と、第
2のワード線と第2のビットHとの組み合わせによるf
f1(み出し動作とは全く独立に行うことが出来る。更
に、第2のワード線と第2のビット線との組み合わセQ
こよる■1き込み動作を行う一方で、第1、第3又は第
4のワード線と第1のピット線との組み合わせによる読
み出し動作7行うことが出来る。同様に、第1、第3又
は第4のワード線と41のピント線との組み合わセによ
る書き込み動作を行う一方で、第2のワード線と第2の
ビット線との組み合わせによる。lみ出し動作を行うこ
とも出来る。
Here 1. , l', 1, culvert 3. Or read creation by the combination of the fourth word line and the first focus line, and f by the combination of the second word line and the second bit H
f1 (can be performed completely independently of the protrusion operation.Furthermore, the combination of the second word line and the second bit line
While the write operation (1) is performed, the read operation (7) can be performed using a combination of the first, third or fourth word line and the first pit line. Similarly, a write operation is performed by a combination of the first, third, or fourth word line and 41 focus lines, while a write operation is performed by a combination of the second word line and the second bit line. It is also possible to perform a l-extrusion operation.

以上の構成により、第1の実施例におけるX。With the above configuration, X in the first embodiment.

Y2方向に加え斜め2方向からも選択が可能なメモリセ
ルを構成でき、4方向からデータの読み書きが同等に行
える2次元のダイナミックメモリセルを構成することが
できる。なお、メモリセル52は電荷の蓄積を利用して
情報を蓄えるダイナミックな動作を行う。そのため、通
常のダイナミックメモリセルと同様に時間の経過に洋い
コンデンサ54の電荷が放電するので、再−譬き込みが
一定の周期でなされる必要がおる。又、コンデンサ54
に蓄積された′亀荷撞は、データの読み出しに伴い減少
するので、データの読み出し直後にも、再書き込みがな
される必要がある。
A memory cell that can be selected from two diagonal directions in addition to the Y2 direction can be constructed, and a two-dimensional dynamic memory cell that can equally read and write data from four directions can be constructed. Note that the memory cell 52 performs a dynamic operation of storing information using accumulation of charge. Therefore, like a normal dynamic memory cell, the charge in the capacitor 54 is discharged over time, so re-reading must be performed at a constant cycle. Also, the capacitor 54
Since the amount of memory accumulated in the memory decreases as data is read, it is necessary to rewrite the data immediately after reading the data.

第8図(blは、第8図(alに示したメモリセル52
’zm行n列にmXn個配列した第7の実施例でろるメ
モリ装置t65の概念図である。メモリ装置6!l−4
!l1gy、するのに必要なアドレス回路、信号線駆動
回路等は従来のダイナミックメモリ装置に用いられてい
る回路と同様の回路が使用出来るので、第8図(blで
はそ才しらをすべて省略しである。
FIG. 8 (bl is the memory cell 52 shown in FIG. 8 (al)
FIG. 12 is a conceptual diagram of a seventh embodiment of a memory device t65 in which mXn memory devices are arranged in zm rows and n columns. Memory device 6! l-4
! The address circuit, signal line drive circuit, etc. required for l1gy can be the same circuits as those used in conventional dynamic memory devices. be.

信号線59はX軸力向に選択した場合のワードiと7に
4!77ドレスXI 、X2.−、Xm kii3択し
、信号線60はY軸方向に選択した場合のワード線とな
シアドレスY1.Y2 、・−、Yn t−選択し、信
号?s61は斜め右上方向に選択した場合のワード線と
なりアドレスR+ +、R+ 2.−、Ftl n−1
,R+ n、R2n 、 =・、Rm nを選択し、信
号線62は斜め左上方向に選択した場合のワード線とな
りアドレスLm +、Lm−12.・・・。
The signal line 59 has 4!77 addresses XI, X2. -, Xm kii3 is selected, and the signal line 60 is the word line when selected in the Y-axis direction. Y2, ・-, Yn t-select, signal? s61 is the word line when selected diagonally in the upper right direction, and addresses R+ +, R+ 2. -, Ftl n-1
, R+ n, R2n , =·, Rm n, and the signal line 62 becomes a word line when selected diagonally in the upper left direction, and addresses Lm +, Lm-12 . ....

L2 丁、  LI  I、 LI 2.− 、LI 
n¥:選択し、信号線65はX軸、斜め右上、斜め左上
の各方向に選択した場合のピット線xi、x2.・・・
、xn  を表わし、信号線6 JijY軸力向に方向
した場合のピット線y+、y2.・・・rYmを表わす
。び1めにアドレスした場合はワード線がm + n 
−1本となるが、読み書きされるデータのビット幅はn
ビットのままである。
L2 Ding, LI I, LI 2. -, LI
n\: selected, and the signal line 65 is pit line xi, x2. ...
, xn, and the pit lines y+, y2 . ...represents rYm. If the word line is addressed first and second, the word line is m + n.
-1 line, but the bit width of the data read and written is n
It remains a bit.

従って、m行n列に配列したメモりを斜めに選択すると
m+n−1行n列のメモリとなる。また、第8図(bl
の様に配列されたメモリセル52は、アドレスX1(i
−1,2,−、+11) fr、選択し読み出すとメモ
リセルC11,C12,・・・、Ginのデータが得ら
れ、a1j+02 j+・+0m j (j−1,2,
・、n)のデータを読み出しだい場合はアドレスYjを
選択すればよい。
Therefore, if a memory array arranged in m rows and n columns is selected diagonally, it becomes a memory in m+n-1 rows and n columns. Also, Figure 8 (bl
The memory cells 52 arranged as shown in FIG.
-1, 2, -, +11) fr, when selected and read, the data of memory cells C11, C12, ..., Gin is obtained, and a1j+02 j+・+0m j (j-1, 2,
. , n), select address Yj.

この様にしてX、Y軸の2方向に加え、斜め2方向から
も選択が可能で、データの読みdきはX。
In this way, in addition to the two directions of the X and Y axes, it is possible to select from two diagonal directions, and the data reading is X.

Y軸の2方向に行えるメモリ装置を実現できる。A memory device that can operate in two directions along the Y axis can be realized.

第9図に本発明の第8の実施例r示す。FIG. 9 shows an eighth embodiment of the present invention.

第9図(alにメモリセルの回路図を示す。メモリセル
66は、−1dの入出力端子67を待つコンデンサ68
によるすn報保持手段と、例えば、nチャネルMIS形
社界効果トランジスタで構成されたトランジスタ69,
70.71と、3本のワード線72へ74と、5本のピ
ント線75へ77と盆廟する。
The circuit diagram of the memory cell is shown in FIG. 9 (al).
a transistor 69 constituted by, for example, an n-channel MIS type social effect transistor;
70.71, 74 to the three word lines 72, and 77 to the five focus lines 75.

3不のワード線72,7j、74はそれぞれメモリセル
66?選択する第1のワード線、第2のワード線、第5
のワード線であり、3本のビットS75,76.77は
それぞれメモリセル66へのiき込みデータZはメモリ
セル66からの読み出しデータ金転送する弔1のピント
線、第2のビット線、第5のピッBgである。コンデン
サ68は、一端を入出力端子67に接続し池端金接地す
る。コンデンサ68の入出力端子67は、トランジスタ
69を介して第1のビット線75に接続さし、トランジ
スタ70七介して第2のビット線76に接続され、トラ
ンジスタ71tJf’して第3のビット77に接続され
る一方、トランジスタ69.70.71のゲートはそれ
ぞれ第1のワード線72、第2のワード線75、第5の
ワード線74に接続芒れている。
Each of the three word lines 72, 7j, and 74 is a memory cell 66? Select the first word line, the second word line, and the fifth word line.
The three bits S75, 76, and 77 are respectively the write data to the memory cell 66, the read data from the memory cell 66, and the 1st focus line, the 2nd bit line, This is the fifth pi Bg. The capacitor 68 has one end connected to the input/output terminal 67 and grounded at the other end. The input/output terminal 67 of the capacitor 68 is connected to the first bit line 75 via a transistor 69, to the second bit line 76 via a transistor 707, and to the third bit line 77 via a transistor 71tJf'. while the gates of transistors 69, 70, and 71 are connected to a first word line 72, a second word line 75, and a fifth word line 74, respectively.

この様な構成に44するメモリセル66にデータを書き
込むには、舛き込むデータと同相の電位を第1のピント
線75に印加し、第1のワード線72金高喝位にし、そ
の他のワード?#75.74を低電位にする。この様に
すると、第1のワード線72に制fillされるトラン
ジスタ69−1)’、オン状態となり、4逍するので、
第1のビット線75の電位と入出力端子67とを同電位
とするようにコンデンサ68が充放電する。この様にし
て、メモリセル66にデータが■き込まれる。このデー
タを保持するには全ワード線72〜74を低電位にする
と、全トランジスタ69〜71がそれぞれオフ状態とな
ることで、入出力端子67と他のビット線75〜77と
の間をそれぞれ非導通とし、コンデンサ68に蓄積され
た電荷を放電させないためである。メモリセル66では
、第1のワード線と第1のビットaとの組み合わせと、
第2のワード線と第2のビット線との組み合わせ、第5
のワード線と第3のビット線との組み合わせとが対称な
構成となっているので、上述の説明と同様に、第2のワ
ード線75とrlZ2のビット線76との組み合わせ、
及び第3のワード線74と第3のビット線77とのB1
み合わせによっても全く同様にデータの書き込みが出来
る。
To write data to the memory cell 66 in such a configuration, a potential in phase with the data to be written is applied to the first focus line 75, the first word line 72 is set to high level, and the other word? Set #75 and 74 to low potential. In this way, the transistor 69-1)' which is controlled by the first word line 72 is turned on and turns on, so that
The capacitor 68 is charged and discharged so that the potential of the first bit line 75 and the input/output terminal 67 are at the same potential. In this way, data is written into the memory cell 66. To hold this data, all word lines 72 to 74 are set to a low potential, and all transistors 69 to 71 are turned off, thereby connecting input/output terminal 67 and other bit lines 75 to 77, respectively. This is to make the capacitor 68 non-conductive and to prevent the charge accumulated in the capacitor 68 from being discharged. In the memory cell 66, the combination of the first word line and the first bit a;
a combination of a second word line and a second bit line, a fifth
Since the combination of the word line 75 and the third bit line is symmetrical, the combination of the second word line 75 and the bit line 76 of rlZ2 is similar to the above explanation.
and B1 between the third word line 74 and the third bit line 77
Data can be written in exactly the same way by combining them.

データを読み出すKは、第1のピッ)、[75をプリチ
ャージして高電位にした後に、第1のワード線72を高
電位にする。この様にするとコンデンサ28に蓄積され
た電荷が第1のピッl−!I75に伝えられ、このIJ
t位の変化全検出することによって、データが読み出さ
れる。同様に、第2のビット線76をプリチャージして
高電位にした後に、第2のワードK175に&電位にす
ること、及び第5のピット線77ケプリチヤーシして高
電位にした後に、第3のワード1fJ174を高電位に
することによっても、データの請み出しが行える。ここ
で、第1のワード線と第1のピット線との組み合わセに
よる読み出し動作と、第2のワード線と第2のピット線
との組み合わせによる読み出し動作と、第3のワード線
とな〜30ビット線との組み合わセによる読み出し動作
とは全く独立に行うことが出来る。更に、巣1のワード
線と第1のビット線との組み合わセによる丼き込み動作
を行う一方で、第2のワード線と第2のピッ)[との組
み合わせによる読み出し動作、及び第3のワード線と第
5のビットυとの組み合わせによる読み出し動作上行う
ことが出来る。同様に、第2のワード線と第2のビンI
Nとの組み合わセによる一Fき込み動作上行う一方で、
第3のワード線と第3のビット線との組み合わせによる
読み出し動作、及び第1のワード線と第1のビット線と
の組み合わせによる読み出し動作を行うことが出来る。
K for reading data is the first word line 72 precharged to a high potential after precharging the first word line 75 to a high potential. In this way, the charge accumulated in the capacitor 28 is transferred to the first pin! I75 was informed that this IJ
Data is read by detecting all changes of the order of t. Similarly, after the second bit line 76 is precharged to a high potential, the second word K175 is set to a & potential, and after the fifth pit line 77 is precharged to a high potential, the third word K175 is precharged to a high potential. Data can also be solicited by setting the word 1fJ174 to a high potential. Here, a read operation is performed by a combination of a first word line and a first pit line, a read operation is performed by a combination of a second word line and a second pit line, and a read operation is performed by a combination of a third word line and a third word line. The read operation can be performed completely independently of the read operation in combination with the 30 bit lines. Further, while a read operation is performed by the combination of the word line and the first bit line of nest 1, a read operation is performed by the combination of the second word line and the second bit line, and a read operation is performed by the combination of the second word line and the second bit line, and the third bit line is A read operation can be performed using a combination of the word line and the fifth bit υ. Similarly, the second word line and the second bin I
While performing the 1F loading operation in combination with N,
A read operation can be performed using a combination of the third word line and the third bit line, and a read operation can be performed using the combination of the first word line and the first bit line.

又、第3のワード線と第3のビット線との組み合わセに
よる書き込み動作を行う一方で、第1のワード線と第1
のビット線との組み合わせによる読み出し動作、及び第
2のワード線と第2のビット線との組み合わせによる読
み出し動作ケ行うことが出来る。
Also, while performing a write operation using the combination of the third word line and the third bit line, the first word line and the first
A read operation can be performed in combination with the second word line and the second bit line, and a read operation can be performed in combination with the second word line and the second bit line.

以上の構成により、3方向刀蔦らデータの読み書きが同
等に行える3次元のダイナミックメモリセルtm成する
ことができる。なお、メモリセル6Bは′1荷の蓄積を
利用して情報を蓄える夕′イナばツタな動作上行う。そ
のため、通常のグイナiツクメモリセルと同様に時間の
経過に伴いコンデンサ68の電荷か放電するので、再書
き込みが一定の周期でなされる必要がある。又、コンデ
ンサ6Bに蓄積された′亀荷黄は、データの読み出しに
1f−い減少するので、データの読み出し直後にも、再
書き込みがなされる必要がるる。
With the above configuration, it is possible to form a three-dimensional dynamic memory cell tm that can equally read and write data in three directions. It should be noted that the memory cell 6B performs a tedious operation in which information is stored using the accumulation of data. Therefore, as in a normal mechanical memory cell, the charge in the capacitor 68 is discharged over time, so rewriting must be performed at regular intervals. Further, since the 1f accumulated in the capacitor 6B decreases by 1f when reading data, it is necessary to rewrite the data immediately after reading the data.

第9図(bJは、第9図(alに示したメモリセル66
を6イ13列3層に27個配列した24’l、 f3の
実施例であるメモリ装置fe 7 Bの帷念図である。
FIG. 9 (bJ is the memory cell 66 shown in FIG. 9 (al)
24 is a conceptual diagram of a memory device fe7B which is an embodiment of 24'l, f3 in which 27 24'l, f3 are arranged in 6 x 13 columns and 3 layers.

メモリ装置78を構り父するのVこ必要なアドレス回路
、信号線1唱動回路寺は6゛e米のダイナばンクメ七り
装置に用いられている回路と同様の回路か使用出来るの
で、第9図(blではそれ5?すべて省略してめる。
For the memory device 78 and the necessary address circuits and signal line 1 motion circuits, circuits similar to those used in the 6゛E American Dynabank Mechanical Device can be used. Figure 9 (In BL, it is all omitted.

信号#72〜74は、そJlぞれ凹状に配置されたワー
ド線を、信号線75〜77はそれぞれビット@ヲ代表し
て表わしている。信号線72はX軸方向と直交する面金
選択した場合のr!41のワードげ窄となりアドレスX
i、X2.X3を選択し、信号線76はY軸と直交する
聞ケ選パした場合の第2のワード線となりアドレスY1
.Y2.Y3’i選択し、信号線74はZ軸と直交する
囲r選択した場合の第5のワード線と/J、クアドレス
Z1 、Z2. Z3  を選択1−113号線7Sは
X軸力間に選択した場合の第1のビット線盆表わし、信
号線76はY軸方向に選択した場合の弔2のピント編盆
表わし、信号線77はZ軸方向Vこ選択した場合の第3
のビット線yz8わす。27 fledのメモリ(/l
/ C1jk (i、j、k = 1゜2.3)’i第
9図(1)lの様に配置する。アドレスχ1を選択し読
み出すと第1のビット線から0111゜G112.Gi
l 3.C121、C122,G123.Ui31.0
132.C;L33のデータが得られ、第3のビット線
から011に、012k。
Signals #72 to #74 represent word lines arranged in a concave shape, and signal lines #75 to #77 represent bits, respectively. The signal line 72 is r! when a metal plate perpendicular to the X-axis direction is selected. 41 words are narrowed down and the address is X.
i, X2. X3 is selected, and the signal line 76 becomes the second word line when the line perpendicular to the Y axis is selected, and the address Y1
.. Y2. Y3'i is selected, and the signal line 74 is the fifth word line when the circle r perpendicular to the Z axis is selected, /J, quad addresses Z1, Z2 . Select Z3 Line 1-113 7S represents the first bit line tray when the X-axis direction is selected, the signal line 76 represents the focus tray of the second bit line when the Y-axis direction is selected, and the signal line 77 represents the 3rd when Z-axis direction V is selected
bit line yz8. 27 fled memory (/l
/ C1jk (i, j, k = 1°2.3)'i Arrange as shown in Figure 9 (1) l. When address χ1 is selected and read, 0111°G112. from the first bit line. Gi
l 3. C121, C122, G123. Ui31.0
132. C; L33 data is obtained, 011 to 012k from the third bit line.

013に、021に、022に、025に、031に、
052に、033k  のブータラ読抱出したい場合は
アドレスZkを選択すればよい。この様にして従来の単
一次元アドレスのメモリ装置は不可能であった5方向か
らの読み一14回寺に行える3次元のダイナミックメモ
リ装at実現できる。
013, 021, 022, 025, 031,
If you want to read out the booter of 033k at 052, select address Zk. In this way, it is possible to realize a three-dimensional dynamic memory device that can perform readings from five directions 14 times, which was impossible with conventional single-dimensional address memory devices.

以上、第1の実施例では、2次元のダイナばツクメモリ
装置の場合、第2の実施例では、2次元の疑似スタティ
ックメモリ装置の場合、第3の実施例では、2次元のリ
ードオンリメモリ装置の場合、第4の実施例、第5の実
施例および第6の実施例では、1方向のビン)+Jで2
方向から選択でさる2次元のダイナミックメモリ装置の
場合、第7の実施例では、2方向のビン) 17で4方
向から選択できる2次元のダイナミックメモリ装置の場
合、第8の実施例では、3次元のダイナミックメモリ装
置の場合を示した。これらの実施例に示すように、トラ
ンジスタとワード線との組み合わせK 1126と、L
本のピント線と、入出力端子−個を備える1ビットの情
報保持手段とにより、K個の方向から選択でき、L個の
方向からデータの読み出し科さ込みができる多次元のメ
モリセルを構成でさ、これらメモリセルの複数個をアレ
イ状に配置し、ワード線によりに個の方向から選択でき
、ビット線によりL個の方向からデータ七読み書き又は
読み出しできることを特徴とする多次元アドレスのメモ
リ装置ケ実現できる。
As described above, in the first embodiment, a two-dimensional dynamic memory device is used, in the second embodiment, a two-dimensional pseudo-static memory device, and in the third embodiment, a two-dimensional read-only memory device. In the case of the fourth embodiment, the fifth embodiment, and the sixth embodiment, the bin in one direction) +J is 2
In the case of a two-dimensional dynamic memory device in which the direction can be selected, in the seventh embodiment, the bins in two directions are selected. The case of a dimensional dynamic memory device is presented. As shown in these examples, the transistor and word line combination K 1126 and L
The book's focus line and a 1-bit information holding means with input/output terminals constitute a multidimensional memory cell that can be selected from K directions and can read/write data from L directions. Now, there is a multidimensional address memory characterized in that a plurality of these memory cells are arranged in an array, and data can be read/written from L directions using word lines, and data can be read/written from L directions using word lines. The equipment can be realized.

前記従来技術の項でVと述した第13図、第14図、の
例におけるバタンメモリ装置に、本発明による多次元の
メモリ装置健を適用した例を第10図に示す。第10図
に示されるX、Y、2方向と、斜め2方向から違択呵1
毛な多次元のメモリ装置は、第8図に示した本発明のメ
モ’J装R6sのm−7゜n−5のノ4)合で′yI!
:現され、第10図中のメモリ装置ノ¥79のアドレス
、ピント線はメモリ装@65と同一のg、j15旨で用
いられる。
FIG. 10 shows an example in which the multidimensional memory device according to the present invention is applied to the button memory device in the example of FIGS. 13 and 14, which is referred to as V in the prior art section. 1 from the X, Y, two directions and two diagonal directions shown in Figure 10.
The multi-dimensional memory device of the present invention is shown in FIG.
: The address and focus line of the memory device #79 in FIG. 10 are used with the same g and j15 as the memory device @65.

X軸方向にデータを走査する場合  アドレスx1へX
7により選択し、ビット線x1へx5から読み出す。
When scanning data in the X-axis direction: X to address x1
7 and read from x5 to bit line x1.

ドレスR11,R12,R13,F114. R15,
R25,R35゜R45,R55,R65,R75によ
り選択し、ビット線x1〜x5から一度に読み出す。
Dress R11, R12, R13, F114. R15,
R25, R35° R45, R55, R65, R75 to select and read from bit lines x1 to x5 at once.

ドレスL15.1,14. L、13. L12. L
ll、 L21. L31゜L41. L51.ムロ1
.L71により選択し、ピント線x1〜x5から一度に
読み出す。
Dress L15.1,14. L, 13. L12. L
ll, L21. L31°L41. L51. Muro 1
.. Selected by L71 and read out from focus lines x1 to x5 at once.

スY1〜Y5に壬り選択し、ピント線y1〜y7から読
み出す。
The focus lines Y1 to Y5 are selected and read from the focus lines Y1 to Y7.

以上のことから、どの方向からデータ?読み書きする場
合でも、−回の選択で十分となる。すなわち、mhn列
の単一次元アドレスメモリ装置では、ワード線と異なる
方向に走査する場合、最悪m回の選択が必要であったの
に対して、−回の選択で実行できる。また、本発明によ
ると、走査方向別にメモリg ii”j ’z :II
Nえることが不安となるばかりでなく、そのメモリ装置
へJ)らかしめも走査方向別に配列を度えてデータを斗
き込む必牧がなくな9、ハードウェア量、選択時間ケ著
しく削減できる効果かある。
From the above, which direction should the data come from? Even when reading and writing, − selections are sufficient. That is, in a single-dimensional address memory device with mhn columns, when scanning in a direction different from the word line, m selections were necessary at worst, but this can be performed with - selections. Further, according to the present invention, the memory g ii"j 'z :II
Not only does this eliminate the need to rearrange the data in the memory device, but also eliminates the need to rearrange data for each scanning direction.9 This has the effect of significantly reducing the amount of hardware and selection time. There is.

なお、上述において、メモリ装置の僅かな実施例1述べ
たに留ったが、911えば、メモリセルの情報保持手段
としてコンデンサを用いる前述の実施例のメモリ装置に
おいて、コンデンサの2磁極間の媒体として液晶を使う
場合、111荷による2値記憶の1噸能の曲に、複数方
向からデータの卦き込みが可能な光表示によるパネル機
能ケ有する多次元メモリ装置を実現できるなど、本発明
の精神を脱することなしに、Jt+々の変形、変更tな
し得る。
In the above, only a small number of embodiments of the memory device have been described, but for example, in the memory device of the above embodiment in which a capacitor is used as the information retention means of the memory cell, the medium between the two magnetic poles of the capacitor is If a liquid crystal is used as a liquid crystal display, the present invention can realize a multidimensional memory device having a panel function using an optical display that can store data from multiple directions in a single function song with binary memory using 111 elements. Variations and changes to Jt+ can be made without breaking the spirit.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明しだ工5に、本発明のメモリ装置によれば、X
1Y2方向、X%Y、Z5方向、X、 Y2方向に斜め
2方向を加えた4方向など複数の方向から選択6エ能な
多次元のメモリ装λを実現できる。画像処理や文字認識
など2次元あるいは3次元に配置されるデータ全処理す
る場合に本発明による多次元のメモリ装置を使用するこ
とにより、従来の単一次元のメモリ装置では不可能であ
った多方向からのデータの読み出し、vI@込みが容易
に行えるようになる。
According to the memory device of the present invention, X
It is possible to realize a multidimensional memory device λ that can select from a plurality of directions, such as 1Y2 directions, X%Y2 directions, Z5 directions, and 4 directions including 2 diagonal directions in addition to the X and Y2 directions. By using the multidimensional memory device of the present invention when processing all data arranged in two or three dimensions, such as image processing or character recognition, it is possible to perform multidimensional processing that was not possible with conventional single-dimensional memory devices. It becomes possible to easily read data from any direction and input vI@.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

MI図は本発明の第1の実施例を示し、第1図(alは
メモリセルt、第1図(b)は第1図(L)のメモリセ
ルを使ったメモリ装置を示す図、第2図は本発明の第2
の実施例を示し、第9図1alはメモリセルを、第2図
(blは第2図(&)のメモリセルを使ったメモリ装置
ii′t−示し、第6図は本発明の第5の実施例を示し
、第9図1alはメモリセルを、第3図(blは第3図
(祠のメモリセルの他の構成ケ、第5図(C)は第9図
1alのメモリセルを使ったメモ!j G 置に示す図
、第4図は他のメモリセルに示す図、545図(al、
(bl、+CIはそれぞれ第4図のメモリセルを使った
′#、4、第5、第6の実施例のメモリ装置を不丁図、
第6図(ILI、(bl、第7図(al、(blは第5
図(alのメモリ装置r説明するための図、第8図は本
発明の第7の実施例を示し、第8図(alはメモリセル
を、第8図(1)1は第8図(alのメモリセルを使っ
たメモリ装r1tを示す図、第9図は本発明の1−8の
実施上11を示し、第9図1alはメモリセルを、帛9
 [U (”lは化9図(alのメモリセルを使ったメ
モリ装置を示す図、第10図は文字データ用の多次元の
パターンメモリ装置の眠7♂図、1411図tal、t
b+はそれぞれ4pf来の1トランジスタ形ダイナミッ
クメモリセル勿示す図、およびそれを使ったメモリ装置
Ilt′5c示す図、第12図(&;、tb+はそれぞ
れ従来の6トランジスタ形擬似スタデイツクメモリセル
を示す図およびそれt使ったメモリ装置を示す図、第1
3図(al、(blは文字データ用のパターンメモリ装
置が111i!ilの場合を説明する図、第14(¥1
(2L)〜(dlは文字データ用パターンメモリ装+d
iが41固の場合ケ説明する図である。 19・・・2次元ダイナミックメモリセル20・・・入
出力端子 21・・・コンデンサ 22.23・・・nチャネルMIS形〔a)′≠効呆ト
ランジスタ24.25・・・ワード様 26.27・・・ビット線 28・・・2次元ダイナミックメモリ装は29・・・2
次元擬似スタティックメモリセル30・・・擬似スタテ
ック形クリッププロング31〜33・・・nチャネルM
IS形逼界効果トランジスタ!54.55・・・pチャ
ネルMIS形屯界効果トランジスタ38・・・丼き込み
制御信号線 59・°・2次元疑イ以スタティックメモリ装置40・
・・2次元リードオンリメモリセル41・・・読み出し
専用の情報保持手段41−1・・・ヒユーズ 41−2・・・フローテインググー)MIS形磁界効果
トランジスタ 41−5・・・ダイオード 41−4・・・ダイオード接続のMIS形電界効果トラ
ンジスタ42・・・2次元リードオンリメモリ装填45
・・・選択2方向ピント線1本のメモリセル44・・・
入出力端子 45・・・コンデンサ 46.47・・・nチャネルMIS形屯界効果トランジ
スタ48.49□・・・ワード線 50・・・ビット線 51−1〜51−3・・・2次元f択2方向ビット線1
方向ダイナiツクメモリ装置 52・・・選択4方向ピント82本のメモリセル56・
・・入出力端子 54・・・コンデンサ 55〜58 ・・・nチャネルMIS形屯界効果トラン
ジスタ59へ62・・・ワード線 63.64・・・ビット線 65・・・2次元選択4方向ビット線2方向ダイナiツ
クメモリ装置 66・・・3次元ダイナミンクメモリセル67・・・入
出力端子 6日・・・コンデンサ 69へ71・・・nチャネルMIS形4(界効果トラン
ジスタ72S74・・・ワード線 75へ77・・・ビット線 78・・・3次元ダイナミックメモリ装置79・・・文
字データ用の多次元メモリ装置(b) ノ、          Y2           
    Yn(α) (C) Y+        Yz            Y
n] (b) 第3図 (C) Y、   Y2     Yn (α) (E)) 工1      x、2           人n(
α) (F)> 第14= (α)(b)“ χ1 :L2χ3χ4 λ5
The MI diagram shows the first embodiment of the present invention, and FIG. 1 (al is a memory cell t, FIG. Figure 2 shows the second embodiment of the present invention.
FIG. 9 (1al) shows a memory cell, FIG. 2(bl) shows a memory device ii′t- using the memory cell of FIG. FIG. 9 (1al) shows the memory cell, FIG. 3 (bl shows another configuration of the memory cell in FIG. 3 (shrine), and FIG. Memos used!
(bl, +CI are unprinted figures of the memory devices of the '#, 4th, 5th, and 6th embodiments using the memory cells of FIG. 4, respectively.
Figure 6 (ILI, (bl), Figure 7 (al, (bl is the fifth
FIG. 8 (al) is a diagram for explaining the memory device r, FIG. 8 shows the seventh embodiment of the present invention, FIG. FIG. 9 shows an implementation 11 of 1-8 of the present invention, and FIG.
[U ("l is a diagram showing a memory device using memory cells of Figure 9 (al), Figure 10 is a diagram of a multidimensional pattern memory device for character data, Figure 1411 is tal, t
12(&;, tb+ respectively represent a conventional 6-transistor type pseudo static memory cell) 1 and a diagram showing a memory device using the same.
Figure 3 (al, (bl) is a diagram explaining the case where the pattern memory device for character data is 111i!il, 14th (¥1
(2L) ~ (dl is pattern memory device for character data +d
It is a figure explaining the case where i is 41 hard. 19... Two-dimensional dynamic memory cell 20... Input/output terminal 21... Capacitor 22.23... N-channel MIS type [a)'≠Effective transistor 24.25... Word-like 26.27 ...Bit line 28...Two-dimensional dynamic memory device is 29...2
Dimensional pseudo-static memory cell 30...pseudo-static type clip prongs 31-33...n-channel M
IS type field effect transistor! 54.55...p-channel MIS type field effect transistor 38...coupling control signal line 59...degree two-dimensional static memory device 40...
... Two-dimensional read-only memory cell 41 ... Read-only information holding means 41-1 ... Fuse 41-2 ... Floating goo) MIS type magnetic field effect transistor 41-5 ... Diode 41-4 ... Diode-connected MIS field effect transistor 42 ... Two-dimensional read-only memory loading 45
...Memory cell 44 with one selected two-direction focus line...
Input/output terminal 45...Capacitor 46.47...N-channel MIS type field effect transistor 48.49□...Word line 50...Bit line 51-1 to 51-3...2-dimensional f Select 2 direction bit line 1
Direction dynamic memory device 52... 82 memory cells 56 with 4-direction selection
... Input/output terminal 54 ... Capacitors 55 to 58 ... To n-channel MIS type field effect transistor 59 62 ... Word line 63.64 ... Bit line 65 ... Two-dimensional selection four-way bit Line two-way dynamic memory device 66... Three-dimensional dynamic memory cell 67... Input/output terminal 6 days... To capacitor 69 71... N-channel MIS type 4 (field effect transistor 72S74... Word To line 75 77...Bit line 78...Three-dimensional dynamic memory device 79...Multidimensional memory device for character data (b) ノ, Y2
Yn(α) (C) Y+ Yz Y
n] (b) Figure 3 (C) Y, Y2 Yn (α) (E)) Work 1 x, 2 Person n (
α) (F)> 14th = (α) (b) “ χ1 :L2χ3χ4 λ5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  K個(K≧2、整数)のトランジスタと、K体のワー
ド線と、L体(K≧L≧1、整数)のビット線と、入出
力端子1個を備える1ビットの情報保持手段とから構成
され、前記K個のトランジスタ各々についてM番目(K
≧M≧1、整数)のトランジスタのゲートとM番目のワ
ード線とを接続し、前記K個のトランジスタの一端をす
べて前記情報保持手段の上記入出力端子に接続し、M番
目のトランジスタの他端は前記L本のビット線のうち任
意の1本に接続してなるメモリセルの複数個をアレイ状
に配置し、前記ワード線およびビット線のそれぞれを、
K方向およびL方向に配置されているメモリセル間で共
通に接続することにより、K方向から選択でき、L方向
からデータを読み書き又は読み出しできることを特徴と
するメモリ装置。
1-bit information holding means comprising K transistors (K≧2, integer), K word lines, L bit lines (K≧L≧1, integer), and one input/output terminal; , and for each of the K transistors, the Mth (K
≧M≧1, an integer), the gates of the transistors are connected to the Mth word line, one ends of all the K transistors are connected to the input/output terminal of the information holding means, and A plurality of memory cells each having an end connected to an arbitrary one of the L bit lines are arranged in an array, and each of the word line and bit line is connected to one of the L bit lines.
A memory device characterized in that by commonly connecting memory cells arranged in the K direction and the L direction, it is possible to select from the K direction and to read, write, or read data from the L direction.
JP59185790A 1984-09-05 1984-09-05 Memory device Pending JPS6163997A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01277945A (en) * 1988-04-28 1989-11-08 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor storage device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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