JPS6150201A - Production of alloy magnetic head - Google Patents

Production of alloy magnetic head

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JPS6150201A
JPS6150201A JP17190584A JP17190584A JPS6150201A JP S6150201 A JPS6150201 A JP S6150201A JP 17190584 A JP17190584 A JP 17190584A JP 17190584 A JP17190584 A JP 17190584A JP S6150201 A JPS6150201 A JP S6150201A
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magnetic head
magnetic
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界 政行
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正樹 青木
Hideo Torii
秀雄 鳥井
Hideyuki Okinaka
秀行 沖中
Hozumi Hirota
広田 穂積
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Abstract

PURPOSE:To improve both accuracy and strength of a narrow gap by forming a nonmagnetic ceramic layer on the front gap face of an Fe-Al-Si alloy magnetic core set at right and left sides or forming a glass layer on said ceramic layer and then forming an Ag-Cu-In alloy layer on the back gap face of said magnetic core to bond these layers together. CONSTITUTION:A pair of chips 1 and 2 of boat-shaped head pieces which are grooved for winding are provided on a rod type Fe-Al-Si alloy. A nonmagnetic ceramic thin film 7 is formed on both sides of a bonded part of a front gap part 5 by a sputtering process. While an Ag-Cu-In alloy thin film 9 is formed on both sides of a bonded part of a back gap part 6 by a sputtering process. Both chips are put together to form a pair of head piece chips. Then the heat treatment is applied to this chip in a non-oxidizable atmosphere of an atmospheric pressure level and at a temperature higher than a level where the liquid phase of the Ag-Cu-In alloy is produced. Thus the thin film formed at the bonded parts of both gap pars are put together with dispersion.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は合金磁気配器ヘッドの製造方法に関し、特に高
精度なギャップ形成方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an alloy magnetic head, and more particularly to a method of forming a gap with high precision.

従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録は高密度化の方向へ進みつつある。高密
度記録達成のためには、記録減磁の点から、配器磁界の
広がりをできるだけ狭くする必要があり、このたj9に
は記録媒体−磁気ヘッド間の接触をよくするヘッド構造
と、ギャップの精密加工および磁心ギャップ近傍の磁気
飽和の生じにくい高飽和磁束密度磁心材料(自己減磁の
点から高抗磁力磁気記録媒体の使用が必要なた込)が望
まれている。
Conventional configuration and its problems In recent years, magnetic recording has been moving toward higher density. In order to achieve high-density recording, it is necessary to make the spread of the magnetic field as narrow as possible from the point of view of recording demagnetization. Precision processing and high saturation magnetic flux density magnetic core materials that are less likely to cause magnetic saturation in the vicinity of the magnetic core gap (contraction that requires the use of high coercive force magnetic recording media from the point of view of self-demagnetization) are desired.

そして、現在このような高性能磁気ヘッドのコア材とし
て鉄(Fe)84.2重量%、アルミニウム(Az)e
、2重量%、シリコン(Si)9.6重量%から成る合
金(センダスト)を用いた高精度なナローギャップを有
する磁気ヘッドが最も適したものの1つとされており、
その普及が磁気記録の分野で切望でれている。
Currently, 84.2% by weight of iron (Fe) and 84.2% by weight of aluminum (Az) are used as core materials for such high-performance magnetic heads.
, 2% by weight and silicon (Si) by 9.6% by weight (Sendust), which has a highly accurate narrow gap, is considered to be one of the most suitable.
Its widespread use is eagerly awaited in the field of magnetic recording.

しかしながら、コア材として用いるFe−Az−Si合
金の性質上、センダスト磁気ヘッドにおいて高精度なナ
ローギャップを形成することが極めて困難であり、これ
が上述の磁気ヘッドの普及を阻んでいた。例えば、従来
のFe−Al−Si合金(センダスト)磁気ヘッドのギ
ャップ形成法の一例を示すと、第1図のように片方のF
e−At−3t合金(センダスト)テップ1のギャップ
形成面(テープ走行面)に石英(Sin2)膜3をスパ
ッタ法にて形成し、次に低融点の銀ローはく)例えば銀
−銅一カドミウムー亜鉛系合金)4を用いてもう一方の
Fe −Az−st金合金センダスト)チップ2とはり
合わせるという方法で形成されていた。
However, due to the nature of the Fe-Az-Si alloy used as the core material, it is extremely difficult to form a highly accurate narrow gap in the Sendust magnetic head, and this has prevented the above-mentioned magnetic head from becoming widespread. For example, an example of a gap forming method for a conventional Fe-Al-Si alloy (Sendust) magnetic head is as shown in Figure 1.
A quartz (Sin2) film 3 is formed on the gap forming surface (tape running surface) of e-At-3t alloy (Sendust) Step 1 by sputtering, and then a low melting point silver foil (for example, silver-copper film) is formed on the gap forming surface (tape running surface). It was formed by using a cadmium-zinc based alloy (4) and bonding it to the other Fe-Az-st gold alloy (sendust) chip 2.

しかし、上記の方法では、テープ走行面のギャップ部(
フロントギャップ部)に用いられる石英(S i02 
)とFe−At−Si合金(センダスト)とは、その熱
膨張係数が大巾に異なるために(石英の熱膨張係数1.
7X 10−6X℃、 F e At−5i合金の熱膨
張係数13.5X107℃)フロントギャップの石英部
分がテープ走行時1c F e−Az−s i合金から
はがれてしまい、ギャップの精度が低下する原因となっ
ていた。すなわちギャップかけの原因となっていた。ま
たテープ走行面と反対側のギャップ(パックギャップ)
K用いられている銀ロー材4は、一般KFe−At−5
i合金との結合力を増すために低融点の銀−銅一カドミ
、ウムー亜鉛系のロー材が用いられている。このロー材
はその熱膨張係数が大きく(約17〜18×10−6X
℃)しかもギャップ形成時1c F e−At−5i合
金との相互拡散が大きいため銀ロー材が融解後固化する
時にFe−Az−si合金部分にひび割れが生じ、その
影響を受けて、ギヤツブ巾の制御や平行性を得ることが
困難であるという欠点を有していた。
However, in the above method, the gap part (
Quartz (S i02
) and Fe-At-Si alloy (sendust), because their coefficients of thermal expansion differ widely (the coefficient of thermal expansion of quartz is 1.
7X 10-6X℃, Thermal expansion coefficient of F e At-5i alloy 13.5 It was the cause. In other words, this caused a gap. Also, the gap on the opposite side of the tape running surface (pack gap)
The silver brazing material 4 used is general KFe-At-5.
Low melting point silver-copper-cadmium and umu-zinc brazing materials are used to increase the bonding strength with the i-alloy. This brazing material has a large coefficient of thermal expansion (approximately 17 to 18 x 10-6
℃) Moreover, when the gap is formed, the interdiffusion with the 1c Fe-At-5i alloy is large, so when the silver brazing material solidifies after melting, cracks occur in the Fe-Az-si alloy part, and as a result, the gear tooth width decreases. This method has the disadvantage that it is difficult to control and obtain parallelism.

発明の目的 本発明の目的は、磁気的なナローギャップを高精度で形
成し、かつ形成されたギャップか高い機械的強度を持つ
ことを可能とするFe−Az−si合金磁気ヘッドの製
造方法を提供するものである。
OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an Fe-Az-Si alloy magnetic head that allows a narrow magnetic gap to be formed with high precision and the formed gap to have high mechanical strength. This is what we provide.

発明の構成 本発明のFe−Al−3t合金磁気ヘッド及びその製造
方法は、合わせれば磁気ヘッドの形状となる一対のFe
−At−Si合金チップのテープ走行面となるフロント
ギャップ形成面に均一な厚さでZrOMgOMg0−A
l2O2の’)ちイスiカーyi2 +      1 からなる薄膜を、あるいはさらにその上に均一な厚ざで
5i02−Pb0−N a 20系ガラスにおいて、5
102が2o〜80重量%含むガラス薄膜を形成した後
、テープ走行面と反対側のバックギャップ形成面(接合
面)に銀ロー合金としては高融点でしかも比較的熱膨張
係数がFe−At−3t合金に近いAg−Cu −In
系合金薄膜(Cuが10〜5o重量%、Inが1〜30
重量%含まれている組成のもの)を高精度に厚みを制御
して形成し、上記左右のFe−Al−3t合金テップの
同一種のギヤ、プ形成f同志を合わせた状態で、一対の
センダストチップを保持したまま、ガラスの軟化点およ
びAg−Cu−In系合金の液相出現温度以上の1気圧
以下の非酸化性雰囲気で処理し、上記の合わせた膜同志
を拡散接合することによってナローギャップを形成する
ものである。
Structure of the Invention The Fe-Al-3t alloy magnetic head and the manufacturing method thereof of the present invention provide a pair of Fe-Al-3t alloy magnetic heads that together form the shape of a magnetic head.
- ZrOMgOMg0-A with a uniform thickness on the front gap forming surface which becomes the tape running surface of the At-Si alloy chip.
A thin film consisting of l2O2') yi2 + 1 or a thin film of 5i02-Pb0-N a 20 series glass with a uniform thickness on top of the 5i02-Pb0-N a
After forming a glass thin film containing 20 to 80% by weight of 102, a Fe-At- Ag-Cu-In close to 3t alloy
system alloy thin film (Cu: 10-50% by weight, In: 1-30% by weight)
% by weight) by controlling the thickness with high precision, and with the gears of the same type on the left and right Fe-Al-3t alloy tips aligned, a pair of While holding the sendust chip, it is treated in a non-oxidizing atmosphere of 1 atm or less, which is higher than the softening point of glass and the liquid phase appearance temperature of Ag-Cu-In alloy, and by diffusion bonding the above-mentioned combined films. This forms a narrow gap.

フロントギャップ面の非磁性セラミック薄膜の熱膨張係
数(Z r 02 ”、 10 X 1o−67’C、
MgO”。
Thermal expansion coefficient of the non-magnetic ceramic thin film on the front gap surface (Zr02'', 10 x 1o-67'C,
MgO”.

12 X 10−6/℃、 MgO・Al2O3:1o
×10−6/℃)はFe−Al−Si合金とよく一致し
ていることから、接合面ではがれることなくギャップを
得ることが出来る。また非磁性セラミック薄膜上にガラ
スを形成した場合は、非磁性セラミック薄膜のとtく表
面とガラス薄膜のごく表面は、化学反応によシご〈薄い
化合物層が形成され機械的にかなり高い強度を有するギ
ャップを得ることが出来る。
12 x 10-6/℃, MgO・Al2O3:1o
×10-6/°C) is in good agreement with the Fe-Al-Si alloy, so a gap can be obtained without peeling at the joint surface. In addition, when glass is formed on a non-magnetic ceramic thin film, the surface of the non-magnetic ceramic thin film and the very surface of the glass thin film become eroded by a chemical reaction.A thin compound layer is formed, resulting in considerably high mechanical strength. It is possible to obtain a gap with .

また、このギャップ幅は反応層がごく表面だけで起こる
ため非磁性セラミック薄膜とガラス薄膜の厚さで規定出
来ることになる。次にバックギャソ1     プ面t
7)Aq−Cu−4n系合金は、Fe−Al−5t合金
との接合部分において相互拡散が生じるため強固でかつ
、ひび割れを生じることのないバンクギャップの接合が
可能となった。
Furthermore, since the reaction layer occurs only on the very surface, the gap width can be defined by the thickness of the nonmagnetic ceramic thin film and the glass thin film. Next, back gyasso 1
7) Mutual diffusion occurs in the Aq-Cu-4n alloy at the joint with the Fe-Al-5t alloy, making it possible to bond the bank gap firmly and without cracking.

実施例の説明 以下、本発明の実施例について説明する。Description of examples Examples of the present invention will be described below.

(実施例1) 以下に示すような方法で、第1図と類似の形状のFe−
Az−Si合金へラドピースを作製し、検討した。
(Example 1) By the method shown below, Fe-
Rad pieces were made from Az-Si alloy and examined.

まず第2図aのような巾3鵡、高さ2閣、長さ2C)a
++の棒状のFe−At−5L合金上にダイヤ%7ド砥
石によって巾0.35mの巻線用のミゾ入れを行なった
一対の船型ヘッドピースのテップ1,2を用意し、フロ
ントギャップ面6およびバックギャップ面6を鏡面研摩
(最大表面荒さRmaxxO101μm)した0 次に第2図すのようにフロントギャップ部分のはり合せ
部分の両方にスパッタ法を用いて酸化ジルコニウム(Z
 r O2)の薄膜7を形成した0(この場合バンクギ
ャップ部には、ZrO2が入らないようにマスクをほど
こした。)ここで、上述の酸化ジルコニウム薄膜は、厚
さが均一に0.16μmであつた。次に同じくスパッタ
法にてバックギャップ部のはり合わせ部分の両方にAg
−Cu−In系合金薄膜9を形成した。(この場合フロ
ントギャップ部にはAg−Cu−In系合金が入らない
ようにマスクをしておく)ここで上述のAg−Cu−I
n薄膜は、浮きが均一にQ、16μmで、その組成が1
975重量%、Cu 1o重量%、In15重量%のも
のである。これらのスパン法によ)得られたフロントギ
ャップ側(Z r 02層)及びバックギャップ側(A
g−Cu−4n層)をそれぞれ互いにつき合わせ一対の
へラドピースのチップとした状態で1気圧のN2雰囲気
中で900℃の温度で1時間処理を行って、一対のFe
−Az−Si合金チップのギャップ部のはり合わせ部分
の薄膜同志を拡散接合処理した。
First, as shown in Figure 2 a, the width is 3 cm, the height is 2 cm, and the length is 2 C) a.
Prepare the tips 1 and 2 of a pair of ship-shaped headpieces on which a winding groove with a width of 0.35 m was made on a Fe-At-5L alloy rod-shaped with a diamond%7 diamond grindstone. Then, the back gap surface 6 was mirror polished (maximum surface roughness RmaxxO 101 μm). Next, as shown in Figure 2, zirconium oxide (Z
(In this case, a mask was applied to the bank gap to prevent ZrO2 from entering.) Here, the above-mentioned zirconium oxide thin film was formed with a uniform thickness of 0.16 μm. It was hot. Next, using the same sputtering method, Ag was added to both the back gap joints.
-Cu-In alloy thin film 9 was formed. (In this case, mask the front gap so that the Ag-Cu-In alloy does not enter.)
The n thin film has a uniform float of Q, 16 μm, and its composition is 1
975% by weight, 10% by weight of Cu, and 15% by weight of In. The front gap side (Z r 02 layer) and back gap side (A
g-Cu-4n layer) were abutted against each other to form a pair of Herad piece chips, and treated in a N2 atmosphere of 1 atm at a temperature of 900°C for 1 hour to form a pair of Fe
- The thin films at the bonded portions of the gap portions of the -Az-Si alloy chips were subjected to diffusion bonding treatment.

このようにして得られた第3図に示すヘッドピースの断
面を持つ棒状のロンドを、切断と機械的研摩により15
0μmの薄片状にしてFe−AL−Si合金へラドピー
スを得た。
The thus obtained rod-shaped rondo having the cross section of the headpiece shown in FIG.
It was made into a thin flake of 0 μm to obtain a Fe-AL-Si alloy rad piece.

得られた薄板F e −A l−3i合金ヘッドピース
のフロントギャップ部およびパックギャップ部を研摩し
ギャップの巾を光学顕微鏡を用いて測定した。
The front gap portion and the pack gap portion of the obtained thin Fe-Al-3i alloy headpiece were polished, and the width of the gap was measured using an optical microscope.

その結果フロントギャップの巾もバックギャップの巾も
共にo、30μmであり、ギャップ面が平行であること
が観測された。しかもフロントギャップおよびバックギ
ャップ材料の熱膨張係数がFe−At−Si合金と近い
ために接合面にひび割れなどが発生していなかった。さ
らに、形成されたギャップ部の機械的強度を検討するた
めに1ギャップ面の両側のFe−At−Si合金材を1
0 Ky−mn  の応力で引張り試験したが、ギャッ
プ接合面ではがれず、機械的強度にもすぐれていること
がわかった。次にフロントヘッドのトラック巾を25μ
mに機械加工した時およびこの磁気ヘッドに磁気テープ
(保磁力HC;1400エールステッド飽和磁束密度B
r;3000ガウス)を相対速度3.45m/secで
走行させた時にもギャップ部の「カケ」の発生は認めら
れなかった。またこのヘッドの巻線みそにコイルを25
タ一ン巻いた時の5MHzでのヘッドの再生出力電圧は
250μV(ピークツーピーク)であった。
As a result, it was observed that both the width of the front gap and the width of the back gap were o, 30 μm, and the gap planes were parallel. Moreover, since the thermal expansion coefficients of the front gap and back gap materials were close to that of the Fe-At-Si alloy, no cracks were generated on the joint surfaces. Furthermore, in order to examine the mechanical strength of the gap formed, we added 1 Fe-At-Si alloy material on both sides of the 1-gap surface.
A tensile test was performed at a stress of 0 Ky-mn, but it was found that the material did not peel off at the gap joint surface and had excellent mechanical strength. Next, set the track width of the front head to 25μ.
m and this magnetic head has a magnetic tape (coercive force HC; 1400 Oersted saturation magnetic flux density B
r; 3000 Gauss) at a relative speed of 3.45 m/sec, no "chips" were observed at the gap. Also, add 25 coils to the windings of this head.
The reproduction output voltage of the head at 5 MHz when the winding was completed was 250 μV (peak-to-peak).

この結果を表1の試料番号2に示す。The results are shown in sample number 2 in Table 1.

以下同様の方法で、フロントギャップ部分の非磁性層の
材料およびバックギャップ部分のAg−Cu−4n系合
金の組成を変えた試料を表1の試料番号1及び3〜12
に示す。
In the same manner, samples with different compositions of the material of the nonmagnetic layer in the front gap part and the Ag-Cu-4n alloy in the back gap part were prepared using sample numbers 1 and 3 to 12 in Table 1.
Shown below.

なお本実施例において磁気特性に影響をおよぼすFe−
At−Si合金テップの組成については、熱処理の前後
で何ら変化していないことが、X線マイクロアナライザ
を用いた分析によって確認できた。その結果センダスト
の飽和磁束密度Bsは8660ガウス、保磁力Hcは0
.03エールステツド、交流初透磁率μは61(ただし
200μm厚の場合)であり、熱処理による磁気特性の
変化も認められなかった。また非強磁性セラミック膜の
組成である”q、AI、Zr等のイオンは0.01μm
以上深くセンダスト内部に拡散していないことも確認で
きた。
In addition, in this example, Fe-
Analysis using an X-ray microanalyzer confirmed that the composition of the At-Si alloy TEP did not change at all before and after the heat treatment. As a result, the saturation magnetic flux density Bs of Sendust is 8660 Gauss, and the coercive force Hc is 0.
.. 03 Oersted, AC initial magnetic permeability μ was 61 (however, in the case of 200 μm thickness), and no change in magnetic properties was observed due to heat treatment. In addition, the composition of the non-ferromagnetic ceramic film, such as ions such as q, AI, and Zr, is 0.01 μm.
We were also able to confirm that it had not spread deeper into Sendust.

ここで接合に有効なAg−Cu−In薄膜の組成として
は、表1よ5Cu量が10〜50重量%、In分が1〜
3Q重量予の範囲であることがわかる。この範囲をばず
nる組成のものは、F e−Az−Si合金とのぬれ性
の不足あるいは液相出現温度が高いといった理由で不適
当でちった。尚比較例として示した試料ノに1は接合し
なかったのでギ徊ツブ巾の観察、テープ走行試験及び磁
気特性の測定は行なえなかった。また黒6は接合後の機
械加工ではがれたので特性の測定は行なえな力)った。
Here, the composition of the Ag-Cu-In thin film effective for bonding is as shown in Table 1, with a Cu content of 10 to 50% by weight and an In content of 1 to 50% by weight.
It can be seen that the weight is within the range of the 3Q weight estimate. Those with compositions outside this range were unsuitable because of insufficient wettability with the Fe-Az-Si alloy or high liquid phase appearance temperature. Since Sample No. 1 was not bonded to the sample shown as a comparative example, it was not possible to observe the width of the lug, conduct a tape running test, and measure magnetic properties. Further, since black 6 was peeled off during machining after joining, it was not possible to measure the characteristics.

(比較例1) また比較のために、従来の形成法によるギャップをもつ
ヘッドピースを作製した。すなわちフロントギャップ部
に厚さが0.15μmの硬質石英膜を形成し、バックギ
ャップ部に1μm厚のAg −Cu−Zn−Cd系合金
箔を用いてヘッドピースを1@着し、第3図に示すもの
と同じFe−Al−Si合金ヘッドを作製した。このヘ
ッドピースのギヤノブ部分についても実施例と同様の検
査を行なった。
(Comparative Example 1) For comparison, a head piece with a gap was produced using a conventional forming method. That is, a hard quartz film with a thickness of 0.15 μm is formed on the front gap portion, and a head piece is attached using Ag-Cu-Zn-Cd alloy foil with a thickness of 1 μm on the back gap portion. A Fe-Al-Si alloy head similar to that shown in Figure 1 was fabricated. The gear knob portion of this headpiece was also tested in the same way as in the example.

その結果10に9・珊 の応力での引張り試験でもはが
れなかったが、ギャップ面の平行性は著しく劣っていた
。フロントギャップの巾は0.53μmであり、バンク
ギャップの巾は0.24μmであった。
As a result, it did not peel off in a tensile test under a stress of 10 to 9. However, the parallelism of the gap planes was extremely poor. The width of the front gap was 0.53 μm, and the width of the bank gap was 0.24 μm.

次にフロントヘッド部分を機械加工した時および磁気テ
ープを走行させた時においてギャップ部分にカケが生じ
た。
Next, when the front head part was machined and when the magnetic tape was run, chips occurred in the gap area.

またこのヘッドの巻線みぞにコイルを25タ一ン巻いた
時の5MHzでのヘッドの再生出力電圧は50μ■p−
pであった。
Also, when a coil is wound with 25 turns in the winding groove of this head, the reproduction output voltage of the head at 5MHz is 50μ■p-
It was p.

この結果を表1の試料番号13に示す。The results are shown in sample number 13 in Table 1.

以下余白 (実施例2) 実施例1と同様の方法でFe−Al−5i合金の加工を
行ない、一対の船型ヘフドピースのチップを作製した。
Margins below (Example 2) A Fe-Al-5i alloy was processed in the same manner as in Example 1 to produce a pair of ship-shaped hefed piece chips.

次に第2図Cのようにフロントギャップ部分の両方ニス
バッタ法を用いて酸化ジルコニウム(Z r 02 )
の薄M7を形成し、さらにその上に同じくスパッタ法で
ガラス薄膜8を形成した。(この場合バックギャップ部
には、Z r O2およびガラスが入らないようにマス
クをほどこした。)ことで上述の酸化ジルコニウム薄膜
は、厚さが均一に0.10μmであった。一方上述のガ
ラス薄膜は、厚さが均一に0.06μmで、その組成が
、主成分としてS s O2が20重量%、PbOが7
5重量%およびN a 20が6重量%からなるガラス
薄膜である。
Next, as shown in Fig. 2C, zirconium oxide (Z r 02
A thin M7 was formed thereon, and a glass thin film 8 was further formed thereon by the same sputtering method. (In this case, a mask was applied to the back gap portion to prevent Z r O 2 and glass from entering.) Thus, the above-mentioned zirconium oxide thin film had a uniform thickness of 0.10 μm. On the other hand, the above-mentioned glass thin film has a uniform thickness of 0.06 μm, and its composition is as follows: 20% by weight of S s O 2 and 7% by weight of PbO.
5% by weight and 6% by weight of Na20.

次に同じくスパッタ法にてバックギャップ部のはり合わ
せ部分の両方にAg−Cu−In系合金薄膜9を形成し
た。(この場合フロントギャップ部にはAg−Cu−I
n系合金が入らないようにマスクをしておく)ここで上
述のAg −Cu −In薄膜は、厚をが均一に0.1
5μmで、その組成がAq65重量%、Cu30重量%
、In15.i量チなるものである。
Next, an Ag--Cu--In based alloy thin film 9 was formed on both of the bonding parts of the back gap part by the same sputtering method. (In this case, the front gap part has Ag-Cu-I
(Mask is applied to prevent n-based alloys from entering) The above-mentioned Ag-Cu-In thin film is coated with a uniform thickness of 0.1 mm.
5μm, its composition is Aq 65% by weight, Cu 30% by weight
, In15. It is the amount of i.

これらのスパッタ法によシ得られたフロントギャップ側
(ZrO2−ガラス層)及びバンクギャップ側(Ag−
Cu−In層)をそれぞれ互いにつき合わせ一対のセン
ダストチップとした状態で真空雰囲気(1X 10−’
 Torr)中で900℃の温度で1時間処理を行なっ
て、一対のFe−AL−3t合金チップのギヤング部の
はり合わせ部分の薄膜同志を拡散接合処理した。
The front gap side (ZrO2-glass layer) and bank gap side (Ag-
A pair of sendust chips were formed by abutting the Cu-In layers) against each other and forming a pair of Sendust chips in a vacuum atmosphere (1X 10-'
Torr) at a temperature of 900[deg.] C. for 1 hour to perform diffusion bonding of the thin films at the bonded joint portions of the pair of Fe-AL-3t alloy chips.

このようにして得られた第3図に示すヘッドピースの断
面を持つ棒状のロッドを、切断と機緘的研gKより15
0μmの薄片状に切断してFe−At−3i合金へラド
ピースを得た。
The thus obtained bar-shaped rod having the cross section of the headpiece shown in Fig. 3 was cut and mechanically polished for 15 minutes.
Rad pieces of Fe-At-3i alloy were obtained by cutting into thin pieces of 0 μm.

得られた薄板Fe−Al、−3i合金へラドピースのフ
ロントギャップ部およびバックギャップ部を研摩し、ギ
ャップの巾を光学顕微鏡を用いて測定した。その結果フ
ロントギャップの巾もバックギャップの巾も共に0.3
0μmであり、ギャップ面が平行であることが観測され
た。し〃・もフロントギャップおよびバックギャップ材
料の熱膨張係数がFe−Al−3i合金と近いために接
合面にひび割れなどが発生していなかった。さらに1形
成されたギャップ部の機械的強度を検討するために、ギ
ャップ面の両側のFa−Al−31合金材をI Q K
y −6−2の応力で引張り試験したが、ギャップ接合
面ではがれず、機械的強度にもすぐれていることがわか
った。次にフロントヘッドのトラック巾を25μmに機
械加工した時およびこの磁気ヘッドに磁気テープ(保磁
力Ha;1400エールステッド飽和磁束密度Br;3
000ガウス)を相対速度3.4E5 m/SOCで走
行させた時ギャップ部の「カケJの発生Vi認められな
かった。またこのヘッドの巻線みぞにコイルを25タ一
ン巻いた時の5MHzでのヘッドの再住出力電圧は、2
50μV (ヒークツーピーク)であった。
The front gap portion and back gap portion of the obtained thin Fe-Al, -3i alloy rad piece were polished, and the width of the gap was measured using an optical microscope. As a result, both the width of the front gap and the width of the back gap are 0.3.
0 μm, and the gap planes were observed to be parallel. Also, since the thermal expansion coefficients of the front gap and back gap materials were close to that of the Fe-Al-3i alloy, no cracks were generated on the joint surfaces. Furthermore, in order to examine the mechanical strength of the gap formed in 1, the Fa-Al-31 alloy material on both sides of the gap surface was
A tensile test was performed at a stress of y-6-2, but it was found that the material did not peel off at the gap joint surface and had excellent mechanical strength. Next, when the track width of the front head was machined to 25 μm and the magnetic tape was attached to this magnetic head (coercive force Ha: 1400 Oersted saturation magnetic flux density Br: 3
000 Gauss) was run at a relative speed of 3.4E5 m/SOC, no chipping was observed in the gap.Also, when a coil was wound with 25 turns in the winding groove of this head, the 5MHz The repopulation output voltage of the head at is 2
The voltage was 50 μV (heat-to-peak).

この結果を表1の試料番号15に示す。The results are shown in sample number 15 in Table 1.

以下同様の方法でフロントギャップ部分の非磁性層の材
、RおよびS 102 P b ON a 20系ガラ
スの組成を変えた試料の各種試験結果を辰2の試料番号
14及び16〜23に示す。
Below, various test results of samples in which the material of the nonmagnetic layer in the front gap portion, R, and the composition of the S 102 P b ON a 20 glass were changed in the same manner are shown in Sample Nos. 14 and 16 to 23 of Dragon 2.

なお本実施例において、磁気特性に影響をおよぼすFe
−Az−Si合金チップの組成については、熱処理の前
後で何ら変化していないことが、X線マイクロアナライ
ザを用いた分析によって確認できた。その結果センダス
トの飽和磁束密度Bs f′18650ガウス、保磁力
Haは0.03エールステツド、交流初透磁率μは61
(ただし200μm厚の場合)であり、熱処理による磁
気特性の変化も認められなかった。また非強磁性セラミ
、り膜の組成であるMq、At、Zr等のイオンは0.
01 μn以上深くセンダスト内部に拡散していないこ
とも確認できた。
In this example, Fe, which affects the magnetic properties, was
Analysis using an X-ray microanalyzer confirmed that the composition of the -Az-Si alloy chip did not change at all before and after the heat treatment. As a result, Sendust's saturation magnetic flux density Bs f'18650 Gauss, coercive force Ha is 0.03 Oersted, and AC initial permeability μ is 61.
(However, in the case of a thickness of 200 μm), and no change in magnetic properties was observed due to heat treatment. In addition, the ions of Mq, At, Zr, etc., which are the composition of non-ferromagnetic ceramic films, are 0.
It was also confirmed that the particles were not diffused deeper than 0.01 μm into the sendust.

ここでフロントギャップのセラミック薄膜と反応して強
固なギャップを形成するS 102 P b○−N a
 20 系ガラスの組成としては表2かられかるように
、S 102が2Q〜80重量%の時であった。
Here, S 102 P b○-N a reacts with the ceramic thin film of the front gap to form a strong gap.
As shown in Table 2, the composition of the 20 series glass was when S102 was 2Q to 80% by weight.

S iO2量が少な(P bo量が極端に多い場合(試
料屋14)はガラス自身の強度が非常に弱いためテープ
走行時にギャップくずれを起こす。またS > 024
iIが多い場合(試料罵19)は、900t:の処理条
件において十分な軟化を生じないためセラミック薄膜と
の反応が起こらず、この場合もテープ走行時にギャップ
くずれを起こした0以上のことよりSiO2量としては
20〜80重量係が適当である。
When the amount of SiO2 is small (the amount of Pbo is extremely large (sample shop 14)), the strength of the glass itself is very weak, causing gap collapse when the tape runs.Also, S > 024
When there is a large amount of iI (sample 19), sufficient softening does not occur under the treatment conditions of 900t, so no reaction with the ceramic thin film occurs, and in this case too, SiO2 A suitable amount is 20-80% by weight.

以下余白 −【 発明の効果 以上の説明および表1,2から明らかなようK、本発明
はFe−A4−5i合金磁気記録ヘッドにおいて、合わ
せれば磁気ヘッドの形状となる一対のFe−Al−−3
t合金チップのフロントギャップ形成面(磁気テープ走
行面)に高精度の厚みで非強磁性セラミックス薄膜を形
成し次いでバックギャップ面に銀ロー(Ag−Cu−I
n系)薄膜を形成した後、これらの同一ギャップ面同志
をつき合わせた状態で、一対のFe−At−3iチツプ
を保持したまま、銀ローが溶融する温度以上の1気圧以
下の非酸化性雰囲気で処理して、上記の合わせた銀ロー
薄膜同志を拡散接合することによってFe−At−5i
同志の強固な結合が可能となる。ここでフロントギャッ
プのFe−AL−3i合金と非磁性セラミック薄膜はそ
の熱膨張係数がよく一致しているこ(と力゛ら接合面7
ば7゛れ′とはな“・またゞう5ツク薄膜の接合面にお
いてはフロントギャップ形成面に対してバックギャップ
形成面の面積が非常べ大きく、かつ強固に接合している
ことから、非強磁性セラミック薄膜の突き合わせで形成
されているフロントギャップもバックギャップの接合力
の影響でかなり強固な機械的強度を持っている。
The following margin - [Effects of the Invention As is clear from the above explanation and Tables 1 and 2, the present invention provides a Fe-A4-5i alloy magnetic recording head in which a pair of Fe-Al-- 3
A non-ferromagnetic ceramic thin film is formed with a high precision thickness on the front gap forming surface (magnetic tape running surface) of the T-alloy chip, and then a silver alloy (Ag-Cu-I) is formed on the back gap surface.
After forming a thin film (n type), with the same gap surfaces butted against each other, while holding the pair of Fe-At-3i chips, heat the non-oxidizing film at a temperature above the melting temperature of the silver solder and below 1 atm. The Fe-At-5i
Strong bonds between like-minded people are possible. Here, the thermal expansion coefficients of the Fe-AL-3i alloy in the front gap and the non-magnetic ceramic thin film are well matched (and due to force, the bonding surface 7
7) In the joint surfaces of the 5-thick thin film, the area of the back gap forming surface is much larger than that of the front gap forming surface, and the bonding is strong. The front gap, which is formed by butting ferromagnetic ceramic thin films, also has quite strong mechanical strength due to the bonding force of the back gap.

次に、フロントギャップ形成面に非強磁性セラミックス
薄膜を形成し、さらにその上に均一な厚さで5102 
 PbONa2O系ガラス薄膜を形成し、パンクギャッ
プ面にAg−Cu−In系薄膜を形成した後、用いたガ
ラスの軟化点以上でしかも銀ローが溶融する温度以上の
1気圧以下の非酸化性雰囲気の条件で処理して接合した
場合のフロントギャップはセラミック薄膜とガラス薄膜
がその接合面で化学反応して機械的に高い強度を有する
ギャップを得ることが出来る。以上のことから非磁性薄
膜形成時の膜厚をコントロールすることによって、ギヤ
ツブ巾の制御が容易になり、従来困難とされていたFe
−At−3i合金磁気ヘッドのギャップ形成に関して機
械的強度が高く、かつ高精度なナローギャップの形成が
容易に行なえるようになった。
Next, a non-ferromagnetic ceramic thin film is formed on the front gap forming surface, and then a 5102
After forming a PbONa2O based glass thin film and forming an Ag-Cu-In based thin film on the puncture gap surface, a non-oxidizing atmosphere of 1 atm or less above the softening point of the glass used and above the temperature at which the silver solder melts. In the front gap when bonded by processing under certain conditions, a ceramic thin film and a glass thin film chemically react at the bonding surface, and a gap having high mechanical strength can be obtained. From the above, by controlling the film thickness during nonmagnetic thin film formation, it becomes easier to control the gear lug width, which was previously considered difficult.
Regarding gap formation in the -At-3i alloy magnetic head, it has become possible to easily form a narrow gap with high mechanical strength and high precision.

これによって、高密度磁気配器ヘッドに適したギヤジブ
をもつFe−AL−3t合金磁気ヘッドの製造が容易に
行えることになる。
This makes it possible to easily manufacture a Fe-AL-3t alloy magnetic head having a gear jib suitable for a high-density magnetic arrangement head.

なお特許請求の範囲第2項において非磁性セラミック薄
膜を酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム。
Note that in claim 2, the non-magnetic ceramic thin film is made of zirconium oxide or magnesium oxide.

スピネルに限定したのは、Fe−Al−3i合金と、比
to熱s張係数が近く(ZrO21oX1o−6/l:
 、 Mg012 X 10−シ℃2MqO@At2Q
310×1 o−’7/ 1: ) Lかも硬度が大き
いのでテープ走行時にギャップの「カケ」がおこりにく
いためである。
The reason why we limited it to spinel is that it has a specific to thermal tensile coefficient close to that of Fe-Al-3i alloy (ZrO21oX1o-6/l:
, Mg012
310×1 o-'7/1: ) Since the hardness of L is high, it is difficult for the gap to "chip" when the tape runs.

また特許請求の範囲第5項において、ガラスの組成をS
 i 02−P b O−N a 20系に限定したの
は、上記ガラスの熱膨張係数(約11×10−6/℃)
がFe−Aj−3i合金あるいはZ r O2、M g
 O。
Furthermore, in claim 5, the composition of the glass is S.
i 02-P b O-N a The reason why it is limited to 20 series is the thermal expansion coefficient of the above glass (approximately 11×10-6/°C)
is Fe-Aj-3i alloy or Z r O2, M g
O.

MqO・Al2O3のそれとよく一致しておシしたがっ
て熱ひずみが入りにくく強い接着強度が得られるためで
ある。
This is because it matches well with that of MqO.Al2O3, and therefore is less prone to thermal strain and can provide strong adhesive strength.

こコテガ、1スをS iO2−P b O−N a 2
0系に限定したが、熱膨張係数がFe−At−3t合金
あるいはZ r O2、M g O、M g O−A 
Z 203と一致しているガラスであれば上記以外のガ
ラスでもかな9強い接着力が得られることが確認されて
いる。
Here, the first step is SiO2-P b O-N a 2
0 series, but the thermal expansion coefficient is Fe-At-3t alloy, Z r O2, M g O, M g O-A
It has been confirmed that Kana 9 strong adhesion can be obtained with glasses other than those listed above as long as they conform to Z 203.

また実施例において、Fe−A4−3t合金溶着の熱処
理雰囲気をN2中及び真空中で行ったが、別にこれに限
るわけではなく、非酸化性雰囲気(たとえばAr雰囲気
等)であれば全て有効であることが確認されている。
In addition, in the examples, the heat treatment atmosphere for Fe-A4-3t alloy welding was performed in N2 and vacuum, but it is not limited to this, and any non-oxidizing atmosphere (for example, Ar atmosphere) is effective. It has been confirmed that there is.

また熱間静水圧プレス(HI P )処理によりAg−
Cu−In薄膜を介してFe−Az−si合金磁心を溶
着する方法でも同様の効果が得られるが、HIPの装置
自体の価格が高く、高温・高圧使用(例:90o ℃、
1000K1000Kf−のためその取扱には充分な注
意が必要である。これに比べ、非酸化性雰囲気による処
理方法では、装置も簡単で、取扱いも容易であることか
ら量産性に優れた方法である。さらにAg−Cu=In
合金のFe−At−9i合金磁心への拡散量がHIP処
理品に比べて少士であるにもかかわらず十分な強度を持
っていることから、接合面の状態及びギャップの平行度
等においても優れた方法である。
In addition, Ag-
A similar effect can be obtained by welding a Fe-Az-Si alloy magnetic core through a Cu-In thin film, but the HIP equipment itself is expensive and requires high temperature and high pressure use (e.g. 90o C,
Since it is 1000K1000Kf-, sufficient care must be taken when handling it. In contrast, the treatment method using a non-oxidizing atmosphere has a simple apparatus and is easy to handle, so it is a method with excellent mass productivity. Furthermore, Ag-Cu=In
Although the amount of alloy diffused into the Fe-At-9i alloy magnetic core is smaller than that of the HIP-treated product, it has sufficient strength, so the condition of the joint surface and the parallelism of the gap are also excellent. This is an excellent method.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、従来のFe’−Al−3i合金系磁気ヘノド
の磁心を示す図、第2図a、l)、cば、本発明の一実
施例におけるFe−At−3i合金磁気へ、ドのギャッ
プ形成に用いた一対のFe−A1.−St合金チップを
示す図、第3図は、これらのFe−At−81合金チッ
プを用いて作製したへッドビースを示す図である。 1.2・・・・・・Fe−At−3t合金チップ、3・
・・・・・ギャップ部に形成きれた硬質石英膜、4・・
・・・・銀ロー合金はくを用いた溶着部分、6・・・・
・・フロントギャップ部、6・・・・・・バックギャッ
プ部、7・・・・・・非磁性セラミック薄膜部、8・・
・・・・ガラス薄膜部、9・・・・・・銀−銅−インジ
ウム系合金薄膜部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第2
図        4
FIG. 1 is a diagram showing the magnetic core of a conventional Fe'-Al-3i alloy magnetic henode, and FIG. A pair of Fe-A1. -St alloy chips and FIG. 3 are diagrams showing head beads produced using these Fe-At-81 alloy chips. 1.2...Fe-At-3t alloy chip, 3.
...Hard quartz film completely formed in the gap, 4...
...Welded part using silver alloy foil, 6...
...Front gap part, 6...Back gap part, 7...Nonmagnetic ceramic thin film part, 8...
...Glass thin film part, 9...Silver-copper-indium alloy thin film part. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person 2nd
Figure 4

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)テープ走行面側に磁気的なギャップを有するフロ
ントギャップを、そして上記テープ走行面側と反対側に
接合を目的としたギャップであるバックギャップを有す
る鉄−アルミニウム−シリコン合金磁心材料よりなる左
右突合わせ型磁気ヘッドにおいて、左右の鉄−アルミニ
ウム−シリコン合金磁心のフロントギャップ面に非磁性
薄膜層として、セラミック層あるいはセラミック層上に
ガラス層を形成し、次に左右の鉄−アルミニウム−シリ
コン合金磁心のバックギャップ面に銀−銅−インジウム
系合金薄膜層を形成した後、上記左右の鉄−アルミニウ
ム−シリコン合金磁心の同一種のギャップ面同志を合わ
せた状態で、銀−銅−インジウム系合金の液相が出現す
る温度以上の1気圧以下の非酸化性雰囲気において熱処
理し、左右の磁心ブロックを拡散接合することによって
磁気的なギャップを形成することを特徴とする合金磁気
ヘッドの製造方法。
(1) Made of an iron-aluminum-silicon alloy magnetic core material that has a front gap with a magnetic gap on the tape running surface side and a back gap, which is a gap for the purpose of bonding, on the side opposite to the tape running surface side. In a left-right butt type magnetic head, a ceramic layer or a glass layer is formed on the ceramic layer as a non-magnetic thin film layer on the front gap surfaces of the left and right iron-aluminum-silicon alloy magnetic cores, and then a glass layer is formed on the ceramic layer. After forming a silver-copper-indium alloy thin film layer on the back gap surface of the alloy magnetic core, the silver-copper-indium A method for manufacturing an alloy magnetic head, characterized in that a magnetic gap is formed by heat treatment in a non-oxidizing atmosphere at a temperature higher than the temperature at which the liquid phase of the alloy appears and lower than 1 atm, and by diffusion bonding the left and right magnetic core blocks. .
(2)非磁性セラミック薄膜が、酸化ジルコニウム(Z
rO_2)、酸化マグネシウム(MgO)、スピネル(
MgO・Al_2O_3)のうちいずれか一種から成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の合金磁気
ヘッドの製造方法。
(2) The nonmagnetic ceramic thin film is made of zirconium oxide (Z
rO_2), magnesium oxide (MgO), spinel (
2. The method of manufacturing an alloy magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is made of one of MgO.Al_2O_3.
(3)非磁性セラミック薄膜が、酸化ジルコニウム(Z
rO_2)、酸化マグネシウム(MgO)、スピネル(
MgO・Al_2O_3)のうちいずれか一種で形成さ
れており、さらに上記薄膜上にガラス薄膜層を形成する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の合金磁気
ヘッドの製造方法。
(3) The nonmagnetic ceramic thin film is made of zirconium oxide (Z
rO_2), magnesium oxide (MgO), spinel (
2. The method of manufacturing an alloy magnetic head according to claim 1, further comprising forming a glass thin film layer on the thin film.
(4)銀−銅−インジウム系合金膜が銅(Cu)を10
〜50重量%、インジウム(In)を1〜30重量%含
むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の合金磁
気ヘッドの製造方法。
(4) Silver-copper-indium alloy film contains copper (Cu) by 10
50% by weight and 1 to 30% by weight of indium (In), the method for manufacturing an alloy magnetic head according to claim 1.
(5)ガラス薄膜として二酸化ケイ素(SiO_2)−
酸化鉛(PbO)−酸化ナトリウム(Na_2O)系に
おいて、SiO_2が20〜80重量%からなることを
特徴とする特許請求の範囲第1項または第3項記載の合
金磁気ヘッドの製造方法。
(5) Silicon dioxide (SiO_2) as a glass thin film
4. The method of manufacturing an alloy magnetic head according to claim 1, wherein the lead oxide (PbO)-sodium oxide (Na_2O) system contains 20 to 80% by weight of SiO_2.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62236107A (en) * 1986-04-07 1987-10-16 Toshiba Corp Glass joining magnetic head

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