JPS6137755B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6137755B2 JPS6137755B2 JP7361480A JP7361480A JPS6137755B2 JP S6137755 B2 JPS6137755 B2 JP S6137755B2 JP 7361480 A JP7361480 A JP 7361480A JP 7361480 A JP7361480 A JP 7361480A JP S6137755 B2 JPS6137755 B2 JP S6137755B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- frequency
- metal
- heating
- high frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 13
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 4
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は特に丸棒状被加熱物の表面加熱に適し
た高周波加熱装置に関するものである。
た高周波加熱装置に関するものである。
通常、高周波加熱装置としては電子レンジのよ
うに、マグネトロンから発振された高周波（マイ
クロ波）を加熱室に入れて、金属円筒室内の被加
熱物を高周波加熱するものが知られている。しか
し、この装置では加熱室内の高周波電界が低く、
ために加熱しにくい被加熱部、例えばεtanδの
小さいセラミツクやテフロン、デルリンなどの被
加熱物を加熱するには適していなかつた。又、セ
ラミツクやテフロン等の加熱しにくい被加熱物
で、特に表面だけを加熱する場合、従来はバーナ
の炎などで直接に加熱していたが、これでは均一
な加熱が難しく、而も熱線と時間を要し、ために
この種被加熱物を迅速且つ簡単に加熱する新しい
加熱装置が強く要望されていた。
うに、マグネトロンから発振された高周波（マイ
クロ波）を加熱室に入れて、金属円筒室内の被加
熱物を高周波加熱するものが知られている。しか
し、この装置では加熱室内の高周波電界が低く、
ために加熱しにくい被加熱部、例えばεtanδの
小さいセラミツクやテフロン、デルリンなどの被
加熱物を加熱するには適していなかつた。又、セ
ラミツクやテフロン等の加熱しにくい被加熱物
で、特に表面だけを加熱する場合、従来はバーナ
の炎などで直接に加熱していたが、これでは均一
な加熱が難しく、而も熱線と時間を要し、ために
この種被加熱物を迅速且つ簡単に加熱する新しい
加熱装置が強く要望されていた。
本発明は上記要望に鑑み、これを解決したもの
で、マグネトロンから発振される高周波を入力と
して金属円筒内に強力な高周波電界を形成し、こ
の高周波電界でセラミツク等からなる被加熱物を
高周波加熱する高周波加熱装置を提供する。以
下、本発明の構成を図面を参照して説明する。
で、マグネトロンから発振される高周波を入力と
して金属円筒内に強力な高周波電界を形成し、こ
の高周波電界でセラミツク等からなる被加熱物を
高周波加熱する高周波加熱装置を提供する。以
下、本発明の構成を図面を参照して説明する。
第１図及び第２図に於て、１は導波管、２はセ
ラミツク等で構成された、例えば丸棒状の被加熱
物、３は導波管１の一端部に連結され、導波管１
の他端部のマグネトロン（図示せず）から発振さ
れた高周波（ｍ）を入力として被加熱物２を加熱
する本発明による高周波加熱装置である。この高
周波加熱装置３に於ける４は上下端が開口した金
属円筒、５，６，……は金属円筒４の内周面に偶
数枚を等間隔で放射状に固定した金属翼片、６は
各金属翼片５を１枚置きに接続する均圧環（スト
ラツプリング）、７，７，……は金属円筒４の内
周面と金属翼片５とで囲まれる扇形断面の偶数個
の共振空胴、８は１つの共振空胴７から上方に導
出された給電線である。又、９は金属円筒４の上
端部に固定されて上方に延びる金属シエル、１０
は金属シエル９の上端に絶縁リング１１を介して
固定されたキヤツプで、このキヤツプ１０で給電
線８の上端を封止固定している。この高周波加熱
装置３は導波管１の開口部１′にキヤツプ１０を
挿入して、金属シエル９の一部をガスケツト１２
を介して嵌着することにより取付けられる。
ラミツク等で構成された、例えば丸棒状の被加熱
物、３は導波管１の一端部に連結され、導波管１
の他端部のマグネトロン（図示せず）から発振さ
れた高周波（ｍ）を入力として被加熱物２を加熱
する本発明による高周波加熱装置である。この高
周波加熱装置３に於ける４は上下端が開口した金
属円筒、５，６，……は金属円筒４の内周面に偶
数枚を等間隔で放射状に固定した金属翼片、６は
各金属翼片５を１枚置きに接続する均圧環（スト
ラツプリング）、７，７，……は金属円筒４の内
周面と金属翼片５とで囲まれる扇形断面の偶数個
の共振空胴、８は１つの共振空胴７から上方に導
出された給電線である。又、９は金属円筒４の上
端部に固定されて上方に延びる金属シエル、１０
は金属シエル９の上端に絶縁リング１１を介して
固定されたキヤツプで、このキヤツプ１０で給電
線８の上端を封止固定している。この高周波加熱
装置３は導波管１の開口部１′にキヤツプ１０を
挿入して、金属シエル９の一部をガスケツト１２
を介して嵌着することにより取付けられる。
上記高周波加熱装置３は公知のマグネトロン陰
極部及びマグネツトを取り除き、陽陰部と出力部
を残した構造に類似したもので、次の動作を行
う。即ち、マグネトロンが動作して導波管１内に
例えば2450MHzの高周波（ｍ）ぱ発振される
と、この高周波（ｍ）は給電線８を伝つて共振空
胴７に入力され、共振空胴７を励振する。すると
各共振空胴７，７，……に強力な高周波電界が発
生する。この高周波電界は各金属翼片５，５，…
…の内端部の間の電界E1，E1……と、各金属翼
片５，５，……の内端上下部の電界E2，E2…
…、E3，E3……が強力であり、この高周波電界
によつて被加熱物２が高周波加熱される。
極部及びマグネツトを取り除き、陽陰部と出力部
を残した構造に類似したもので、次の動作を行
う。即ち、マグネトロンが動作して導波管１内に
例えば2450MHzの高周波（ｍ）ぱ発振される
と、この高周波（ｍ）は給電線８を伝つて共振空
胴７に入力され、共振空胴７を励振する。すると
各共振空胴７，７，……に強力な高周波電界が発
生する。この高周波電界は各金属翼片５，５，…
…の内端部の間の電界E1，E1……と、各金属翼
片５，５，……の内端上下部の電界E2，E2…
…、E3，E3……が強力であり、この高周波電界
によつて被加熱物２が高周波加熱される。
例えば、丸棒状の被加熱物２の外径を各金属翼
片５，５，……の内端面で囲まれる空間（ｎ）の
直径より若干小さく設け、この空間（ｎ）に被加
熱物２を軸方向に挿入する。すると、この被加熱
物２の周面が前記高周波電界E1，E1，……によ
つて部分的に表面加熱され、空間（ｎ）から被加
熱物２を引き出すと、第３図に示すように周面が
縦縞状に加熱されたものが得られる。又、空間
（ｎ）に被加熱物２を挿入して中心線を中心に回
転させると、周面全域に高周波電界E1，E1，…
…が作用し、周面全域が均等に高周波加熱され
る。又、金属円筒４の内径より若干小さい外径の
被加熱物２を各金属翼片５，５，……の下端面に
近接させると、この被加熱物２′は上端面が高周
波電界E2，E2，……で部分的に高周波加熱され
る。又、この加熱時に被加熱物２′を回転させる
と、被加熱物２′の上端面は第４図に示すように
リング状に加熱される。実際、このような高周波
加熱は被加熱物２，２′がセラミツクやテフロン
等のεtanδが小さいものに於ても著しい効果が
あることが実験により確認された。尚、金属円筒
４は被加熱物挿入用に下端を開口している各共振
空胴７，７，……がループ状に結合されて高周波
的に閉回路を形成しているため開口であつても高
周波洩れの心配は全くなく、安全である。
片５，５，……の内端面で囲まれる空間（ｎ）の
直径より若干小さく設け、この空間（ｎ）に被加
熱物２を軸方向に挿入する。すると、この被加熱
物２の周面が前記高周波電界E1，E1，……によ
つて部分的に表面加熱され、空間（ｎ）から被加
熱物２を引き出すと、第３図に示すように周面が
縦縞状に加熱されたものが得られる。又、空間
（ｎ）に被加熱物２を挿入して中心線を中心に回
転させると、周面全域に高周波電界E1，E1，…
…が作用し、周面全域が均等に高周波加熱され
る。又、金属円筒４の内径より若干小さい外径の
被加熱物２を各金属翼片５，５，……の下端面に
近接させると、この被加熱物２′は上端面が高周
波電界E2，E2，……で部分的に高周波加熱され
る。又、この加熱時に被加熱物２′を回転させる
と、被加熱物２′の上端面は第４図に示すように
リング状に加熱される。実際、このような高周波
加熱は被加熱物２，２′がセラミツクやテフロン
等のεtanδが小さいものに於ても著しい効果が
あることが実験により確認された。尚、金属円筒
４は被加熱物挿入用に下端を開口している各共振
空胴７，７，……がループ状に結合されて高周波
的に閉回路を形成しているため開口であつても高
周波洩れの心配は全くなく、安全である。
尚、本発明は上記構造例に限らず、例えばホー
ルアンドスロツト型マグネトロンのように共振空
胴に円筒形部分を有するものであつてもよい。
ルアンドスロツト型マグネトロンのように共振空
胴に円筒形部分を有するものであつてもよい。
以上説明したように、本発明によれば高周波入
力を強力な高周波電界に変換して加熱するように
したから、従来より高周波加熱が難しいとされて
いたεtanδの小さいセラミツクやテフロン等の
被加熱物をも確実に、且つ迅速に加熱することが
できる。又、高周波電界による加熱のため、被加
熱物の部分加熱や全面均等加熱などの加熱コント
ロールが容易になる。
力を強力な高周波電界に変換して加熱するように
したから、従来より高周波加熱が難しいとされて
いたεtanδの小さいセラミツクやテフロン等の
被加熱物をも確実に、且つ迅速に加熱することが
できる。又、高周波電界による加熱のため、被加
熱物の部分加熱や全面均等加熱などの加熱コント
ロールが容易になる。
第１図は本発明による高周波加熱装置の一実施
例を示す側断面図、第２図は第１図Ａ―Ａ線断面
図、第３図は第１図装置で加熱された被加熱物の
一例を示す側面図、第４図は他の被加熱物の平面
図である。 ２……被加熱物、３……高周波加熱装置、４…
…金属円筒、５……金属翼片、７……共振空胴、
８……給電線、ｍ……高周波、E1，E2，E3……
高周波電界。
例を示す側断面図、第２図は第１図Ａ―Ａ線断面
図、第３図は第１図装置で加熱された被加熱物の
一例を示す側面図、第４図は他の被加熱物の平面
図である。 ２……被加熱物、３……高周波加熱装置、４…
…金属円筒、５……金属翼片、７……共振空胴、
８……給電線、ｍ……高周波、E1，E2，E3……
高周波電界。
Claims (1)
- １ 金属円筒と、金属円筒の内周面に複数枚を等
間隔で放射状に配列して固定した金属翼片と、金
属円管内周面と各金属翼片とで囲まれる共振空胴
へ高周波電力を供給する給電線とを具備したこと
を特徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7361480A JPS57879A (en) | 1980-05-30 | 1980-05-30 | High frequency heater |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7361480A JPS57879A (en) | 1980-05-30 | 1980-05-30 | High frequency heater |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57879A JPS57879A (en) | 1982-01-05 |
| JPS6137755B2 true JPS6137755B2 (ja) | 1986-08-26 |
Family
ID=13523380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7361480A Granted JPS57879A (en) | 1980-05-30 | 1980-05-30 | High frequency heater |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57879A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260543U (ja) * | 1988-10-26 | 1990-05-02 |
-
1980
- 1980-05-30 JP JP7361480A patent/JPS57879A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260543U (ja) * | 1988-10-26 | 1990-05-02 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57879A (en) | 1982-01-05 |
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