JPS613103A - 光学系調整用治具 - Google Patents
光学系調整用治具Info
- Publication number
- JPS613103A JPS613103A JP12331284A JP12331284A JPS613103A JP S613103 A JPS613103 A JP S613103A JP 12331284 A JP12331284 A JP 12331284A JP 12331284 A JP12331284 A JP 12331284A JP S613103 A JPS613103 A JP S613103A
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- JP
- Japan
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- light
- optical system
- angle
- reflective surface
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、特定された反射面に対して、予め定められた
入射角θ（ただし、ｏ’＞θｏ ＞ ９ｏ＠ ）で光が
投射されている状態となるように調整したり、前記の特
定された反射面から予め定められた反射角θで光が反射
されている状態となるように調整したりする場合に使用
される光学系調整用治具に関する。
入射角θ（ただし、ｏ’＞θｏ ＞ ９ｏ＠ ）で光が
投射されている状態となるように調整したり、前記の特
定された反射面から予め定められた反射角θで光が反射
されている状態となるように調整したりする場合に使用
される光学系調整用治具に関する。
（従来の技ｖｆＩ）
反射面に対して光を直角に投射して光学系の調整を行な
うことが従来から知られている。
うことが従来から知られている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところが、特定な反射面に対して任意の特定な角度で光
を投射させるようにすることが、ある種の光学機械の光
学系の組立て（例えば、回転検光子を用いた橢円偏光計
の光学系の組立て）に際して必要になった。
を投射させるようにすることが、ある種の光学機械の光
学系の組立て（例えば、回転検光子を用いた橢円偏光計
の光学系の組立て）に際して必要になった。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、特定された反射面に対して、予め定められた
入射角θ（ただし、ｏ’＞θ” ＞ ９０’ ）で光が
投射されている状態となるように調整したり、前記の特
定された反射面から予め定められた反射角θで光が反射
されている状態となるように調整したりする場合に使用
される光学系ｌ［盤用治具であって、予め定められた入
射角θで光が投射□ されるべき特定された反射面上に
載置されたときに、その特定された反射面に接する底面
と、前記の特定された反射面に投射される光に面する側
面とのなす角がθであり、また、光が投射されるべき特
定された反射面上に載置されたときに、その特定された
反射面に接する底面と、前記の特定された反射面で反射
した光が出射する側面とのなす角もθであるような外形
状となるように、光に対して透明で、かつ、等方性を示
す媒質により構成してなる光学系調整用治具を提供する
ものである。
入射角θ（ただし、ｏ’＞θ” ＞ ９０’ ）で光が
投射されている状態となるように調整したり、前記の特
定された反射面から予め定められた反射角θで光が反射
されている状態となるように調整したりする場合に使用
される光学系ｌ［盤用治具であって、予め定められた入
射角θで光が投射□ されるべき特定された反射面上に
載置されたときに、その特定された反射面に接する底面
と、前記の特定された反射面に投射される光に面する側
面とのなす角がθであり、また、光が投射されるべき特
定された反射面上に載置されたときに、その特定された
反射面に接する底面と、前記の特定された反射面で反射
した光が出射する側面とのなす角もθであるような外形
状となるように、光に対して透明で、かつ、等方性を示
す媒質により構成してなる光学系調整用治具を提供する
ものである。
（実施例）
以下、添付図面を参照して本発明の光学系調整用治具の
具体的な内春について詳細に説明する。
具体的な内春について詳細に説明する。
第１図及び第２図は、それぞれ、光に対して透明で、か
つ、等方性を示す媒質（例えば、光学ガラス）により構
成されている本発明の光学系調整用治具ＯＡＰの容具な
る実施例の斜視図であり、第１図は断面形状が２等辺三
角形であるような光学系調整用治具を示し、また、第２
図は断面形状が等脚台形であるような光学系調整用治具
ＯＡＰをそれぞれ示している。
つ、等方性を示す媒質（例えば、光学ガラス）により構
成されている本発明の光学系調整用治具ＯＡＰの容具な
る実施例の斜視図であり、第１図は断面形状が２等辺三
角形であるような光学系調整用治具を示し、また、第２
図は断面形状が等脚台形であるような光学系調整用治具
ＯＡＰをそれぞれ示している。
各図において、１は底面、２は底面１に角度θをなす側
面（入射光に面している方の側面）、３は底面１に角度
θをなす側面（光が出射する方の側面）であって、前記
した各面１〜３は、それぞれ光学的な研磨面となされて
いる。
面（入射光に面している方の側面）、３は底面１に角度
θをなす側面（光が出射する方の側面）であって、前記
した各面１〜３は、それぞれ光学的な研磨面となされて
いる。
しかし、第１図示の光学系調整用治具ＯＡＰにおける面
４，５と、第２図示の光学系調整用治具ＯＡＰにおける
面４，５．６などの各面は、光学的な研磨面となされて
いなくてもよい。
４，５と、第２図示の光学系調整用治具ＯＡＰにおける
面４，５．６などの各面は、光学的な研磨面となされて
いなくてもよい。
第３図は１本発明の光学系調整用治具ＯＡＰを用いて行
なわれる光学系の調整態様を説明するための側面図であ
り、この第３図中では第２図に示されている構成態様の
光学系調整用治具ＯＡＰを用いて光学系の調整が行なわ
れている状態を図示しているが、光学系の調整に第１図
示の光学系調整用治具ＯＡＰが用いられた場合でも、第
３図を参照して説明されている光学系の調整の場合と同
様な調整が行なわれるのである。
なわれる光学系の調整態様を説明するための側面図であ
り、この第３図中では第２図に示されている構成態様の
光学系調整用治具ＯＡＰを用いて光学系の調整が行なわ
れている状態を図示しているが、光学系の調整に第１図
示の光学系調整用治具ＯＡＰが用いられた場合でも、第
３図を参照して説明されている光学系の調整の場合と同
様な調整が行なわれるのである。
第３図において、７は光源、８はピンホール板、８８は
ピンホール、９は特定された反射面、１０は反射鏡であ
り、この第３図では光源７→表面が白色になされている
ピンホール板８とピンホール８ａ→特定された反射面９
→反射鏡１０からなる光学系が調整されるべき光学系で
あるとされている。
ピンホール、９は特定された反射面、１０は反射鏡であ
り、この第３図では光源７→表面が白色になされている
ピンホール板８とピンホール８ａ→特定された反射面９
→反射鏡１０からなる光学系が調整されるべき光学系で
あるとされている。
そして、第３図中で調整の対象にされている光学系が、
光源７から出射された光線を特定された反射面９に、予
め定められている入射角θで投射させうるように、また
、前記の特定された反射面９に対して予め定められた入
射角θで投射された光の反射光を、反射鏡１０で反射さ
せて光１７の位置に正しく戻るように調整されることが
必要な場合には、まず、光源７からの光がピンホール板
８・のピンホール８ａを通して投射された特定された反
射面９上における投射点（入射点）０上に１本発明の光
学系調整用治具ＯＡＰの底面が置かれている状態となさ
れるように、前記の特定された反射面９の上面に本発明
の光学系調整用治具ＯＡＰを載置する。
光源７から出射された光線を特定された反射面９に、予
め定められている入射角θで投射させうるように、また
、前記の特定された反射面９に対して予め定められた入
射角θで投射された光の反射光を、反射鏡１０で反射さ
せて光１７の位置に正しく戻るように調整されることが
必要な場合には、まず、光源７からの光がピンホール板
８・のピンホール８ａを通して投射された特定された反
射面９上における投射点（入射点）０上に１本発明の光
学系調整用治具ＯＡＰの底面が置かれている状態となさ
れるように、前記の特定された反射面９の上面に本発明
の光学系調整用治具ＯＡＰを載置する。
調整の対象にされている光学系における特定された反射
面９上に、前記のように載置された本発明の光学系調整
用治具ＯＡＰは、それの底面ｌと側面２とのなす角と、
それの底面１と側面３とのなす角とが、調整の対象にさ
れている光学系において、特定された反射面９への光線
の入射角として設定されるべき入射角θと等しい角度θ
になされているから、調整の対象にされている光学系に
おける光源７から特定された反射面９へ投射された光線
の入射角が角度θに等しくなされており、かつ、前記の
側面２が光源７から特定された反射面９へ投射される光
線に対して垂直な状態となるように光学系調整用治具Ｏ
ＡＰの向きが設定されたときには、光源７から特定され
た反射面９へ投射された光は光学系調整用治具ＯＡＰの
側面２に垂直に入射するために、そのときに光学系調整
用治具ＯＡＰの側面２で発生する約４％の反射光は、入
射光と同一の経路を辿ってピンホール板８のピンホール
８ａを通過して光源７に達することになり、この場合に
はピンホール板８上に、反射光のスポットは生じない状
態になされる。
面９上に、前記のように載置された本発明の光学系調整
用治具ＯＡＰは、それの底面ｌと側面２とのなす角と、
それの底面１と側面３とのなす角とが、調整の対象にさ
れている光学系において、特定された反射面９への光線
の入射角として設定されるべき入射角θと等しい角度θ
になされているから、調整の対象にされている光学系に
おける光源７から特定された反射面９へ投射された光線
の入射角が角度θに等しくなされており、かつ、前記の
側面２が光源７から特定された反射面９へ投射される光
線に対して垂直な状態となるように光学系調整用治具Ｏ
ＡＰの向きが設定されたときには、光源７から特定され
た反射面９へ投射された光は光学系調整用治具ＯＡＰの
側面２に垂直に入射するために、そのときに光学系調整
用治具ＯＡＰの側面２で発生する約４％の反射光は、入
射光と同一の経路を辿ってピンホール板８のピンホール
８ａを通過して光源７に達することになり、この場合に
はピンホール板８上に、反射光のスポットは生じない状
態になされる。
また、同様に、特定された反射面９で反射された光を受
ける反射鏡ＩＯの位置及び傾斜角度の調節を行なうこと
によって、反射鏡１０からの反射光をピンホール板８の
ピンホール８ａを通過して光源７に達するようにさせれ
ば、ピンホール板８上には反射光のスポットが生じない
状態になされる。
ける反射鏡ＩＯの位置及び傾斜角度の調節を行なうこと
によって、反射鏡１０からの反射光をピンホール板８の
ピンホール８ａを通過して光源７に達するようにさせれ
ば、ピンホール板８上には反射光のスポットが生じない
状態になされる。
したがって、前記のようにピンホール板８上に反射光の
スポットが生じない状態になるように、光学系調整用治
具を用いて光学系を調整するだけで、調整の対象にされ
ている光学系に対する粗調整は容易に行なわれ得るので
ある。
スポットが生じない状態になるように、光学系調整用治
具を用いて光学系を調整するだけで、調整の対象にされ
ている光学系に対する粗調整は容易に行なわれ得るので
ある。
さて、前記のようにピンホール板８上に反射光のスポッ
トが生じない状態となるようにするととにより、光学系
は光学系調整用治具を用いて容易に粗調整できるのであ
るが１次に５本発明の光学系調整用治具を用いて光学系
の微調整を行なう方法について説明する。
トが生じない状態となるようにするととにより、光学系
は光学系調整用治具を用いて容易に粗調整できるのであ
るが１次に５本発明の光学系調整用治具を用いて光学系
の微調整を行なう方法について説明する。
前記のような粗調整によって５反射光がピンホール板８
のピンホール８ａを通過して光源７に達した状態になさ
れた場合には、ピンホール板８上に反射光による光のス
ポットは生じることがないから、それ以上の微調整は、
例えば、次のようにして行なうことができる。
のピンホール８ａを通過して光源７に達した状態になさ
れた場合には、ピンホール板８上に反射光による光のス
ポットは生じることがないから、それ以上の微調整は、
例えば、次のようにして行なうことができる。
まず、光源７として用いられているＨｅＮｅレーザを最
も一般的な使用態様のように一定電流で使用（ＨｅＮｅ
レーザは、一定電流で駆動して使用されるのが一般的な
のであり、例えば、半導体レーザのように検出した発振
出力を帰還して出力を安定化させるようなことは行なわ
ない）するようにしておき、前記のように光学系調整用
治具からの４％の反射光が光源７に戻されたときに生じ
る自己結合によるレーザ出力の増加（発振出力の４％が
戻された場合には、レーザ出力が５〜１０％程度増加す
ることが実検的に確められている）を検出することによ
り、光学系の微調整を行なうようにするのである。
も一般的な使用態様のように一定電流で使用（ＨｅＮｅ
レーザは、一定電流で駆動して使用されるのが一般的な
のであり、例えば、半導体レーザのように検出した発振
出力を帰還して出力を安定化させるようなことは行なわ
ない）するようにしておき、前記のように光学系調整用
治具からの４％の反射光が光源７に戻されたときに生じ
る自己結合によるレーザ出力の増加（発振出力の４％が
戻された場合には、レーザ出力が５〜１０％程度増加す
ることが実検的に確められている）を検出することによ
り、光学系の微調整を行なうようにするのである。
そして、前記のようにレーザに戻された反射光が自己結
合することにより増大したレーザ出力の検出は、例えば
、（１）レーザ発振器の後側の全反射型のミラーを透過
する０、１％程度の光を受光素子で検出する。（２）第
３図中の反射鏡１０をハーフミラ−にし、そのハーフミ
ラ−を透過した光を受光素子で検出する。などの手段を
適用すれば容易に実施することができるから、前記のよ
うな手段の適用によって、光学系調整用治具を用いて光
学系の微調整を正しく行なうことができる。
合することにより増大したレーザ出力の検出は、例えば
、（１）レーザ発振器の後側の全反射型のミラーを透過
する０、１％程度の光を受光素子で検出する。（２）第
３図中の反射鏡１０をハーフミラ−にし、そのハーフミ
ラ−を透過した光を受光素子で検出する。などの手段を
適用すれば容易に実施することができるから、前記のよ
うな手段の適用によって、光学系調整用治具を用いて光
学系の微調整を正しく行なうことができる。
なお、光学系調整用治具ＯＡＰは、それの底面１と側面
２とのなす角度と、それの底面１と側面３とのなす角度
とが、ともに正確にθの角度になされていれば、上記し
た光学系の調整は容易に正しく行なうことができる。
２とのなす角度と、それの底面１と側面３とのなす角度
とが、ともに正確にθの角度になされていれば、上記し
た光学系の調整は容易に正しく行なうことができる。
光学系調整用治具０ムＰにおいて、それの底面１と側面
２とのなす角度と、それの底面１と側面３とのなす角度
とが同一でない場合には、光学系調整用治具ＯＡＰの向
きを１８０’だけ変化させれば、それの非対称性が明ら
かにされる。
２とのなす角度と、それの底面１と側面３とのなす角度
とが同一でない場合には、光学系調整用治具ＯＡＰの向
きを１８０’だけ変化させれば、それの非対称性が明ら
かにされる。
（発明の効果）
以上、詳細に説明したところから明らかなように、本発
明は特定された反射面に対して、予め定められた入射角
θ（ただし、０°〉θ’ ＞ ９０’ ）で光が投射さ
れている状態となるように調整したり、前記の特定され
た反射面から予め定められた反射角θで光が反射されて
いる状態となるように調整したりする場合に使用される
光学系調整用治具であって、予め定められた入射角θで
光が投射されるべき特定された反射面上に載置されたと
きに、その特定された反射面に接する底面と、前記の特
定された反射面に投射される光に面する側面とのなす角
がθであり、また、光が投射されるべき特定された反射
面上に載置されたときに、その特定された反射面に接す
る底面と、前記の特定された反射面で反射した光が出射
する側面とのなす角もθであるような外形状となるよう
に、光に対して透明で、かつ、等方性を示す媒質により
構成してなる光学系調整用治具であるから、それを調整
の対象にされている光学系における特定された反射面上
に載置して、ピンホール板８上に反射光のスポットが生
じない状態になるように、光学系調整用治具により光学
系を調整するだけで、調整の対象にされている光学系を
、光学系中の特定された反射面に予め定められた入射角
θで光線が入射される如き正しい設定状態にすることが
できる。
明は特定された反射面に対して、予め定められた入射角
θ（ただし、０°〉θ’ ＞ ９０’ ）で光が投射さ
れている状態となるように調整したり、前記の特定され
た反射面から予め定められた反射角θで光が反射されて
いる状態となるように調整したりする場合に使用される
光学系調整用治具であって、予め定められた入射角θで
光が投射されるべき特定された反射面上に載置されたと
きに、その特定された反射面に接する底面と、前記の特
定された反射面に投射される光に面する側面とのなす角
がθであり、また、光が投射されるべき特定された反射
面上に載置されたときに、その特定された反射面に接す
る底面と、前記の特定された反射面で反射した光が出射
する側面とのなす角もθであるような外形状となるよう
に、光に対して透明で、かつ、等方性を示す媒質により
構成してなる光学系調整用治具であるから、それを調整
の対象にされている光学系における特定された反射面上
に載置して、ピンホール板８上に反射光のスポットが生
じない状態になるように、光学系調整用治具により光学
系を調整するだけで、調整の対象にされている光学系を
、光学系中の特定された反射面に予め定められた入射角
θで光線が入射される如き正しい設定状態にすることが
できる。
第１図及び第２図は、それぞれ本発明の光学系調整用治
具の各員る実施態様の斜視図、第３図は本発明の光学系
調整用治具を用いて光学系の調整を行なう場合を説明す
る側面図である。 ＯＡＰ・・・光学系調整用治具、１・・・光学系調整用
治具の底面、２，３・・・光学系調整用治具の側面、７
・・・光源、８・・・ピンホール板、８ａ・・・ピンホ
ール１、９・・・反射面、ＩＯ・・・反射鏡、特許出願
人 日本ビクター株式会社 代 理 人 弁理士 今 間 孝 生１：）３
図 −１＜
具の各員る実施態様の斜視図、第３図は本発明の光学系
調整用治具を用いて光学系の調整を行なう場合を説明す
る側面図である。 ＯＡＰ・・・光学系調整用治具、１・・・光学系調整用
治具の底面、２，３・・・光学系調整用治具の側面、７
・・・光源、８・・・ピンホール板、８ａ・・・ピンホ
ール１、９・・・反射面、ＩＯ・・・反射鏡、特許出願
人 日本ビクター株式会社 代 理 人 弁理士 今 間 孝 生１：）３
図 −１＜
Claims (1)
- 特定された反射面に対して、予め定められた入射角θ（
ただし、０°＞θ°＞９０°）で光が投射されている状
態となるように調整したり、前記の特定された反射面か
ら予め定められた反射角θで光が反射されている状態と
なるように調整したりする場合に使用される光学系調整
用治具であって、予め定められた入射角θで光が投射さ
れるべき特定された反射面上に載置されたときに、その
特定された反射面に接する底面と、前記の特定された反
射面に投射される光に面する側面とのなす角がθであり
、また、光が投射されるべき特定された反射面上に載置
されたときに、その特定された反射面に接する底面と、
前記の特定された反射面で反射した光が出射する側面と
のなす角もθであるような外形状となるように、光に対
して透明で、かつ、等方性を示す媒質により構成してな
る光学系調整用治具
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12331284A JPS613103A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 光学系調整用治具 |
| US06/736,938 US4695162A (en) | 1984-05-24 | 1985-05-22 | Film thickness measuring apparatus |
| DE8585303660T DE3567270D1 (en) | 1984-05-24 | 1985-05-23 | Film thickness measuring apparatus |
| EP85303660A EP0165722B1 (en) | 1984-05-24 | 1985-05-23 | Film thickness measuring apparatus |
| DE198585303660T DE165722T1 (de) | 1984-05-24 | 1985-05-23 | Duennschichtmessapparat. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12331284A JPS613103A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 光学系調整用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS613103A true JPS613103A (ja) | 1986-01-09 |
Family
ID=14857429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12331284A Pending JPS613103A (ja) | 1984-05-24 | 1984-06-15 | 光学系調整用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS613103A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07211690A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-11 | Lg Semicon Co Ltd | 選択的なエッチング方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5957206A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-02 | Toshiba Corp | 偏光プリズム装置 |
-
1984
- 1984-06-15 JP JP12331284A patent/JPS613103A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5957206A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-02 | Toshiba Corp | 偏光プリズム装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07211690A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-11 | Lg Semicon Co Ltd | 選択的なエッチング方法 |
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