JPS6136628B2 - - Google Patents
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- JPS6136628B2 JPS6136628B2 JP54037503A JP3750379A JPS6136628B2 JP S6136628 B2 JPS6136628 B2 JP S6136628B2 JP 54037503 A JP54037503 A JP 54037503A JP 3750379 A JP3750379 A JP 3750379A JP S6136628 B2 JPS6136628 B2 JP S6136628B2
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- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は半導体素子の各種特性測定試験を行
なう半導体試験装置に関する。
従来、半導体試験装置によつて半導体素子例え
ばDIP型のIC等の特性測定試験を行なうには、先
ず試験装置に設けられたソケツトに半導体素子を
挿入し、この後試験開始スイツチを操作するよう
にしている。これにより試験装置は自動的に数十
項目の特性測定試験を行ない、最終的に上記半導
体素子の良否判定を行なつている。
このように従来では、半導体素子をソケツトに
挿入した後試験開始スイツチを操作しなければ特
性測定試験が行えないので、操作性が悪いといつ
た欠点があつた。また従来では半導体素子をソケ
ツトに挿入してから試験開始スイツチを操作する
までの間に無駄な空き時間が生じてしまい、試験
時間が長いものとなるといつた欠点があつた。そ
してこれらの欠点は特に大量の半導体素子の試験
を行なう場合に顕著となる。
この発明は上記のような事情を考慮してなされ
たものであり、その目的とするところは、操作性
が高くしかも短時間で半導体素子の特性測定試験
を行なうことができる半導体試験装置を提供する
ことにある。
以下図面を参照してこの発明の一実施例を説明
する。第1図はこの発明に係る半導体試験装置の
一実施例を示すブロツク構成図である。図におい
て1は各種特性測定試験が行なわれる例えばDIP
型の被試験半導体素子が挿入されるソケツト部、
2はこのソケツト部1に挿入された被試験半導体
素子の特性測定試験を行なうテスタ部、3は上記
ソケツト部1に被試験半導体素子が完全に挿入さ
れたかどうかを検出する挿入検出部である。しか
して上記挿入検出部3は上記ソケツト部1に被試
験半導体素子が完全に挿入されたことを検出し試
験開始信号STRTを高レベルに保持する。さらに
この試験開始信号STRTが高レベルに保持される
ことにより、上記テスタ部2は上記ソケツト部1
に挿入された被試験半導体素子の各種特性試験を
実行すると共に、試験実行期間中は低レベルに保
持した試験中信号TESTを上記挿入検出部3に供
給して、その挿入検出動作を停止せしめるように
なつている。
第2図は上記挿入検出部3をソケツト部1と共
に詳細に示す回路構成図である。図示するように
挿入検出部3は大別して2つの導通検出部11,
12、試験開始信号発生部13および検出動作制
御部14から構成されている。
図において15a〜15cは前記ソケツト部1
に被試験半導体素子が完全に挿入されると、この
被試験半導体素子の所定の端子が接触する電極で
ある。この各電極15a〜15cそれぞれは前記
テスタ部2に接続されると共に、電極15aは後
述する検出動作制御部14のリレー装置16の常
開接点16aを介して接地電位点に接続され、さ
らに電極15b,15cはこのリレー装置16の
常開接点16b,16cそれぞれを介して導通検
出部11,12それぞれの入力端に接続される。
上記2つの導通検出部11,12は同様の構成
となつていて、上記常開接点16bあるいは16
cの一端がそのカソードに接続されるダイオード
17、このダイオード17のアノードと接地電位
点との間に接続されるコンデンサ18、上記ダイ
オード17のアノードにその一端が接続される抵
抗19、この抵抗19の他端がそのベースに接続
されるPNPトランジスタ20、このトランジスタ
20のエミツタと正の電源電圧VCC印加点との間
に接続される抵抗21、上記トランジスタ20の
コレクタと操地電位点との間に接続される抵抗2
2、上記トランジスタ20と抵抗22との接続点
にそのベースが接続されると共にそのコレクタが
接地電位点に接続されるNPNトランジスタ2
3、このトランジスタ23のコレクタと電源電圧
印加点との間に接続される抵抗24、上記トラン
ジスタ23と抵抗24との接続点にそのベースが
接続されると共にそのエミツタが接地電位点に接
続されるNPNトランジスタ25、このトランジ
スタ25のコレクタと電源電圧印加点との間に接
続される抵抗26、上記トランジスタ25と抵抗
26との接続点にそのカソードが接続されるダイ
オード27とからそれぞれ構成されている。
また上記2つの導通検出部11,12のダイオ
ード27のアノードは共通接続され、その共通接
続点は試験開始信号発生部13の入力端に接続さ
れる。この試験開始信号発生部13は、上記ダイ
オード27のアノード共通接続点がそのアノード
に接続されるダイオード28、このダイオード2
8のアノードと電源電圧印加点との間に接続され
る抵抗29、上記ダイオード28のカソードがそ
のベースに接続されると共にそのエミツタが接地
電位点に接続されるNPNトランジスタ30、こ
のトランジスタ30のコレクタと電源電圧印加点
との間に接続される抵抗31、上記トランジスタ
30と抵抗31との接続点にそのカソードが接続
されるダイオード32、このダイオード32のア
ノードにそのアノードが接続されるダイオード3
3、上記2つのダイオード32,33の接続点と
電源電位印加点との間に接続される抵抗34、上
記ダイオード33のカソードがそのベースに接続
されると共にそのエミツタが接地電位点に接続さ
れるNPNトランジスタ35、このトランジスタ
35のコレクタと電源電圧印加点との間に接続さ
れる可変抵抗36、上記トランジスタ35と可変
抵抗36の接続点および接地電位点との間に接続
され可変抵抗37と共に積分回路を構成するコン
デンサ37、上記可変抵抗36とコンデンサ37
との接続点にそのアノードが接続されるダイオー
ド38、このダイオード38のカソードがそのベ
ースに接続されると共にそのエミツタが接地電位
点に接続されるNPNトランジスタ39、このト
ランジスタ39のコレクタと電源電圧印加点との
間に接続される抵抗40、上記トランジスタ39
と抵抗40との接続点にそのベースが接続される
と共にそのエミツタが接地電位点に接続される
NPNトランジスタ41、このトランジスタ41
のコレクタと電源電圧印加点との間に接続される
抵抗42、上記トランジスタ41と抵抗42の接
続点にその一端が接続されるコンデンサ43、こ
のコンデンサ43の他端と接地電位点との間に接
続されこのコンデンサ43と共に微分回路を構成
する抵抗44、この抵抗44と並列接続されるダ
イオード45とから構成され上記コンデンサ4
3、抵抗44およびダイオード45の共通接続点
からは試験開始信号STRTを出力するための端子
46が設けられる。
また前記検出動作制御部14は、前記テスタ部
2から出力される試験中信号TESTが供給される
端子47、この端子47に接続される抵抗48、
この抵抗48の他端がそのベースに接続されると
共にそのエミツタが接地電位点に接続される
NPNトランジスタ49、このトランジスタ49
のコンデンサと電源電圧印加点との間に接続され
るリレー装置16のコイル16A、上記トランジ
スタ49とコイル16Aとの接続点にその一端が
接続される抵抗50、この抵抗50の他端がその
ベースに接続されると共にそのエミツタが接地電
位点に接続されるNPNトランジスタ51、この
トランジスタ51のコレクタと電源電圧印加点と
の間に接続される抵抗52、上記トランジスタ5
1と抵抗52との接続点および接地電位点との間
に接続され上記抵抗52と共に積分回路を構成す
るコンデンサ53、上記抵抗52とコンデンサ5
3との接続点にそのベースが接続されると共にそ
のコレクタが電源電圧印加点に接続されるNPN
トランジスタ54、このトランジスタ54のエミ
ツタと接地電位点との間に接続される抵抗55、
上記トランジスタ54と抵抗55との接続点にそ
のカソードが接続されると共にそのアノードが前
記試験開始信号発生部13の2つのダイオード3
2,33の共通接続点に接続されるダイオード5
6とから構成されている。
次に上記のように構成された装置の動作を、第
3図に示すタイミングチヤートを用いて説明す
る。説明にあたつては電源電圧VCCレベルは高論
理レベルに、接地電圧レベルは低論理レベルにそ
れぞれ対応しているものとする。
先ずソケツト部1に被試験半導体素子を挿入し
ない場合、テスタ部2から挿入検出部3に供給さ
れる試験中信号TESTは高レベルとなり、この信
号をベース入力とする検出動作制御部14のトラ
ンジスタ49はオンとなる。上記トランジスタ4
9がオンのときリレー装置16のコイル16Aは
駆動され、各接点16a〜16cは閉成状態とな
る。また上記トランジスタ49がオンのときこれ
に続くトランジスタ51はオフ、トランジスタ5
4はオンとなり、このトランジスタ54のエミツ
タレベルは高レベルとなる。またソケツト部1に
被試験半導体素子が挿入されていないので、2つ
の導通検出部11,12のダイオード17には電
流は流れず、トランジスタ20はオフとなる。こ
のトランジスタ20がオフのときこれに続くトラ
ンジスタ23がオフ、トランジスタ25がオンと
なり、この2つの導通検出部11,12のトラン
ジスタ25のコレクタレベルは第3図に示すよう
に供に低レベルとなる。上記トランジスタ25の
コレクタレベルが供に低レベルのとき、試験開始
信号発生部13のダイオード28には電流は流れ
ず、トランジスタ30はオフとなりそのコレクタ
レベルは第3図に示すように高レベルとなる。こ
のとき検出動作制御部14のトランジスタ54の
エミツタレベルは高レベルとなつているので、ダ
イオード33には抵抗34を介して電流が流れト
ランジスタ35はオンとなる。上記トランジスタ
35がオンのとき積分回路を構成するコンデンサ
37には電流が流れず、ダイオード38のアノー
ドレベルは低レベルとなる。したがつてこのとき
トランジスタ39はオフ、これに続くトランジス
タ41はオンとなり試験開始信号STRTは第3図
に示すように低レベルとなる。したがつてこのと
きテスタ部2は作動しない。
次にソケツト部1に被試験半導体素子を挿入し
た場合の動作を説明する。先ず被試験半導体素子
を挿入したときに挿入が完全でなく、ソケツト部
1の電極15a〜15cのいずれか1つがこの半
導体素子の端子と接触しなかつた場合、2つの導
通検出部11,12のいずれか一方あるいは両方
のダイオード17には電流が流れない。この結果
導通検出部11,12のいずれか一方あるいは両
方のトランジスタ25がオンとなりそのコレクタ
レベルは低レベルとなる。上記2つの導通検出部
11,12のいずれか一方のトランジスタ25が
オンのときには試験信号発生部13のダイオード
28には電流は流れず、前記被試験半導体素子を
挿入しないときと同様にトランジスタ30はオフ
となる。この結果、ソケツト1に被試験半導体素
子を挿入しても挿入が完全でない場合には、試験
開始信号発生部13のトランジスタ41がオンと
なり試験開始信号STRTは低レベルのままとな
る。したがつてこのときにもテスタ部2は作動し
ない。
一方被試験半導体素子をソケツト部1に挿入し
たときに挿入が完全であると、この半導体素子内
部で電極15bに接触している端子から電極15
aに接触している端子に到る電流経路および電極
15cに接触している端子から電極15aに接触
している端子に到る電流経路が成立し、2つの導
通検出部11,12の抵抗19、ダイオード17
および被試験半導体素子を介して接地電位に向う
電流が流れることになる。ここで電源電圧VCCを
+5Vに、抵抗19の抵抗値を1MΩ程度にそれぞ
れ設定しておけば、被試験半導体素子に流れる電
流は5μA以下となり、この程度の電流が流れて
もこの被試験半導体素子が破壊されることはな
い。そして2つの導通検出部11,12のダイオ
ード17に共に電流が流れ被試験半導体素子にお
いて導通が計られることにより、トランジスタ2
5はオフとなりそのコレクタレベルは第3図に示
すように供に高レベルに立上る。上記トランジス
タ25のコレクタレベルが供に高レベルに立上る
と、試験開始信号発生部13のダイオード28に
順方向電流が流れ、トランジスタ30はオンとな
つてそのコレクタレベルは第3図に示すように低
レベルに下る。上記トランジスタ30のコレクタ
レベルが低レベルに下ると、いままでダイオード
33に流れていた電流が流れなくなりトランジス
タ35はオフとなる。上記トランジスタ35がオ
フになると、積分回路を構成するコンデンサ37
に可変抵抗36を介して充電電流が流れ、このコ
ンデンサ37の端子レベルすなわちトランジスタ
35のコレクタレベルは第3図に示すように順次
高レベルに近ずいて行く、そしてこのレベルがト
ランジスタ39のVBEおよびダイオード38のV
F以上になるとこのトランジスタ39はオンとな
る。すなわち、トランジスタ35がオフとなつて
から所定時間後にトランジスタ39がオンとな
り、この時間差は上記積分回路を構成する可変抵
抗36の抵抗値とコンデンサ37の容量値とによ
つて決定される。上記トランジスタ39がオンに
なるとこれに続くトランジスタ41はオフとな
り、このトランジスタ41のコレクタレベルは第
3図に示すように高レベルに立上る。さらに上記
トランジスタ41のコレクタレベルが高レベルに
立上ると、この立上りがコンデンサ43および抵
抗44からなる微分回路で検出され、端子46に
は第3図に示すように高レベルの試験開始信号
STRTが得られる。
そして上記高レベルの試験開始信号STRTが入
力すると、テスタ部2は挿入検出部3に供給する
試験中信号TESTを所定期間低レベルに保持する
と共に、前記ソケツト部1に挿入された被試験半
導体素子の各種特性測定試験を実行する。このと
き上記試験中信号TESTをベース入力とする検出
動作制御部14のトランジスタ49はオフとな
り、いままで駆動されていたコイル16Aは非駆
動となる。この結果いままで閉成状態にあつたリ
レー装置16の各接点16a〜16cは開放状態
となり、ソケツト部1に挿入された被試験半導体
素子の各端子はテスタ部2にのみ接続される。し
たがつてこの状態で各種特性測定試験を実行して
も挿入検出部3はテスタ部2影響を与えることは
ない。また上記試験実行中、検出動作制御部14
のトランジスタ49はオフ、これに続くトランジ
スタ51はオン、さらにこれに続くトランジスタ
54はオフとなりこのトランジスタ54のエミツ
タレベルは第3図に示すように低レベルとなる。
上記トランジスタ54のエミツタレベルが低レベ
ルのとき、試験開始信号発生部13のダイオード
33には電流が流れないのでいままでオフしてい
たトランジスタ35はオフ状態を持続する。この
結果可変低抗36およびコンデンサ37からなる
積分回路は積分動作を続行する。一方上記接点1
6a〜16cが開放すると、いままで2つの導通
検出部11,12のダイオード17に流れていた
電流が流れなくなり、トランジスタ25はオンし
そのコレクタレベルは第3図に示すように供に低
レベルに下る。また上記トランジスタ25のコレ
クタレベルが供に低レベルに下ると、いままでオ
ンしていたトランジスタ30はオフしそのコレク
タレベルは第3図に示すように高レベルに立上
る。
次に前記各種特性測定試験の実行が終了する
と、テスタ部2はいままで低レベルに保持してい
た試験中信号TESTを再び高レベルに反転する。
そして上記信号TESTが高レベルに立上ると検出
動作制御部14のトランジスタ49が再びオンし
て、再びリレー装置16の各接点16a〜16c
が閉成する。これにより2つの導通検出部11,
12のトランジスタ25は供にオフとなり、その
コレクタレベルは第3図に示すように供に高レベ
ルに立上る。さらに上記トランジスタ25のコレ
クタレベルが供に高レベルに立上ることにより、
いままでオフしていたトランジスタ30がオンと
なり、そのコレクタレベルは第3図に示すように
低レベルに下る。一方上記トランジスタ49がオ
ンするとこれに続くトランジスタ51はオフとな
る。上記トランジスタ51がオフになると、積分
回路を構成するコンデンサ53に抵抗52を介し
て充電電流が流れ、このコンデンサ53の端子レ
ベルは順次高レベルに近ずいて行く。さらにこの
コンデンサ53の端子レベルを入力とするトラン
ジスタ54には順次エミツタ電流が流れ、そのエ
ミツタレベルは第3図に示すように順次高レベル
に近ずいて行く。すなわち、試験開始信号TEST
が高レベルに立上つてから所定時間後にトランジ
スタ54のエミツタレベルが高レベルに立上るた
め、試験実行終了時、トランジスタ30のコレク
タレベルおよびトランジスタ54のエミツタレベ
ルが共に高レベルとなる期間は存在しない。した
がつてこの期間に試験開始信号STRTが高レベル
となつて再び測定試験が実行されることはない。
さらに次に各種特性測定試験の実行が終了した
被試験半導体素子をソケツト部1から引き抜くこ
とにより、いままで2つの導通検出部11,12
のダイオード17に流れていた電流が流れなくな
る。これによりトランジスタ20はオフ、これに
続くトランジスタ23もオフ、さらにこれに続く
トランジスタ25がオンとなり、いままで高レベ
ルとなつていたこのトランジスタ25のコレクタ
レベルは第3図に示すように低レベルに下る。さ
らに上記トランジスタ25がオンしそのコレクタ
レベルが低レベルに下ることにより、いままでオ
ンしていたトランジスタ30がオフしそのコレク
タレベルは第3図に示すように高レベルに立上
る。またこのとき検出動作制御部14のトランジ
スタ54のエミツタレベルはすでに高レベルとな
つているので、上記トランジスタ30のコレクタ
レベルが高レベルに立上ると、ダイオード33に
電流が流れトランジスタ35がオンする。この結
果このトランジスタ35のコレクタレベルは第3
図に示すように低レベルに下る。さらに上記トラ
ンジスタ35がオンすると、これに続くトランジ
スタ39はオフ、さらにこれに続くトランジスタ
41はオンとなりそのコレクタレベルは第3図に
示すように高レベルから低レベルに下る。上記ト
ランジスタ41のコレクタレベルが低レベルに下
るとこの下りがコンデンサ43および抵抗44か
らなる微分回路で検出されるが、この検出信号は
負であるためダイオード45を介して接地電位点
に流れる。したがつてこのとき試験開始信号
STRTは低レベルのままとなる。
このように上記実施例では、2つの導通検出部
11,12においてソケツト1に被試験半導体素
子が挿入されたことを検出し、この検出出力を受
けて試験開始信号発生部13から高レベルの試験
開始信号STRTを発生させ、さらにこの信号
STRTによつてテスタ部2を作動させて上記被試
験半導体素子の各種特性測定試験を実行させるよ
うにしたので、従来のように試験開始スイツチを
操作する必要がなくその操作性は極めて高いもの
となる。さらにまた被試験半導体素子をソケツト
部1に挿入してから測定試験が実行されるまで間
の空き時間が極めて短かくなるので、測定試験時
間は従来に比較して大幅に短縮することができ
る。
なおこの発明は上記の一実施例に限定されるも
のではなく、例えば上記実施例ではソケツト部1
に挿入された被試験半導体素子の3つの端子間に
おける導通を2つの導通検出部11,12で検出
する場合について説明したが、これは被試験半導
体素子のすべての端子における導通を検出するよ
うにしても良い。被試験半導体素子のすべての端
子における導通を検出することにより、端子の曲
がり、ソケツト部1との接触不良等が生じていた
場合には試験開始信号STRTが高レベルとはなら
ないので、従来上記のような原因で不良と判定さ
れていた半導体素子も再び試験することにより救
済することができる。また上記実施例では回路は
デイスクリート部品で構成する場合について説明
したが、これはTTL ICあるいはMOS型ICを用
いても良いことはもちろんである。
以上説明したようにこの発明によれば、操作性
が高くしかも短時間で半導体装置の特性測定試験
を行なうことができる半導体試験装置を提供する
ことができる。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor testing device that performs various characteristic measurement tests on semiconductor devices. Conventionally, in order to perform a characteristic measurement test on a semiconductor device, such as a DIP type IC, using a semiconductor test device, the semiconductor device was first inserted into a socket provided in the test device, and then a test start switch was operated. ing. As a result, the test device automatically performs dozens of characteristic measurement tests, and finally determines the quality of the semiconductor element. As described above, in the conventional method, a characteristic measurement test cannot be performed unless the test start switch is operated after inserting the semiconductor element into the socket, which has the drawback of poor operability. Furthermore, the conventional method has the disadvantage that there is wasted idle time between inserting the semiconductor element into the socket and operating the test start switch, resulting in a long test time. These drawbacks become particularly noticeable when testing a large number of semiconductor devices. The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor testing device that is highly operable and capable of conducting characteristic measurement tests of semiconductor elements in a short period of time. There is a particular thing. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor testing apparatus according to the present invention. In the figure, 1 is for example DIP where various characteristic measurement tests are performed.
a socket portion into which a type of semiconductor device under test is inserted;
Reference numeral 2 denotes a tester section that performs a characteristic measurement test of the semiconductor device under test inserted into the socket section 1, and 3 an insertion detection section that detects whether the semiconductor device under test is completely inserted into the socket section 1. The insertion detection section 3 detects that the semiconductor device under test is completely inserted into the socket section 1, and holds the test start signal STRT at a high level. Furthermore, by holding this test start signal STRT at a high level, the tester section 2
In addition to executing various characteristic tests on the semiconductor device under test inserted into the test device, the test signal TEST held at a low level during the test execution period is supplied to the insertion detection section 3 to stop the insertion detection operation. It's getting old. FIG. 2 is a detailed circuit diagram showing the insertion detection section 3 together with the socket section 1. As shown in FIG. As shown in the figure, the insertion detection section 3 is roughly divided into two continuity detection sections 11 ,
12 , a test start signal generating section 13 , and a detection operation control section 14 . In the figure, 15a to 15c are the socket parts 1.
When the semiconductor device under test is completely inserted into the terminal, the predetermined terminals of the semiconductor device under test are the contact electrodes. Each of the electrodes 15a to 15c is connected to the tester section 2, and the electrode 15a is connected to a ground potential point via a normally open contact 16a of a relay device 16 of the detection operation control section 14 , which will be described later. , 15c are connected to the respective input ends of the continuity detection sections 11 and 12 via the normally open contacts 16b and 16c of this relay device 16 , respectively. The two continuity detection sections 11 and 12 have the same configuration, and the normally open contact 16b or 16
a diode 17 having one end connected to its cathode; a capacitor 18 connected between the anode of this diode 17 and a ground potential point; a resistor 19 having one end connected to the anode of the diode 17; A PNP transistor 20 whose other end is connected to its base, a resistor 21 connected between the emitter of this transistor 20 and the positive power supply voltage V CC application point, and a connection between the collector of the transistor 20 and the ground potential point. Resistor 2 connected between
2. An NPN transistor 2 whose base is connected to the connection point between the transistor 20 and the resistor 22 and whose collector is connected to the ground potential point.
3. A resistor 24 is connected between the collector of the transistor 23 and the power supply voltage application point, and its base is connected to the connection point between the transistor 23 and the resistor 24, and its emitter is connected to the ground potential point. Each of them is composed of an NPN transistor 25, a resistor 26 connected between the collector of the transistor 25 and a power supply voltage application point, and a diode 27 whose cathode is connected to the connection point between the transistor 25 and the resistor 26. . Further, the anodes of the diodes 27 of the two continuity detection sections 11 and 12 are connected in common, and the common connection point is connected to the input end of the test start signal generation section 13 . This test start signal generating section 13 is connected to a diode 28 whose anode is connected to the anode common connection point of the diode 27;
a resistor 29 connected between the anode of the diode 8 and the power supply voltage application point; an NPN transistor 30 to which the cathode of the diode 28 is connected to its base and whose emitter is connected to the ground potential point; and a collector of the transistor 30. a resistor 31 connected between the transistor 30 and the power supply voltage application point, a diode 32 whose cathode is connected to the connection point between the transistor 30 and the resistor 31, and a diode 3 whose anode is connected to the anode of this diode 32.
3. A resistor 34 connected between the connection point of the two diodes 32 and 33 and the power supply potential application point, the cathode of the diode 33 being connected to its base and its emitter being connected to the ground potential point. An NPN transistor 35, a variable resistor 36 connected between the collector of the transistor 35 and the power supply voltage application point, and a variable resistor 37 connected between the connection point of the transistor 35 and the variable resistor 36 and the ground potential point to perform integration. A capacitor 37 forming a circuit, the variable resistor 36 and the capacitor 37
A diode 38 whose anode is connected to the connection point with the NPN transistor 39 whose cathode is connected to its base and whose emitter is connected to the ground potential point, and the collector of this transistor 39 and the supply voltage applied. a resistor 40 connected between the point and the transistor 39;
Its base is connected to the connection point between the resistor 40 and the resistor 40, and its emitter is connected to the ground potential point.
NPN transistor 41, this transistor 41
A resistor 42 is connected between the collector of the transistor 41 and the power supply voltage application point, a capacitor 43 has one end connected to the connection point between the transistor 41 and the resistor 42, and a capacitor 43 is connected between the other end of the capacitor 43 and the ground potential point. The capacitor 4 is composed of a resistor 44 connected to the capacitor 43 to form a differential circuit, and a diode 45 connected in parallel with the resistor 44.
3. A terminal 46 for outputting a test start signal STRT is provided from the common connection point of the resistor 44 and diode 45. The detection operation control section 14 also includes a terminal 47 to which the test signal TEST output from the tester section 2 is supplied, a resistor 48 connected to this terminal 47,
The other end of this resistor 48 is connected to its base, and its emitter is connected to the ground potential point.
NPN transistor 49, this transistor 49
A coil 16A of the relay device 16 is connected between the capacitor and the power supply voltage application point, a resistor 50 has one end connected to the connection point between the transistor 49 and the coil 16A, and the other end of the resistor 50 has its base. a resistor 52 connected between the collector of this transistor 51 and a power supply voltage application point;
a capacitor 53 connected between the connection point between the resistor 52 and the ground potential point and forming an integrating circuit together with the resistor 52;
NPN whose base is connected to the connection point with 3 and whose collector is connected to the power supply voltage application point
a transistor 54; a resistor 55 connected between the emitter of the transistor 54 and a ground potential point;
Its cathode is connected to the connection point between the transistor 54 and the resistor 55, and its anode is connected to the two diodes 3 of the test start signal generating section 13 .
Diode 5 connected to the common connection point of 2 and 33
It consists of 6. Next, the operation of the apparatus configured as described above will be explained using the timing chart shown in FIG. In the description, it is assumed that the power supply voltage V CC level corresponds to a high logic level, and the ground voltage level corresponds to a low logic level. First, when the semiconductor device under test is not inserted into the socket section 1, the test signal TEST supplied from the tester section 2 to the insertion detection section 3 becomes high level, and the transistor 49 of the detection operation control section 14 , which uses this signal as a base input, is turned on. The above transistor 4
9 is on, the coil 16A of the relay device 16 is driven, and the contacts 16a to 16c are closed. Further, when the transistor 49 is on, the transistor 51 following it is off, and the transistor 51 is off.
4 is turned on, and the emitter level of this transistor 54 becomes high level. Further, since no semiconductor device under test is inserted into the socket portion 1, no current flows through the diodes 17 of the two continuity detection portions 11 and 12 , and the transistor 20 is turned off. When this transistor 20 is off, the following transistor 23 is turned off and the transistor 25 is turned on, and the collector levels of the transistors 25 of these two conduction detection sections 11 and 12 are both at a low level as shown in FIG. . When the collector level of the transistor 25 is both at a low level, no current flows through the diode 28 of the test start signal generating section 13 , the transistor 30 is turned off, and its collector level becomes a high level as shown in FIG. . At this time, since the emitter level of the transistor 54 of the detection operation control section 14 is at a high level, current flows through the diode 33 via the resistor 34 and the transistor 35 is turned on. When the transistor 35 is on, no current flows through the capacitor 37 constituting the integrating circuit, and the anode level of the diode 38 becomes a low level. Therefore, at this time, transistor 39 is turned off, transistor 41 following it is turned on, and test start signal STRT becomes low level as shown in FIG. Therefore, the tester section 2 does not operate at this time. Next, the operation when a semiconductor device under test is inserted into the socket portion 1 will be explained. First, when the semiconductor element under test is inserted, if the insertion is not complete and one of the electrodes 15a to 15c of the socket part 1 does not come into contact with the terminal of this semiconductor element, the two continuity detection parts 11 and 12 No current flows through one or both diodes 17. As a result, one or both of the transistors 25 of the conduction detection sections 11 and 12 are turned on, and their collector level becomes low level. The above two continuity detection parts
When one of the transistors 25, 11 and 12 , is on, no current flows through the diode 28 of the test signal generating section 13 , and the transistor 30 is turned off, as in the case where the semiconductor device under test is not inserted. As a result, even if the semiconductor device under test is inserted into the socket 1, if the insertion is not complete, the transistor 41 of the test start signal generating section 13 is turned on and the test start signal STRT remains at a low level. Therefore, the tester section 2 does not operate at this time either. On the other hand, if the semiconductor device under test is completely inserted into the socket portion 1, the electrode 15 will be connected from the terminal that is in contact with the electrode 15b inside the semiconductor device.
A current path from the terminal in contact with electrode 15a and a current path from the terminal in contact with electrode 15c to the terminal in contact with electrode 15a are established, and the resistances 19 of the two continuity detection units 11 and 12 are established. , diode 17
A current flows toward the ground potential through the semiconductor device under test. If the power supply voltage V CC is set to +5 V and the resistance value of the resistor 19 is set to about 1 MΩ, the current flowing through the semiconductor device under test will be 5 μA or less, and even if this current flows, the semiconductor device under test will The device will not be destroyed. Then, current flows through the diodes 17 of the two continuity detection sections 11 and 12 , and continuity is measured in the semiconductor device under test, so that the transistor 2
5 is turned off and its collector level simultaneously rises to a high level as shown in FIG. When the collector level of the transistor 25 rises to a high level, a forward current flows through the diode 28 of the test start signal generating section 13 , turning on the transistor 30 and raising the collector level as shown in FIG. Go down to a lower level. When the collector level of the transistor 30 falls to a low level, the current that has been flowing through the diode 33 stops flowing and the transistor 35 is turned off. When the transistor 35 is turned off, the capacitor 37 constituting the integrating circuit
A charging current flows through the variable resistor 36, and the terminal level of the capacitor 37, that is, the collector level of the transistor 35, gradually approaches a high level as shown in FIG. and V of diode 38
When the voltage exceeds F , this transistor 39 is turned on. That is, the transistor 39 is turned on a predetermined time after the transistor 35 is turned off, and this time difference is determined by the resistance value of the variable resistor 36 and the capacitance value of the capacitor 37 that constitute the integration circuit. When the transistor 39 is turned on, the transistor 41 following it is turned off, and the collector level of this transistor 41 rises to a high level as shown in FIG. Furthermore, when the collector level of the transistor 41 rises to a high level, this rise is detected by a differentiator circuit consisting of a capacitor 43 and a resistor 44, and a high level test start signal is sent to a terminal 46 as shown in FIG.
STRT is obtained. When the high-level test start signal STRT is input, the tester section 2 holds the test signal TEST supplied to the insertion detection section 3 at a low level for a predetermined period, and also detects the semiconductor device under test inserted into the socket section 1. Perform various characteristic measurement tests. At this time, the transistor 49 of the detection operation control unit 14 whose base input is the test signal TEST is turned off, and the coil 16A that has been driven until now is not driven. As a result, the contacts 16a to 16c of the relay device 16 , which have been in the closed state, are now in the open state, and the terminals of the semiconductor device under test inserted into the socket portion 1 are connected only to the tester portion 2. Therefore, even if various characteristic measurement tests are performed in this state, the insertion detection section 3 will not affect the tester section 2. Also, during execution of the above test, the detection operation control unit 14
The transistor 49 is turned off, the transistor 51 following it is turned on, and the transistor 54 following it is turned off, so that the emitter level of this transistor 54 becomes a low level as shown in FIG.
When the emitter level of the transistor 54 is at a low level, no current flows through the diode 33 of the test start signal generating section 13 , so the transistor 35, which has been off until now, remains off. As a result, the integrating circuit consisting of variable resistor 36 and capacitor 37 continues its integrating operation. On the other hand, the above contact point 1
When 6a to 16c are opened, the current that has been flowing through the diodes 17 of the two continuity detection sections 11 and 12 stops flowing, the transistor 25 is turned on, and its collector level becomes low as shown in FIG. Go down. Further, when the collector level of the transistor 25 falls to a low level, the transistor 30, which has been on until now, is turned off and its collector level rises to a high level as shown in FIG. Next, when the execution of the various characteristic measurement tests is completed, the tester section 2 inverts the test signal TEST, which has been kept at a low level, to a high level again.
Then, when the signal TEST rises to a high level, the transistor 49 of the detection operation control section 14 is turned on again, and each contact 16a to 16c of the relay device 16 is turned on again.
is closed. As a result, two continuity detection sections 11 ,
Twelve transistors 25 are both turned off, and their collector levels rise to a high level as shown in FIG. Furthermore, as the collector level of the transistor 25 rises to a high level,
The transistor 30, which has been off until now, is turned on and its collector level drops to a low level as shown in FIG. On the other hand, when the transistor 49 is turned on, the transistor 51 following it is turned off. When the transistor 51 is turned off, a charging current flows through the resistor 52 to the capacitor 53 constituting the integrating circuit, and the terminal level of the capacitor 53 gradually approaches a high level. Further, an emitter current sequentially flows through the transistor 54 which receives the terminal level of the capacitor 53, and the emitter level gradually approaches a high level as shown in FIG. That is, the test start signal TEST
Since the emitter level of transistor 54 rises to a high level a predetermined time after rising to a high level, there is no period during which both the collector level of transistor 30 and the emitter level of transistor 54 are at high level at the end of the test execution. Therefore, during this period, the test start signal STRT will not go high and the measurement test will not be executed again. Furthermore, by pulling out the semiconductor device under test on which the execution of various characteristic measurement tests has been completed from the socket section 1, the two continuity detection sections 11 and 12 are removed.
The current that was flowing through the diode 17 stops flowing. As a result, the transistor 20 is turned off, the transistor 23 that follows it is also turned off, and the transistor 25 that follows it is turned on, and the collector level of this transistor 25, which had been at a high level until now, becomes a low level as shown in FIG. Go down. Furthermore, as the transistor 25 turns on and its collector level drops to a low level, the transistor 30, which has been on until now, turns off and its collector level rises to a high level as shown in FIG. Further, at this time, since the emitter level of the transistor 54 of the detection operation control section 14 is already at a high level, when the collector level of the transistor 30 rises to a high level, current flows through the diode 33 and turns on the transistor 35. As a result, the collector level of this transistor 35 is at the third level.
Descend to low level as shown. Further, when the transistor 35 is turned on, the transistor 39 following it is turned off, and the transistor 41 following it is turned on, and its collector level drops from a high level to a low level as shown in FIG. When the collector level of the transistor 41 falls to a low level, this fall is detected by a differentiating circuit consisting of a capacitor 43 and a resistor 44, but since this detection signal is negative, it flows through a diode 45 to the ground potential point. Therefore, at this time, the test start signal
STRT remains at a low level. In this way, in the above embodiment, there are two continuity detection sections.
11 and 12 detect that the semiconductor device under test has been inserted into the socket 1, and in response to this detection output, a high level test start signal STRT is generated from the test start signal generator 13 , and this signal
Since the tester unit 2 is operated by STRT to perform various characteristic measurement tests of the semiconductor device under test, there is no need to operate a test start switch as in the conventional case, and the operability is extremely high. Become. Furthermore, since the idle time between the insertion of the semiconductor device under test into the socket portion 1 and the execution of the measurement test is extremely short, the measurement test time can be significantly shortened compared to the conventional method. Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment; for example, in the above-mentioned embodiment, the socket portion 1
The case has been described in which the two continuity detectors 11 and 12 detect continuity between the three terminals of the semiconductor device under test inserted into the device. It's okay. By detecting continuity at all terminals of the semiconductor device under test, the test start signal STRT will not go to a high level if there is a bend in the terminal, poor contact with the socket part 1, etc. Semiconductor elements that have been determined to be defective due to such causes can be repaired by testing again. Further, in the above embodiments, the case where the circuit is constituted by discrete components has been described, but it goes without saying that a TTL IC or a MOS type IC may be used. As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor testing device that has high operability and can perform a characteristic measurement test of a semiconductor device in a short time.
第1図はこの発明に係る半導体試験装置の一実
施例を示すブロツク構成図、第2図は上記実施例
装置の一部分の詳細図、第3図は上記実施例を説
明するためのタイミングチヤートである。
1……ソケツト部、2……テスタ部、3……挿
入検出部、11,12……導通検出部、13……
試験開始信号発生部、14……検出動作制御部。
FIG. 1 is a block configuration diagram showing one embodiment of a semiconductor testing device according to the present invention, FIG. 2 is a detailed view of a part of the device of the above embodiment, and FIG. 3 is a timing chart for explaining the above embodiment. be. 1... Socket part, 2... Tester part, 3... Insertion detection part, 11 , 12 ... Continuity detection part, 13 ...
Test start signal generation section, 14 ...Detection operation control section.
Claims (1)
されるソケツト部と、上記ソケツト部に挿入され
る被試験半導体素子の一つの端子と基準電位に設
定される特定の端子との間で被試験半導体素子内
部を介して流れる電流を検出して端子とソケツト
部との接続状態を検出する少なくとも二つの接続
状態検出手段と、上記すべての接続状態検出手段
で端子とソケツト部との接続状態が検出された際
に試験開始信号を発生する試験開始信号発生手段
と、上記試験開始信号を受けて上記ソケツト部に
挿入された上記被試験半導体素子の各種特性測定
試験を行なう特性測定手段とを具備したことを特
徴とする半導体試験装置。1. A socket portion into which a semiconductor device under test having multiple terminals is inserted, and a semiconductor device under test between one terminal of the semiconductor device under test inserted into the socket portion and a specific terminal set to a reference potential. At least two connection state detection means for detecting the connection state between the terminal and the socket portion by detecting the current flowing through the inside of the element, and all of the connection state detection means described above detect the connection state between the terminal and the socket portion. a test start signal generating means for generating a test start signal when the test start signal is applied; and a characteristic measuring means for performing various characteristic measurement tests of the semiconductor device under test inserted into the socket section in response to the test start signal. A semiconductor testing device characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3750379A JPS55129771A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Semiconductor test unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3750379A JPS55129771A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Semiconductor test unit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55129771A JPS55129771A (en) | 1980-10-07 |
JPS6136628B2 true JPS6136628B2 (en) | 1986-08-19 |
Family
ID=12499317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3750379A Granted JPS55129771A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Semiconductor test unit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS55129771A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5462228B2 (en) * | 2011-09-21 | 2014-04-02 | Necエンジニアリング株式会社 | Semiconductor test apparatus and semiconductor test method |
-
1979
- 1979-03-29 JP JP3750379A patent/JPS55129771A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS55129771A (en) | 1980-10-07 |
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