JPS6156176A - エポキシ化合物の製造方法 - Google Patents
エポキシ化合物の製造方法Info
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- JPS6156176A JPS6156176A JP59177594A JP17759484A JPS6156176A JP S6156176 A JPS6156176 A JP S6156176A JP 59177594 A JP59177594 A JP 59177594A JP 17759484 A JP17759484 A JP 17759484A JP S6156176 A JPS6156176 A JP S6156176A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエポキシ化合物の製造方法に関し、詳しくは特
定の錯体を触媒として用いることによりオレフィン等の
炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素から非常に
高い選択率にてエポキシ化合物を効率よく製造する方法
に関する。
定の錯体を触媒として用いることによりオレフィン等の
炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素から非常に
高い選択率にてエポキシ化合物を効率よく製造する方法
に関する。
従来、オレフィンやシクロヘキセンなどをエポキシ化す
る方法としては（１）モリブデンやクロムを触媒とし、
過酸化物で酸化する方法（特開昭５２−３０３６号公報
、同５３−１３１．９９２号公報）、（２）鉄のポルフ
ィリン錯体と酸化剤を用いる方法（Ｊ。
る方法としては（１）モリブデンやクロムを触媒とし、
過酸化物で酸化する方法（特開昭５２−３０３６号公報
、同５３−１３１．９９２号公報）、（２）鉄のポルフ
ィリン錯体と酸化剤を用いる方法（Ｊ。
Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 １０５．５７８６（
１９８３） ）、（３）銅、バナジウムイオン交換ゼオ
ライトと酸素を用いる方法（米国特許第１８２７２２号
明細岩）および（４）モリブデン、バナジウム、タング
ステン、チタンの化合物を触媒とし、α−ノ蔦イドロバ
ーオキシイソ酪酸−級アルコールエステルを用いる方法
（特開昭５２−２１１号公報）などが知られて℃・る。
１９８３） ）、（３）銅、バナジウムイオン交換ゼオ
ライトと酸素を用いる方法（米国特許第１８２７２２号
明細岩）および（４）モリブデン、バナジウム、タング
ステン、チタンの化合物を触媒とし、α−ノ蔦イドロバ
ーオキシイソ酪酸−級アルコールエステルを用いる方法
（特開昭５２−２１１号公報）などが知られて℃・る。
しかしこれらの方法は、いずれも高価な酸化剤を必要と
すること、あるいは酸素を使用１〜ても、エポキシ化合
物の選択率が充分でな（、副生成物が生ずるという欠点
があった。
すること、あるいは酸素を使用１〜ても、エポキシ化合
物の選択率が充分でな（、副生成物が生ずるという欠点
があった。
本発明の目的は、オレフィンなどの炭素−炭素二重結合
を有する不飽和炭化水素から、はぼ１００％の選択率に
てエポキシ化合物を効率よく製造することである。
を有する不飽和炭化水素から、はぼ１００％の選択率に
てエポキシ化合物を効率よく製造することである。
すなわち本発明は、炭素−炭素二重結合を有する不飽和
炭化水素を酸化してエポキシ化合物を製造するにあたり
、反応系に大環状イミンを配位子としたニオブ−酸素錯
体を加えるとともに、酸素の存在下で可視光を照射する
ことを特徴とするエポキシ化合物の製造方法を提供する
ものである。
炭化水素を酸化してエポキシ化合物を製造するにあたり
、反応系に大環状イミンを配位子としたニオブ−酸素錯
体を加えるとともに、酸素の存在下で可視光を照射する
ことを特徴とするエポキシ化合物の製造方法を提供する
ものである。
本発明の方法に用いる大環状イミンを配位子としたニオ
ブ−酸素錯体としては様々なものがあるが、中心金属の
ニオブにポルフィリン環、フタロシアニン環などの大環
状イミン配位子が配位したものである。通常この錯体は
、空気中ではさらに酸素が配位した錯体として存在する
。この錯体の構造式は次のように示すことができる。
ブ−酸素錯体としては様々なものがあるが、中心金属の
ニオブにポルフィリン環、フタロシアニン環などの大環
状イミン配位子が配位したものである。通常この錯体は
、空気中ではさらに酸素が配位した錯体として存在する
。この錯体の構造式は次のように示すことができる。
ＮＮ−
ｈ
なお、この式（Ｉ）において−ＮＮ−は大環状イミン配
位子を示す。従って大環状イミン配位子がポルフィリン
環の場合、この錯体は〔Ｎｂ（ＰＯ′ＦＬ）〕Ｑ０８′
（但し、ＰＱＲはボルフイリ・を示す。）と表わすこと
ができる。また、この錯体の配位子である大環状イミン
としては様々なものがあげられ、例えハホルフイリン、
テトラフェニルポルフィリン。
位子を示す。従って大環状イミン配位子がポルフィリン
環の場合、この錯体は〔Ｎｂ（ＰＯ′ＦＬ）〕Ｑ０８′
（但し、ＰＱＲはボルフイリ・を示す。）と表わすこと
ができる。また、この錯体の配位子である大環状イミン
としては様々なものがあげられ、例えハホルフイリン、
テトラフェニルポルフィリン。
テトラ−ｐ−トリルポルフィリン、３，５−ジーを一ブ
チルフェニルポルフィリン、テトラピリジルポルフィリ
ン、テトラ−ｐ−スルフオフエニルボルフイリン、テト
ラエチルポルフィリン、テトラメチルポルフィリン、フ
タロシアニン、テトラ、スルフオフタロシアニン、オク
タエチルフタロシアニン、オクタメチルフタロシアニン
′ｊ「とがあげられる。
チルフェニルポルフィリン、テトラピリジルポルフィリ
ン、テトラ−ｐ−スルフオフエニルボルフイリン、テト
ラエチルポルフィリン、テトラメチルポルフィリン、フ
タロシアニン、テトラ、スルフオフタロシアニン、オク
タエチルフタロシアニン、オクタメチルフタロシアニン
′ｊ「とがあげられる。
このような大環状イミンを配位子としたニオブ−酸素錯
体は各種の方法により製造することができる。例えばポ
ルフィリンに塩化ニオブ等のニオブ化合物を反応させ、
しかる後に抽出、洗浄、乾燥、精製等を行なえばその過
程で空気酸化されて所望するポルフィリン錯体が得られ
る。またフタロシアニン環を配位子とする場合も同様に
して錯体な得ることができる。
体は各種の方法により製造することができる。例えばポ
ルフィリンに塩化ニオブ等のニオブ化合物を反応させ、
しかる後に抽出、洗浄、乾燥、精製等を行なえばその過
程で空気酸化されて所望するポルフィリン錯体が得られ
る。またフタロシアニン環を配位子とする場合も同様に
して錯体な得ることができる。
一方、本発明の方法に用いる原料は、炭素−炭素二重結
合を有する不飽和炭化水素であるが、具体的にはエチレ
ン、プロピレン、ｎ−ブテン、イツブテン、ペンテン、
ヘキセンなどのオレフインヲハシめ、シクロペンテン、
シクロヘキセンナトのシクロオレフィン、さらにはスチ
レン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、フタ
ジエンなど様々なものをあげることができる。
合を有する不飽和炭化水素であるが、具体的にはエチレ
ン、プロピレン、ｎ−ブテン、イツブテン、ペンテン、
ヘキセンなどのオレフインヲハシめ、シクロペンテン、
シクロヘキセンナトのシクロオレフィン、さらにはスチ
レン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、フタ
ジエンなど様々なものをあげることができる。
本発明の方法では、上述の炭素−炭素二重結合を有する
不飽和炭化水素を原料とし、これに前述した大環状イミ
ンを配位子としたニオブ−酸素錯体を加えて、酸素の存
在下で可視光を照射する。
不飽和炭化水素を原料とし、これに前述した大環状イミ
ンを配位子としたニオブ−酸素錯体を加えて、酸素の存
在下で可視光を照射する。
ここで可視光を照射すると、大環状イミンを配位子とし
たニオブ−酸素錯体が開裂し、さらに存在する酸素によ
って酸化されて、いわゆるスーツく一オキソ錯体なるも
のが形成され、これが触媒として上記原料化合物に作用
し、エポキシ化合物が生成するものと推定される。この
過程の反応機構は明確ではないが、いずれにしても可視
光を照射しないとエポキシ化反応は進行しない。
たニオブ−酸素錯体が開裂し、さらに存在する酸素によ
って酸化されて、いわゆるスーツく一オキソ錯体なるも
のが形成され、これが触媒として上記原料化合物に作用
し、エポキシ化合物が生成するものと推定される。この
過程の反応機構は明確ではないが、いずれにしても可視
光を照射しないとエポキシ化反応は進行しない。
照射すべき可視光は、その強さ、波長等については特に
制限はないが、エポキシ化反応を円滑に進行させるため
には、室内の光だけでは不充分で−４＝ あり、タングステン電灯程度の光を照射すべきである。
制限はないが、エポキシ化反応を円滑に進行させるため
には、室内の光だけでは不充分で−４＝ あり、タングステン電灯程度の光を照射すべきである。
具体的には５００Ｗのタングステン電灯を３０ｃＩＩＬ
程度離して照射すればよい。また波長については用いる
ポルフィリン錯体などの錯体の吸収特性に応じて選定す
ればよいが、例えばテトラ−ｐ−）リルボルフィリン（
ＴＴＰ ）を配位子とするトリーμｍオキソ−ビス［５
，１０，１５，２０−テトラ−ｐ−トリルポルフィナト
ニオブ（Ｖ）］ 〔Ｎｂ（ＴＴｐ）：］。
程度離して照射すればよい。また波長については用いる
ポルフィリン錯体などの錯体の吸収特性に応じて選定す
ればよいが、例えばテトラ−ｐ−）リルボルフィリン（
ＴＴＰ ）を配位子とするトリーμｍオキソ−ビス［５
，１０，１５，２０−テトラ−ｐ−トリルポルフィナト
ニオブ（Ｖ）］ 〔Ｎｂ（ＴＴｐ）：］。
Ｏ１ｌは４００〜５００ｎｍに強い吸収帯をもち、５８
０〜６００ ｎｍに中程度の吸収帯を有する。したがっ
てこのようなポルフィリン錯体を用いるときは、可視光
のほぼ全波長領域にわたって吸収帯があるため、いかな
る種類の可視光も使用可能である。
０〜６００ ｎｍに中程度の吸収帯を有する。したがっ
てこのようなポルフィリン錯体を用いるときは、可視光
のほぼ全波長領域にわたって吸収帯があるため、いかな
る種類の可視光も使用可能である。
本発明の方法では、上記の可視光を酸素の存在下で照射
することが必要であるが、この酸素源としては、酸素ガ
スはもちろん、空気で充分である。
することが必要であるが、この酸素源としては、酸素ガ
スはもちろん、空気で充分である。
またこの酸素はバグリング等により反応系に供給しても
よいが、単に反応系を攪拌するだけでも充分である。し
たがって、反応系を開放系としておき、攪拌しながら反
応を進行させれば、この反応に必要な酸素は充分に供給
されることとなる。
よいが、単に反応系を攪拌するだけでも充分である。し
たがって、反応系を開放系としておき、攪拌しながら反
応を進行させれば、この反応に必要な酸素は充分に供給
されることとなる。
上述の反応ではそのほかの条件は特に制限はなく、各種
状況に応じて適宜定めればよい。例えば反応温度につい
ては低温から高温まで制限はないが、通常は室温〜２０
０℃程度の範囲が好適である。また反応圧力については
常圧〜１０ ｋｆｌ／ｃＴｎ２程度の範囲とすればよい
。さらに、この反応は無溶媒下でも進行するが、溶媒を
用いる場合にはベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水
素やヘキサン。
状況に応じて適宜定めればよい。例えば反応温度につい
ては低温から高温まで制限はないが、通常は室温〜２０
０℃程度の範囲が好適である。また反応圧力については
常圧〜１０ ｋｆｌ／ｃＴｎ２程度の範囲とすればよい
。さらに、この反応は無溶媒下でも進行するが、溶媒を
用いる場合にはベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水
素やヘキサン。
ヘプタンなどの脂肪族炭化水素等を適宜使用すればよい
。
。
なおこの大環状イミンを配位子としたニオブ−酸素錯体
はそのまま反応系に加えて使用すればよいが、シリカ、
アルミナ、シリカ−アルミナ等の担体に担持させて使用
することも可能である。
はそのまま反応系に加えて使用すればよいが、シリカ、
アルミナ、シリカ−アルミナ等の担体に担持させて使用
することも可能である。
以上の如く本発明の方法によれば、オレフィンｔ や
シクロオレフィン、さらにはスチレンなど各種の原料化
合物から空気酸化によって、所望するエポキシ化合物を
ほぼ１００％という極めて高い選択率にて効率よく製造
することができる。
シクロオレフィン、さらにはスチレンなど各種の原料化
合物から空気酸化によって、所望するエポキシ化合物を
ほぼ１００％という極めて高い選択率にて効率よく製造
することができる。
次に本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
参考例（ポルフィリン錯体の調製）
３０（Ｍｌｔの三つロフラスコに５．１０，１５．２０
−テトラ−ｐ−トリルポルフィリン（Ｂ２ＴＴＰ ）
１．０ｇ（１，４９Ｘ １０ ”モル）とベンゾニトリ
ル１８０１を入れ、窒素を吹き込み溶存酸素を置換した
後、五塩化ニオブ４ｇ（１，４８×１０−２モル）を加
えた。窒素気流下、油浴温度２００℃で１５時間加熱攪
拌した後、溶媒を減圧留去し、残渣をクロロホルムで抽
出した。次いで抽出液を水で数回洗浄した後、炭酸カリ
ウムで乾燥しクロロホルムを減圧下で除去した。さらに
得られた残渣を少量のクロロホルムに溶かし、クロロホ
ルムで湿式充填し７たシリカゲルカラム（ワコーゲルｃ
−１００．活性度Ｉ）φ３０ｍＸ１７０ｍを用いてクロ
マトグラフ法により分離精製した。展開は最初にクロロ
ホルムで行ない、次いでクロロホルム：メタノール＝８
：２の混合溶媒で行なった。クロロホルム−メタノール
留出液を減圧下で蒸発乾固し、ベンゼンで再結晶して赤
紫色の針状結晶トリーμｍオキソ−ビス［： ５，１０
．１５．２０−テトラ−ｐ−）リルボ７ｔ、フイナトー
４ブ（Ｖ’） ） （（Ｎｂ（ＴＴＰ ）：）Ｑ Ｏｓ
） ３７２■（収率３１．８％）を得た。
−テトラ−ｐ−トリルポルフィリン（Ｂ２ＴＴＰ ）
１．０ｇ（１，４９Ｘ １０ ”モル）とベンゾニトリ
ル１８０１を入れ、窒素を吹き込み溶存酸素を置換した
後、五塩化ニオブ４ｇ（１，４８×１０−２モル）を加
えた。窒素気流下、油浴温度２００℃で１５時間加熱攪
拌した後、溶媒を減圧留去し、残渣をクロロホルムで抽
出した。次いで抽出液を水で数回洗浄した後、炭酸カリ
ウムで乾燥しクロロホルムを減圧下で除去した。さらに
得られた残渣を少量のクロロホルムに溶かし、クロロホ
ルムで湿式充填し７たシリカゲルカラム（ワコーゲルｃ
−１００．活性度Ｉ）φ３０ｍＸ１７０ｍを用いてクロ
マトグラフ法により分離精製した。展開は最初にクロロ
ホルムで行ない、次いでクロロホルム：メタノール＝８
：２の混合溶媒で行なった。クロロホルム−メタノール
留出液を減圧下で蒸発乾固し、ベンゼンで再結晶して赤
紫色の針状結晶トリーμｍオキソ−ビス［： ５，１０
．１５．２０−テトラ−ｐ−）リルボ７ｔ、フイナトー
４ブ（Ｖ’） ） （（Ｎｂ（ＴＴＰ ）：）Ｑ Ｏｓ
） ３７２■（収率３１．８％）を得た。
実施例１
第１図に示すような二つの容器１，２を結合した反応器
を用いて以下に示す操作を行なった。まず容器１（内容
積２０１１Ｌｔ）に、上記参考例で得られた（ Ｎｂ（
ＴＴｐ） ）、ｏ、 ４．７〜（２，９９Ｘ １０−
”モル）、シクロヘキセン３ｉｄ（２，９６Ｘ １０−
２モル）およびトルエン１ゴを入れ、この容器１を耐熱
ガラス製湯浴（パイレックス製湯浴）に浸し、空気の存
在下で横から５００ Ｗの電灯にて光を照射しながら４
５℃にて１０時間加熱攪拌した。反応終了稜、容器１上
部の開放部３を封管し、容器２を液体窒素に浸した状態
で蒸留して、生成物を容器２に集めた。ここで得られた
生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、
生成物はすべてシクロヘキセンオキシド（選択率１００
％）であることがわかった。なお、このシクロヘキセン
オキシドの収量は１１．４１ｎ９であり、触媒である［
Ｎｂ（’Ｉ’ＴＰ） ：］９ ｏ８に対して３８９０％
の収率であった。
を用いて以下に示す操作を行なった。まず容器１（内容
積２０１１Ｌｔ）に、上記参考例で得られた（ Ｎｂ（
ＴＴｐ） ）、ｏ、 ４．７〜（２，９９Ｘ １０−
”モル）、シクロヘキセン３ｉｄ（２，９６Ｘ １０−
２モル）およびトルエン１ゴを入れ、この容器１を耐熱
ガラス製湯浴（パイレックス製湯浴）に浸し、空気の存
在下で横から５００ Ｗの電灯にて光を照射しながら４
５℃にて１０時間加熱攪拌した。反応終了稜、容器１上
部の開放部３を封管し、容器２を液体窒素に浸した状態
で蒸留して、生成物を容器２に集めた。ここで得られた
生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、
生成物はすべてシクロヘキセンオキシド（選択率１００
％）であることがわかった。なお、このシクロヘキセン
オキシドの収量は１１．４１ｎ９であり、触媒である［
Ｎｂ（’Ｉ’ＴＰ） ：］９ ｏ８に対して３８９０％
の収率であった。
実施例２
実施例１において、ＣＮｂ（ＴＴｐ） ）、 Ｏｓの量
を５．０６ｍｙ （３，２２Ｘ １０−’モル）、反応
温度を２５℃、反応時間を１５時間としたこと以外は、
実施例１と同様の操作を行なった。その結果、シクロヘ
キセンオキシドが選択率１００％で得られ、その収量は
５．６７〜であり、触媒に対して１８００％の収率であ
った。
を５．０６ｍｙ （３，２２Ｘ １０−’モル）、反応
温度を２５℃、反応時間を１５時間としたこと以外は、
実施例１と同様の操作を行なった。その結果、シクロヘ
キセンオキシドが選択率１００％で得られ、その収量は
５．６７〜であり、触媒に対して１８００％の収率であ
った。
比較例１
実施例２において、（Ｎｂ（ｒ’ｒＰ）：１ｓｏｓを用
イなかったこと以外は実施例２と同様の操作を行なった
。
イなかったこと以外は実施例２と同様の操作を行なった
。
その結果、シクロヘキセンオキシドは全く得られなかっ
た。
た。
比較例２
実施例２において、［ｂ（ＴＴＰ） ）Ｑ Ｏｓの量を
４．６８■（２，９８ｘ １０−’モル）とし、かつ酸
素の存在しない条件下で反応を行なったこと以外は、実
施例２と同様の操作を行なった。その結果、シクロヘキ
センオキシドは全く得られなかった。
４．６８■（２，９８ｘ １０−’モル）とし、かつ酸
素の存在しない条件下で反応を行なったこと以外は、実
施例２と同様の操作を行なった。その結果、シクロヘキ
センオキシドは全く得られなかった。
比較例３
実施例２において、〔Ｎｂ（ＴＴＰ）〕、Ｏｓの量を５
．３２η（３，３９Ｘ Ｉ Ｏ−’モル）とし、かつ電
灯を照射しなかったこと以外は、実施例２と同様の操作
を行なった。その結果、シクロヘキセンオキシドは全く
得られなかった。
．３２η（３，３９Ｘ Ｉ Ｏ−’モル）とし、かつ電
灯を照射しなかったこと以外は、実施例２と同様の操作
を行なった。その結果、シクロヘキセンオキシドは全く
得られなかった。
実施例３
実施例２において、〔Ｎｂ（ＴＴＰ）％Ｏｓの代わりに
トリーμｍオキソ−ビス［５，１０，１５，２０−テト
ラ（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニルポルフィナトニオ
ブ（Ｖ） ） （［：Ｎｂ（ＴＢｐｐ））ｓｏｎ ）を
８．６３１１１９（３，３６Ｘ １０−’モル）用いた
こと以外は、実施例２と同様の操作を行なった。その結
果、シクロヘキセンオキシドが選択率１００％で得られ
、七１ つ収量。ｉ９．８６１”９であり、触媒ゆ
対。ア。７５０％の収率であった。
トリーμｍオキソ−ビス［５，１０，１５，２０−テト
ラ（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニルポルフィナトニオ
ブ（Ｖ） ） （［：Ｎｂ（ＴＢｐｐ））ｓｏｎ ）を
８．６３１１１９（３，３６Ｘ １０−’モル）用いた
こと以外は、実施例２と同様の操作を行なった。その結
果、シクロヘキセンオキシドが選択率１００％で得られ
、七１ つ収量。ｉ９．８６１”９であり、触媒ゆ
対。ア。７５０％の収率であった。
実施例４
実施例１において、シクロヘキセンの代わりにスチレン
２ ｍｌを用い、トルエンの代わりにベンゼア １ ａ
ｔを用い、かッＣＮｂ（’ｌ’ＴＰ） ’ＩＩＩ Ｏａ
の量を５．】８■（３−３ｏ Ｘ １０−’モル）とし
たこと以外は、実施例１と同様の操作を行なった。その
結果、スチレンオキシドが選択率１００％で得られ、そ
の収量は３．０ｒｎ９であり、触媒に対して７６０％の
収率であった。
２ ｍｌを用い、トルエンの代わりにベンゼア １ ａ
ｔを用い、かッＣＮｂ（’ｌ’ＴＰ） ’ＩＩＩ Ｏａ
の量を５．】８■（３−３ｏ Ｘ １０−’モル）とし
たこと以外は、実施例１と同様の操作を行なった。その
結果、スチレンオキシドが選択率１００％で得られ、そ
の収量は３．０ｒｎ９であり、触媒に対して７６０％の
収率であった。
実施例５
実施例１において、シクロヘキセンの代わりにヘキセン
−１を２ ｍｌ用い、トルエンの代わりにベンゼンを１
１１！用い、かつ（Ｎｂ（ＴＴｐ））、ｏ、 ノ量を４
．５５ Ｍ９（２，９Ｘ １０−’モル）としたこと以
外は、実施例１と同様の操作を行なった。その結果、１
．２−エポキシヘキサンが選択率１００％で得られ、そ
の収量は１１．３１１ｐであり、触媒に対して３９００
％の収率であった。
−１を２ ｍｌ用い、トルエンの代わりにベンゼンを１
１１！用い、かつ（Ｎｂ（ＴＴｐ））、ｏ、 ノ量を４
．５５ Ｍ９（２，９Ｘ １０−’モル）としたこと以
外は、実施例１と同様の操作を行なった。その結果、１
．２−エポキシヘキサンが選択率１００％で得られ、そ
の収量は１１．３１１ｐであり、触媒に対して３９００
％の収率であった。
実施例６
実施例１において、〔Ｎｂ（ＴＴＰ））、０８の量を５
．３６■（３，４１Ｘ １０−’モル）とし、トルエン
量を１．５ｙ＋／とじ、反応温度を５０℃にするととも
に反応時間を５時間にしたこと以外は、実施例１と同様
の操作を行なった。その結果、シクロヘキセンオキシド
が選択率１００％で得られ、触媒に対して５１９％の収
率であった。
．３６■（３，４１Ｘ １０−’モル）とし、トルエン
量を１．５ｙ＋／とじ、反応温度を５０℃にするととも
に反応時間を５時間にしたこと以外は、実施例１と同様
の操作を行なった。その結果、シクロヘキセンオキシド
が選択率１００％で得られ、触媒に対して５１９％の収
率であった。
次に、蒸留後の残渣にシクロヘキセン３ｄおよびトルエ
ン１．５ｄを加え、上記の温度１時間にて電灯を照射し
ながら反応を行なった。得られた生成物を分析したとこ
ろ、シクロヘキセンオキシドが選択率１００％、触媒に
対する収率５０９％であることがわかった。
ン１．５ｄを加え、上記の温度１時間にて電灯を照射し
ながら反応を行なった。得られた生成物を分析したとこ
ろ、シクロヘキセンオキシドが選択率１００％、触媒に
対する収率５０９％であることがわかった。
実施例７
実施例１において、ＣＮｂ（ＴＴＰ） ）Ｑ Ｏ，の景
を４．８２■（２，９Ｘ １ ｏ−’モル）とし、反応
温度を４０’Ｃ。
を４．８２■（２，９Ｘ １ ｏ−’モル）とし、反応
温度を４０’Ｃ。
反応時間を３時間とするとともに、空気を１０ｍ／分に
てバブリングしたこと以外は、実施例１と同様の操作を
行なった。その結果、シクロヘキセンオキシドが選択率
１００％で得られ、触媒に対して１３８０％の収率であ
った。
てバブリングしたこと以外は、実施例１と同様の操作を
行なった。その結果、シクロヘキセンオキシドが選択率
１００％で得られ、触媒に対して１３８０％の収率であ
った。
＝１２−
第１図は実施例に用いた反応器の概略を示す説明図であ
る。
る。
Claims (1)
- （１）炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素を酸
化してエポキシ化合物を製造するにあたり、反応系に大
環状イミンを配位子としたニオブ−酸素錯体を加えると
ともに、酸素の存在下で可視光を照射することを特徴と
するエポキシ化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59177594A JPS6156176A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | エポキシ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59177594A JPS6156176A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | エポキシ化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6156176A true JPS6156176A (ja) | 1986-03-20 |
| JPH0361670B2 JPH0361670B2 (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=16033719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59177594A Granted JPS6156176A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | エポキシ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6156176A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003035630A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-05-01 | Arco Chemical Technology, L.P. | Direct epoxidation process using a mixed catalyst system |
| CN1300125C (zh) * | 2001-10-19 | 2007-02-14 | 阿克奥化学技术有限公司 | 使用混合催化剂体系进行直接环氧化的方法 |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP59177594A patent/JPS6156176A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003035630A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-05-01 | Arco Chemical Technology, L.P. | Direct epoxidation process using a mixed catalyst system |
| CN1300125C (zh) * | 2001-10-19 | 2007-02-14 | 阿克奥化学技术有限公司 | 使用混合催化剂体系进行直接环氧化的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0361670B2 (ja) | 1991-09-20 |
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