JPS6138857A

JPS6138857A - 平面加工装置

Info

Publication number: JPS6138857A
Application number: JP15795284A
Authority: JP
Inventors: Kiichi Hama; 浜　貴一; Isao Suzuki; 勲鈴木
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1984-07-28
Filing date: 1984-07-28
Publication date: 1986-02-24

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明はガラス、セラミックス、石炭ガラス等の硬脆材
料からなる被加工物を研摩し、高い平面精度に仕上げる
平面加工装置に関する。

〔従来技術〕

従来、この種の平面加工装置としては第１図（ａ）、　
（ｂ）に示すものが知られている。すなわち、同図は平
面加工装置の概略平面図および縦断面図で、１は矢印方
向に定速回転される定盤で、その上面には研摩材でるる
直径２０　ｒｎｍφ程度のダイヤモンドベレット２（同
図（ａ）では省略〕が所望の間隔（２５ｍｍ程度）をお
いて多数接着固定されている。３Ａ　、　３Ｂはそれぞ
れ複数個（図では３個）の被加工物（例えばガラス板）
４を吸引保持し、前記ダイヤモンドペレット２に所定の
押圧力で押し付けるプレッシャープレートで、コレラフ
レラシャ−プレート３Ａ、３Ｂは軸５ａ　、５ｂにベア
リング６を介して回転自在に支持され、互いに干渉し合
わないように前記定盤１の中心０から径方向に等距離能
れて、望ましくは前記中心０’に通る直線上に位置する
如く配置されている。また、プレッシャープレー）　３
Ａ　、　３Ｂの下面には図示しない吸引ポンプに接続さ
れた多数の吸気孔を有する真空吸着板（図示せず）が配
設されておｐｌこの真空吸着板によって前記被加工物４
が吸引保持される。そして、プレッシャープレー）　３
Ａ　、　３Ｂはそれぞれ軸５ｍ　、　５ｂに設けられて
いるＮ転機構（図示せず）により定盤１と同方向に回転
されるように構成されている。

このような構成からなる平面加工装置による被加工物４
の研摩方法は下記の通りでおる。

先ス、各プレッシャープレート３Ａ　、　３Ｂの真空吸
着板で荒ズリされた被加工物全３枚ずつ吸引保持した後
、これらのプレッシャープレー）３Ａ。

３Ｂを徐々に下降させて吸引保持している前記被加工物
４をダイヤモンドペレット２に所定の押圧力で押し付け
る。次に、定盤１を所定の回転数で一定時間回転させ、
被加工物４をダイヤモンドペレット２で研摩する。そし
て、研摩終了後プレッシャープレー）３Ａ、ａＢｆｆｉ
元の位置まで上昇させて研摩された被加工物４の吸引状
態を解除する。

すると、研摩された被加工物４がプレッシャープレー）
３Ａ、３Ｂ７））ら取り外されて１サイクルを終了し、
このようなサイクルを繰り返すことにより被加工物の連
続研摩が行われる。

しかしながら、斯かる従来の装置では、何ら被加工物４
を処理せずして真空吸着板で保持しているので、被加工
物４と真空吸着板との間に、微小片、空気中のゴミ、ダ
イヤモンドペレット２から剥離したダイヤモンド等の異
物が介在してしまう。

そのため、このような状態で被加工物４を研摩すると、
被加工物４の吸着されている表面に傷をつけたり、被加
工物４の研摩面の平面精度上劣化させる欠点がめった。

この傷や平面精度の劣化は、牛導体産業に使用されるフ
ォトマスクブランク等のガラス基板の製造においては致
命的欠陥とされるものでるる。

また、従来は真空吸着板全鉄等の金属で製作していたた
め、錆が発生すると、この錆自体が異物となって、被加
工物４の平面精度を劣化させてしまう欠点がめった。さ
らに、この錆によって真空吸着板の平面精度も低下する
。ｔた、錆が発生してダイヤモンドペレット２上に落下
し、加工時においてこの錆が被加工物の加工表面に新た
な傷をつける虞れもめった。また、真空吸着板の硬度が
低い場合には、該吸着板自体が異物等によって凹み、そ
れ以後同一箇所において被加工物の変形をうながすため
、同様に平面度全低下させる。したがって、真空吸着板
の材質およびその硬度も高精度な平面加工を実現する几
めの重要な要素とされる。

〔発明の概要〕

本発明は上述したような点に鑑みてなされたもので、プ
レッシャープレートの被加工物吸着面とを洗浄する洗浄
機と、荒ズリされ几被加工物の表面を洗浄する洗浄機を
設けることにより、被加工物吸着面、被加工物に研摩剤
、ガラスチップ、錆等の異物が付着して被加工物を傷つ
けたり変形させるのを防止し、不要率全低下させるよう
にし次子面加工装置を提供するものでおる。

以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。

〔実施例〕

第２図は本発明に係る平面加工装置の一実施例を示す平
面図、第３図は第２図■−■線断面図、第４図は第２図
ｍＶ−ＩＶ線断面図でるる。なお、図中第１図と同一構
成部材のものに対しては同一符号を以って示し、その説
明を省略する。また、第３図においては右側の洗浄装置
を省略している。

これらの図において、第１図に示した従来装置と異なる
点は、プレッシャープレート３Ａ　、　３Ｂ　　の下面
にそれぞれ配設されている真空吸着板２０゜２０の表面
、すなわち被加工物吸着面２０ａ　ｋそれぞれ個々に洗
浄する洗浄装置ｔ２１．２１と、前記被加工物吸着面２
０ａ　に吸着される前の荒ズリされた被加工物４の吸着
面側を洗浄する洗浄装置２２．２２を各プレッシャープ
レート３Ａ　、　３Ｂに対応して設けると共に真空吸着
板２０．２０をアルミナのようなセラミックスや超硬合
金等からなる耐食性材料で形成したことで、その他の構
成は全て第１図に示した従来装置と同一である。また、
各プレッシャープレー）　３Ａ　、　３Ｂ　　を洗浄す
る洗浄装置２１．２１および、各プレッシャープレー）
　３Ａ　、　３Ｂに対応して配設され研摩前の被加工物
４を洗浄する洗浄装置２２，２２ＩＩ′ｉ同一に構成さ
れているため、右側のプレッシャープレート３Ｂ側に配
設された洗浄装置２１．２２についてのみ詳細に説明す
る。

前記プレッシャープレー）　３Ｂ　の真空吸着板２０を
洗浄する洗浄装置２１としては噴射洗浄装置。

スクラブ洗浄装置等が使用されるが、望ましくは図に示
す如く洗浄能力に優れたスクラブ洗浄装置を用いる方が
好ましい。この場合、スクラブ洗浄装［２１は、定盤１
の片側に配設された案内部材２５と一端が前記案内部材
２５によって支持され洗浄時にモータ等によって回転さ
れると同時に前記案内部材２５に沿って定盤１の中央ま
で移動され真空吸着板２０をノズル３１〃）ら真空吸着
面２０１に水を噴きつけながら洗浄するブラシ２６とで
構成されている。なお、ブラシ２６は円筒体２６ａ　の
表面に可撓性全有する毛２６ｂ　’ｔ−植毛するかもし
くはスポンジ全巻き付けたものである。

なお、左側のプレッシャープレー）３Ａ’＆洗浄する洗
浄装置２１のブラシ２６を前記案内部材２５によって保
持され、定盤１の中央まで移動されるように構成されて
いる。

前記被加工物４を洗浄する洗浄装置２２ｉ１：、３個の
ノズル２７ａ、２７ｂ、２γＣを有し１度に３個の被加
工物４を洗浄するノズル噴射洗浄装置が使用される。前
記被加工物４は洗浄時に適宜な保持搬送手段２８によっ
て保持され、洗浄後は該手段２８により前記プレッシャ
ープレート３Ｂの下方に運ばれ、真空吸着板２０に受は
渡される。

前記真空吸着板２０は上述した通り耐食性に優れ錆にく
い材料で形成され、かつ被加工物４のビッカース硬度と
ほぼ等しいかもしくはそれ以上の硬度を有している。ま
た、真空吸着板２０は、前記被加工物４を吸引するため
の吸気孔２９が多数形成されると共にその表面、すなわ
ち被加工物吸着面２０ａ　は高精度な平面に仕上げられ
ている。

次に、このような平面加工装置による研摩方法を詳述す
る。先ず、荒ズリされた３枚の被加工物４を洗浄装置２
２．２２によって洗浄する。同時にプレッシャープレー
）　３Ａ　、　３Ｂ　　のＸ突成１［２０，２０を洗浄
装置２１．２１で洗浄する。これらの洗浄が終った後、
３枚の被加工物４を保持搬送手段２８で同時にプレッシ
ャープレー）３Ａ、３Ｂの下方に運び、これを該プレー
）３Ａ、３Ｂの真空吸着板２０．２０で吸引保持する。

そして先の６枚の被加工物４を研摩中に続けて別の６枚
の荒ズリされた被加工物４を洗浄装［２２，２２により
洗浄しておく。次に、プレッシャープレー）３Ａ、３Ｂ
’に下降させて被加工物４の主面（研摩面）ヲダイヤモ
ンドベレット２の表面に所定圧力で押し付ける。次いで
、定盤１を回転させ被加工物４を一定時間研摩する。研
摩が終了すると、プレッシャープレー）３Ａ、３Ｂ？上
昇させて被加工物４を取り外し、その片面加工を完了す
る。

このような一連の工程を繰や返すことにより、被加工物
４の連続的研摩が行われる。

かくして、本突施例装置によれば、洗浄装置２１．２２
によって真空吸着板２０．２０および被加工物４を洗浄
し、これらに付着している研摩剤、ガラスチップ等の異
物を取り除いている友めに、被加工物４の加工表面に傷
がついたり変形したりすることがなく、不良品の発生を
少なくすることができる。また、真空吸着板２０．２０
’に耐食性材料で製作しているので、錆の発生を防止で
き、また錆の発生がなければ、高い平面精度全維持する
ばかりか、錆により被加工物を傷っけｆｃり吸気孔２９
が詰ったりすることも防止でき、しη為も充分な硬度を
有しているので、異物が被加工物吸着面２０ａに食い込
んで被加工物吸着面２０ａを変形させることもない。

なお、上記夾施例扛被加工物４の洗浄装置２２としてノ
ズル噴射洗浄装置ｋ用いた場合について説明したが、こ
れに限らずスクラブ洗浄装置全使用してもよいことは勿
論でるる。

また、上記実施例にスクラブ洗浄装置１２１．２１によ
ってプレッシャープレート３Ａ、３Ｂ　ＯＸ空吸着板２
０．２０’ｅ個々に洗浄したが、１つのスクラブ洗浄装
置で両グレー）３Ａ、３Ｂｔ−洗浄してもよく、また真
空吸着板２０．２０と定盤１の表面と全同時に洗浄して
もよい。その場合、真空吸着板２０．２０と定盤１との
間隔が開き過ぎている場合にはプレッシャープレー）３
Ａ、３Ｂ’（ｒ一定距離下げたりあるいはまた２つのブ
ラシ２６を上下に設けて洗浄を分担させるとよい。

また、上記実施例はブラシ２６を案内部材２５で片持支
持したが、一対案内部材で両端支持してもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明に係る平面加工装置は、プレ
ッシャープレートと被加工物’ｌらかしめ洗浄装置で洗
浄するようにしたので、波力ｎ工物の表面に傷が発生す
ることなく高平面精度に加工でき、半導体産業に使用さ
れるフォトマスクブランク等の基板製造に好適でめる。

また、プレッシャープレートの被加工物吸着面全十分な
硬度を有する耐食性材料で形成すれば、錆の発生、並び
に錆による傷、吸気孔の目詰り等を防止できるので耐久
性も向上し、また一層不良率を低下させることができる
。

す概略平面図および断面図、第２図は本発明に係る平面
加工装置の一実施例を示す平面図、第３図は第２図ｍ　
−ｍ線断面図、第４図に第２図ＩＶ　−■線断面図でる
る。

１・・・・定盤、２・・・・ダイヤモンドペレツ）、３
Ａ、３Ｂ−−・・プレッシャープレート、４Φ・・・被
加工物、２０Φ・・・真空吸着板、２０ａ　＠Φ・・被
７１１１工物吸着面、２１，２２・・φ・洗浄装置。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）定速回転される定盤と、被加工物を吸引保持し前
記定盤に押し付けるプレッシャープレートと、前記プレ
ッシャープレートの被加工物吸着面を洗浄する洗浄機と
、前記被加工物吸着面に吸着される前の被加工物を洗浄
する洗浄機とを備えたことを特徴とする平面加工装置。
（２）被加工物吸着面が被加工物の硬度と同等かもしく
はそれ以上の硬度を有する耐食性材料で形成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の平面加工
装置。