JPS614147A - 測定点の電圧の検出および画像化方法および装置 - Google Patents
測定点の電圧の検出および画像化方法および装置Info
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- JPS614147A JPS614147A JP60116326A JP11632685A JPS614147A JP S614147 A JPS614147 A JP S614147A JP 60116326 A JP60116326 A JP 60116326A JP 11632685 A JP11632685 A JP 11632685A JP S614147 A JPS614147 A JP S614147A
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- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/302—Contactless testing
- G01R31/305—Contactless testing using electron beams
- G01R31/307—Contactless testing using electron beams of integrated circuits
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、少なくとも１つの特定の周波数の電圧を導く
測定点の電圧を検出し、あるいは定性的に画像化し、あ
るいは定量的に画像化するための方法および装置に関す
る。
測定点の電圧を検出し、あるいは定性的に画像化し、あ
るいは定量的に画像化するための方法および装置に関す
る。
集積回路の動作に誤りがある場合に耐りを発見するため
の１つの方法として、集積回路の動作とたとえばシミュ
レーションにより得られた正規動作との比較が行われる
。そのためには、なかんずく、集積回路の内部の測定点
における信号の周波数または周波数スペクトルを知る必
要がある。
の１つの方法として、集積回路の動作とたとえばシミュ
レーションにより得られた正規動作との比較が行われる
。そのためには、なかんずく、集積回路の内部の測定点
における信号の周波数または周波数スペクトルを知る必
要がある。
集積回路の内部の測定点に特定の周波数の特定の周期的
信号が存在するか否かを検査する方法として、これまで
に下記の３つの方法が知られている。第１の方法は、「
スキャンニング・エレクトロン・マイクロスコピー（Ｓ
ｃａｎｎｉｎｇ ＩＩ！Ｉｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓ
ｃｏｐｙ） Ｊ １９７５年（第１部）、第８回年次走
査電子顕ｔｉ鏡シンボジュム論文集（Ｐｒｏｃ、 ｏｆ
ｔｈｅ Ｅｉｇｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｓｃａｎｎｉｎ
ｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅＳｙＩＩ
ｌｐｏｓｉｕｍ） 、シカゴ、ＩＴＴリサーチインステ
ィテユート（ＩＴＴ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ Ｉｎ５ｔｉ
ｔｕｔｅ）、第４６５〜４７１頁に記載されているいわ
ゆる電圧コード化法である。電圧コード化法は集積回路
の動的電位分布をモニタテレビ上に画像化する。この電
圧コード化法は種々の部品内の切換状態の時間的対応付
けを可能にし、従ってまた集積回路の迅速な機能検査に
特に適している。しかし、この電圧コード化法は、必然
的に電子線の行間波数が生ずるという重大な欠点を有す
る。
信号が存在するか否かを検査する方法として、これまで
に下記の３つの方法が知られている。第１の方法は、「
スキャンニング・エレクトロン・マイクロスコピー（Ｓ
ｃａｎｎｉｎｇ ＩＩ！Ｉｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓ
ｃｏｐｙ） Ｊ １９７５年（第１部）、第８回年次走
査電子顕ｔｉ鏡シンボジュム論文集（Ｐｒｏｃ、 ｏｆ
ｔｈｅ Ｅｉｇｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｓｃａｎｎｉｎ
ｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅＳｙＩＩ
ｌｐｏｓｉｕｍ） 、シカゴ、ＩＴＴリサーチインステ
ィテユート（ＩＴＴ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ Ｉｎ５ｔｉ
ｔｕｔｅ）、第４６５〜４７１頁に記載されているいわ
ゆる電圧コード化法である。電圧コード化法は集積回路
の動的電位分布をモニタテレビ上に画像化する。この電
圧コード化法は種々の部品内の切換状態の時間的対応付
けを可能にし、従ってまた集積回路の迅速な機能検査に
特に適している。しかし、この電圧コード化法は、必然
的に電子線の行間波数が生ずるという重大な欠点を有す
る。
第２の方法は、米国特許第４２２３２２０号明細書に記
載されているいわゆる論理状態マツピング法である。こ
の論理状態マツピング法では、動的電位分布がストロボ
スコープ効果により画像化される。この論理状態マツピ
ング法では、同一の電位分解能において電圧コード化法
と比較して、何桁も高い時間分解能が得られる。さらに
、この論理状態マツピング法では、動的電位分布の画像
化が走査電子顕微鏡の写真像スクリーンにより直接に行
われ得るので、表示が簡単化される。それに対して電圧
コード化法では、動的電位分布の表示がテープメモリま
たはテレビモニタの写真によってしか可能でない。
載されているいわゆる論理状態マツピング法である。こ
の論理状態マツピング法では、動的電位分布がストロボ
スコープ効果により画像化される。この論理状態マツピ
ング法では、同一の電位分解能において電圧コード化法
と比較して、何桁も高い時間分解能が得られる。さらに
、この論理状態マツピング法では、動的電位分布の画像
化が走査電子顕微鏡の写真像スクリーンにより直接に行
われ得るので、表示が簡単化される。それに対して電圧
コード化法では、動的電位分布の表示がテープメモリま
たはテレビモニタの写真によってしか可能でない。
第３の方法は、スイス フェデラル インステ（イテユ
ート オブ テクノロジー（Ｓｗｉｓｓ Ｆｅｄｅｒａ
ｌＩｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）
、ｏ−ザンヌ、スイニケ（Ｊｏｕｒｎ５ｅｓ ｄ’Ｅ
１ｅｃｔｒｏｎｉｑｕｅ ） １９８３、「複雑な集
積回路の検査：チャレンジ（Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｃｏｎ＋
ｐｌｅｘ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃ１ｒｃｕｉｔ
ｓ ： 八 Ｃｈａｌｌｅｎｇｅ ） Ｊ
の論文集の第２８３〜２９８頁のジェイ、ビー、コリン
（Ｊ、Ｐ、Ｃｏ１１ｉｎ）の論文「ストロボスコープに
よる電位コントラスト法に対する経済的代替：走査電子
顕微鏡の二次電子信号の処理（ＬＩｎ Ｔｒａｉｔｍｅ
ｎｔ ｄｕ Ｓｉｇｎａｌ ｄ’ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｓ
５ｅｃｏｎｄａｉｒｅｓ ｄ’ ｕｎ Ｍｉｃｒｏｓ
ｃｏｐｅ ａ Ｂａｌａｙａｇｅ）ｊに記載されている
方法である。この方法では、ロックイン増幅器を用いて
集積回路の内部の測定点における特定の周波数が見出さ
れる。その際、集積回路の内部の測定点で得られた電位
コントラスト信号からロックイン増幅器により、特定の
周波数を有する信号が抽出され、次いでこの信号の強度
が輝度変動として画像化される。
ート オブ テクノロジー（Ｓｗｉｓｓ Ｆｅｄｅｒａ
ｌＩｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）
、ｏ−ザンヌ、スイニケ（Ｊｏｕｒｎ５ｅｓ ｄ’Ｅ
１ｅｃｔｒｏｎｉｑｕｅ ） １９８３、「複雑な集
積回路の検査：チャレンジ（Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｃｏｎ＋
ｐｌｅｘ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃ１ｒｃｕｉｔ
ｓ ： 八 Ｃｈａｌｌｅｎｇｅ ） Ｊ
の論文集の第２８３〜２９８頁のジェイ、ビー、コリン
（Ｊ、Ｐ、Ｃｏ１１ｉｎ）の論文「ストロボスコープに
よる電位コントラスト法に対する経済的代替：走査電子
顕微鏡の二次電子信号の処理（ＬＩｎ Ｔｒａｉｔｍｅ
ｎｔ ｄｕ Ｓｉｇｎａｌ ｄ’ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｓ
５ｅｃｏｎｄａｉｒｅｓ ｄ’ ｕｎ Ｍｉｃｒｏｓ
ｃｏｐｅ ａ Ｂａｌａｙａｇｅ）ｊに記載されている
方法である。この方法では、ロックイン増幅器を用いて
集積回路の内部の測定点における特定の周波数が見出さ
れる。その際、集積回路の内部の測定点で得られた電位
コントラスト信号からロックイン増幅器により、特定の
周波数を有する信号が抽出され、次いでこの信号の強度
が輝度変動として画像化される。
上記の３つの公知の方法は部分的に実施困難であり、ま
た部分的に集積回路内のいくつか少数の導電帯の検査し
か可能でない。その上、公知の方法は、探索すべき信号
の周波数が既知であること、または探索すべき信号と同
期している信号に外部から近接可能であることを前提と
している。探索される信号の周波数が未知であれば、こ
のような信号の探索には非常に手間および費用がかかる
。このことはたとえば、探索すべき信号の周波数が２５
６による分割の代わりに２５５による分割によって実現
される場合にあてはまる。
た部分的に集積回路内のいくつか少数の導電帯の検査し
か可能でない。その上、公知の方法は、探索すべき信号
の周波数が既知であること、または探索すべき信号と同
期している信号に外部から近接可能であることを前提と
している。探索される信号の周波数が未知であれば、こ
のような信号の探索には非常に手間および費用がかかる
。このことはたとえば、探索すべき信号の周波数が２５
６による分割の代わりに２５５による分割によって実現
される場合にあてはまる。
本発明の目的は、冒頭に記載した種類の方法および装置
を、測定点で導かれる電圧のスペクトル解析により、こ
の信号のスペクトルからの１つまたは複数の周波数が未
知である場合にも実施可能なように改良することである
。
を、測定点で導かれる電圧のスペクトル解析により、こ
の信号のスペクトルからの１つまたは複数の周波数が未
知である場合にも実施可能なように改良することである
。
この目的は、本発明によれば、特許請求の範囲第１項に
よる方法および特許請求の範囲第５項による装置により
達成される。本発明の実施態様および利点は特許請求の
範囲第２項ないし第４項および第６項ないし第１０項、
以下の説明および添付図面に糸されている。
よる方法および特許請求の範囲第５項による装置により
達成される。本発明の実施態様および利点は特許請求の
範囲第２項ないし第４項および第６項ないし第１０項、
以下の説明および添付図面に糸されている。
ロックイン増幅器の参照周波数の掃引により必要な周波
数スヘクトルを掃過して、測定点たとえば集積回路内の
導電帯に生ずる周波数が未知の場合にもその周波数を知
ることができる。本発明による方法および装置は、探索
される信号の１つまたは複数の周波数が未知の場合番ど
も、集積回路内に生ずる信号周波数の表示を可能にする
。
数スヘクトルを掃過して、測定点たとえば集積回路内の
導電帯に生ずる周波数が未知の場合にもその周波数を知
ることができる。本発明による方法および装置は、探索
される信号の１つまたは複数の周波数が未知の場合番ど
も、集積回路内に生ずる信号周波数の表示を可能にする
。
以下、図面に示されている実施例により本発明を一層詳
細に説明する。
細に説明する。
以下に説明する実施例では電子顕微鏡が用いられている
が、電子の代わりにイオンまたは他の粒子を一次粒子と
しても二次粒子としても用いることができる。
が、電子の代わりにイオンまたは他の粒子を一次粒子と
しても二次粒子としても用いることができる。
図面には、測定点または導電帯の電圧を検出し、あるい
は定性的に画像化し、あるいは定量的に画像化し、かつ
測定点（導電帯）における信号の周波数スペクトルに含
まれている１つまたは複数の周波数を求めるための装置
が示されている。電子源ＥＣから出射した一次電子ＰＥ
が集積回路ＩＣ内の測定点（導電帯）に入射して、そこ
で二次電子ＳＥを放出させる。これらの二次電子ＳＥは
検出器ＤＴ内で検出される。検出器ＤＴに生ずる二次電
子電流に関係して、こ検出器ＤＴ内に二次電子信号が発
生され、それが光電子増倍管ＰＭに導かれて、そこで増
幅される。光電子増倍管ＰＭ内で増幅された二次電子信
号はさらに前置増幅器ＰＡに導かれる。前置増幅器ＰＡ
内でさらに増幅された二次電子信号は最後にロックイン
増幅器Ｌｌに到達する。ロックイン増幅器Ｌｌとしては
、たとえばアイティーエイチェイシーオー（Ｉ ｔｈａ
ｃｏ）増幅器形式４９１Ａが使用され得る。このロック
イン増幅器ＬＩの出力信号はたとえば画像表示管ＣＲＴ
内の電子線の強度を制御し得る。
は定性的に画像化し、あるいは定量的に画像化し、かつ
測定点（導電帯）における信号の周波数スペクトルに含
まれている１つまたは複数の周波数を求めるための装置
が示されている。電子源ＥＣから出射した一次電子ＰＥ
が集積回路ＩＣ内の測定点（導電帯）に入射して、そこ
で二次電子ＳＥを放出させる。これらの二次電子ＳＥは
検出器ＤＴ内で検出される。検出器ＤＴに生ずる二次電
子電流に関係して、こ検出器ＤＴ内に二次電子信号が発
生され、それが光電子増倍管ＰＭに導かれて、そこで増
幅される。光電子増倍管ＰＭ内で増幅された二次電子信
号はさらに前置増幅器ＰＡに導かれる。前置増幅器ＰＡ
内でさらに増幅された二次電子信号は最後にロックイン
増幅器Ｌｌに到達する。ロックイン増幅器Ｌｌとしては
、たとえばアイティーエイチェイシーオー（Ｉ ｔｈａ
ｃｏ）増幅器形式４９１Ａが使用され得る。このロック
イン増幅器ＬＩの出力信号はたとえば画像表示管ＣＲＴ
内の電子線の強度を制御し得る。
集積回路ＩＣは信号供給部ＣＯＮから周波数ｎ・ｆｓの
信号を供給される。一次電子ＰＲのビームが集積回路Ｉ
Ｃ内または他の試料内の測定点に入射し、かつこの測定
点が最初は未知の周波数ｆＳを有する信号を導けば、最
後に二次電子信号としてロックイン増幅器に供給される
二次電子ＳＲの電流も最初は未知の周波数ｆｓを有する
信号成分を含んでいる。従って、この二次電子信号から
ロックイン増幅器Ｌｌ内でこの最初は未知の周波数ｆｓ
を有する信号成分が、ロックイン増幅器ＬＩに参照信号
ＲＥＦとしてその周波数ｆｂが二次電子信号の周波数ス
ペクトル内の最初は未知の周波数ｆｓと一致している信
号が供給されるならば、抽出され得る。二次電子信号の
成分として存在したこの最初は未知の周波数ｆｓを有す
る信号の振幅２は次いで、参照信号ＲＥＦの周波数ｆｂ
がこの周波数ｆｓと一致しているならば、ロックイン増
幅器ＬＩの出力信号として画像表示管ＣＲＴ内の電子線
の強度を制御し得る。同時に、参照信号ＲＥＦの周波数
ｆｂの値と一致している信号ＳＲにより同じく画像表示
管ＣＲＴまたは他の記録装置たとえば計算機またはブロ
ックが制御され得る。
信号を供給される。一次電子ＰＲのビームが集積回路Ｉ
Ｃ内または他の試料内の測定点に入射し、かつこの測定
点が最初は未知の周波数ｆＳを有する信号を導けば、最
後に二次電子信号としてロックイン増幅器に供給される
二次電子ＳＲの電流も最初は未知の周波数ｆｓを有する
信号成分を含んでいる。従って、この二次電子信号から
ロックイン増幅器Ｌｌ内でこの最初は未知の周波数ｆｓ
を有する信号成分が、ロックイン増幅器ＬＩに参照信号
ＲＥＦとしてその周波数ｆｂが二次電子信号の周波数ス
ペクトル内の最初は未知の周波数ｆｓと一致している信
号が供給されるならば、抽出され得る。二次電子信号の
成分として存在したこの最初は未知の周波数ｆｓを有す
る信号の振幅２は次いで、参照信号ＲＥＦの周波数ｆｂ
がこの周波数ｆｓと一致しているならば、ロックイン増
幅器ＬＩの出力信号として画像表示管ＣＲＴ内の電子線
の強度を制御し得る。同時に、参照信号ＲＥＦの周波数
ｆｂの値と一致している信号ＳＲにより同じく画像表示
管ＣＲＴまたは他の記録装置たとえば計算機またはブロ
ックが制御され得る。
走査発生器ＲＧを介して走査電子即微鏡の偏向装置が制
御され得る。それにより１つの平面のどの測定点に一次
電子ＰＥのビームがまさに偏向されているかに関する情
報が同じく画像表示管ＣＲＴまたは他の記録装置たとえ
ば計算機またはプロッタに供給され得る。このようにし
て測定の最終結果として、１つの試料内のどの位置にお
けるどの測定点がどの周波数を導くかが指示され得る。
御され得る。それにより１つの平面のどの測定点に一次
電子ＰＥのビームがまさに偏向されているかに関する情
報が同じく画像表示管ＣＲＴまたは他の記録装置たとえ
ば計算機またはプロッタに供給され得る。このようにし
て測定の最終結果として、１つの試料内のどの位置にお
けるどの測定点がどの周波数を導くかが指示され得る。
たとえば米国特許第４２９２５１９号明細書から公知の
ように二次電子ＳＲの検出の際にスペクトルメータＳＰ
が使用されるならば、定量的測定を行い得る。このよう
なスペクトルメータＳＰを使用する際には、追加的に絶
対数に関係して、種々の測定点で求められる周波数スペ
クトル内の特定の周波数の振幅が比較され得る。こうし
て本発明は有効なスペクトル解析を可能にし、その際に
信号の基本波成分および高調波成分が個々のフーリエ成
分の強度に基づいて識別され得る。１つの測定点におけ
る１つの信号の個々のフーリエ成分を表示するために、
周波数ｆｂを画像表示管ＣＲＴのＸ方向に、またフーリ
エ成分の信号レベルを画像表示管ＣＲＴのＸ方向にとっ
て表示することは有意義である。参照信号ＲＥＦが実際
周波数ｆｂを有するならば、ロックイン増幅器Ｌｌの付
属の出力信号は、まさに検査されている測定点における
信号のスペクトル内の周波数ｆｂに属するフーリエ成分
の信号レベルに一致する。単一の測定点の代わりに複数
の測定点（導電帯）が順次にまたは連続的に、それらに
導かれる信号の周波数スペクトルに関して検査されるな
らば、記録媒体として画像表示管ＣＲＴよりも計算機を
使用するほうが有利である。
ように二次電子ＳＲの検出の際にスペクトルメータＳＰ
が使用されるならば、定量的測定を行い得る。このよう
なスペクトルメータＳＰを使用する際には、追加的に絶
対数に関係して、種々の測定点で求められる周波数スペ
クトル内の特定の周波数の振幅が比較され得る。こうし
て本発明は有効なスペクトル解析を可能にし、その際に
信号の基本波成分および高調波成分が個々のフーリエ成
分の強度に基づいて識別され得る。１つの測定点におけ
る１つの信号の個々のフーリエ成分を表示するために、
周波数ｆｂを画像表示管ＣＲＴのＸ方向に、またフーリ
エ成分の信号レベルを画像表示管ＣＲＴのＸ方向にとっ
て表示することは有意義である。参照信号ＲＥＦが実際
周波数ｆｂを有するならば、ロックイン増幅器Ｌｌの付
属の出力信号は、まさに検査されている測定点における
信号のスペクトル内の周波数ｆｂに属するフーリエ成分
の信号レベルに一致する。単一の測定点の代わりに複数
の測定点（導電帯）が順次にまたは連続的に、それらに
導かれる信号の周波数スペクトルに関して検査されるな
らば、記録媒体として画像表示管ＣＲＴよりも計算機を
使用するほうが有利である。
記録媒体として計算機を使用する際には、２次元平面内
の測定点も、それぞれ実際周波数ｆｂに関す゛る情報と
一次電子ＰＥのビームの位置にかんする情報とが計算機
または他の記録媒体に入力され得るかぎり、一次電子Ｐ
Ｅのビームにより走査され得る。
の測定点も、それぞれ実際周波数ｆｂに関す゛る情報と
一次電子ＰＥのビームの位置にかんする情報とが計算機
または他の記録媒体に入力され得るかぎり、一次電子Ｐ
Ｅのビームにより走査され得る。
一次電子ＰＥのビームが試料上の測定点を１つの直線（
たとえばＸ方向）に沿ってのみ走査すれば、試料上の一
次電子ＰＥのビームの入射位置の１次元の変化に周波数
ｆｂの変化が重畳され得る。この目的で発振器ＳＧがラ
ンプ信号または階段状信号ＳＲを発生する。このランプ
信号または階段状信号ＳＲは画像表示管ＣＲＴの入力端
に供給され、また同時に電圧制御発振器（ＶＣＯ）Ｇを
制御する。発振器Ｇは、ランプ信号ＳＲの大きさと一致
している周波数ｆｂを有する参照信号ＲＥＦを供給する
。一次電子ＰＦ、のビームは常に連続的にまたは跳躍的
にＸ方向に１つの直線に沿って走査し、他方同時に参照
信号ＲＥＦの周波数ｆｂは必要な周波数範囲を掃過する
。実際周波数ｆｂ（に比例する電圧ＳＲは同時に画像表
示管ＣＲＴ内の電子線をＸ方向に偏向させる。周波数ｆ
ｂが、１つの測定点の１つの信号の周波数スペクトル内
に存在する１つの周波数ｆｓの値に到達すると常に、画
像表示管ＣＲＴのスクリーン上に１つの線が現れ、こう
して、走査された測定点が導く周波数ｆｓの表示が得ら
れる。ロックイン増幅器ＬｌＯ後に比較器回路が接続さ
れていれば、線はスクリーンＣＲＴ上に明るく現れる。
たとえばＸ方向）に沿ってのみ走査すれば、試料上の一
次電子ＰＥのビームの入射位置の１次元の変化に周波数
ｆｂの変化が重畳され得る。この目的で発振器ＳＧがラ
ンプ信号または階段状信号ＳＲを発生する。このランプ
信号または階段状信号ＳＲは画像表示管ＣＲＴの入力端
に供給され、また同時に電圧制御発振器（ＶＣＯ）Ｇを
制御する。発振器Ｇは、ランプ信号ＳＲの大きさと一致
している周波数ｆｂを有する参照信号ＲＥＦを供給する
。一次電子ＰＦ、のビームは常に連続的にまたは跳躍的
にＸ方向に１つの直線に沿って走査し、他方同時に参照
信号ＲＥＦの周波数ｆｂは必要な周波数範囲を掃過する
。実際周波数ｆｂ（に比例する電圧ＳＲは同時に画像表
示管ＣＲＴ内の電子線をＸ方向に偏向させる。周波数ｆ
ｂが、１つの測定点の１つの信号の周波数スペクトル内
に存在する１つの周波数ｆｓの値に到達すると常に、画
像表示管ＣＲＴのスクリーン上に１つの線が現れ、こう
して、走査された測定点が導く周波数ｆｓの表示が得ら
れる。ロックイン増幅器ＬｌＯ後に比較器回路が接続さ
れていれば、線はスクリーンＣＲＴ上に明るく現れる。
他の場合にはそれぞれの線のグレー値がそれぞれのフー
リエ成分の大きさにより決定される。
リエ成分の大きさにより決定される。
一次電子ＰＥのビームは一群の測定点を多重に次々と、
周波数ｆｂＯ値がこの群の測定点の１回の走査の際に３
ｋＨｚ以下だけ変化するように、それぞれ迅速に走査し
得る。最大許容周波数変化は口・７フィン増幅器Ｌｌの
掃引幅と入力帯域幅との比により決定される。
周波数ｆｂＯ値がこの群の測定点の１回の走査の際に３
ｋＨｚ以下だけ変化するように、それぞれ迅速に走査し
得る。最大許容周波数変化は口・７フィン増幅器Ｌｌの
掃引幅と入力帯域幅との比により決定される。
最後に、一次電子ＰＥのビーム偏向の速度と１つの周波
数範囲の掃過の速度との比は周波数ｆｂに関して反対に
され得る。その際、一次電子ＰＦ。
数範囲の掃過の速度との比は周波数ｆｂに関して反対に
され得る。その際、一次電子ＰＦ。
のビーム偏向は再び連続的に、もしくは複数の測定点く
導電帯）の間の跳躍により行われ得る。そのためにはた
とえば一次電子ＰＲのビームは先ず最初の測定点（導電
帯）に置かれ、その後に周波数ｆｂに関して必要な範囲
が掃過される。続いて一次電子ＰＥのビームは次の測定
点く導電帯）に跳躍し、そこで新たに周波数ｆｂの変更
が行われる。
導電帯）の間の跳躍により行われ得る。そのためにはた
とえば一次電子ＰＲのビームは先ず最初の測定点（導電
帯）に置かれ、その後に周波数ｆｂに関して必要な範囲
が掃過される。続いて一次電子ＰＥのビームは次の測定
点く導電帯）に跳躍し、そこで新たに周波数ｆｂの変更
が行われる。
本発明による装置の基本機器として、または本発明によ
る方法を実施するため、定量的電位測定用として米国特
許第４２２０８５３号または第４２２０８５４号または
第４２７７６７９号明細書から、また定性的測定用とし
て米国特許第４２２３２２０号明細書から公知のように
走査電子顕微鏡が使用され得る。
る方法を実施するため、定量的電位測定用として米国特
許第４２２０８５３号または第４２２０８５４号または
第４２７７６７９号明細書から、また定性的測定用とし
て米国特許第４２２３２２０号明細書から公知のように
走査電子顕微鏡が使用され得る。
基本的にはロックイン増幅器の代わりに、中心周波数を
制御信号により変更され得る可調節フィルタが使用され
得る。そのためには、たとえば”スイッチ形キャパシタ
”フィルタまたは帯域フィルタを後に接続されたミクサ
の使用が考えられる。
制御信号により変更され得る可調節フィルタが使用され
得る。そのためには、たとえば”スイッチ形キャパシタ
”フィルタまたは帯域フィルタを後に接続されたミクサ
の使用が考えられる。
図面は１つまたは複数の測定点における信号のスペクト
ル解析のための本発明による装置のブロック図である。 ＣＯＮ・・・信号供給回路、ＣＲＴ・・・画像表示器、
ＤＣ・・・偏向装置、ＤＴ・・・検出器、ＥＣ・・・電
子源、Ｇ・・・電圧制御発振器、ＩＣ・・・集積回路、
Ｌｌ・・・ロックイン増幅器、ＰＡ・・・前置増幅器、
ＰＥ・・・一次電子、ＰＭ・・・光電子増倍管、ＲＧ・
・・走査発振器、ＳＥ・・・二次電子、３Ｇ・・・ラン
プ信号発生器、ｓｐ・・・スペクトロメータ。
ル解析のための本発明による装置のブロック図である。 ＣＯＮ・・・信号供給回路、ＣＲＴ・・・画像表示器、
ＤＣ・・・偏向装置、ＤＴ・・・検出器、ＥＣ・・・電
子源、Ｇ・・・電圧制御発振器、ＩＣ・・・集積回路、
Ｌｌ・・・ロックイン増幅器、ＰＡ・・・前置増幅器、
ＰＥ・・・一次電子、ＰＭ・・・光電子増倍管、ＲＧ・
・・走査発振器、ＳＥ・・・二次電子、３Ｇ・・・ラン
プ信号発生器、ｓｐ・・・スペクトロメータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）少なくとも１つの周波数（ｆｓ）の電圧を導く測定
点の電圧を検出し、あるいは定性的に画像化し、あるい
は定量的に画像化するための方法であって、測定点が一
次粒子（ＰＥ）を当てられ、一次粒子（ＰＥ）により励
起されて測定点から放出された二次粒子（ＳＥ）が検出
器（ＤＴ）内で検出され、それにより生ずる二次粒子信
号からロックイン増幅器（ＬＩ）による処理を介して測
定信号が形成される方法において、ロックイン増幅器（
ＬＩ）に参照信号（ＲＥＦ）として、１つの周波数範囲
にわたり周波数（ｆｂ）を変更される信号が与えられ、
測定信号の記録のための装置（ＣＲＴ）に、測定信号が
参照信号（ＲＥＦ）の周波数（ｆｂ）に関係して指示さ
れ得るように、参照信号（ＲＥＦ）の周波数（ｆｂ）の
大きさに関する信号（ＳＲ）が伝達されることを特徴と
する測定点の電圧の検出および画像化方法。 ２）一次粒子（ＰＥ）のビームが偏向され、また測定信
号の記録のための装置（ＣＲＴ）に、測定信号が測定点
の位置に関係しても指示され得るように、測定点の位置
に関する追加的情報（ｘ）が伝達されることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３）一次粒子（ＰＥ）のビームが反復して一群の測定点
を走査し、その際に参照信号（ＲＥＦ）の周波数（ｆｂ
）が変更され、またこの周波数（ｆｂ）が一群の測定点
の１回の走査の際にその値を３ｋＨｚ以下の値だけ変化
することを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２
項記載の方法。 ４）一次粒子（ＰＥ）のビームが単一の測定点に向けら
れ、またその際に参照信号（ＲＥＦ）の周波数（ｆｂ）
が１つの周波数範囲を掃過することを特徴とする特許請
求の範囲第１項または第２項記載の方法。 ５）少なくとも１つの周波数（ｆｓ）の電圧を導く測定
点の電圧を検出し、あるいは定性的に画像化し、あるい
は定量的に画像化するための装置であって、粒子顕微鏡
と、一次粒子（ＰＥ）を放出するための粒子源（ＥＧ）
と、一次粒子（ＰＥ）により励起されて試料（ＩＣ）の
測定点から放出された二次粒子（ＳＥ）を検出するため
の検出器（ＤＴ）と、光電子増倍管（ＰＭ）と、検出器
（ＤＴ）内に生じた二次粒子信号を処理するためのロッ
クイン増幅器（ＬＩ）と、ロックイン増幅器（ＬＩ）の
出力端に生じた測定信号を記録するための装置（ＣＲＴ
）と、１つの周波数（ｆｓ）の信号を試料（ＩＣ）に供
給するための信号供給部（ＣＯＭ）とを含んでいる装置
において、 ロックイン増幅器（ＬＩ）に与えるため可変の周波数（
ｆｂ）を有する参照信号（ＲＥＦ）を発生するため、ま
た同時に記録装置を制御するための装置（Ｇ）を含んで
いることを特徴とする測定点の電圧の検出および画像化
装置。 ６）測定信号を記録するための装置（ＣＲＴ）を制御す
るための可変の信号（ＳＲ）を発生するため、またラン
プ信号（ＳＲ）に関係して可変の周波数（ｆｂ）を有す
る参照信号（ＲＥＦ）を発生する発振器（Ｇ）を制御す
るための発生器（ＳＧ）を含んでいることを特徴とする
特許請求の範囲第５項記載の装置。 ７）一次粒子（ＰＥ）のビームを偏向させるための装置
（ＤＣ）を制御するため、また測定信号を記録するため
の装置（ＣＲＴ）を制御するための走査発生器（ＲＧ）
を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第５項ま
たは第６項記載の装置。 ８）二次粒子信号を定量的に測定するためのスペクトロ
メータ（ＳＰ）を含んでいることを特徴とする特許請求
の範囲第５項ないし第７項のいずれかに記載の装置。 ９）ロックイン増幅器（ＬＩ）の後にコントラスト改善
のための比較器回路が接続されていることを特徴とする
特許請求の範囲第５項ないし第８項のいずれかに記載の
装置。 １０）逆電界電極に一定電圧を有する逆電界スペクトロ
メータ（ＳＰ）を含んでいることを特徴とする特許請求
の範囲第５項ないし第７項のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3420269 | 1984-05-30 | ||
| DE3420269.2 | 1984-05-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614147A true JPS614147A (ja) | 1986-01-10 |
Family
ID=6237287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60116326A Pending JPS614147A (ja) | 1984-05-30 | 1985-05-29 | 測定点の電圧の検出および画像化方法および装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4678988A (ja) |
| EP (1) | EP0166815A1 (ja) |
| JP (1) | JPS614147A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01181528A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-19 | Seiko Instr & Electron Ltd | イオンビーム加工装置 |
| JPH0388737A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-15 | Asahi Glass Co Ltd | 素板の切断装置 |
| US5341306A (en) * | 1991-02-06 | 1994-08-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Blank layout method for plate-glass cutters |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0646550B2 (ja) * | 1985-08-19 | 1994-06-15 | 株式会社東芝 | 電子ビ−ム定位置照射制御方法および電子ビ−ム定位置照射制御装置 |
| EP0308678A1 (de) * | 1987-09-25 | 1989-03-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Phasenmessung von Signalen an einem Messpunkt mit Hilfe eines unmodulierten Korpuskularstrahls |
| US5122753A (en) * | 1990-12-20 | 1992-06-16 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method of testing electrical components for defects |
| US5590012A (en) * | 1995-03-30 | 1996-12-31 | Siemens Energy & Automation, Inc. | Electric arc detector sensor circuit |
| AU5298396A (en) * | 1995-03-30 | 1996-10-16 | Siemens Energy & Automation, Inc. | Circuit interrupter including an electric arc monitoring cir cuit |
| US6573736B1 (en) | 2002-01-09 | 2003-06-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Primary ion or electron current adjustment to enhance voltage contrast effect |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2507525A (en) * | 1948-02-06 | 1950-05-16 | Marcel Wallace | Panoramic system |
| DE2902495A1 (de) * | 1979-01-23 | 1980-07-31 | Siemens Ag | Einrichtung zur beruehrungslosen potentialmessung |
-
1984
- 1984-12-07 EP EP84114905A patent/EP0166815A1/de not_active Ceased
-
1985
- 1985-03-28 US US06/717,104 patent/US4678988A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-05-29 JP JP60116326A patent/JPS614147A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01181528A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-19 | Seiko Instr & Electron Ltd | イオンビーム加工装置 |
| JPH0388737A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-15 | Asahi Glass Co Ltd | 素板の切断装置 |
| US5341306A (en) * | 1991-02-06 | 1994-08-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Blank layout method for plate-glass cutters |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4678988A (en) | 1987-07-07 |
| EP0166815A1 (de) | 1986-01-08 |
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