JPS6151505A - 孔の中心位置検出装置 - Google Patents

孔の中心位置検出装置

Info

Publication number
JPS6151505A
JPS6151505A JP17323084A JP17323084A JPS6151505A JP S6151505 A JPS6151505 A JP S6151505A JP 17323084 A JP17323084 A JP 17323084A JP 17323084 A JP17323084 A JP 17323084A JP S6151505 A JPS6151505 A JP S6151505A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
light receiving
center position
light
receiving element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17323084A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0574761B2 (ja
Inventor
Shigeto Okubo
大久保 成人
Yukiro Tsuji
辻 征郎
Minoru Yoshihara
吉原 稔
Keigan Ashihara
芦原 啓元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP17323084A priority Critical patent/JPS6151505A/ja
Publication of JPS6151505A publication Critical patent/JPS6151505A/ja
Publication of JPH0574761B2 publication Critical patent/JPH0574761B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は例えばプリント基板の穴に電子部品を挿入す磁
電子部品自動挿入機において、プリント基板の孔中心位
置の挿入位置からのずれ量(補正量)を検出する際に利
用して好適な孔の中心位置検出装置に関する。
〔発明の背景〕
電子部品自動挿入機等においては、プリント基板製造時
の基板孔位置の誤差やプリント基板のX−Yテーブルへ
の固定時に生じる基板孔位置のずれなどのために、電子
部品の挿入位置と基板孔中心位置とが一致しなくなると
、挿入失敗を生じてしまう。
そこで、従来は投光部を設け、この投光部から照射され
た光束を受光する受−yt、蘭を、光束の光軸を通フ、
かつ検出のための直角座標にそれぞれ平行な2つの直腺
で区切られた4つの区域に分割し、その各部分に例えば
ホトダイオード等からなる受光素子を配置した4分割受
光素子を設げる。そして、投ft、部からプリント基板
孔を通した光を4分割受光素子の受光面にあて、受光量
に比例したそれぞれの受光素子の出力電圧が等しくなる
よう、光束に対しプリント基板を相対的に移動させる。
これにより、電子部品の挿入位置とプリント基板゛ 孔
中心位置とを一致させる。
第1図はその主要部の一例を示したものであり、XYテ
ーブルL上にプリント基板pcを位置決め7固定し、基
板PCの孔りの上部に投光器FDを設パ装置しである。
基板PCの孔りの下方には4分割受光素子FTを設置す
る。これにより、投光器FDからの光は基板孔りを通し
て4分割受光素子FTに照射される。4分割受光素子F
Tを構成する各各の受光素子I’TI、PT2.PT5
.PTAは、受けた光量に比例して出力電圧を発生する
。この出力電圧を処理することによって、基板孔位置(
XY座標)を測定する。この位置データは図示しない制
御部に伝送され、予め入力されている基のデータの修正
データとして利用される。
この種の技術は特開昭57−18592号、特開昭58
−157193号に紹介されている。
この穏の光学系を利用した孔の中心位置検出装置には、
特に投光部の照度の減衰が他の部分の経年変化に比し、
きわめて早いという光学系特有の現象がある。照度の減
衰が生じると、光軸を孔の中心に収束させる精度が低下
し、位置決め時間が長くかかると共に、収束不可が多く
発生してしまう。そこで、この対策として従来は、定期
的に投光部の照度を検査し、取り換え等を行なっていた
〔発明の目的〕
本発明は長期間に渡って初期の精度を維持できる光学系
を使用した孔の中心位置検出装置を得ろことを目的とす
る。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するため本発明の特徴とするところは
、光学系の状態を自己診断し、その結果忙応じて孔の中
心位置を検出する条件を変更することにある〇 本発明は投光部と、この投光部より投光された光束を受
光する4分割受光素子で構成した受光部と、前記光束の
経路途中に当該光束に対し相対的に移動可能に配置さ九
当該光束を通過する透孔な有する被検出部材と、前記受
光部からの出力に応じ前記光束と前記被検出部材との位
置を相対的に移動制御する移動制御手段とを備えたもの
を対象とする。そして、正常状態時における前記受光部
の状態データを記憶する基準データ記憶部を設ける。状
態データは受光部の各受光素子の出力データであつ【も
よいし、各受光素子の出力データの平均等であってもよ
い。更に、基準データ記憶部の状態データは検出した状
態データで順次更新するようにしてもよい。また、検出
した現在の受光部の出力データと前記基準データとを比
較する比較手段、およびこの比較結果が予め定めた範囲
を越えたか否かを判定する判定手段を設ける。更に、こ
の判定結果忙応じ、孔の中心位置検出条件を変更する条
件変更手段を設ける。この変更する条件は、元軸と孔と
のずれ量を算出する際の各種変数であってもよく、投光
部の照度であってもよい。また、これら変数と投光部の
照度の両者であってもよい。
〔発明の実施例〕
まず、本発明の一実施例として、電子部品自動挿入機に
おける4分割受光素子を用いた基板孔位置補正装置の全
体構成を第2図、第3図、第4図によって説明する。2
aはスポット光束を発する投光部である。21:lはス
ポット光束を発する投光部2aより発せられるスポット
光束である。2Cはプリント基板で、2dはプリント基
板2Cに設けた孔である。2eはプリント基板2Cの孔
2dより漏れた光束である。2fはレンズで2gが4個
の受−yt、素子、即ち、4分割受光素子を持つ受光部
である。2A、2B、2(!、2Dは増幅回路、2Eは
アナログ・デジタル変換器である。2Fはマイクロコン
ピュータであ)、演算部FM、  メモリ部72.制御
部IF3とからなる。2Gはサーボ駆動回路(サーボ系
ンであり、2HがX軸サーボモータ、2JがX軸サーボ
モータ、2hがX−Yテーブルである03aは電子部品
Pを挿入する挿入ハンド、3′bは電子部品リードビン
曲げ部(クリンチ)である。
第4図は第2図に示した受光部2g内の4分割受光素子
を示したものであり、4a、  41)、  4C。
4dは各々の受光素子を示す。
次に動作説明をする。まず、スポット光束21:lを発
生する投光部2aから発するスポット光束2bの光軸↑
と垂直になるよう〈配置されたプリント基板2Cの孔2
dに、前記スポット光束2bを照射する。そうすると、
前記スポット光束2bのうち、プリント基板2Cの孔2
dよシ漏れた光束2eが、レンズ2fによって4分割受
光素子AN、 4b。
4Q、tidを持つ受光部2gにプリント基板2Cの孔
2dの像を作る。このような光学′系により、プリント
基板2Cの孔2dのずれと比例して受光部2gの4分割
受光素子aa、A′b、+IIC,daの受光面上でも
光束がずれることになり、4分割受光素子aa、  7
11)、  iic、  4dの各々の出力も変化する
。この受光部′2gで受光した光束は、4分割受光素子
4a、4’b、da、4dの各々の受光素子”J  A
b、’ da、4dで同時に検知され、増幅回路2A、
2B、20,2Dで増幅され、アナログ・デジタル変換
器2Eでデジタル量に変換され、マイクロコンピュータ
2Fに取り込まれる。
マイクロコンピュータ2Fは後述するアルゴリズムに基
づいた変換式で補正量を演算し、その値を指令値として
サーボ駆動回路2Gに伝え、サーボモータ2H,2,7
を駆動し、X−Yテーブル2hに補正をかけて、電子部
品Pの挿入位置とプリント基板の孔中心位置とを一致さ
せる。これにより、電子部品自動挿入機は所定の電子部
品Pをプリント基板2Cの所定位置の孔に挿入すること
ができる。
第8図はマイクロコンピュータ2Fの処理動作を示すフ
ローチャートであり、以下このフローチャートについて
説明する。このフローチャートをステップ毎に説明する
と、まずステップ8−1では、マイクロコンピュータ2
Fよりアナログ−デジタル変換器2Eに変換開始信号を
出力し、この基板孔位fi2clでの基板孔位置補正を
開始する。
次に、ステップ8−2では、ステップ8−1でデジタル
変換された4個の各受光素子4&、41)。
4Q、、fLdの出力データを取り込み、これをマイク
ロコンピュータ2F内のメモリ部F2に記憶する。ステ
ップ8−5ではステップ8−2と同じ基板孔位置での4
9の各受光素子n2L、ab、  ac。
4dの出力データを再度取り込み、メモリ部F2、  
に記憶する。ステップ8−4ではステップ8−2゜8−
3で記憶したデータをメモリ部F2より読み出し、その
差の絶対値をマイクロコンピュータ2F内の演算部F1
で算出し−これが予め定めた 値R以下かどうかを判断
する。もし、閾値R以下ならばステップ8−5へ進み、
閾値Rより太きければ、ステップ8−1に戻夛、実行し
直す。ステップ8−5では一マイクロコンピュータ2P
内の演算部?1で、変換式 %式% に基づき、補正量を演算する。ステップ8−6では、ス
テップ8−5で求めたX、  Y両方向の補正量が前も
って設定しておいた収束完了範囲6以内であるかどうか
を判断する。もし、両方共範囲B以内であれば、ステッ
プ8−11へ進み、片方でも範囲Bより外であれば、ス
テップ8−7へ進む。
ステップ8−7では、ステップ8−5で求めたX、  
Y両方向の補正量分だけ、マイクロコンピュータ2Fよ
りX−YテーブルのX、  Y両軸の各々のサーボモー
タの駆動回路2Gへ信号を出し、X−Yテーブル、即ち
、プリント基板2Cの孔2dへ補正をかげる。ステップ
8−8ではステップ8−7を補正回数1回と考え、補正
回数をカウントする。ステップ8−9では、この補正回
数が、前もって設定しである閑値P回以上であるか否か
を判断する。もし、闇値P以上であれば、ステップ8−
10へ進み、悶値P未満ならば、ステップ8−1より実
行し直す。ステップ8−10では、補正回数がP以上と
なった事で収束しないと判断し異常表示をCRT画面等
に行う。ステップ8−11では、ステップ8−6で補正
量が範囲B以内に収まった場合、収束したと考え、基板
孔位置補正動作を完了する。ステップ8−12では、収
束した時のデータをメモリ部F2から読み出す。ステッ
プ8−13では、各受光素子aa、  ab、  ii
C。
4dのデータをチェックし、異常条件を持っているかど
うか判断する。これは、各受光素子4a。
4b、AQ、adが所定以上の大きさのデータを出力し
ているか否かによって判断できる。もし、異常条件を持
っていれば、ステップ8−14へ進む。ステップ8−1
4では、同じ基板孔位置ずれ量の補正が完了した位置)
での4個の受光素子da。
4b、AQ、Adのデータを取り込み、メモリ部F2に
記憶する。ステップ8−15では、その取9込み直した
回数をカウントする。ステップ8−16では、取り込み
直した回数が、閣値Q回以上かどうか判断する。Q回以
上であれば、ステップ8−17で異常表示をCRT画面
等に出力し、そうでなければ、ステップ8−13から実
行し直す。
ステップ8−13において〜6受光素子41L1Ab、
  4c、44が所定以上のデータを出力し、これらが
異常条件を備えていないと判断されると、ステップ8−
18へ進む。ステップ8−18では、ステップ8−13
で正常なデータだと判断された4個の受光素子dB、、
  Ab、  j!Q、  4(Lのデータを演算部F
1で平均する。ステップ8−19では、ステップ8−1
8で求めた平均値σをメモリ部F2に記憶する。ステッ
プ8−20では、前回、定数Aと収束完了範囲Bを設定
した時のデータの平均値σをメモ+)mv2より読み出
す。ステップ8−21では、平均値C′をメモリ部F2
より読み出し、変換式 %式%(3) に基づき、演算部F1で2を求める。ステップ8−22
では、平均値C°が平均値Cの±X%以内か、即ち、ス
テップ8−21で求めた2が±X以内かを判断する。も
し、±X以内であればステップ8−23へ、そうでなげ
ればステップ8−24へ進む。ステップ8−23は、ス
テップ8−22で平均値C°が平均値Cの±X%以内だ
と判断し、投光部2aの光源の照度変化が許容値以内で
あり、定数Aと収束完了範囲Bはその1′!で良いこと
になる。ステップ8−24では、平均値C′が平均値O
の±X%以外だった場合に、変換式 %式%(4) に基づき、新しい定数と収束完了範囲を演算部F1で求
める。ステップ8−25では、メモリ部F2に記録され
ている定数Aと収束完了範囲Bを新しい定数Xと収束完
了範囲ゴに変更する。また、新し−い定数lと収束完了
範囲ゴを設定したこの基板孔位置での4個の受光素子デ
ータの平均値C°で平均値Cを変更する。
以上は制御が収束した時−即ち、基板孔位置補正が完了
した時の、各受光素子AeL、A1:I、  AQ。
4dのデータを取り込み、これを平均する。そして、こ
れを前回、定数Aや収束完了範囲Bを設定した時の平均
値と比較し、定数Aと収束完了範囲Bを投光i2aの光
源の寿命に伴う照度変化に対応して変更しようとするも
のである。この結果、光源の寿命に伴う照度変化に影響
を受けることなく、基板孔位置補正の精度を保持出来る
第3図は他の例を示しだものでちυ、挿入軸Sよジ4分
割受光素子2gを一定距離t(オフセット量]だげ離し
て設置することで、電子部品リードピンの挿入、カット
、曲げなどの動作と干渉せず、4分割受光素子の取り付
け、取りはずしゃ調整を簡単にしたものであろ0尚、オ
フセット量りは、マイクロコンピュータ2Fでの補正量
演算の際に加えて演算し、補正をかけるようにする。
また、第4図に示すように4分割受光素子2gの受光素
子da、abと受光素子AQ、44の境をX−Yテーブ
ルのX軸と平行に、かつ、受光素子A’b、4cと受光
素子4d、Aaの境をY軸と平行になるように4分割受
光素子を調整して設置することによって、所定のアルゴ
リズムに基づきマイクロコンピュータ2Fが補正量を演
算するので、各々の受光素子間の感度誤差を吸収し、装
置の信頼性を向上することができる。
また、受光側にレンズ2fを用いて受光するようにした
ことにより、第5図に示すように、プリント基板の微小
なずれを4分割受光素子2gの受光面上でも検知出来る
よ5になっており、プリント基板2Cの真近まで、受光
部2gを近づけなくてもプリント基板の孔2dのずれに
比例したずれ栄を検出できるのでX−Yテーブル下側の
スペースを拡〈取れる。
また、補正量に対するX方向成分の特性は第6肉に示す
ようになる(補正量−Y方向成分特性のグラフも同様)
。そこで、リニアな部分6aとそうでない部分6bで、
マイクロコンピュータ2Fでの演算式の定数を変えてや
るようにすれば、収束完了範囲Bまでの収束時間を短く
出光る。第9図にそのフローチャートを示す。この図に
おいて、第8図と同符号で示したステップは同様の処理
内容を有したものであう、その説明を省略する。すなわ
ち、この図において新たに追加されたステップは、ステ
ップq−1,9−2,9−3である。
ステップ9−1においてはX軸補正量に定数Aを乗し、
ステップ9−2ではこの値の絶対値が予め定めた範囲内
であるか否かによって、IJ ニアな部分6aK4るか
否かを判定する。そして、リニアな部分6aにあると判
定された場合にはステップ8−5の処理へ進み、そつで
ない場合はステップ9−3へ進み、+3エアでない部分
6bに対応した演算を実行する。
1だ、一般に収束完了範囲を小さくする程、補正に要す
る時間が長くなる傾向にあるが、マイクロコンピュータ
2Fで補正量を演算し、X−Yテーブル2hのサーボ系
(2G、  2H,2J)に補正をかげているので、必
要な補正精度と挿入タクトのかね合いよりe適な収束完
了範囲を自由かつ面単に設定出来、マイクロコンピュー
タ2Fのプログラミングによす、電子部品自動挿入機の
持つ補正精度に関係する挿入率と挿入タクトの2つの評
価項目に対し、最適な制御を適応的に用いることが出来
ろ◇ 第7肉は本発明の他の実施例を示したものであり、8A
は、スポット光束2)を発する投光像aの光源の電源電
圧制御回路である。前記したものは光源の照度変化の影
響に対応するため、定数Aと収束完了範囲Bを変更する
場合について説明したが、これは光源の電源電圧を制御
することで一定の照度を保持し、一定の定数と収束完了
範囲で対応しようとするものである。すなわち、基板孔
位置補正が完了した位置での各受光素子4a、 4b。
4Q、adのデータ平均値を、定数Aと収束完了範囲B
を設定した時の平均値と比較し、これにより光源の電源
電圧を制御し、光源の照度を一定に保持するよ5にした
ものである。第10図にその70−チヤー′トを示す。
ステップ8−22までま第8図に示したものと同様であ
るので説明を省略する。ステップ10−1では、ステッ
プ8−22で平均値Cが平均値Cの±X%以内なので許
容範囲内に収まっていると判断して、光源の電源電圧は
そのままとする。ステップ10−2ではステップ8−2
5で平均値Cが平均値Cの±X%以外だったので許容範
囲外だとして、光源の電源電圧を一定擾ずつ制御する。
そして、ステップ1o−3で再度缶受光素子a’a、 
 413,4c、  a(1のデータを取り込み、ステ
ップ8−18より実行を繰り返し、基板孔位置補正が完
了した位置での現在の各受光素子4a、4b、4Q、d
dのデータの平均値C゛が定数Aと収束完了範囲Bを設
定した時の平均値Oの±X%以内に収束するようにした
ものである。
第11囚は本発明の更に他の実施例を示したものでらり
、装置構成は第7図と同様である。これは第8図と第1
0図に示したもののそれぞれの特徴を生かしたものであ
る。すなわち、一般的に光源の照度が落ち過ぎると、外
乱光等によるノイズの影響を受けやすくなり、精度的に
問題となる場合が考えられる。そこで、この実施例にお
いては、光源の照度変化を基板孔位置補正完了時の各受
光素子4a、+11)、4Q、Adのデータの平均値の
変化としとらえ、光源の照度変化に対応して定数と収束
完了範囲の値を変更する。しかし、照度が任意の閾値以
下になった場合には、光源の電源電圧制御回路8Aで任
意の開催以上式照度を上げて、外乱光等のノイズにも影
響されないようにしたものである。第11図において、
第10−と相異する点はステップ11−1にある。ステ
ップ8−18では基板孔位置補正完了時の各受光素子の
データがステップ8−13で異常はないと判断された場
合、各受光素子のデータを平均する。ステップ8−19
は、その平均値じをメモリ部P2に記憶する。そして、
ステップ11−1で現時点での各受光素子のデータの平
均値C゛が、任意の閾値7以上か否かを判断する。もし
、これが7以上ならば、ステップ8−20へ進み、もし
1未満ならば、ステップ12−2に進む。
ステップ8−20以降は第8図のフローチャートと同じ
であり・、またステップ11−2以降も第11図のフロ
ーチャートと同じであるので説明を省略する。
この様に照度変化に対応して定数Aと収束完了範囲Bを
変更するものと、照度変化に対し光源の電源電圧を制御
し、照度を許容範囲内に収めるものとを併用することに
よって、自動的に光源の寿以上、実施例のよ5に構成子
れば、光学系の光源の照度の減衰に伴なう照度変化に影
響を受けることなく基板孔位置補正の精度を保持できる
。すなわち、より長期間に渡って初期の精度を維持でき
るため、定期検査の期間を大幅く長くでき、極めて秤済
的となる。
なお、実施例においては、制御の主要部をマイクロコン
ピュータで構成した場合について説明したが、これは同
様の機能を達成するものであれば他のものであってもよ
いことは明らかである。
また、実施例においては、定数A、収束完了範囲B、あ
るいは投光部光源の電源電圧の調整等の要否判定を毎回
実行する場合について説明したカζこの毎回実行は必須
ではなく、間欠的に実行するものであってもよく、また
モード設定操作によって実行するよう圧してもよい。
更に、実施例は電子部品の挿入装置を例に取って説明し
たが、本発明はこれらのものに限定されるものではなく
、孔の中心位置を検出するという広い分野に渡ってその
適用は可能でらる0〔発明の効果〕 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、より
長期的 渡って初期の精度を維持できる孔の中心位置検
出装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は光学系を利用した孔の中心位置検出装置の概略
を示す融、第2図は本発明の一実施例を示す全体構成図
、第3図は挿入軸と受光部との関係内、第4図は受光部
とXYテーブルとの関係を示す図、第5陶は基板孔のず
れと受光部面上でのずれの関係を示す図、第6図は補正
量とX方向成分との特性図、第7図は本発明の他の実施
例を示す図、第8図は不発明の一実施例を示すフローチ
ャニド、@9r!XJは本発明の他の実施例を示すフロ
ーチャート、第10囚、第11内は本発明の更に他の実
施例を示すフローチャートである。 2a:投光部、2g二二元光、2c:被検出部材、2H
,2J:サーボモータ、2F二マイクロコンピユータ、
7t;演算部、F′2:記憶部、F′3$I 図 7      s ネ 5 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、投光部と、この投光部より投光された光束を受光す
    る4分割受光素子で構成した受光部と、前記光束の経路
    途中に当該光束に対し相対的に移動可能に配置され、当
    該光束を通過する透孔を有する被検出部材と、前記受光
    部からの出力に応じ前記光束と前記被検出部材との位置
    を相対的に移動制御する移動制御手段とを備えたものに
    おいて、正常状態時における前記受光部の状態データを
    記憶する基準データ記憶部と、検出した現在の前記受光
    部の出力データと前記基準データとを比較する比較手段
    と、当該比較手段の比較結果が予め定めた範囲を越えた
    か否かを判定する判定手段と、当該判定手段の判定結果
    に応じ孔の中心位置検出条件を変更する条件変更手段と
    を具備したことを特徴とする孔の中心位置検出装置。 2、条件変更手段は孔の中心位置検出に必要な変数を変
    更するものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の孔の中心位置検出装置。 3、条件変更手段は投光部に供給される電源の電圧を変
    更するものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の孔の中心位置検出装置。 4、条件変更手段は孔の中心位置検出に必要な変数と、
    投光部に供給される電源の電圧とを変更するものである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の孔の中心
    位置検出装置。 5、基準データは4分割受光素子の各受光素子の出力デ
    ータであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の孔の中心位置検出装置。 6、基準データは4分割受光素子の各受光素子の出力デ
    ータを平均したものであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の孔の中心位置検出装置。 7、基準データは検出された現在のデータで更新される
    ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の孔の中心位置検出装置。
JP17323084A 1984-08-22 1984-08-22 孔の中心位置検出装置 Granted JPS6151505A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17323084A JPS6151505A (ja) 1984-08-22 1984-08-22 孔の中心位置検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17323084A JPS6151505A (ja) 1984-08-22 1984-08-22 孔の中心位置検出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6151505A true JPS6151505A (ja) 1986-03-14
JPH0574761B2 JPH0574761B2 (ja) 1993-10-19

Family

ID=15956555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17323084A Granted JPS6151505A (ja) 1984-08-22 1984-08-22 孔の中心位置検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6151505A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6329887A (ja) * 1986-07-24 1988-02-08 Tokyo Keiki Co Ltd パタ−ン検査装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6329887A (ja) * 1986-07-24 1988-02-08 Tokyo Keiki Co Ltd パタ−ン検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0574761B2 (ja) 1993-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20030044058A1 (en) Reticle inspection apparatus
US6160612A (en) Scanning type exposure apparatus, position control apparatus, and method therefor
CN115754994A (zh) 激光雷达误差标定方法、装置、设备及存储介质
US20070171805A1 (en) Optical disc apparatus and laser power control method
JPS6151505A (ja) 孔の中心位置検出装置
JPH07254543A (ja) 縮小投影露光装置と光軸ずれ補正方法
US20230176548A1 (en) Control apparatus, adjusting method thereof, lithography apparatus, and article manufacturing method
JPS6147633A (ja) 投影露光装置及びこの装置における位置合わせ方法
US5251199A (en) Laser diode drive control apparatus
JP2002090682A (ja) ガルバノメータ、ガルバノメータの位置補正方法、ガルバノメータを用いたレーザ加工装置、及びガルバノメータを用いたレーザ加工方法
US5585887A (en) Method of detecting a film with optical detecting means in photographic processor
KR100251459B1 (ko) 포커스오프셋 보정장치
JP2900915B2 (ja) レーザ加工装置
KR970022399A (ko) 플레이트 주변부 노광 및 정렬 시스템
JP3647120B2 (ja) 走査露光装置および方法、ならびにデバイス製造方法
JPS62192602A (ja) 孔の中心位置検出装置
JPH09258091A (ja) レーザー光射出光学ユニットのピント測定方法
JPH08234144A (ja) レーザ焦点位置調整装置
JP4031195B2 (ja) オフセット調整装置
JPH0261829A (ja) フォーカスサーボ回路
JPH0320062B2 (ja)
JPH02238769A (ja) ゲイン補正方式
JP2605266B2 (ja) 露光装置及びパターン露光方法
JP2698148B2 (ja) 光ディスク原盤露光装置
US20040120230A1 (en) Apparatus and method for adjusting optical pickup