JPS6146509A - Voltage supply control circuit - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
この発明は、ディジタル入力信号に応じて電圧を供給制
御する電圧供給制御回路に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a voltage supply control circuit that controls supply of voltage according to a digital input signal.
[発明の技術的背景とその問題点]
最近では、浮遊ゲートと制御ゲートとを備え、電気的に
記憶内容の書替えを可能にした不揮発性半導体メモリ(
E2 PROM)が、従来の紫外線消去型の不揮発性半
導体メモリに代わって普及している。[Technical background of the invention and its problems] Recently, non-volatile semiconductor memories (non-volatile semiconductor memories) that are equipped with floating gates and control gates and whose storage contents can be electrically rewritten have been developed.
E2 PROM) has become popular as an alternative to conventional ultraviolet erasable nonvolatile semiconductor memory.
このメモリのデータ書替えは、薄い酸化膜を通してトン
ネル効果により浮遊ゲートに電子を注入したり、逆に浮
遊ゲートの電子を放出したりすることによって行われる
。このトンネル電流を利用したデータ書替えには1.デ
ータ読み出し時とは異なる高い電圧を必要とするが、は
とんど電力を消費しないため、この高電圧の電流容量は
小さくてもよい。このため、同一メモリチップ内に電圧
昇圧回路を設けて、データ読み出し時とは異なる高電圧
を内部的に生成してデータ書込み、消去を行□なう。従
って、外部的には例えば5■の単一電源を供給すればよ
いので、使用者にとっては非常に扱い易い。Data rewriting in this memory is performed by injecting electrons into the floating gate through a thin oxide film by tunneling effect, or conversely by emitting electrons from the floating gate. To rewrite data using this tunnel current, 1. Although a higher voltage is required than when reading data, the current capacity of this high voltage may be small because it consumes little power. For this reason, a voltage booster circuit is provided within the same memory chip to internally generate a high voltage different from that used when reading data to write and erase data. Therefore, since a single power supply of, for example, 5 μm is required externally, it is very easy for the user to handle.
このようなE2 PROMのメモリセルの一例を第5図
ないし第8図に示す。第5図はこのメモリセルのパター
ン平面図であり、第6図ないし第8図はそれぞれ第5図
のA−A’線、B−B’線、c−c’線に沿った断面図
である。図中、1はp型のシリコン半導体基板である。Examples of such E2 PROM memory cells are shown in FIGS. 5 through 8. FIG. 5 is a pattern plan view of this memory cell, and FIGS. 6 to 8 are cross-sectional views taken along lines AA', BB', and c-c' in FIG. 5, respectively. be. In the figure, 1 is a p-type silicon semiconductor substrate.
この基板1にはn+型のドレイン2およびソース3が設
けられ、ドレイン2およびソース3相互間のチャネル領
域上には薄いゲート酸化膜4を介して浮遊ゲート5が設
けられ、さらにこの浮遊ゲート5上にも薄いゲート酸化
膜6を介して制御ゲート7が重ねられている。また、8
は書替え領域であり、ドレイン2を延在させたn+型層
上に極薄酸化膜9を介して上記浮遊ゲート5を延在させ
て構成している。This substrate 1 is provided with an n+ type drain 2 and source 3, and a floating gate 5 is provided on the channel region between the drain 2 and source 3 with a thin gate oxide film 4 interposed therebetween. A control gate 7 is also overlaid thereon with a thin gate oxide film 6 interposed therebetween. Also, 8
1 is a rewriting region, which is constructed by extending the floating gate 5 through an extremely thin oxide film 9 on the n+ type layer on which the drain 2 extends.
このメモリセルの動作原理は次の通りである。The operating principle of this memory cell is as follows.
まずデータの書込みは、ドレイン2、ソース3を基準電
位(OV)に保ち、制御ゲート7に高電圧を印加して容
量結合−より浮遊ゲート5の電位を1昇させ、書替え領
域8において極薄酸化膜9を介してドレイン2からの電
子を浮遊ゲート5に注入する。First, data writing is performed by keeping the drain 2 and source 3 at the reference potential (OV), applying a high voltage to the control gate 7, and raising the potential of the floating gate 5 by 1 through capacitive coupling. Electrons from the drain 2 are injected into the floating gate 5 via the oxide film 9.
データ消去は、制御ゲート7を基準電位に保ち、ドレイ
ン2に高電圧を印加してデータ書込みの場合とは逆に浮
遊ゲート5の電子を放出させる。For data erasing, the control gate 7 is kept at a reference potential, a high voltage is applied to the drain 2, and electrons from the floating gate 5 are emitted, contrary to the case of data writing.
浮遊ゲート5に電子が注入されている状態では、制御ゲ
ート7に読み出し電圧として例えば5Vを印加しても、
メモリセルはしきい値が高くなるているためオンしない
。他方、浮遊ゲート5に電子が注入されていない状態で
は、メモリセルのしきい値が元の低いままの状態にされ
ているので、制御ゲート7に読み出し電圧を印加すると
メモリセルはオンとなる。これによりメモリセルは、′
1″、′0”データを記憶する。In a state where electrons are injected into the floating gate 5, even if a read voltage of, for example, 5V is applied to the control gate 7,
Memory cells do not turn on because their thresholds are high. On the other hand, when no electrons are injected into the floating gate 5, the threshold value of the memory cell remains low, so when a read voltage is applied to the control gate 7, the memory cell is turned on. As a result, the memory cell becomes
1'', '0'' data is stored.
このようなメモリセルは行、列方向にマトリクス配列さ
れ、例えば制御ゲートは行方向に共通接続し、ドレイン
、ソースはそれぞれ列方向に共通接続してメモリセルア
レイを構成する。Such memory cells are arranged in a matrix in the row and column directions, for example, control gates are commonly connected in the row direction, and drains and sources are each commonly connected in the column direction to form a memory cell array.
また、メモリチップ内部で電源電圧を昇圧してデータ書
込み、消去のための高電圧を得るためには、例えば第9
図のような電圧昇圧回路を用いる。In addition, in order to boost the power supply voltage inside the memory chip and obtain a high voltage for writing and erasing data, for example, the ninth
A voltage booster circuit as shown in the figure is used.
この回路は、例えば5vの電源電圧Vcから負荷MOS
トランジスタQRを介してキャパシタC1に蓄積した電
荷を、第10図に示すようなりロック信号φ1.φ2を
用い、MOSトランジスタQ1を介して次のキャパシタ
(,2に転送し、このキャパシタC2に蓄積した電荷を
次のMOSトランジスタQ2を介して次のキャパシタC
3に転送する、という動作を順次繰り返すことにより、
出力端に高電圧Voを得るものである。This circuit connects the load MOS from the power supply voltage Vc of 5V, for example.
The charge accumulated in the capacitor C1 via the transistor QR is applied to the lock signal φ1. as shown in FIG. Using φ2, the charge is transferred to the next capacitor (,2) via the MOS transistor Q1, and the charge accumulated in this capacitor C2 is transferred to the next capacitor C via the next MOS transistor Q2.
By sequentially repeating the operation of transferring to 3,
A high voltage Vo is obtained at the output end.
ところで、このような電圧昇圧回路をアドレスデコーダ
と組合せて、メモリセルアレイの選択された行に昇圧さ
れた高電圧を印加してデータの書替えを行なう場合に次
のような問題がある。すなわち、アドレスデコーダの出
力が″′1″レベルとなって選択された行の制御ゲート
に昇圧された高電圧が供給されること自体には何の支障
もない。However, when such a voltage boosting circuit is combined with an address decoder to apply a boosted high voltage to a selected row of a memory cell array to rewrite data, the following problem arises. That is, there is no problem in itself that the output of the address decoder is at the ``1'' level and the boosted high voltage is supplied to the control gate of the selected row.
しかし、非選択の残りの行については、アドレスデコー
ダの出力が“0″レベル、すなわちその出力段はオン状
態であるから、電圧昇圧回路からの電流流出が生じる。However, for the remaining unselected rows, the output of the address decoder is at the "0" level, that is, the output stage thereof is in the on state, so that current flows out from the voltage booster circuit.
第9図の電圧昇圧回路はキャパシタに蓄えた電荷を利用
するものであるからその電流供給能力は極めて小さい。Since the voltage booster circuit shown in FIG. 9 utilizes the charge stored in the capacitor, its current supply capacity is extremely small.
従って、非選択の行について上述したような電流流出が
あると、昇圧電圧が低下し、選択された行に対して十分
な高電圧を印加することができなくなる。Therefore, if there is a current outflow as described above for unselected rows, the boosted voltage decreases, making it impossible to apply a sufficiently high voltage to the selected rows.
[発明の目的]
この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は供給制御すべき所定電圧からの無駄な
電流の流出をなくして、十分高い値の電圧を供給制御で
きるようにした電圧供給制御回路を提供することにある
。[Objective of the Invention] This invention was made in consideration of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to eliminate wasteful current flow from a predetermined voltage to be supplied and to supply a voltage of a sufficiently high value. An object of the present invention is to provide a voltage supply control circuit that can control the voltage supply.
[発明の概要]
上記目的を達成するためこの発明の電圧供給制御回路に
あっては、第1の回路点にディジタル入力信号に応じた
信号を供給し、第2の回路点に所定電圧を供給し、かつ
第3の回路点にクロック信号を供給し、上記第1および
第2の回路点相互間に第1のトランジスタの電流通路を
挿入し、上記第1のトランジスタの制御端子と上記第3
の回路点との間に容量を挿入し、上記第1のトランジス
タの制御端子と上記第1の回路点との間には、制御端子
が上記第1の回路点に結合された第2のトランジスタの
電流通路を挿入し、上記第1の回路点から電圧を出力す
るようにしている。[Summary of the Invention] In order to achieve the above object, the voltage supply control circuit of the present invention supplies a signal corresponding to a digital input signal to a first circuit point, and supplies a predetermined voltage to a second circuit point. and supplying a clock signal to a third circuit point, inserting a current path of a first transistor between the first and second circuit points, and connecting a control terminal of the first transistor to the third circuit point.
A capacitor is inserted between the control terminal of the first transistor and the first circuit point, and a second transistor whose control terminal is coupled to the first circuit point is inserted between the control terminal of the first transistor and the first circuit point. A current path is inserted, and a voltage is output from the first circuit point.
[発明の実施例] 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。[Embodiments of the invention] Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図はこの発明に係る電圧供給制御回路の一実施例に
よる構成を示す回路図である。この回路は、例えば前記
第9図に示される電圧昇圧回路からの昇圧電圧Vnを、
入力信号INの論理レベルに応じて、前記第5図ないし
第8図に示されるメモリセルの制御ゲートもしくはドレ
インに供給制御するものである。このとき、この電圧供
給制御回路はE2PROMチップ内のアドレスデコーダ
に結合して使用され、上記入力信号INはアドレスデコ
ーダのデコード出力になり、さらに出力電圧は前記メモ
リセルアレイの選択された行の制御ゲートもしくはドレ
インに印加される書込み電圧となる。FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of an embodiment of a voltage supply control circuit according to the present invention. This circuit uses, for example, the boosted voltage Vn from the voltage booster circuit shown in FIG.
According to the logic level of the input signal IN, the supply is controlled to the control gate or drain of the memory cells shown in FIGS. 5 to 8. At this time, this voltage supply control circuit is used in conjunction with an address decoder in the E2PROM chip, the input signal IN becomes the decode output of the address decoder, and the output voltage is applied to the control gate of the selected row of the memory cell array. Alternatively, it becomes a write voltage applied to the drain.
第1図において、回路点11にはアドレスデコーダのデ
コード出力である入力信号INが供給される。回路点1
2(第2の回路点)には前記電圧昇圧回路で昇圧された
高電圧Vn、が前記メモリセルにおけるデータの書込み
時に供給される。回路点13(第3の回路点)には第2
図のタイミングチャートに示すように、電源電圧5■お
よび基準電圧であるOvとを交互に繰り返すクロック信
号φ3が供給される。上記回路点11と回路点14(第
1の回路点)との間にはディプレッション型(以下、D
型と称する)でNチャネルのMOSトランジスタ15(
第3の、トランジスタ)の電流通路つまりソース、ドレ
イン間が挿入されている。このトランジスタ15の制御
端子つまりゲートには、前記メモリセルにおいてデータ
の書込みを行なう際に″“O″レベルされ、読み出しを
行なう際には“1′ルベルにされる制御信号R/Wが供
給される。In FIG. 1, an input signal IN, which is a decoded output of an address decoder, is supplied to a circuit point 11. Circuit point 1
2 (second circuit point) is supplied with the high voltage Vn boosted by the voltage booster circuit when data is written in the memory cell. Circuit point 13 (third circuit point) has a second
As shown in the timing chart in the figure, a clock signal φ3 is supplied which alternately repeats the power supply voltage 5■ and the reference voltage Ov. There is a depression type (hereinafter referred to as D) between circuit point 11 and circuit point 14 (first circuit point).
type) and an N-channel MOS transistor 15 (referred to as
A current path of a third transistor (transistor) is inserted between the source and drain. A control signal R/W is supplied to the control terminal or gate of the transistor 15, which is set to the "O" level when writing data in the memory cell and set to the "1" level when reading data. Ru.
上記回路点12と回路点14との間には、エンハンスメ
ント型(以下、E型と称する)でNチャネルのMOSト
ランジスタ16(第1のトランジスタ)のソース、ドレ
イン間が挿入されている。このトランジスタ16のゲー
トが接続されている回路点17には、D型でNチャネル
のMOSトランジスタ18゛のゲートが接続されており
、さらにこのトランジスタ18のソース、ドレインは共
に上記回路点13に接続されている。すなわち、上記M
OSトランジスタ18はトランジスタとして用いられる
のではなくキャパシタとして用いられる。Between the circuit point 12 and the circuit point 14, a source and drain of an enhancement type (hereinafter referred to as E type) N-channel MOS transistor 16 (first transistor) is inserted. The gate of a D-type N-channel MOS transistor 18' is connected to the circuit point 17 to which the gate of the transistor 16 is connected, and the source and drain of this transistor 18 are both connected to the circuit point 13. has been done. That is, the above M
OS transistor 18 is not used as a transistor but as a capacitor.
上記トランジスタ16のゲートが接続されている回路点
17と上記回路点14との間には、E型でNチャネルの
MOS t−ランジスタ19(第2のトランジスタ)の
ソース、ドレイン間が挿入されている。Between the circuit point 17 to which the gate of the transistor 16 is connected and the circuit point 14, a source and drain of an E-type N-channel MOS t-transistor 19 (second transistor) is inserted. There is.
このトランジスタ19のゲートは上記回路点14に接続
されている。また、上記回路点17と基準電圧Vs (
OV)が供給されている回路点20(第4の回路点)と
の間には、E型でNチャネルのMOSトランジスタ21
(第5のトランジスタ)のソース。The gate of this transistor 19 is connected to the circuit point 14. In addition, the circuit point 17 and the reference voltage Vs (
An E-type N-channel MOS transistor 21 is connected between the circuit point 20 (fourth circuit point) to which the voltage (OV) is supplied.
(fifth transistor) source.
ドレイン間が挿入されている。上記回路点14にはそれ
ぞれのソース、ドレイン間が、電源電圧Vc(5■)が
供給されている回路点22と上記基準電圧v8の供給回
路点20との間に直列挿入され、ゲートが共通に接続さ
れたE型でPチャネルのMOSトランジスタ23および
E型でNチャネルのMOSトランジスタ24かうなるC
MOSインバータ25(信号反転回路)の入力端子が接
続されている。The drain gap is inserted. The respective sources and drains of the circuit point 14 are inserted in series between the circuit point 22 to which the power supply voltage Vc (5■) is supplied and the circuit point 20 supplying the reference voltage v8, and the gates are common. An E-type P-channel MOS transistor 23 and an E-type N-channel MOS transistor 24 connected to C
An input terminal of a MOS inverter 25 (signal inversion circuit) is connected.
このCMOSインバータ25の出力端子は上記トランジ
スタ21のゲートに接続されている。すなわち、トラン
ジスタ21のゲートにはCMOSインバータ25を介し
て、上記回路点14の信号が供給されている。The output terminal of this CMOS inverter 25 is connected to the gate of the transistor 21. That is, the signal at the circuit point 14 is supplied to the gate of the transistor 21 via the CMOS inverter 25.
また上記回路点14に発生する信号電圧は、前記メモリ
セルでデータの書替えを行なう場合に、メモリセルの制
御ゲートもしくはドレインに印加すべき高電圧OUTと
して出力される。Further, the signal voltage generated at the circuit point 14 is outputted as a high voltage OUT to be applied to the control gate or drain of the memory cell when rewriting data in the memory cell.
次に上記のような構成でなる電圧供給制御回路の動作を
、第2図のタイミングチャートを用いて説明する。なお
、動作の説明にあたっては、E型でNチャネルのMOS
トランジスタのしきい値電′圧を1V、D型でNチャネ
ルのMOSトランジスタのしきい値電圧を −3V1E
型でPチャネルのMOS トランジスタのしきい値電圧
を一1■として説明する。Next, the operation of the voltage supply control circuit configured as described above will be explained using the timing chart of FIG. 2. In addition, in explaining the operation, we will use an E-type, N-channel MOS.
The threshold voltage of the transistor is 1V, and the threshold voltage of the D-type N-channel MOS transistor is -3V1E.
The following description assumes that the threshold voltage of a P-channel MOS transistor is 11.
まず、制御信号R/Wが“0”レベルのとき、すなわち
、この回路からの出力電圧OUTが供給される図示しな
いメモリセルにおいてデータ書込みが行われるとぎ、回
路点12には電圧昇圧回路からの昇圧された高電圧vH
が供給される。そしてこのとき、入力信号 INが5■
、すなわち図示しないアドレスデコーダのデコード出力
信号が“1”レベルであるとする。このときトランジス
タ15のゲートがOV、ソースが5■に設定されている
ので、第2図のタイミングチャートの期1Wlt1に示
すように、回路点14はこのトランジスタ15のしきい
値電圧の絶対値弁の電圧、すなわち約3Vに設定される
。これにより、トランジスタ19のゲートも約3Vに設
定され、このトランジスタ19を介して回路点17は、
回路点14の電圧3■よりもトランジスタ19のしきい
値電圧1■だけ低い約2■に設定される。First, when the control signal R/W is at the "0" level, that is, when data is written in a memory cell (not shown) to which the output voltage OUT from this circuit is supplied, the circuit point 12 receives the voltage from the voltage booster circuit. Boosted high voltage vH
is supplied. At this time, the input signal IN is 5■
That is, it is assumed that the decode output signal of the address decoder (not shown) is at the "1" level. At this time, the gate of the transistor 15 is set to OV and the source is set to 5■, so as shown in period 1Wlt1 of the timing chart of FIG. The voltage is set to approximately 3V. As a result, the gate of the transistor 19 is also set to approximately 3V, and the circuit point 17 is connected to the circuit via this transistor 19.
The threshold voltage of the transistor 19 is set to about 2■ which is lower than the voltage 3■ at the circuit point 14 by the threshold voltage 1■ of the transistor 19.
次に、第2図のタイミングチャートの期間t2に示すよ
うにクロック信号φ3が“1”レベルになると、キャパ
シタとして作用するトランジスタ18を介して回路点1
7の電圧が約2■から豹6■にレベルシフトされる。こ
れにより、トランジスタ16のゲートが約6vにバイア
スされて、回路点14にはトランジスタ16のゲート電
圧よりもそのしきい値電圧分だけ低い約5vの電圧が現
われる。次にクロック信号φ3がOVに低下すると、回
路点17の電圧は約4■までレベルダウンされるが、回
路点14の電圧はここに存在している各種容量や負荷容
量などにより約5■のまま保持される。以下、り、ロッ
ク信号φ3によって回路点17および回路点14の電圧
が第2図のように順次レベルシフトされる。そして最終
的に、回路点14の電圧は回路点12に供給されている
高電圧VHに近い高電圧に設定される。Next, as shown in period t2 of the timing chart in FIG.
7 voltage is level shifted from about 2■ to 6■. As a result, the gate of transistor 16 is biased to about 6V, and a voltage of about 5V appears at circuit point 14, which is lower than the gate voltage of transistor 16 by its threshold voltage. Next, when the clock signal φ3 drops to OV, the voltage at the circuit point 17 is lowered to about 4■, but the voltage at the circuit point 14 is reduced to about 5■ due to the various capacitances and load capacitances present here. will be retained. Thereafter, the voltages at the circuit points 17 and 14 are sequentially level-shifted as shown in FIG. 2 by the lock signal φ3. Finally, the voltage at circuit point 14 is set to a high voltage close to the high voltage VH supplied to circuit point 12.
ところで制御信号R/WがO11レベルにされていると
き、トランジスタ15のゲートはOv1ソースは5■に
それぞれ設定されており、ソース側からみてこのトラン
ジスタ15のゲート電位が一5■にされているので、こ
のトランジスタ15はしきい値電圧の絶対値が5V以上
でなければオンしない。ところがこのトランジスタ15
のしきい値電圧は一3■なので、このトランジスタ15
はオンしない。従って、回路点14に得られる上記高電
圧はこのトランジスタ15を介して放電されることはな
い。By the way, when the control signal R/W is set to the O11 level, the gate of the transistor 15 and the Ov1 source are set to 5■, and the gate potential of the transistor 15 is set to 15■ when viewed from the source side. Therefore, this transistor 15 will not turn on unless the absolute value of the threshold voltage is 5V or more. However, this transistor 15
The threshold voltage of this transistor is -3■, so this transistor 15
is not turned on. The high voltage available at circuit point 14 is therefore not discharged via this transistor 15.
さらに上記回路点14が高電圧に設定されているとき、
CMOSインバータ25の出力端子の信号が0”レベル
にされているので、この信号がゲートに供給されている
トランジスタ21はオフ状態のままであり、このトラン
ジスタ21を介して回路点17の電圧が■8に放電され
ることもない。すなわち、制御信号R/Wが“O”レベ
ルの期間に回路点14では上記高電圧を安定に得ること
ができる。Furthermore, when the circuit point 14 is set to a high voltage,
Since the signal at the output terminal of the CMOS inverter 25 is at the 0'' level, the transistor 21 whose gate is supplied with this signal remains in the off state, and the voltage at the circuit point 17 becomes In other words, the high voltage can be stably obtained at the circuit point 14 while the control signal R/W is at the "O" level.
またこのとき、高電圧VHが供給されている回路点12
からの電流流出は、回路点14に得られる高電圧のレベ
ル低下を補うための分のみでよく、定常的な電流流出は
生じない。Also, at this time, the circuit point 12 to which the high voltage VH is supplied
The current outflow from the circuit point 14 is sufficient to compensate for the drop in the level of the high voltage obtained at the circuit point 14, and no steady current outflow occurs.
他方、制御信号R/Wが“0”レベルの期間に入力信号
INがOVlすなわち図示しないアドレスデコーダのデ
コード出力信号が“0”レベルにされているとき、まず
トランジスタ15を介して回路点14が“′0”レベル
にされる。するとCMOSインバータ25の出力信号が
°1”レベルにされてトランジスタ21がオン状態にさ
れる。従って、クロック信号φ3がトランジスタ18に
供給されても回路点17はオン状態にされている上記ト
ランジスタ21を介して常に“0″レベル(Ov)に設
定され、これによりトランジスタ16のゲートバイアス
も0■にされるので、結局、回路点14は“O”レベル
のままである。このとき、トランジスタ16はカットオ
フしているので、回路点12に供給されている高電圧V
nからの電流流出はほとんどない。On the other hand, when the input signal IN is set to OVl during the period when the control signal R/W is at the "0" level, that is, the decoded output signal of the address decoder (not shown) is at the "0" level, the circuit point 14 is first connected through the transistor 15. It is set to the “'0” level. Then, the output signal of the CMOS inverter 25 is set to the °1" level and the transistor 21 is turned on. Therefore, even if the clock signal φ3 is supplied to the transistor 18, the circuit point 17 is turned on. Since the gate bias of the transistor 16 is also set to 0■, the circuit point 14 remains at the "O" level.At this time, the transistor 16 is cut off, so the high voltage V supplied to circuit point 12
There is almost no current outflow from n.
次にこの回路からの出力電圧OUTが供給される図示し
ないメモリセルにおいて、データの読み出しが行われる
とき、制御信号R/Wは′1”レベルにされる。このと
き、回路点12には前記昇圧された高電圧VHは供給さ
れずかつ前記回路点13にも前記クロック信号φ3は供
給されない。従って、図示しないメモリセルが選択され
たとき、すなわち入力信号INとして“1″レベル(5
■)が回路点11に供給されたとき、回路点14にはト
ランジスタ15を介して“1゛レベルがそのまま現われ
る。またこのとき、回路点17にはトランジスタ19を
介して約4■の電圧が現われるが、トランジスタ16の
素子寸法を小さくしてその駆動能力を予め小さくしてお
くか、あるいは回路点12に3ないし5■の電圧を供給
しておけば、このトランジスタ16を介して回路点14
の電圧が回路点12に放電されることがなく、回路点1
4の“1″レベル電圧が低下する恐れはない。Next, when data is read in a memory cell (not shown) to which the output voltage OUT from this circuit is supplied, the control signal R/W is set to the '1' level. The boosted high voltage VH is not supplied and the clock signal φ3 is not supplied to the circuit point 13. Therefore, when a memory cell (not shown) is selected, that is, when the input signal IN is set to the "1" level (5
2) is supplied to the circuit point 11, the "1" level appears as it is at the circuit point 14 via the transistor 15. At this time, a voltage of about 4■ is applied to the circuit point 17 via the transistor 19. However, if the element size of the transistor 16 is made smaller to reduce its driving capability in advance, or if a voltage of 3 to 5 cm is supplied to the circuit point 12, the circuit point 14 is
voltage is not discharged to circuit point 12, and circuit point 1
There is no risk that the "1" level voltage of No. 4 will drop.
第3図はこの発明に係る電圧供給制御回路の他の実施例
による構成を示す回路図である。この実施例回路では、
上記第1図の実施例回路からCMOSインバータ25お
よびトランジスタ21を取り除き、かつトランジスタ1
9のゲートを前記回路点14に接続する代わりに、E型
でNチャネルのMOSトランジスタ26のソース、ドレ
イン間を介して前記回路点14に接続し、このトランジ
スタ26のゲートは前記回路点14に接続し、さらにト
ランジスタ19のゲートが接続されている回路点21と
データ読み出し用の5■の電源電圧Vcが供給されてい
る回路点28との間にD型でNチャネルのMOSトラン
ジスタ29のソース、トレイン間を挿入し、このトラン
ジスタ29のゲートにはリセット信号RESETを供給
するようにしている。FIG. 3 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the voltage supply control circuit according to the present invention. In this example circuit,
CMOS inverter 25 and transistor 21 are removed from the embodiment circuit shown in FIG.
9 is connected to the circuit point 14 through the source and drain of an E-type N-channel MOS transistor 26, and the gate of this transistor 26 is connected to the circuit point 14. The source of a D-type N-channel MOS transistor 29 is connected between the circuit point 21 to which the gate of the transistor 19 is connected and the circuit point 28 to which the 5-inch power supply voltage Vc for data reading is supplied. , and between the trains, and a reset signal RESET is supplied to the gate of this transistor 29.
のタイミングチャートを用いて説明する。まず、データ
書込みが行われるときには、前記と同様に回路点12に
は昇圧された高電圧VHが、回路点13には5■および
OVとを交互に繰り返すクロック信−号φ3が、トラン
ジスタ15のゲートには°°0”レベルの制御信号R/
Wがそれぞれ供給される。This will be explained using the timing chart. First, when data is written, the boosted high voltage VH is applied to the circuit point 12 as described above, and the clock signal φ3, which alternately repeats 5■ and OV, is applied to the circuit point 13. The gate is supplied with a control signal R/°0” level.
W is supplied respectively.
また、リセット信号RESETはデータ書込み終了から
ある時間が経過した後に“1″レベルに設定される。Further, the reset signal RESET is set to the "1" level after a certain period of time has elapsed since the end of data writing.
入力信号INが5■のとき、前記と同様に回路点14に
は約3vの電圧が現われる。このとき、トランジスタ2
9声介して回路点27の電圧も約3■に設定される。従
って、クロック信号φ3がOvであれば、回路点17に
はトランジスタ19のゲート電圧よりもそのしきい値電
圧弁低い約2■の電圧が現われる。次にクロック信号φ
3が5■になると、キャパシタとしてのトランジスタ1
8を介して、約2■にされていた回路点17の電圧が約
6■までレベルシフトされる。これにより、トランジス
タ16はトランジスタ16のゲート電圧よりもそのしき
い値電圧分だけ低い約5vの電圧が現われる。以上の動
作が繰返し行われることにより、前記実施例と同様に、
クロック信号φ3によって回路点27、回路点17およ
゛び回路点14の電圧が第4図のように順次レベルアッ
プされる。そして最終的に、回路点14の電圧は回路点
12に供給されている高電圧■Hに近い高電圧に設定さ
れる。When the input signal IN is 5.times., a voltage of about 3 V appears at the circuit point 14 in the same manner as described above. At this time, transistor 2
The voltage at the circuit point 27 is also set to about 3. Therefore, if the clock signal φ3 is Ov, a voltage of about 2 cm lower than the gate voltage of the transistor 19 by its threshold voltage appears at the circuit point 17. Then the clock signal φ
When 3 becomes 5■, transistor 1 as a capacitor
8, the voltage at the circuit point 17, which has been set to about 2.2 cm, is level-shifted to about 6.0 cm. As a result, a voltage of about 5V lower than the gate voltage of the transistor 16 by its threshold voltage appears in the transistor 16. By repeating the above operations, as in the previous embodiment,
The voltages at circuit point 27, circuit point 17 and circuit point 14 are sequentially raised in level as shown in FIG. 4 by clock signal φ3. Finally, the voltage at the circuit point 14 is set to a high voltage close to the high voltage ■H supplied to the circuit point 12.
このとき、リセット信号RESETは“0″レベルのま
まにされ、トランジスタ29のソース、ドレインの一方
には回路点28から5Vの電圧が供給さ°れているので
、このトランジスタ29はオフ状態にされている。従っ
て、回路点27から、さらには回路点14から回路点2
8への放電は発生せず、回路点14における高電圧は安
定に保持される。At this time, the reset signal RESET is kept at the "0" level, and a voltage of 5V is supplied from the circuit node 28 to one of the source and drain of the transistor 29, so the transistor 29 is turned off. ing. Therefore, from circuit point 27 and furthermore from circuit point 14 to circuit point 2.
8 does not occur, and the high voltage at circuit point 14 remains stable.
このとき、前記と同様に、高電圧vHが供給されている
回路点12からの電mm出は、回路点14に得られる高
電圧のレベル低下を補うための分のみでよく、定常的な
電流流出は生じない。At this time, as in the above case, the current output from the circuit point 12 to which the high voltage vH is supplied is only necessary to compensate for the drop in the level of the high voltage obtained at the circuit point 14; No spillage occurs.
データの書込みが終了すると、制御信号R/Wが“1”
レベルになり、回路点14に出力されていた高電圧およ
び回路点17の電圧はトランジスタ15を介して放電さ
れる。これと同時にリセット信号RESETが1”レベ
ルにされてトランジスタ29がオン状゛態にされ、これ
によって回路点27の電圧は5■まで放電される。When data writing is completed, the control signal R/W becomes “1”
level, and the high voltage that had been output to circuit point 14 and the voltage at circuit point 17 are discharged through transistor 15. At the same time, the reset signal RESET is set to the 1'' level and the transistor 29 is turned on, thereby discharging the voltage at the circuit point 27 to 5.
次にこの回路からの出力電圧OUTが供給される図示し
ないメモリセルにおいて、データの読み出しが行われる
とき、制御信号R/Wは“1″レベルにされる。またリ
セット信号RESETは“1″レベルのままにされる。Next, when data is read in a memory cell (not shown) to which the output voltage OUT from this circuit is supplied, the control signal R/W is set to the "1" level. Further, the reset signal RESET is kept at the "1" level.
このとき、回路点12には前記昇圧された高電圧VHは
供給されずかつ前記回路点13にも前記クロック信号φ
3は供給されない。従って、図示しないメモリセルが選
択されたとき、すなわち入力信号INとして“1”レベ
ル(5■)が回路点11に供給されると、回路点14に
はトランジスタ15を介して″′1″レベルがそのまま
現われる。またこのとき、回路点27にはトランジスタ
29を介して約5vの電圧が現われ、さらに回路点11
にはトランジスタ19を介して約4■の電圧が現われる
が、前記と同様にトランジスタ16の素子寸法を小さく
してその駆動能力を予め小さくしておくか、あるいは回
路点12に3ないし5vの電圧を供給しておけば、この
トランジスタ16を介して回路点14の電圧が回路点1
2に放電されることがなく、回路点14の1”レベル電
圧が低下する恐れはない。At this time, the boosted high voltage VH is not supplied to the circuit point 12, and the clock signal φ is also not supplied to the circuit point 13.
3 is not supplied. Therefore, when a memory cell (not shown) is selected, that is, when a "1" level (5■) is supplied to the circuit point 11 as the input signal IN, the "1" level is supplied to the circuit point 14 via the transistor 15. appears as is. At this time, a voltage of approximately 5V appears at circuit point 27 via transistor 29, and furthermore, a voltage of approximately 5V appears at circuit point 27.
A voltage of approximately 4V appears through the transistor 19, but it is necessary to reduce the element size of the transistor 16 to reduce its driving capability in advance, or to apply a voltage of 3 to 5V to the circuit point 12. If the voltage at the circuit point 14 is supplied to the circuit point 1 through this transistor 16,
2, and there is no possibility that the 1'' level voltage at the circuit point 14 will drop.
なお、この発明は上記した実施例に限定されるものでは
なく種々の変形が可能であることはいうまでもない。例
えば、上記各実施例ではこの発明をメモリセルにおける
データ書込みの際に使用される高電圧の供給制御を行な
う回路に実施した場合について説明したが、これは高電
圧の供給制御をディジタル入力信号に応じて行なうよう
なものであればどのような回路にも実施が可能である。It goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and that various modifications can be made. For example, in each of the above embodiments, the present invention is applied to a circuit that controls the supply of high voltage used when writing data to a memory cell. It can be implemented in any circuit as long as it can be implemented accordingly.
[発明の効果]
以上説明したようにこの発明によれば、第1の回路点に
ディジタル入力信号に応じた信号を供給し、第2の回路
点に所定電圧を供給し、かつ第3の回路点にクロック信
号を供給し、上記第1および第2の回路点相互間に第1
のトランジスタの電流通路を挿入し、上記第1のトラン
ジスタの制御端子と上記第3の回路点との間に容量を挿
入し、上記第1のトランジスタの制御端子と上記第1の
回路点との間には、IJl[l端子が上記第1の回路点
に結合された第2のトランジスタの電流通路を挿入し、
上記第1の回路点から電圧を出力するようにしたので、
上記第2の回路点に供給される所定電圧からの無駄な電
流の流出をなくして、十分高い値の電圧を供給すること
ができる電圧供給制御回路が提供できる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, a signal corresponding to a digital input signal is supplied to a first circuit point, a predetermined voltage is supplied to a second circuit point, and a signal corresponding to a digital input signal is supplied to a third circuit point. a first circuit point between the first and second circuit points;
A current path of a transistor is inserted, a capacitor is inserted between the control terminal of the first transistor and the third circuit point, and a current path between the control terminal of the first transistor and the first circuit point is inserted. A current path of a second transistor whose IJl[l terminal is coupled to the first circuit point is inserted between them,
Since the voltage is output from the first circuit point above,
It is possible to provide a voltage supply control circuit that can eliminate wasteful outflow of current from the predetermined voltage supplied to the second circuit point and supply a voltage of a sufficiently high value.
第1図はこの発明に係る電圧供給制御回路の一実施例に
よる構成を示す回路図、第2図は上記実施例回路の動作
を説明するためのタイミングチャート、第3図はこの発
明に係る電圧供給制御回路の他の実施例による構成を示
す回路図、第4図は上記第3図の実施例回路の動作を説
明するためのタイミングチャート、第5図は不揮発性半
導体メモリのパターン平面図、第6図は第5図のメモリ
のA−A’線に沿った断面図、第7図は第5図のメモリ
のB−B’線に沿った断面図−4、第8図は第5図のメ
モリのc−c’線に沿った断面図、第9図は電圧昇圧回
路の一例を示す回路図、第10図は第9図の電圧昇圧回
路で用いられるクロック信号を示すタイミングチャート
である。
11、17.20.22.27.28・・・回路点、1
2・・・第2の回路点、13・・・第3の回路点、14
・・・第1の回路点、15・・・ディプレッション型で
NチャネルのMOSトランジスタ(第3のトランジスタ
)、16・・・エンハンスメント型でNチャネルのMO
Sトランジスタ(第1のトランジスタ)、18・・・デ
ィプレッション型でNチャネルのMOSトランジスタ、
19・・・エンハンスメント型でNチャネルのMOSト
ランジスタ(第2のトランジスタ)、21・・・エンハ
ンスメント型でNチャネルのMOSトランジスタ(第5
のトランジスタ)、23・・・エンハンスメント型でP
チャネルのMOS l−ランジスタ、24・・・エンハ
ンスメント型でNチャネルのMOSトランジスタ、25
・・・CMOSインバータ、26・・・エンハンスメン
ト型でNチャネルのMOSトランジスタ(第4のトラン
ジスタ)、29・・・ディプレッション型でNチャネル
のMoSトランジスタ(第6のトランジスタ)。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
第1図
′s2図
第3図
第4図
第5図
第7図 第8図
第91!!1
箪10図
φ1
φ2FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of an embodiment of the voltage supply control circuit according to the present invention, FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of the circuit according to the embodiment, and FIG. 3 is a voltage supply control circuit according to the present invention. FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of the embodiment circuit of FIG. 3; FIG. 5 is a pattern plan view of a nonvolatile semiconductor memory; 6 is a sectional view of the memory in FIG. 5 taken along the line AA', FIG. 7 is a sectional view taken along the line BB' of the memory in FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a voltage boosting circuit, and FIG. 10 is a timing chart showing a clock signal used in the voltage boosting circuit shown in FIG. 9. be. 11, 17.20.22.27.28...Circuit point, 1
2...Second circuit point, 13...Third circuit point, 14
...First circuit point, 15...Depression type N-channel MOS transistor (third transistor), 16...Enhancement type N-channel MOS transistor
S transistor (first transistor), 18...depression type N-channel MOS transistor,
19... Enhancement type N-channel MOS transistor (second transistor), 21... Enhancement type N-channel MOS transistor (fifth transistor)
), 23... enhancement type transistor
Channel MOS l-transistor, 24...Enhancement type N-channel MOS transistor, 25
... CMOS inverter, 26... Enhancement type N-channel MOS transistor (fourth transistor), 29... Depression type N-channel MoS transistor (sixth transistor). Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue Figure 1's2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 7 Figure 8 Figure 91! ! 1 Chest 10 Diagram φ1 φ2
Claims (9)
1の回路点と、所定電圧が供給される第2の回路点と、
クロック信号が供給される第3の回路点と、上記第1お
よび第2の回路点相互間に電流通路が挿入される第1の
トランジスタと、上記第1のトランジスタの制御端子と
上記第3の回路点との間に挿入される容量と、上記第1
のトランジスタの制御端子と上記第1の回路点との間に
電流通路が挿入され、制御端子が上記第1の回路点に結
合された第2のトランジスタとを具備し、上記第1の回
路点を電圧出力点としたことを特徴とする電圧供給制御
回路。(1) A first circuit point to which a signal corresponding to a digital input signal is supplied, a second circuit point to which a predetermined voltage is supplied,
A third circuit point to which a clock signal is supplied, a first transistor with a current path inserted between the first and second circuit points, and a control terminal of the first transistor and the third circuit point. The capacitance inserted between the circuit point and the first
a current path is inserted between a control terminal of the transistor and the first circuit point, a second transistor having a control terminal coupled to the first circuit point; A voltage supply control circuit characterized in that a voltage output point is .
御信号が供給される第3のトランジスタの電流通路を介
して前記ディジタル入力信号が供給されている特許請求
の範囲第1項に記載の電圧供給制御回路。(2) The digital input signal is supplied to the first circuit point via a current path of a third transistor whose control terminal is supplied with a digital control signal. voltage supply control circuit.
トランジスタで構成されている特許請求の範囲第2項に
記載の電圧供給制御回路。(3) The voltage supply control circuit according to claim 2, wherein the third transistor is a depletion type transistor.
回路点に接続されている特許請求の範囲第1項に記載の
電圧供給制御回路。(4) The voltage supply control circuit according to claim 1, wherein the control terminal of the second transistor is connected to the first circuit point.
ランジスタの電流通路を介して前記第1の回路点に接続
されている特許請求の範囲第1項に記載の電圧供給制御
回路。(5) The voltage supply control circuit according to claim 1, wherein the control terminal of the second transistor is connected to the first circuit point via a current path of a fourth transistor.
回路点に接続されている特許請求の範囲第5項に記載の
電圧供給制御回路。(6) The voltage supply control circuit according to claim 5, wherein the control terminal of the fourth transistor is connected to the first circuit point.
供給されている第4の回路点との間には、前記第1の回
路点の信号に応じてスイッチ制御される第5のトランジ
スタの電流通路が挿入されている特許請求の範囲第1項
に記載の電圧供給制御回路。(7) Between the control terminal of the first transistor and the fourth circuit point to which the reference voltage is supplied, there is a fifth transistor whose switch is controlled according to the signal at the first circuit point. The voltage supply control circuit according to claim 1, wherein a current path is inserted.
回路を介して前記第1の回路点の信号が供給されている
特許請求の範囲第7項に記載の電圧供給制御回路。(8) The voltage supply control circuit according to claim 7, wherein the control terminal of the fifth transistor is supplied with the signal of the first circuit point via a signal inversion circuit.
にディジタル制御信号が供給される第6のトランジスタ
の電流通路を介して前記所定電圧よりも低い電圧が供給
されている第5の回路点に結合されている特許請求の範
囲第5項に記載の電圧供給制御回路。(9) A fifth circuit point at which the control terminal of the second transistor is supplied with a voltage lower than the predetermined voltage via a current path of a sixth transistor whose control terminal is supplied with a digital control signal. A voltage supply control circuit according to claim 5, which is coupled to a voltage supply control circuit according to claim 5.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16898584A JPS6146509A (en) | 1984-08-13 | 1984-08-13 | Voltage supply control circuit |
DE8484109957T DE3481668D1 (en) | 1983-08-30 | 1984-08-21 | INTEGRATED SEMICONDUCTOR CIRCUIT. |
EP19840109957 EP0137245B1 (en) | 1983-08-30 | 1984-08-21 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16898584A JPS6146509A (en) | 1984-08-13 | 1984-08-13 | Voltage supply control circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6146509A true JPS6146509A (en) | 1986-03-06 |
Family
ID=15878212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16898584A Pending JPS6146509A (en) | 1983-08-30 | 1984-08-13 | Voltage supply control circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6146509A (en) |
-
1984
- 1984-08-13 JP JP16898584A patent/JPS6146509A/en active Pending
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