JPS6138932U - バツチプラズマ装置のエツチトンネル - Google Patents

バツチプラズマ装置のエツチトンネル

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JPS6138932U
JPS6138932U JP12223684U JP12223684U JPS6138932U JP S6138932 U JPS6138932 U JP S6138932U JP 12223684 U JP12223684 U JP 12223684U JP 12223684 U JP12223684 U JP 12223684U JP S6138932 U JPS6138932 U JP S6138932U
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JP
Japan
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tunnel
etch
etsuchi
batutchi
plasma equipment
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Pending
Application number
JP12223684U
Other languages
English (en)
Inventor
之雄 星
Original Assignee
東京エレクトロン相模株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案の実施例を示す斜視図、第２図、第３
図は、第１図の部分図で、第２図は、エッチトンネル本
体の斜視図、第３図は、トンネル力バーの斜視図、第４
図は使用状態を示す縦断面図である。 １・・・・・・石英管、２，３・・・・・・電極、４・
・・・・・エッチトンネル、１０・・・・・・エツチ１
ンネル本体、’１１・・・・・・ｌ・ンネルカバー、１
６・・・・・・孔、１８・・・・・・調節孔、５０・・
・・・・プラズマ装置。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 石英管の外部に電極を対向して設け、該石英管の内
    部にエッチトンネルを設けたバッチプラズマ装置におい
    て、前記エッチトンネルが複数の孔を形成したエッチト
    ンネル本体と、該エッチトンネル本体に遊嵌合した複数
    のトンネル力パーとからなり、かつ該トンネル力バーに
    前記孔と対向する複数の調節孔を形成しことを特徴とす
    るバッチプラズマ装置のエッチトンネル。 ２エツチトンネル本体の孔が、開孔率５０％であること
    を特徴とする実用新案登録請求の跣囲第１項記載のバッ
    チプラズマ装置のエッチトンネル。 ３ トンネル力バーの調節孔が、開孔率５０％であるこ
    とを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のバ
    ッチプラズマ装置のエッチトンネル。
JP12223684U 1984-08-09 1984-08-09 バツチプラズマ装置のエツチトンネル Pending JPS6138932U (ja)

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JP12223684U JPS6138932U (ja) 1984-08-09 1984-08-09 バツチプラズマ装置のエツチトンネル

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5651582A (en) * 1979-10-01 1981-05-09 Mitsubishi Electric Corp Gas etching method
JPS5915072U (ja) * 1982-07-20 1984-01-30 日産自動車株式会社 液晶表示器

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5651582A (en) * 1979-10-01 1981-05-09 Mitsubishi Electric Corp Gas etching method
JPS5915072U (ja) * 1982-07-20 1984-01-30 日産自動車株式会社 液晶表示器

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