JPS6134444A - 選択励起を用いた発光分光分析計 - Google Patents
選択励起を用いた発光分光分析計Info
- Publication number
- JPS6134444A JPS6134444A JP15634684A JP15634684A JPS6134444A JP S6134444 A JPS6134444 A JP S6134444A JP 15634684 A JP15634684 A JP 15634684A JP 15634684 A JP15634684 A JP 15634684A JP S6134444 A JPS6134444 A JP S6134444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- specific energy
- sample
- selective excitation
- emission spectrometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2255—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident ion beams, e.g. proton beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、発光スペクトルから定量、定性分析を行う発
光分光分析装置に関する。
光分光分析装置に関する。
現在発光分光分析は、高感度な元素分析法として普及し
ている。この発光分光分析装置には従来から光源の程類
によシ、アーク法、スパーク法。
ている。この発光分光分析装置には従来から光源の程類
によシ、アーク法、スパーク法。
プラズマジェット法、ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）法な
どがある。発光分光分析の発光線は、多数存在し、その
密度が濃く、線が林立しておシ、目的の分析線（通常１
本あるいは２本）の元素が他の元素の線と重なり合って
識別できない場合がある。
どがある。発光分光分析の発光線は、多数存在し、その
密度が濃く、線が林立しておシ、目的の分析線（通常１
本あるいは２本）の元素が他の元素の線と重なり合って
識別できない場合がある。
そこで、この重なシ合っている元素分析線を分離するた
め分解能を上げる必要がある。そこで、いずれの分析法
によった場合でも、スペクトル分析には、大形の分光器
が使用されている。大形分光器が使用されるのは、先に
も述べた如く一般に発光スペクトルは、極めて多くの発
光線から成り、目的元素の分析線を分離する為に高い分
解能が必要とされるからである。例えば、鉄鋼を分析す
る場合、発光スペクトル線は紫外・可視波長域だけで数
千率にのぼる。従って、通常、分散能５ Ａｌｘの能力
を有する分光器が使用される。この大形分光器の制約か
ら、発光分析装置は、従来大形でかつ高価であった。ま
た、最近では、新材料、原子力などの分野で希土類の元
素を分析する需要が高まっているが、希土類は極めて多
くの発光線を放出し、さらに分解能の高い分光器が要求
されるようになってきている。
め分解能を上げる必要がある。そこで、いずれの分析法
によった場合でも、スペクトル分析には、大形の分光器
が使用されている。大形分光器が使用されるのは、先に
も述べた如く一般に発光スペクトルは、極めて多くの発
光線から成り、目的元素の分析線を分離する為に高い分
解能が必要とされるからである。例えば、鉄鋼を分析す
る場合、発光スペクトル線は紫外・可視波長域だけで数
千率にのぼる。従って、通常、分散能５ Ａｌｘの能力
を有する分光器が使用される。この大形分光器の制約か
ら、発光分析装置は、従来大形でかつ高価であった。ま
た、最近では、新材料、原子力などの分野で希土類の元
素を分析する需要が高まっているが、希土類は極めて多
くの発光線を放出し、さらに分解能の高い分光器が要求
されるようになってきている。
本発明の目的は小形でかつ所望の分析線を得ることので
きる発光分光分析計を提供するととＫある。
きる発光分光分析計を提供するととＫある。
本発明は原子の特定の準位のみを選択的に励起して単純
なスペクトルを得ることによシ、小形化し、所望の分析
線を得↓うというものである。
なスペクトルを得ることによシ、小形化し、所望の分析
線を得↓うというものである。
以下、本発明の実施例について説明する。
第１図には、本発明の一実施例が示されている。
図において、チャンバ１内の一方にイオン源２が設けら
れている。このイオン源２は陽極３に接続されている。
れている。このイオン源２は陽極３に接続されている。
このイオン源２のイオン出射側に偏向電極４１．５が設
けられている。また、イオン源２には電子源（フィラメ
ント）６から出力される電子ビーム７が加速供給される
ように構成されており、この電子源６から供給された電
子によってイオン源２はイオン形成し、このイオンを加
速して偏向電極で偏向して出射する。このイオン源２か
ら出射されるイオンビーム８の通路の途中に絶縁板１０
に設けられたエネルギー選択アイリス９が設けられてい
る。このエネルギー選択アイリス９を通ったイオンビー
ム８が試料保持台１１によって支持された試料（ターゲ
ット）１２にｍ、ＩＩ）、この試料１２から出力光１３
がチャンバ１に設けられた光用窓（石英板）を介して出
力される。このチャンバ１のイオン源２と対向する側に
７ランジ１５が取付けられておシ、この７ランジ１５に
試料保持台１０が設けられている。また、チャンバ１の
イオン源２側の一部に排気口１６が設けられておシ、チ
ャンバ１内が°真空になるように図示されていない真空
ポンプによって、排気口１６よシニアを排気している。
けられている。また、イオン源２には電子源（フィラメ
ント）６から出力される電子ビーム７が加速供給される
ように構成されており、この電子源６から供給された電
子によってイオン源２はイオン形成し、このイオンを加
速して偏向電極で偏向して出射する。このイオン源２か
ら出射されるイオンビーム８の通路の途中に絶縁板１０
に設けられたエネルギー選択アイリス９が設けられてい
る。このエネルギー選択アイリス９を通ったイオンビー
ム８が試料保持台１１によって支持された試料（ターゲ
ット）１２にｍ、ＩＩ）、この試料１２から出力光１３
がチャンバ１に設けられた光用窓（石英板）を介して出
力される。このチャンバ１のイオン源２と対向する側に
７ランジ１５が取付けられておシ、この７ランジ１５に
試料保持台１０が設けられている。また、チャンバ１の
イオン源２側の一部に排気口１６が設けられておシ、チ
ャンバ１内が°真空になるように図示されていない真空
ポンプによって、排気口１６よシニアを排気している。
このように構成されるものであるから、分析対象の試料
（例えば鉄鋼）はフランジ１５に固定されたターゲット
１２に装着される。フランジ１５により気密が保たれた
あと、チャンバ１の内部は”図示されていない真空ポン
プによシ空気が排気され１０−４〜１０−’Ｔｏｒｒ
の真空に保たれる。その後、電子源６とイオン源２の
間に数ＫＶの加速電圧が印加される。いま、電子源６か
ら電子ビーム７が加速供給され、この供給された電子は
イオン源２に高速で衝突し、スパッタリング現象によシ
イオンを形成する。このようにして発生したイオンは（
＋）電価を持つので（−）電位の電子源に向けて加速さ
れる。また、イオン源２におけるイオンは偏向電極４，
５によシ偏向される。このイオンビーム８の内エネルギ
ーの低いイオン程、大きく偏向されるので、イオンの飛
行方向に分散が生じる。従って、エネルギー選択アイリ
ス９をもうけることによシ、特定のエネルギーを有する
イオンのみを選別することができる。このエネルギー選
択アイリス９を通過したイオンは、ターゲット上の試料
１２に衝突する。このときのイオンの衝突速度をＶとす
ると次の（１）式のエネルギーによシ試料がスパッタリ
ングされ、かつ励起される。
（例えば鉄鋼）はフランジ１５に固定されたターゲット
１２に装着される。フランジ１５により気密が保たれた
あと、チャンバ１の内部は”図示されていない真空ポン
プによシ空気が排気され１０−４〜１０−’Ｔｏｒｒ
の真空に保たれる。その後、電子源６とイオン源２の
間に数ＫＶの加速電圧が印加される。いま、電子源６か
ら電子ビーム７が加速供給され、この供給された電子は
イオン源２に高速で衝突し、スパッタリング現象によシ
イオンを形成する。このようにして発生したイオンは（
＋）電価を持つので（−）電位の電子源に向けて加速さ
れる。また、イオン源２におけるイオンは偏向電極４，
５によシ偏向される。このイオンビーム８の内エネルギ
ーの低いイオン程、大きく偏向されるので、イオンの飛
行方向に分散が生じる。従って、エネルギー選択アイリ
ス９をもうけることによシ、特定のエネルギーを有する
イオンのみを選別することができる。このエネルギー選
択アイリス９を通過したイオンは、ターゲット上の試料
１２に衝突する。このときのイオンの衝突速度をＶとす
ると次の（１）式のエネルギーによシ試料がスパッタリ
ングされ、かつ励起される。
但し：ｍはイオンの質量
このようにして励起された原子からの発光は光用窓１４
から外部へ取り出され観測される。また、実際には、エ
ネルギー選択アイリス９の穴径から、エネルギーＥに巾
が生じる。なお、イオン源として、加速電子によるスパ
ッタリング現象を用いずに、Ｃｍなどの低沸点金属を加
熱して原子蒸気を得、電子衝突によりイオンを生成する
事も可能である。
から外部へ取り出され観測される。また、実際には、エ
ネルギー選択アイリス９の穴径から、エネルギーＥに巾
が生じる。なお、イオン源として、加速電子によるスパ
ッタリング現象を用いずに、Ｃｍなどの低沸点金属を加
熱して原子蒸気を得、電子衝突によりイオンを生成する
事も可能である。
本実施例における選択励起を次に説明する。例えばＮ、
のエネルギー準位の一部は第２図に示す如きである。こ
のＮ、は常温ではボルツマン分布に有る。外部からエネ
ルギーを与え、上位の準位に励起すると、量子力学的に
許容された準位間に遷移が起こり、エネルギー差ΔＥに
対し、次の関係の波長の光が放出される。
のエネルギー準位の一部は第２図に示す如きである。こ
のＮ、は常温ではボルツマン分布に有る。外部からエネ
ルギーを与え、上位の準位に励起すると、量子力学的に
許容された準位間に遷移が起こり、エネルギー差ΔＥに
対し、次の関係の波長の光が放出される。
ΔＥ＝ｈν ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・（２）ここで、νは放出される光の
振動数、ｈはブランクの定数である。
・・・・・・・・・（２）ここで、νは放出される光の
振動数、ｈはブランクの定数である。
本実施例における選択励起は、８２〜８３間の選択励起
により、８２〜８３間の原子準位を励起し、励起された
準位から低エネルギーの準位へ遷移する過程における光
の放出を観測するものである。この方法の特長は、Ｅ２
〜Ｅ３を狭く選ぶ事により、３２ｐ、３２ｐＬの準位だ
けを励起することかでき、最も単純な場合としては、二
本（あるいは一本）のみの発光線から成るスペクトルを
得ることができる。この場合には、分光器は不要となる
。即ち、選択照射のエネルギー（Ｅ２〜Ｅ３の中心エネ
ルギーに対応）を変えることにより、元素固有の発光線
を得る事ができる。Ｅ２〜Ｅ３のエネルギー間かくが狭
い程、選択性は良くなる。
により、８２〜８３間の原子準位を励起し、励起された
準位から低エネルギーの準位へ遷移する過程における光
の放出を観測するものである。この方法の特長は、Ｅ２
〜Ｅ３を狭く選ぶ事により、３２ｐ、３２ｐＬの準位だ
けを励起することかでき、最も単純な場合としては、二
本（あるいは一本）のみの発光線から成るスペクトルを
得ることができる。この場合には、分光器は不要となる
。即ち、選択照射のエネルギー（Ｅ２〜Ｅ３の中心エネ
ルギーに対応）を変えることにより、元素固有の発光線
を得る事ができる。Ｅ２〜Ｅ３のエネルギー間かくが狭
い程、選択性は良くなる。
第３図に、本発明の他の実施例が示されている。
図において、チャンバ１００にはフランジ１０１が取９
付けられている。このフランジ１０１には試料保持台１
０２が取シ付けられており、この試料保持台１０２に陰
極を形成する試料１０３が設けられている。この試料に
対向して陽極１０４が設けられている。この陽極１０４
と陰極１０３の近傍に磁場Ｈが図の方向に形成されてい
る。また、チャンバ１０（Ｊの一方に空気排気口１０５
が設けられており、他方にガス人口１０６が設けられて
いる。また、チャンバ１００には光用窓（石英板）１０
７が設けられておシ、試料１０３から出力される出力光
１０８を取）出せるように構成されている。
付けられている。このフランジ１０１には試料保持台１
０２が取シ付けられており、この試料保持台１０２に陰
極を形成する試料１０３が設けられている。この試料に
対向して陽極１０４が設けられている。この陽極１０４
と陰極１０３の近傍に磁場Ｈが図の方向に形成されてい
る。また、チャンバ１０（Ｊの一方に空気排気口１０５
が設けられており、他方にガス人口１０６が設けられて
いる。また、チャンバ１００には光用窓（石英板）１０
７が設けられておシ、試料１０３から出力される出力光
１０８を取）出せるように構成されている。
また、陽極１０４にはチョークコイル１０９とコンデン
サ１１０が接続されている。このチョークコイル１０９
にはコンデンサ１１１と直流電源１１２の並列回路を介
して、チョークコイル１１３−が接続されている。この
チョークコイル１１３の他端は陰極１０３と共に接地さ
れている。またコンデンサ１１０の他端には高賜波電源
１１４が接続されており、この高周波電源１１４は、コ
ンデンサ１１５を介して接地されている。
サ１１０が接続されている。このチョークコイル１０９
にはコンデンサ１１１と直流電源１１２の並列回路を介
して、チョークコイル１１３−が接続されている。この
チョークコイル１１３の他端は陰極１０３と共に接地さ
れている。またコンデンサ１１０の他端には高賜波電源
１１４が接続されており、この高周波電源１１４は、コ
ンデンサ１１５を介して接地されている。
このように構成される本実施例の場合、試料（金属）は
フランジ１０１に固定された試料保持台１０２に装着さ
れる。チャンバ１００は空気排気口１０５より空気を排
気し、一度真空に排気したあと、ガス入口１０６から、
アルゴン、ネオンなどの希ガスを導入する。このガスの
圧力は、１〜ｌ Ｑ ’ｌ’ｏｒｒであり、第１図図示
実施例のように高い真空度は要求されない。また、試料
１０３には（−）の電位が印加され、陽極１０４との間
に放電を生じさせる。通常の直流放電では、本実施例に
よる装置で実験したところ、最低１８０ｖの放電維持電
圧が必要であった。しかし、磁場の印加によシ約６０Ｖ
の放電維持電圧の低下が観測され、さらに高周波の印加
によシ、約１４５ｖの放電維持電圧の低下が観測された
。
フランジ１０１に固定された試料保持台１０２に装着さ
れる。チャンバ１００は空気排気口１０５より空気を排
気し、一度真空に排気したあと、ガス入口１０６から、
アルゴン、ネオンなどの希ガスを導入する。このガスの
圧力は、１〜ｌ Ｑ ’ｌ’ｏｒｒであり、第１図図示
実施例のように高い真空度は要求されない。また、試料
１０３には（−）の電位が印加され、陽極１０４との間
に放電を生じさせる。通常の直流放電では、本実施例に
よる装置で実験したところ、最低１８０ｖの放電維持電
圧が必要であった。しかし、磁場の印加によシ約６０Ｖ
の放電維持電圧の低下が観測され、さらに高周波の印加
によシ、約１４５ｖの放電維持電圧の低下が観測された
。
本実施例における選択励起はエネルギーの上限Ｅ１を決
めて原子の励起を行う方法である。第２図に示されるＮ
、は常温では、はとんどの原子が最下位レベルの基底準
位Ｅｏ（３”８’）にめる。
めて原子の励起を行う方法である。第２図に示されるＮ
、は常温では、はとんどの原子が最下位レベルの基底準
位Ｅｏ（３”８’）にめる。
いま、Ｅｌに相当するエネルギーで励起すると、基底準
位に最も近い準位のみが励起され、これから基底状態へ
遷移する発光のみが観測される。基底準位への遷移は、
一般に共鳴遷移と呼ばれ、スペクトル線は共鳴線と呼ば
れる。従来の発光分析法では、イオン化単位近くまで励
起するのが通例であったので、極めて多くのスペクトル
線が観測されていた。放電維持電圧の印加した磁場の強
さによる変化が、高周波印加の有無とともに第４図に示
されている。図において人が直流放電のカーブ、Ｂが直
流プラス高周波放電のカーブである。
位に最も近い準位のみが励起され、これから基底状態へ
遷移する発光のみが観測される。基底準位への遷移は、
一般に共鳴遷移と呼ばれ、スペクトル線は共鳴線と呼ば
れる。従来の発光分析法では、イオン化単位近くまで励
起するのが通例であったので、極めて多くのスペクトル
線が観測されていた。放電維持電圧の印加した磁場の強
さによる変化が、高周波印加の有無とともに第４図に示
されている。図において人が直流放電のカーブ、Ｂが直
流プラス高周波放電のカーブである。
ここで用いた高周波は、１００ＭＨｚ、ｌＯＷのもので
ある。第４図から高周波と磁場を印加して放電を行うと
、放電維持電圧が３５Ｖ程度に升さんられる。このよう
な特殊な放電を行うと、通常の放電で励起される準位と
比較して、けるかに低いエネルギーを持つ準位のみが選
択的に励起されることが分かった。
ある。第４図から高周波と磁場を印加して放電を行うと
、放電維持電圧が３５Ｖ程度に升さんられる。このよう
な特殊な放電を行うと、通常の放電で励起される準位と
比較して、けるかに低いエネルギーを持つ準位のみが選
択的に励起されることが分かった。
第５図に示すように、一般の放電では、紫外可視波長領
域に極めて多くのスペクトル線が観測されるが、上記の
高周波と磁場を重畳した直流放電で励起すると、共鳴線
（基底準位からの遷移）のみが強く発光する事が分かっ
た。第６図は試料がｃｄの場合の発光スペクトルの一例
である。このように、各元素の共鳴線のみが主として発
光すると、多くの金属が混在する場合でも、スペクトル
は比較的単純となり高分解能の大形分光器を必要としな
い。分散能も２５人／姻程度で良く、分光器の大きさも
１１５程度となる。
域に極めて多くのスペクトル線が観測されるが、上記の
高周波と磁場を重畳した直流放電で励起すると、共鳴線
（基底準位からの遷移）のみが強く発光する事が分かっ
た。第６図は試料がｃｄの場合の発光スペクトルの一例
である。このように、各元素の共鳴線のみが主として発
光すると、多くの金属が混在する場合でも、スペクトル
は比較的単純となり高分解能の大形分光器を必要としな
い。分散能も２５人／姻程度で良く、分光器の大きさも
１１５程度となる。
本実施例では、真空ポンプでもａ−タリーポンプのみで
良く、発光源も小形で単純であり、システム全体として
もコンパクトでコストの低い発光分光分析装置が実現さ
れる。
良く、発光源も小形で単純であり、システム全体として
もコンパクトでコストの低い発光分光分析装置が実現さ
れる。
以上説明したように、本発明によれば、小形でかつ所望
の分析線を得ることができる。
の分析線を得ることができる。
第１図は本発明の選択励起装置の実施例を示す図、第２
図は原子のエネルギー準位をＮ、を例に示した図、第３
図は本発明の他の実施例を示す図、第４図は磁束密度と
放電維持電圧の関係を示す図、第５図は従来の発光分析
装置による発光スペクトルを示す図、第６鼎は本発明に
よる発光スペクトルを示す図である。 ２・・・イオン源、４．５・・・偏向電極、６・・・電
子源、 １２・・・試料、１４・・・光用窓。
図は原子のエネルギー準位をＮ、を例に示した図、第３
図は本発明の他の実施例を示す図、第４図は磁束密度と
放電維持電圧の関係を示す図、第５図は従来の発光分析
装置による発光スペクトルを示す図、第６鼎は本発明に
よる発光スペクトルを示す図である。 ２・・・イオン源、４．５・・・偏向電極、６・・・電
子源、 １２・・・試料、１４・・・光用窓。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、特定のエネルギー巾を持つエネルギー範囲に加速さ
れた粒子を試料に衝突させ、特定のエネルギー範囲に入
るエネルギーレベルのみを選択的に励起し、選択的に励
起された準位からの発光を観測することにより、定量あ
るいは定性分析を行うようにしたことを特徴とする発光
分析装置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の発明において、放電に
磁場を印加することにより、放電維持電圧を制御し、特
定のエネルギーレベルを中心に選択的な励起を行うよう
にしたことを特徴とする発光分光分析装置。 ３、特許請求の範囲第１項記載の発明において、直流放
電に高周波放電を重じようすることにより、放電維持電
圧を制御し、特定のエネルギーレベルを中心に選択的な
励起を行うようにしたことを特徴とする発光分光分析装
置。 ４、特許請求の範囲第３項記載の発明において、直流放
電に高周波放電を重じようしたものにさらに磁場を印加
するようにしたことを特徴とする発光分光分析装置。 ５、特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか１項記
載の発明において、加速されたイオンをエネルギー的に
選別し、特定のエネルギーを持つイオンのみが、試料を
励起発光させるようにしたことを特徴とする発光分光分
析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59156346A JPH0641914B2 (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 選択励起を用いた発光分光分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59156346A JPH0641914B2 (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 選択励起を用いた発光分光分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134444A true JPS6134444A (ja) | 1986-02-18 |
| JPH0641914B2 JPH0641914B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=15625750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59156346A Expired - Lifetime JPH0641914B2 (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 選択励起を用いた発光分光分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0641914B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193038A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 固体元素分析方法およびその装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5039594A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-04-11 | ||
| JPS50126490A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-04 | ||
| JPS57133340A (en) * | 1981-02-12 | 1982-08-18 | Fujitsu Ltd | Measuring method for compensating effect distribution for semi-insulating gaas crystal |
-
1984
- 1984-07-26 JP JP59156346A patent/JPH0641914B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5039594A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-04-11 | ||
| JPS50126490A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-04 | ||
| JPS57133340A (en) * | 1981-02-12 | 1982-08-18 | Fujitsu Ltd | Measuring method for compensating effect distribution for semi-insulating gaas crystal |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193038A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 固体元素分析方法およびその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0641914B2 (ja) | 1994-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Shelley et al. | Characterization of direct-current atmospheric-pressure discharges useful for ambient desorption/ionization mass spectrometry | |
| JP5324457B2 (ja) | 静電型イオントラップ | |
| JP5641715B2 (ja) | エネルギー可変型の光イオン化装置および質量分析方法 | |
| JP4331398B2 (ja) | パルスイオン源及びイオン運動を制動するための輸送デバイスを備えた分析計並びにその使用方法 | |
| US5146088A (en) | Method and apparatus for surface analysis | |
| TWI588867B (zh) | 離子化裝置及包含離子化裝置的質譜儀 | |
| JP4416259B2 (ja) | 質量分析装置 | |
| US11443933B1 (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) with ion trapping | |
| US7064323B2 (en) | Chemical substance detection apparatus and chemical substance detection method | |
| US4988869A (en) | Method and apparatus for electron-induced dissociation of molecular species | |
| US20200294751A1 (en) | An electron source | |
| CN113366609B (zh) | 用于优化离子阱填充的自动增益控制 | |
| WO2021084339A1 (en) | Methods and systems of fourier transform mass spectrometry | |
| Yotsombat et al. | Optical emission spectra of a copper plasma produced by a metal vapour vacuum arc plasma source | |
| US4985657A (en) | High flux ion gun apparatus and method for enhancing ion flux therefrom | |
| Colodner et al. | Ion sources for analysis of inorganic solids and liquids by MS | |
| JPS6134444A (ja) | 選択励起を用いた発光分光分析計 | |
| US5763877A (en) | Analyzer using plasma and analysis method using plasma, interface used for the same and sample introducing component used for the same | |
| JP4164027B2 (ja) | 元素の質量分析のための装置および方法 | |
| Lawson et al. | The quadrupole ion store (quistor) as a novel source for a mass spectrometer | |
| JP3572256B2 (ja) | 化学物質検出装置 | |
| JP2010027622A (ja) | 質量分析装置 | |
| CN114616647B (zh) | 傅立叶变换质谱法的方法和系统 | |
| Fröhlich | A hollow-cathode ion source in glow discharge mass spectrometry | |
| JP2926782B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |