JPS6143423A - マスクアライナ - Google Patents
マスクアライナInfo
- Publication number
- JPS6143423A JPS6143423A JP59164942A JP16494284A JPS6143423A JP S6143423 A JPS6143423 A JP S6143423A JP 59164942 A JP59164942 A JP 59164942A JP 16494284 A JP16494284 A JP 16494284A JP S6143423 A JPS6143423 A JP S6143423A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- stage
- substrate
- wafer
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
2本発明は半導体等の製造に用いられるマスクアライナ
に係り、特に大面積のウェハ又は基板に好適なマスクア
ライナに関する。
に係り、特に大面積のウェハ又は基板に好適なマスクア
ライナに関する。
従来のマスクアライナにおけるステージはウェハや基板
をマスクに密着させるために金属等の剛性の高い材料を
用いて造られている。ウェハや基板が小さい場合はマス
クと硬いステージの間にウェハや基板をはさんで押し付
けることにヨリ、マスクとレジストとの密着を計ってい
た◎しかしながら、ウェハや基板の大型化に伴い、第4
vl(a)に示す如く、ステージ端部の押し上げ忙よる
マスク中央部の浮き上がりが起こり、この部分では第1
図の)忙示す如く光の回り込みkよって密着露光ができ
なくなる傾向にある0〔発明の目的〕 本発明の目的は、ウェハや基板の大型化に対処し、ウェ
ハや基板全面にわたって均一な密着露光ができるマスク
アライナを提供することkある。
をマスクに密着させるために金属等の剛性の高い材料を
用いて造られている。ウェハや基板が小さい場合はマス
クと硬いステージの間にウェハや基板をはさんで押し付
けることにヨリ、マスクとレジストとの密着を計ってい
た◎しかしながら、ウェハや基板の大型化に伴い、第4
vl(a)に示す如く、ステージ端部の押し上げ忙よる
マスク中央部の浮き上がりが起こり、この部分では第1
図の)忙示す如く光の回り込みkよって密着露光ができ
なくなる傾向にある0〔発明の目的〕 本発明の目的は、ウェハや基板の大型化に対処し、ウェ
ハや基板全面にわたって均一な密着露光ができるマスク
アライナを提供することkある。
本発明はフォトレジストを露光するための光源とマスク
を保持するマスクホルダーと基板を保持し位置合わせな
行うステージより成るマスクアライナにおいて、ステー
ジの表面を変形容易な弾性物質で形成したことを特徴と
するものである。即ち、マスク中央部での浮き上がりを
防止するためには・ステージ端部でのマスクの押し付は
力を弱めることが必要である◎そこで、ステージ表面が
自由に変形できるような材料で形成して押し付は力を弱
め、マスク中央部の浮き上がりを小さくする。また、理
想的にはマスクに模ってウェハや基板を保持し、均等な
力で押し付けることが望ましいので、ステージ表面に流
体を封入した柔軟な層を形成すれば、ウェハや基板はマ
スクの変形に追従した形でマスクに押し付けられ、マス
クと7t)レジスト間に隙間が生じるのを防ぐことがで
きる。この場合、封入した流体の圧力を調整することで
より均質な密着をさせることができる。
を保持するマスクホルダーと基板を保持し位置合わせな
行うステージより成るマスクアライナにおいて、ステー
ジの表面を変形容易な弾性物質で形成したことを特徴と
するものである。即ち、マスク中央部での浮き上がりを
防止するためには・ステージ端部でのマスクの押し付は
力を弱めることが必要である◎そこで、ステージ表面が
自由に変形できるような材料で形成して押し付は力を弱
め、マスク中央部の浮き上がりを小さくする。また、理
想的にはマスクに模ってウェハや基板を保持し、均等な
力で押し付けることが望ましいので、ステージ表面に流
体を封入した柔軟な層を形成すれば、ウェハや基板はマ
スクの変形に追従した形でマスクに押し付けられ、マス
クと7t)レジスト間に隙間が生じるのを防ぐことがで
きる。この場合、封入した流体の圧力を調整することで
より均質な密着をさせることができる。
以下、本発明の実施例を図忙より説明する・〔実施例1
〕 第1図に示す如く、ステージ表面を柔軟な弾性物質で構
成する・−この場合、表面の材料の厚さはウェハや基板
をマスクに押し付けた後も十分に弾性域にあるような厚
さが必要である。列えは、マスクの浮き上がりの最大値
が100μm程度の場合、ステージ表面の端部は中央部
より100μm下がらなければならず、圧縮の弾性限界
が10%の物質を用いた場合は1朋以上の厚さが必要で
ある。このよ5Vc、厚みはマスクの浮き上がり量とス
テージ表面を構成する物質の機械的性質によって決まる
・ 〔実施例2〕 第2図に示す如く、ステージ表面を柔軟な弾性物質で構
成し、この下に流体を封入する0本実施例では、封入さ
れた流体が変形をすることにより、ステージ表面がマス
クの変形に追従することになる・さらに、流体の性質に
よりウェハ又は基板の全面にわたり均一な力でマスクへ
の押付力が生じるため、より良好な密着性が得られる・
流体層の厚さはマスクの浮き上がり量と同等以上とし、
封入すべき流体はシリコンオイル等の液体又は加圧した
気体が良好である。
〕 第1図に示す如く、ステージ表面を柔軟な弾性物質で構
成する・−この場合、表面の材料の厚さはウェハや基板
をマスクに押し付けた後も十分に弾性域にあるような厚
さが必要である。列えは、マスクの浮き上がりの最大値
が100μm程度の場合、ステージ表面の端部は中央部
より100μm下がらなければならず、圧縮の弾性限界
が10%の物質を用いた場合は1朋以上の厚さが必要で
ある。このよ5Vc、厚みはマスクの浮き上がり量とス
テージ表面を構成する物質の機械的性質によって決まる
・ 〔実施例2〕 第2図に示す如く、ステージ表面を柔軟な弾性物質で構
成し、この下に流体を封入する0本実施例では、封入さ
れた流体が変形をすることにより、ステージ表面がマス
クの変形に追従することになる・さらに、流体の性質に
よりウェハ又は基板の全面にわたり均一な力でマスクへ
の押付力が生じるため、より良好な密着性が得られる・
流体層の厚さはマスクの浮き上がり量と同等以上とし、
封入すべき流体はシリコンオイル等の液体又は加圧した
気体が良好である。
すなわち、容易に圧縮される流体の場合は流体層が押し
つぶされ、目的とする効果が得られない場合があるから
である。
つぶされ、目的とする効果が得られない場合があるから
である。
〔実施例3〕
第3図に示す如く、ステージ表面を柔軟な弾性物質で構
成し、この下に流体を封入する@さらに流体を外部から
加減圧できるように圧力調整機能を設ける。本実施鍵の
場合、ウェハ又は基板の大きさによって流体の圧力を調
整し、常に最適な押付力でウェハ又は基板をマスクに密
着させることができるため、汎用性が高い・〔発明の効
果〕 本発明によれば、ウェハ又は基板の大型化に伴うマスク
の洋き上がりを抑制し、さらにウェハ又は基板全面をマ
スクに密層させることができるため、微細なパターンを
精度よくフォトレジストに転写できる1これによってL
SIやサーマルヘッド等の製品を容易にかつ安価に製造
できる効果がある@
成し、この下に流体を封入する@さらに流体を外部から
加減圧できるように圧力調整機能を設ける。本実施鍵の
場合、ウェハ又は基板の大きさによって流体の圧力を調
整し、常に最適な押付力でウェハ又は基板をマスクに密
着させることができるため、汎用性が高い・〔発明の効
果〕 本発明によれば、ウェハ又は基板の大型化に伴うマスク
の洋き上がりを抑制し、さらにウェハ又は基板全面をマ
スクに密層させることができるため、微細なパターンを
精度よくフォトレジストに転写できる1これによってL
SIやサーマルヘッド等の製品を容易にかつ安価に製造
できる効果がある@
第1図は本発明実施側1によるマスクアライナでの露光
を示す説明図、第2図は本発明実施例2によるマスクア
ライナでの露光を示す説明図、第3図は本発明実施例3
によるマスクアライナでの露光を示す説明図、第4図(
a)は従来のマスクアライナによる露光時のマスクの浮
雲上がりを示す説明図、(すは浮き上がり忙よる光の回
り込みを示す説明図である@ 1・・・マスク、 2・・・ウェハ又は基板
、3・・・マスクホルダ、 4・・・ステージ、5
・・・球面座、 6・・・ステージ昇降用シ
フ・・・照射光、 リング、8・・・マ
スク上のパターン、 9・・・変形容易な弾性物質、 10・・・流体、 11・・・流体圧力伝
達管、12・・・流体圧力iim機。
を示す説明図、第2図は本発明実施例2によるマスクア
ライナでの露光を示す説明図、第3図は本発明実施例3
によるマスクアライナでの露光を示す説明図、第4図(
a)は従来のマスクアライナによる露光時のマスクの浮
雲上がりを示す説明図、(すは浮き上がり忙よる光の回
り込みを示す説明図である@ 1・・・マスク、 2・・・ウェハ又は基板
、3・・・マスクホルダ、 4・・・ステージ、5
・・・球面座、 6・・・ステージ昇降用シ
フ・・・照射光、 リング、8・・・マ
スク上のパターン、 9・・・変形容易な弾性物質、 10・・・流体、 11・・・流体圧力伝
達管、12・・・流体圧力iim機。
Claims (1)
- (1)フォトレジストを露光するための光源とマスクを
保持するマスクホルダーと基板を保持し位置合わせを行
うステージより成るマスクアライナにおいて、ステージ
の表面を変形容易な弾性物質で形成したことを特徴とす
るマスクアライナ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59164942A JPS6143423A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | マスクアライナ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59164942A JPS6143423A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | マスクアライナ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6143423A true JPS6143423A (ja) | 1986-03-03 |
Family
ID=15802775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59164942A Pending JPS6143423A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | マスクアライナ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6143423A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02121118A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用Al合金鏡面基板の製造方法 |
-
1984
- 1984-08-08 JP JP59164942A patent/JPS6143423A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02121118A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用Al合金鏡面基板の製造方法 |
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