JPS61288483A - Molding having printed circuit board - Google Patents

Molding having printed circuit board

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Publication number
JPS61288483A
JPS61288483A JP12916885A JP12916885A JPS61288483A JP S61288483 A JPS61288483 A JP S61288483A JP 12916885 A JP12916885 A JP 12916885A JP 12916885 A JP12916885 A JP 12916885A JP S61288483 A JPS61288483 A JP S61288483A
Authority
JP
Japan
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weight
units
ethylene
microns
printed circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP12916885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
前田 正彦
憲治 藤谷
茂木 義博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Filing date
Publication date
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Priority to DE19863688008 priority patent/DE3688008T2/en
Priority to US06/875,034 priority patent/US4772496A/en
Publication of JPS61288483A publication Critical patent/JPS61288483A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産1−L立U矩野 本発明はプリント基板を有する成形物に関する。さらに
くわしくは、プリント基板を有する成形物であり、(A
)少なくともエチレン単位とカルボン酸単位、ジカルボ
ン酸単位、その無水物単位およびそのハーフェステル単
位からなる群かえらばれた少なくとも一種の単位とを有
するエチレン共重合体ならびに(B)少なくともエチレ
ン単位とヒドロキシル単位、アミノ単位およびグリシジ
ル単位からなる群からえらばれた少なくとも一種の単位
とを有するエチレン共重合体の混合物の架橋物を少なく
とも有する肉薄物と熱可塑性樹脂またはその組成物とが
積層されてなる電気−電子機器に関するものであり、簡
易な方法によってプリント基板が一体化された成形物を
提供することを目的とするものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a molded product having a printed circuit board. More specifically, it is a molded product having a printed circuit board, (A
) an ethylene copolymer having at least an ethylene unit and at least one unit selected from the group consisting of a carboxylic acid unit, a dicarboxylic acid unit, an anhydride unit thereof and a halfester unit; An electric/electronic device comprising a thermoplastic resin or a composition thereof laminated with a thin material having at least a crosslinked product of a mixture of an ethylene copolymer having at least one unit selected from the group consisting of glycidyl units and glycidyl units. The object is to provide a molded product in which a printed circuit board is integrated by a simple method.

良釆立且遣 最近の電気・電子機器は、小型化、軽量化、高密度化が
急速に進められている。とりわけ、プリント配線板はラ
ジオ、ビデオカメラなどの家庭電壁用として商品化され
ている。現在では量産性、高信頼性に支えられて電話機
、電算機、プリンターなどの産業用機器として用途が拡
大している。
Modern electrical and electronic devices are rapidly becoming smaller, lighter, and more dense. In particular, printed wiring boards have been commercialized for use in home appliances such as radios and video cameras. Nowadays, its use in industrial equipment such as telephones, computers, and printers is expanding due to its mass productivity and high reliability.

従来より、小を化のために狭い空間に立体的に高密度実
装するうえでプリント基板を筐体成形物の内部にビス止
めしたり、接着剤などで接着させる方法が一般に行なわ
れている。しかし、この方法では、筐体の小型化をする
ことが困難であり、さらに振動などによって剥離したり
、近くの配線などと接触して故障の原因となっていた。
Conventionally, in order to achieve high-density three-dimensional packaging in a narrow space for miniaturization, it has been common practice to attach a printed circuit board to the inside of a molded casing with screws or with an adhesive. However, with this method, it is difficult to downsize the casing, and furthermore, the casing may peel off due to vibration or come into contact with nearby wiring, causing failure.

また、従来の熱硬化性基板を筐体に接着させると、筐体
との熱膨張との差によって剥離することが多かった。ま
た、小型化に伴ない、狭い部分に部品を実装するために
作業性が悪いなどの問題が発生していた。
Furthermore, when a conventional thermosetting substrate is adhered to a housing, it often peels off due to the difference in thermal expansion from the housing. In addition, with miniaturization, problems such as poor workability have arisen because components are mounted in a narrow area.

が       −     り  へ以上のことから
1本発明はこれらの欠点(問題点)がなく、簡易な方法
によって耐熱性が良好であるばかりでなく、プリント基
板が設定され、小型化、軽量化された成形物を得ること
である。
From the above, the present invention does not have these drawbacks (problems), and not only has good heat resistance using a simple method, but also has a printed circuit board, which makes it compact and lightweight. It's about getting things.

。  占    ・     た          
び本発明にしたがえば、これらの問題点は、プリント基
板を有する成形物を製造する方法において、(A)  
r少なくともエチレンとカルボン酸単位、ジカルボン酸
単位、その無水物単位およびそのハーフェステル単位か
らなる群かえらばれた少なくとも一種の単位とからなり
、かつエチレン単位の含有量が30〜99.5重量%で
あるエチレン系共重合体」 〔以下「エチレン系共重合
体(A)」 と云う〕 1〜99重量%ならびにCB)
「少なくともエチレン単位とヒドロキシル単位、アミン
単位およびグリシジル単位からなる群からえらばれた少
なくとも一種の単位とからな′す、かつエチレン単位の
含有量が30〜99.5重量%であるエチレン系共重合
体」 〔以下「エチレン系共重合体(B)」と云う〕9
9〜1重量%である混合物の架橋物を少なくとも有する
厚さが3ミクロンないし51朧である肉薄物と熱可塑性
樹脂またはその組成物とが積層されてなるプリント基板
を有する成形物、 によって解決することができる。以下1本発明を具体的
に説明する。
. Fortune telling
According to the present invention, these problems can be solved by (A)
r Consists of at least ethylene and at least one type of unit selected from the group consisting of carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, anhydride units thereof, and halfester units thereof, and the content of ethylene units is 30 to 99.5% by weight. 1 to 99% by weight and CB)
"Ethylene copolymer consisting of at least ethylene units and at least one unit selected from the group consisting of hydroxyl units, amine units and glycidyl units, and containing 30 to 99.5% by weight of ethylene units." [hereinafter referred to as "ethylene copolymer (B)"]9
Solved by a molded article having a printed circuit board formed by laminating a thermoplastic resin or a composition thereof and a thin article having a thickness of 3 microns to 51 mm and having at least 9 to 1% by weight of a crosslinked mixture. be able to. The present invention will be specifically explained below.

(A)エチレン系共重合体(A) 本発明において使われるエチレン系共重合体(A)は少
なくともエチレン単位と「カルボン酸単位、ジカルボン
酸単位、その無水物単位およびそのハーフェステル単位
からなる群かえらばれた少なくとも一種の単位」 〔以
下「第二成分(A)」と云う〕とからなり、そのエチレ
ン単位を30〜99.5重量%含有するエチレン系共重
合体である。
(A) Ethylene copolymer (A) The ethylene copolymer (A) used in the present invention contains at least ethylene units and a group consisting of carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, anhydride units thereof, and halfester units thereof. It is an ethylene copolymer containing 30 to 99.5% by weight of the ethylene units.

このエチレン系共重合体(A)は少なくとも第二成分(
A)として構成するために下記の七ツマ−とを共重合さ
せることによって得ることができる共重合体およびこれ
らと他のモノマーとの多元系共重合体ならびにこれらの
共重合体中の酸無水物基を加水分解および/もしくはア
ルコール変性させることによって得られるものがあげら
れる。
This ethylene copolymer (A) contains at least the second component (
Copolymers that can be obtained by copolymerizing the following seven monomers to form A), multi-component copolymers of these and other monomers, and acid anhydrides in these copolymers. Examples include those obtained by hydrolyzing and/or alcohol modification of the group.

この%/ママ−代表例としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸およびエタクリル酸のごとき炭素数が多くとも25
個の不飽和モノカルボン酸ならびに無水マレイン酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、マレオ無水ピマル酸、4−メ
チルシクロヘキサン−4−エン−1,2−無水カルボン
酸およびビシクロ(2,2,1)−へブタ−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物のごとき炭素数が4〜50
個の不飽和ジカルボン酸無水物があげられる。
Typical examples include acrylic acid, methacrylic acid, and ethacrylic acid, which contain at most 25 carbon atoms.
unsaturated monocarboxylic acids as well as maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, maleopimaric anhydride, 4-methylcyclohexan-4-ene-1,2-carboxylic anhydride and bicyclo(2,2,1)-hebutyric anhydride. -5-en-
4-50 carbon atoms such as 2,3-dicarboxylic anhydride
unsaturated dicarboxylic acid anhydrides.

また、その他のもツマ−として、メチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチ
ル(メタ)アクリレートおよびフマル酸ジエチルのごと
き炭素数が多くとも30個(好適には、 10個以下)
の不飽和カルボン酸エステルならびに酢融ビニルおよび
プロピオン酸ビニルのごとき炭素数が多くとも30個の
ビニルエステルがあげられる。
Also, other materials having at most 30 carbon atoms (preferably 10 or less) such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, hydroxymethyl (meth)acrylate, and diethyl fumarate.
and vinyl esters having at most 30 carbon atoms such as vinyl acetate and vinyl propionate.

以上のエチレン系共重合体(A)のうち、エチレンと不
飽和ジカルボン酸無水物との共重合体またはこれらと不
飽和ジカルボン酸エステルおよび/もしくはビニルエス
テルとの多元系共重合体を加水分解および/またはアル
コールによる変性させることによってこれらの共重合体
のジカルボン酸無水物単位をジカルボン酸単位またはハ
ーフェステル単位に換えることができる0本発明におい
ては前記共重合体または多元系共重合体の不飽和ジカル
ボン酸無水物単位の一部または全部をジカルボン酸単位
またはハーフェステル単位にかえることによって得られ
るエチレン系共重合体(A)も好んで使用することがで
きる。
Among the above ethylene copolymers (A), copolymers of ethylene and unsaturated dicarboxylic anhydrides or multicomponent copolymers of these and unsaturated dicarboxylic esters and/or vinyl esters are hydrolyzed and The dicarboxylic acid anhydride units of these copolymers can be converted to dicarboxylic acid units or Hafester units by modification with alcohol. Ethylene copolymers (A) obtained by replacing part or all of the acid anhydride units with dicarboxylic acid units or halfester units can also be preferably used.

加水分解を実施するには、前記エチレン系共重合体(A
)を該共重合体を溶解する有機溶媒(たとえば、トルエ
ン)中で触媒(たとえば、三級アミン)の存在下で80
〜100℃の温度において水と0.5〜10時間(好ま
しくは、2〜6時間、好適には、 3〜6時間)反応さ
せた後、酸で中和させることによって得ることができる
To carry out the hydrolysis, the ethylene copolymer (A
) in the presence of a catalyst (e.g. tertiary amine) in an organic solvent (e.g. toluene) that dissolves the copolymer.
It can be obtained by reacting with water at a temperature of ~100°C for 0.5 to 10 hours (preferably 2 to 6 hours, preferably 3 to 6 hours), followed by neutralization with an acid.

アルコール変性を実施するには、前記エチレン系共重合
体(A)を後記の溶液法または混練法によって得ること
ができる。
To perform alcohol modification, the ethylene copolymer (A) can be obtained by the solution method or kneading method described later.

溶液法は加水分解の場合と同様に有機溶媒中で前記の触
媒の存在下または不存在下(不存在下では反応が遅い)
で使われるアルコールの還流温度で2分ないし5時間(
望ましくは2分ないし2時間、好適には15分ないし1
時間)反応させる方法である。
The solution method is similar to the case of hydrolysis, in which the reaction is carried out in an organic solvent in the presence or absence of the above-mentioned catalyst (the reaction is slow in its absence).
2 minutes to 5 hours at the reflux temperature of the alcohol used in
Preferably from 2 minutes to 2 hours, preferably from 15 minutes to 1 hour.
time).

一方、混線法は前記エチレン系共重合体(A)100重
量部に対して通常0.01〜1.0重量部(好まシくハ
、0.05〜0.5重量部)の第三級アミンおよび該共
重合体中のジカルボン酸単位に対して一般には0.1〜
3.0倍モル(望ましくは、 1.0〜2.0倍モル)
の飽和アルコールをエチレン系共重合体(A)の融点以
上であるが、用いられるアルコールの沸点以下において
、通常ゴムおよび合成樹脂の分野において使われている
バンバリーミキサ−1押出機などの混練機を使用して数
分ないし数十分(望ましくは、10分ないし30分)混
練させながら反応する方法である。
On the other hand, in the cross-wire method, the tertiary copolymer is usually 0.01 to 1.0 parts by weight (preferably 0.05 to 0.5 parts by weight) per 100 parts by weight of the ethylene copolymer (A). Generally from 0.1 to the dicarboxylic acid unit in the amine and the copolymer.
3.0 times mole (preferably 1.0 to 2.0 times mole)
of saturated alcohol at a temperature above the melting point of the ethylene copolymer (A) but below the boiling point of the alcohol used, using a kneading machine such as the Banbury Mixer 1 extruder commonly used in the fields of rubber and synthetic resins. This is a method in which the reaction is carried out while kneading for several minutes to several tens of minutes (preferably 10 to 30 minutes).

以上のアルコールによる変性において使用される飽和ア
ルコールは炭素数は1〜12個の直鎖状または分岐鎖状
の飽和アルコールであり、メチルアルコール、エチルア
ルコール、−級ブチルアルコールがあげられる。
The saturated alcohol used in the above modification with alcohol is a linear or branched saturated alcohol having 1 to 12 carbon atoms, and includes methyl alcohol, ethyl alcohol, and -butyl alcohol.

以上の加水分解の場合でも、アルコールによる変性の場
合でも、ジカルボン酸への転化率およびハーフェステル
化率は、いずれも0.5〜100%であり、10.0〜
100%が望ましい。
In the case of the above hydrolysis and in the case of modification with alcohol, the conversion rate to dicarboxylic acid and the halfesterization rate are both 0.5 to 100%, and 10.0 to 100%.
100% is desirable.

このエチレン系共重合体(A)中のエチレン単位は30
〜99.5重量%であり、30〜99.0重量%が好ま
しく、特に35〜9θ、0重量%が好適である。また、
該共重合体中に占めるカルボン酸単位、その無水物単位
およびハーフェステル単位の割合はそれらの合計量とし
て0.1〜70重量%であり、 0.5〜70重量%が
望ましく、とりわけ0.5〜80重量%が好適である。
The ethylene units in this ethylene copolymer (A) are 30
-99.5% by weight, preferably 30-99.0% by weight, particularly preferably 35-9θ, 0% by weight. Also,
The proportion of carboxylic acid units, their anhydride units and halfester units in the copolymer is 0.1 to 70% by weight in total, preferably 0.5 to 70% by weight, particularly 0.5% by weight. ~80% by weight is preferred.

このエチレン系共重合体(A)中に占めるカルボン酸単
位、その無水物単位およびハーフェステル単位の割合が
0.1重量%未満のエチレン系重合体を使用するならば
、後記のエチレン系共重合体(B)と加熱させて架橋す
るさい、架橋が不完全であるのみならず、金属層との密
着性がよくない、一方、70重量%を越えても本発明の
特徴は発現するが、70重!%*mンふ必要1士なく、
製造上および経済上好ましくない。
If an ethylene polymer in which the proportion of carboxylic acid units, anhydride units and halfester units in this ethylene copolymer (A) is less than 0.1% by weight is used, the ethylene copolymer described below When crosslinking with (B) by heating, not only is the crosslinking incomplete, but also the adhesion with the metal layer is poor. Heavy! There is no need for %*m,
Unfavorable from manufacturing and economical standpoints.

また、前記不飽和カルボン酸エステルおよび/またはビ
ニルエステルを含む多元系共重合体を使用する場合、そ
れらの合計量として通常多くとも70重量%であり、6
0重量%以下が好ましい、不飽和ジカルボン酸エステル
および/またはビニルエステルの共重合割合が70重量
%を越えたエチレン系共重合体を用いると、該共重合体
の軟化点が高くなり、 150℃以下の温度において流
動性が損われるために望ましくないのみならず、経済上
についても好ましくない。
In addition, when using a multicomponent copolymer containing the unsaturated carboxylic acid ester and/or vinyl ester, the total amount thereof is usually at most 70% by weight, and 6% by weight.
When using an ethylene copolymer in which the copolymerization ratio of unsaturated dicarboxylic acid ester and/or vinyl ester exceeds 70% by weight, which is preferably 0% by weight or less, the softening point of the copolymer becomes high, and the softening point is 150°C. The temperature below is not only undesirable because fluidity is impaired, but also economically unfavorable.

(B)エチレン系共重合体CB) また、本発明において用いられるエチレン系共重合体(
B)は少なくともエチレン単位と「ヒドロキシル単位、
アミノ単位およびグリシジル単位からなる群からえらば
れた少なくとも一種の単位」〔以下「第二成分(B)」
と云う〕とからなり、そのエチレン単位を30〜98.
5重量%含有するエチレン系共重合体である。
(B) Ethylene copolymer CB) In addition, the ethylene copolymer (CB) used in the present invention (
B) contains at least ethylene units and hydroxyl units,
At least one unit selected from the group consisting of amino units and glycidyl units" [hereinafter referred to as "second component (B)"]
], and its ethylene units are 30 to 98.
It is an ethylene copolymer containing 5% by weight.

このエチレン系共重合体(B)は少なくともエチレンと
第二成分(B)として構成するために下記の七ツマ−と
を共重合させることによって得ることできる共重合体お
よびこれらと他のモノマーとの多元系共重合体ならびに
エチレンとビニルエステル(とりわけ、酢酸ビニル)と
の共重合体をけん化させることによって得られるけん化
物があげられる。
This ethylene copolymer (B) is a copolymer obtained by copolymerizing at least ethylene with the following seven monomers to constitute the second component (B), and a copolymer of these and other monomers. Examples include saponified products obtained by saponifying multicomponent copolymers and copolymers of ethylene and vinyl ester (especially vinyl acetate).

この七ツマ−としては、下記の一般式で示されるグリシ
ジルアルキル(メタ)アクリレート、ヒトミキシアルキ
ル(メタ)アクリレート(アルキル基の炭素数は通常1
〜25偏)、炭素数が3〜25個のα−フルケニルアル
コールならびに炭素数が2〜25個のα−アミンおよび
一級または二級の7ミノアルキル(メタ)アクリレート
(アルキル基の炭素数は通常1〜25個)があげられる
These seven polymers include glycidyl alkyl (meth)acrylates and human mixyalkyl (meth)acrylates represented by the following general formula (the number of carbon atoms in the alkyl group is usually 1).
~25 bias), α-fulkenyl alcohol having 3 to 25 carbon atoms, α-amine having 2 to 25 carbon atoms, and primary or secondary 7-minoalkyl (meth)acrylate (the number of carbon atoms in the alkyl group is usually 1 to 25).

(ここにR1はHまたはメチル基R2は炭素数が1−1
2個の直鎖状または分岐アルキル基である)この七ツマ
−の代表例としては、ブテントリカルボン酸モノグリシ
ジルエステル、グリシジルメタアクリレート、グリシジ
ルアクリレート、グリシジルエタアクリレート、イタコ
ン酸グリシジルエステル、ヒドロシキメチル(メタ)ア
クリレート、ヒドロシキメチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
ブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メ
タ)アクリレート、アリル(ally! )アルコール
、アリル(allyl )アミンおよびアミノエチル(
メタ)アクリレートがあげられる。
(Here, R1 is H or methyl group R2 has 1-1 carbon atoms.
Typical examples of this heptamer (which is two linear or branched alkyl groups) include butene tricarboxylic acid monoglycidyl ester, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl ethacrylate, itaconate glycidyl ester, hydroxymethyl ( meth)acrylate, hydroxymethyl(meth)acrylate,
Hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, hydroxyhexyl (meth)acrylate, allyl alcohol, allyl amine and aminoethyl (
Meta)acrylates are mentioned.

また、他のモノマーとしては、前記不飽和カルボン酸エ
ステルおよびビニルエステルがあげられる。
Moreover, examples of other monomers include the unsaturated carboxylic acid esters and vinyl esters.

このエチレン系共重合体(B)中のエチレン単位は3O
N99.5重量%であり、 30〜θ8.0重量%が望
ましく、とりわけ35〜99.0重量%が好適である。
The ethylene unit in this ethylene copolymer (B) is 3O
N is 99.5% by weight, and 30 to θ8.0% by weight is desirable, particularly 35 to 99.0% by weight.

また、該共重合体中に占めるヒドロキシル単位、アミノ
単位およびグリシジル単位の割合は前記のエチレン系共
重合体(A)の場合と同じ理由で0.1〜70重量%で
あり、0.5〜70重量%が好ましく、特に0.5〜6
0重量%が好適である。さらに、前記不飽和カルボン酸
エステルおよび/またはビニルエステルを含む多元系共
重合体を用いる場合、m記エチレン系共重合体(A)の
場合と同じ理由でそれらの合計量として一般には多くと
も70重量%であり、とりわけ60重量%以下が望まし
い。
Further, the proportion of hydroxyl units, amino units and glycidyl units in the copolymer is 0.1 to 70% by weight for the same reason as in the case of the ethylene copolymer (A), and is 0.5 to 0.5% by weight. 70% by weight is preferred, especially 0.5-6
0% by weight is preferred. Furthermore, when using a multicomponent copolymer containing the unsaturated carboxylic acid ester and/or vinyl ester, the total amount thereof is generally at most 70 It is preferably 60% by weight or less.

前記エチレン系共重合体(A)およびエチレン系共重合
体(B)のメルトインデックス(JIS  K−721
0にしたがい、条件4で測定、以下「に、■、」と云う
)は一般には0.001〜1000 g / 10分テ
アリ、0.05〜500 g/10分が好マシく、特ニ
0.1〜500 g710分が好適であ6. M、1.
が0.01 g 710分未満のこれらのエチレン系共
重合体を用いると、これらの共重合体を混合するさいに
均一状に混合させることが難しいのみならず、成形性も
よくない。
Melt index (JIS K-721) of the ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B)
0, measured under condition 4, hereinafter referred to as "Ni, .1 to 500 g710 minutes is preferred6. M, 1.
When these ethylene copolymers having a weight of less than 0.01 g 710 min are used, it is not only difficult to mix these copolymers uniformly, but also the moldability is poor.

これらのエチレン系共重合体のうち、共重合方法によっ
て製造する場合では、通常500〜2500Kg/cm
″の高圧下で120〜280℃の温度で速鎖移動剤(た
とえば゛、有機過酸化物)の存在下でエチレンと第二成
分(A)もしくは第二成分(B)またはこれらと他の成
分とを共重合させることに・よって得ることができ、そ
れらの製造方法についてはよく知られているものである
。また、前記エチレン系共重合体(^)のうち加水分解
および/アルコールによる変性によって製造する方法な
らびにエチレン系共重合体(B)のうちけん化方法によ
って製造する方法についてもよく知られている方法であ
る。
Among these ethylene-based copolymers, when produced by a copolymerization method, the amount is usually 500 to 2500 Kg/cm.
ethylene and the second component (A) or the second component (B) or these and other components in the presence of a fast chain transfer agent (e.g. organic peroxide) at a temperature of 120 to 280° C. under high pressure of It can be obtained by copolymerizing and the method for producing them is well known.In addition, among the above ethylene copolymers (^), by hydrolysis and/or modification with alcohol, The manufacturing method and the saponification method of the ethylene copolymer (B) are also well known.

(C)混合物の製造 (1)混合割合 本発明の混合物を製造するにあたり、得られる混合物中
のエチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合体(B
)の合計量(総和)に占めるエチレン系共重合体(A)
の混合割合1〜99重量%〔すなわち、エチレン系共重
合体(B)の混合割合99〜1重量%〕であり、 5〜
95重量%が望ましく、とりわけ10〜80重量%が好
適である。エチレン系共重合体(A)とエチレン系共重
合体(8)の合計量中に占めるエチレン系共重合体(A
)の混合割合が1重量%未満でも、99重量%を越える
場合でも、混合物ヲ後記の方法で架橋させるさいに架橋
が不充分であり、たとえば後記の導電性金属層との接着
がよくない。
(C) Production of mixture (1) Mixing ratio In producing the mixture of the present invention, ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B
) Ethylene copolymer (A) in the total amount (total)
The mixing ratio of the ethylene copolymer (B) is 1 to 99% by weight [that is, the mixing ratio of the ethylene copolymer (B) is 99 to 1% by weight], and 5 to 99% by weight.
95% by weight is desirable, particularly 10-80% by weight. Ethylene copolymer (A) in the total amount of ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (8)
) is less than 1% by weight or more than 99% by weight, the crosslinking of the mixture by the method described later will be insufficient, and for example, the adhesion with the conductive metal layer described later will be poor.

(2)混合方法 この混合物を製造するにはエチレン系共重合体(A)と
エチレン系共重合体(B)とを均一に混合させればよい
、混合方法としてはオレフィン系重合体の分野において
一般に行なわれているヘンシェルミキサーのごとき混合
機を使ってトライブレンドしてもよく、バンバリー、押
出機およびロールミルのごとき混合機を用いて溶融混練
させる方法があげられる。このさい、あらかじめトライ
ブレンドし、得られる混合物を溶融混練させることによ
ってより均一な混合物を得ることができる。溶融混線す
るさい、エチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合
体(B)とが実質に架橋反応しないことが必要である(
かりに架橋すると、得られる混合物を後記のように成形
加工するさいに成形性が悪くなるばかりでなく、目的と
する成形物の形状や成形物を架橋する場合に耐熱性を低
下させるなどの原因となるために好ましくない)、この
ことから、溶融混練する温度は使われるエチレン系重合
体の種類および粘度にもよるが、室温(20℃)ないし
150℃が望ましく140℃以下が好適である。
(2) Mixing method To produce this mixture, it is sufficient to uniformly mix the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer (B). Triblending may be carried out using a commonly used mixer such as a Henschel mixer, or melt kneading may be carried out using a mixer such as a Banbury, extruder, or roll mill. At this time, a more uniform mixture can be obtained by triblending in advance and melt-kneading the resulting mixture. When melt-mixing, it is necessary that the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer (B) do not substantially undergo crosslinking reaction (
If the resulting mixture is crosslinked, it will not only deteriorate the moldability when molding the resulting mixture as described below, but also cause a decrease in the shape of the intended molded product and the heat resistance when crosslinking the molded product. Therefore, the melt-kneading temperature is preferably room temperature (20°C) to 150°C, and preferably 140°C or lower, although it depends on the type and viscosity of the ethylene polymer used.

この「実質的に架橋しない」の目安として、[沸騰トル
エン中で3時間抽出処理した後、径が0.1ミクロン以
上である残香] (以下「抽出残香」と云う)が一般に
は15重量%以下であることが好ましく、10重量%以
下が好適であり、 5重量%以下が最適である。
As a guideline for this "substantially no crosslinking", [residual aroma with a diameter of 0.1 micron or more after extraction treatment in boiling toluene for 3 hours] (hereinafter referred to as "extraction residual aroma") is generally 15% by weight. It is preferably at most 10% by weight, most preferably at most 5% by weight.

(3)肉薄物の製造 以上のようにして得られる混合物を肉薄物に製造させる
には熱可塑性樹脂の分野において一般に用いられている
T−グイフィルム法、インフレーション法によるフィル
ムを製造するさいに広く使われている押出機を使ってフ
ィルム状ないしシート状に押出させることによって得る
ことかでさる。このさい、高い温度で押出を実施すると
、エチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合体(B
)の一部または全部が架橋し、ゲル状物の小塊が発生す
ることによって均一状の肉薄物を得ることができない。
(3) Production of thin-walled products To produce thin-walled products from the mixture obtained as described above, the T-Guy film method and inflation method, which are commonly used in the field of thermoplastic resins, are widely used to produce films. It can be obtained by extruding it into a film or sheet using a conventional extruder. At this time, if extrusion is carried out at a high temperature, the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer (B
) is partially or completely crosslinked and small gel-like particles are generated, making it impossible to obtain a uniformly thin product.

これらのことから、押出温度は通常250℃以下で実施
される。特に、前記の溶融混線の場合と同じ温度範囲で
実施することが好適である。
For these reasons, the extrusion temperature is usually 250°C or lower. In particular, it is preferable to carry out the process in the same temperature range as in the case of the above-mentioned melt crosstalk.

以上のいずれの場合でも、肉薄物を製造した後、肉薄物
間または肉薄物と引取ロールなどとの接着を防止するた
めに水冷ロールまたは水槽中に急冷させることによって
透明性の良好な肉薄物が得られる。このようにして得ら
れる肉薄物の厚さは0.2ミクロンないし1000ミク
ロンであり、 0.2ないし500ミクロンが望ましく
、とりわけ0.2ないし200 ミクロンが好適である
In any of the above cases, after manufacturing the thin-walled objects, the thin-walled objects with good transparency are made by rapidly cooling them in a water-cooling roll or a water bath to prevent adhesion between the thin-walled objects or between the thin-walled objects and a take-up roll. can get. The thickness of the thin wall thus obtained is between 0.2 and 1000 microns, preferably between 0.2 and 500 microns, particularly preferably between 0.2 and 200 microns.

このようにして得られる肉薄物は架橋していないことが
必要である。すなわち、抽出残香は前記と同様に15重
量%以下がよく、10重量%以下が好ましく、特に5重
量%以下が好適である。
It is necessary that the thin-walled product obtained in this manner is not crosslinked. That is, the extracted residual aroma is preferably 15% by weight or less, preferably 10% by weight or less, and particularly preferably 5% by weight or less, as described above.

(C)熱可塑性樹脂 さらに1本発明において射出成形、圧空成形などに使用
される熱可塑性樹脂の代表例としては、プロピレン系樹
脂(pp) 、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブ
タジェンゴムまたはスチレン−ブタジェンゴムに7クリ
ロニトリルとスチレンとをグラフト共重合させることに
よって得られるアクリロニトリル−ブタジェン三元共重
合樹脂(ABS樹脂)、塩素化ポリエチレンに7クリロ
ニトリルとスチレンとをグラフト共重合させることによ
って得られる三元共重合樹脂(AC5樹脂)、ポリフェ
ニレンオキサイド樹脂(ppo樹脂)、ポリエチレンテ
レフタレート(PET) 、 ポリブチレンチレフタレ
−) (POT)およびポリカーボネート樹脂(PC樹
脂)があげられる、これらの熱可塑性樹脂は広く工業的
に生産され、多方面にわたって利用されているものであ
り、それらの製造方法および種々の物性についてよく知
られているものである〔たとえば、“エンサイクロペデ
ィア オブ ボリマ−サイエンス アンド テクノロジ
ー(Enc7clopedia of Polymer
 5cience and Technology)”
インターサイエンス  出版社(Interscien
ce PubliSh−er、 A division
 of John Wiley & 5ons、Inc
)1964年ないし1871年発行〕、これらの熱可塑
性樹脂の分子量は種類によって異なるが、一般には1万
ないし 100万である。これらの熱可塑性樹脂の構造
、製造方法、物性などは特開昭58−99951号、同
58−101149号、同58−134144号、同5
8−1313E143号、同58−191751号、同
5θ−99358号、同58−99.998号および同
・5B−2101197号の各公報明細書ならびに特願
昭59−8538号、同59−26108号、同59−
213108号、同59−29959号、同59−41
982号、同58−60749号、同59−85103
号、同59−1301E12号、同59−901f15
号および同59−101800号などの明細書に記載さ
れている。
(C) Thermoplastic resin Furthermore, representative examples of thermoplastic resins used for injection molding, pressure molding, etc. in the present invention include propylene resin (pp), butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, or styrene-butadiene rubber with 7-acrylonitrile. Acrylonitrile-butadiene terpolymer resin (ABS resin) obtained by graft copolymerizing 7-acrylonitrile and styrene, and terpolymer resin (ABS resin) obtained by graft copolymerizing 7-acrylonitrile and styrene onto chlorinated polyethylene AC5 resin), polyphenylene oxide resin (PPO resin), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (POT), and polycarbonate resin (PC resin). They are used in a wide variety of fields, and their manufacturing methods and various physical properties are well known (for example, in the Encyclopedia of Polymer Science and Technology).
5science and Technology)”
Interscience Publisher
ce PublicSh-er, A division
of John Wiley & 5ons, Inc.
) Published from 1964 to 1871], the molecular weight of these thermoplastic resins varies depending on the type, but generally ranges from 10,000 to 1,000,000. The structure, manufacturing method, physical properties, etc. of these thermoplastic resins are described in JP-A Nos. 58-99951, 58-101149, 58-134144, and 5.
8-1313E143, 58-191751, 5θ-99358, 58-99.998, and 5B-2101197, as well as Japanese Patent Application Nos. 59-8538 and 59-26108. , 59-
No. 213108, No. 59-29959, No. 59-41
No. 982, No. 58-60749, No. 59-85103
No. 59-1301E12, No. 59-901f15
No. 59-101800.

これらの熱可塑性樹脂のみを射出成形、圧空成形などさ
せてもよいが、無機充填剤を熱可塑性樹脂に添加して得
られる組成物を射出成形、圧空成形などさせてもよい。
These thermoplastic resins alone may be injection molded, pressure molded, etc., but a composition obtained by adding an inorganic filler to the thermoplastic resin may be injection molded, pressure molded, etc.

無機充填剤としては組成物を製造するための混線時およ
び射出成形時に分解しないものである。
The inorganic filler is one that does not decompose during mixing and injection molding for producing the composition.

無機充填剤としては、アルミニウム、銅、鉄、鉛および
ニッケルのごとき金属、これらの金属およびマグネシウ
ム、カルシウム、バリウム、亜鉛、ジルコニウム、モリ
ブデン、ケイ素、アンチモン、チタンなどの金属の酸化
物、その水和物(水酸化物)、硫酸塩、炭酸塩、ケイ酸
塩のごとき化合物、これらの複塩ならびにこれらの混合
物があげられる。これらの無機充填剤のうち、粉末状の
ものはその径が1−膳以下(好適には0.5mm以下)
のものが好ましい、また繊維状のものでは、径が1〜5
00 ミクロン(好適には1〜300 ミクロン)であ
り、長さが0.1〜8mm(好適には0.1〜5m+s
)のものが望ましい、さらに、平板状のものは径が21
以下(好適にはlam以下)のものが好ま 。
Inorganic fillers include metals such as aluminum, copper, iron, lead and nickel, oxides of these metals and metals such as magnesium, calcium, barium, zinc, zirconium, molybdenum, silicon, antimony, titanium, and their hydrates. Examples include compounds such as hydroxides, sulfates, carbonates, silicates, double salts thereof, and mixtures thereof. Among these inorganic fillers, those in powder form have a diameter of 1 mm or less (preferably 0.5 mm or less).
Preferably, fibrous ones have a diameter of 1 to 5.
00 microns (preferably 1-300 microns) and a length of 0.1-8 mm (preferably 0.1-5 m+s)
) is preferable, and flat plate-shaped ones have a diameter of 21 mm.
The following (preferably lam or less) are preferred.

しい、これらの無機充填剤は一般に合成樹脂およびゴム
の分解において広く使われているものであり、代表例は
前記特願昭59−8535号、同59−853B号など
の各明細書に記載されている。
However, these inorganic fillers are generally widely used in the decomposition of synthetic resins and rubber, and representative examples are described in the specifications of the above-mentioned Japanese Patent Application Nos. 59-8535 and 59-853B. ing.

一般に電気機器、電子機器の分野においては通常難燃性
を呈するものが望まれている。したがって、前記無機充
填剤のうち、酸化アンチモンのご。とき難燃化剤として
広く合成樹脂に配合されているものおよび成形時には水
分を発生し午いが、それ以上の温度(好ましくは、成形
温度より50℃以上高い温度)において水分を発生する
もの(たとえば、水酸化マグネシウム)を無機充填剤と
してこれらの一部または全部を配合させることが望まし
い。
Generally, in the fields of electrical equipment and electronic equipment, materials exhibiting flame retardancy are generally desired. Therefore, among the inorganic fillers, antimony oxide and the like. Flame retardants that are widely blended into synthetic resins and those that generate moisture during molding, but that generate moisture at higher temperatures (preferably at temperatures 50°C or more higher than the molding temperature). For example, it is desirable to incorporate some or all of these materials using magnesium hydroxide as an inorganic filler.

熱可塑性樹脂に無機充填剤が配合された組成物として使
用する場合、組成物中の無機充填剤の組成割合は多くと
も80重量%であり、75重量%以下が望ましく、とり
わけ70重量%以下が好適である。無機充填剤の組成割
合が80重量%越えた組成物を製造しようと試みたとし
ても、均一状の組成物を得ることが困難であり、かりに
均一な組成物が得られたとしても、後記の射出成形、圧
空成形などによって成形物を製造するさいに良好な製品
f/得ることが〒:ktない− (D)成形方法 本発明の成形物は前記のエチレン系共重合体(A)およ
びエチレン系共重合体(B)を主成分とする未架橋また
は架橋されている肉薄物または肉薄物と後記の種々の物
質とが積層されてなる積層物を成形物にあらかじめイン
サートさせ、前記熱可塑性樹脂またはその組成物を一般
に合成樹脂の分野において広く行なわれている射出成形
法、圧縮成形法(スタンピング成形法)、熱成形法(た
とえば、真空成形法、圧空成形法)、中空成形法。
When used as a composition in which a thermoplastic resin is blended with an inorganic filler, the composition ratio of the inorganic filler in the composition is at most 80% by weight, preferably 75% by weight or less, particularly 70% by weight or less. suitable. Even if an attempt is made to produce a composition in which the composition ratio of the inorganic filler exceeds 80% by weight, it is difficult to obtain a uniform composition, and even if a uniform composition is obtained, the following It is not possible to obtain a good product when manufacturing a molded product by injection molding, air pressure molding, etc. (D) Molding method The molded product of the present invention is produced by using the above-mentioned ethylene copolymer (A) and ethylene. A laminate obtained by laminating an uncrosslinked or crosslinked thin material or thin material mainly composed of the copolymer (B) and various substances described below is inserted into a molded product in advance, and the thermoplastic resin is Alternatively, the composition may be processed by injection molding, compression molding (stamping molding), thermoforming (for example, vacuum molding, pressure molding), or blow molding, which are generally widely used in the field of synthetic resins.

ラミネーション成形法のごとき成形法に製造することが
できる。
It can be manufactured by a molding method such as a lamination molding method.

(1)射出成形法 この方法で製造には前記肉薄物または積層物をあらかじ
め射出成形機の金型の雄型および雌型の間にインサート
させ、金型を閉じる。その後、雄型の金型のゲート部よ
り熱可塑性樹脂またはその組成物を金型内に充填させ、
冷却させた後、金型を開くことによって得られる。射出
圧力は使われる射出成形機のシリンダーのノズル部でゲ
ージ圧が100Kg/ c rn”以上であればよ<、
  200〜2000Kg/ c rn’が望ましく、
とりわけ200〜1500Kg/ c m’が好適であ
る。
(1) Injection molding method To manufacture using this method, the thin-walled product or laminate is inserted in advance between the male and female molds of an injection molding machine, and the mold is closed. After that, a thermoplastic resin or its composition is filled into the mold from the gate part of the male mold,
Obtained by opening the mold after cooling. The injection pressure should be 100Kg/crn" or higher at the nozzle of the cylinder of the injection molding machine used.
200-2000Kg/crn' is desirable,
In particular, 200 to 1500 Kg/cm' is suitable.

(2)熟成形法(真空成形法および圧空成形法)真空成
形法で製造するには「後記のように順次積層された少な
くとも肉薄物または肉薄物とその他の物質の成形物およ
び熱可塑性樹脂またはその組成物の成形物とからなる積
層物」 (以下「積層物」と云う)を金属製のわくある
いは爪状で固定させ、加熱装置で加熱させればよい、こ
のさい。
(2) Aged molding method (vacuum forming method and pressure forming method) Manufacturing by vacuum forming method is as follows: At least a thin-walled article or a molded article of a thin-walled article and other materials laminated in sequence as described below, and a thermoplastic resin or In this case, a laminate consisting of a molded product of the composition (hereinafter referred to as ``laminate'') is fixed with a metal frame or nail shape and heated with a heating device.

積層物の垂れは一般型れてから加熱を続けると、これら
を押えているワクの中で張る。この張る現象の見られる
ときが一番積層物の成形のタイミングとしては成形物に
シワや偏肉の発生が少ない良好な加熱状態である。この
とき、積層物のわくを引き出し、金型の上部に置き、金
型側から一気圧よりも以下の減圧下で行なえばよい。
When the sag of the laminate is generally molded and heated, it becomes stretched inside the wafer that holds it down. When this stretching phenomenon is observed, the best timing to mold the laminate is when the molded product is in a good heating state with few wrinkles or uneven thickness. At this time, the frame of the laminate is pulled out, placed on the upper part of the mold, and the process is carried out from the mold side under a reduced pressure of less than one atmosphere.

一方、圧空成形法では、成形しやすくなった積層物を金
型の上部で引き出し、これらの上部から圧空のためのチ
ャンバー(箱)をかぶせ2〜8気圧(望ましくは、3〜
5気圧)の圧力で金型側に押しつけるとともに金型をつ
き上げることによって得られる。
On the other hand, in the pressure forming method, the laminate, which has become easier to mold, is pulled out at the top of the mold, and a chamber (box) for pressurized air is placed over the top of the mold to create a pressure of 2 to 8 atmospheres (preferably 3 to 8 atmospheres).
It is obtained by pressing it against the mold side with a pressure of 5 atm) and lifting the mold.

(3)スタンピング成形法 積層物を立型プレス機に着層された絞り金型に導き、 
5〜80Kg/ c rn” (好ましくは、10〜e
OKg/crn’、好適には、 10〜50Kg/ c
rn’) (7)圧力下で加熱加圧させればよい、加圧
時間は通常10秒以上であり、10〜60秒が一般的で
ある。このさい、第一段で比較的低い圧力(たとえば、
5〜20Kg/crn”)で10〜40秒加圧した後、
第二段で比較的高い圧力(たとえば、40〜50Kg/
 crn’) テ5秒以上加圧させることによって表面
が平滑な成形物を得ることができる。
(3) Stamping molding method The laminate is introduced into a drawing die placed in a vertical press machine,
5-80Kg/crn” (preferably 10-e
OKg/crn', preferably 10-50Kg/c
rn') (7) It is sufficient to heat and pressurize under pressure.The pressurizing time is usually 10 seconds or more, and 10 to 60 seconds is common. At this time, the pressure in the first stage is relatively low (for example,
After applying pressure for 10 to 40 seconds at 5 to 20 Kg/crn”,
Relatively high pressure in the second stage (e.g. 40-50Kg/
A molded product with a smooth surface can be obtained by applying pressure for 5 seconds or more.

(4)その他の成形法 以上の射出成形法、熟成形法、スタンピング成形法の以
外に、一般に行なわれてプレス機を用いて圧縮成形法、
中空成形法がある。これらの成形法は射出成形法と同様
にあらかじめ金型面に前記肉薄物または積層物をインサ
ートさせ、一般に行なわれている方法で熱可塑性樹脂ま
たはその組成物ヲ成形させることによって一体成形物を
得ることができる。さらに、ラミネート成形法について
は前記肉薄物または積層物上にドライラミネーション法
、ホットラミネーション法、押出ラミネーション法など
の方法によって熱可塑性樹脂またはその組成物を積層さ
せ、一体化させることによって得ることができる。
(4) Other molding methods In addition to injection molding, aging molding, and stamping molding, compression molding using a press machine,
There is a hollow molding method. In these molding methods, similar to the injection molding method, the thin material or laminate is inserted into the mold surface in advance, and a thermoplastic resin or its composition is molded using a commonly used method to obtain an integrally molded product. be able to. Furthermore, regarding the laminate molding method, it can be obtained by laminating and integrating a thermoplastic resin or its composition on the thin object or laminate by a method such as a dry lamination method, hot lamination method, or extrusion lamination method. .

本発明のプリント基板を有する成形物を製造するにあた
り、射出成形法およびスタンピング成形法が望ましく、
とりわけ射出成形法が容易に成形物を製造することがで
きることおよび複雑な形状の成形物を製造することがで
きることの理由によって好適である。
In producing a molded article having a printed circuit board of the present invention, injection molding method and stamping molding method are preferable.
Injection molding is particularly preferred because molded products can be easily produced and molded products with complex shapes can be produced.

(E)導電性金属層 本発明の導電性金属層を得る方法としては後記の金属の
箔を使用する方法、金属を蒸着させる方法、無電解メッ
キさせる方法および無電解メッキと電解メッキ法とを併
用させる方法があげられる。
(E) Conductive Metal Layer Methods for obtaining the conductive metal layer of the present invention include a method using a metal foil, a method of depositing metal, a method of electroless plating, and an electroless plating method and an electrolytic plating method as described below. One method is to use them together.

(1)金属の種類 金属としては、アルミニウム、金、銀、鉄、銅、ニッケ
ルおよび白金のごとき金属ならびにこれらを主成分とす
る(50重量%以上)合金(たとえば、スレンレス鋼)
があげられる。
(1) Types of metals Metals include metals such as aluminum, gold, silver, iron, copper, nickel, and platinum, and alloys containing these as main components (50% by weight or more) (for example, stainless steel)
can be given.

(2)箔 この金属箔の厚さは通常5〜500 ミクロンであり、
10〜300 ミクロンのものが望ましく、とりわけ1
5〜100ミクロンが好適である。前記金属のうち、厚
さが15〜50ミクロンの電解銅箔が好んで使用される
(2) Foil The thickness of this metal foil is usually 5 to 500 microns,
10 to 300 microns is preferable, especially 1
5 to 100 microns is preferred. Among the metals, electrolytic copper foil with a thickness of 15 to 50 microns is preferably used.

(3)蒸着 金属を蒸着させる方法としては、一般に用いられている
抵抗加熱、電子線加熱、誘導加熱または熱放射加熱など
の真空加熱蒸着あるいはスパッタリングなどが適用でき
る。特に微細回路用としては、白金、金がよく用いられ
薄膜形成後、エツチングによる回路を形成する場合には
、銅、およびアルミニウムならびにこれらを主成分とす
る合金が好んで使用される。
(3) Vapor deposition As a method for vapor depositing the metal, commonly used vacuum heating vapor deposition such as resistance heating, electron beam heating, induction heating, or thermal radiation heating, or sputtering can be applied. Particularly for fine circuits, platinum and gold are often used, and when forming a circuit by etching after forming a thin film, copper, aluminum, and alloys containing these as main components are preferably used.

蒸着された導体薄膜の厚さは用いられる装置の条件によ
って自由に選択することができるが、通常100! (
オングストローム)ないし100ミクロンであり、とり
わけ1000.jないし20ミクロンが望ましい。
The thickness of the deposited conductive thin film can be freely selected depending on the conditions of the equipment used, but is usually 100! (
angstrom) to 100 microns, especially 1000. 20 microns is preferred.

さらに、これらの蒸着の導通面(路)に銅、ニッケル、
金などの金属を電気メッキをほどこして表面保護、腐食
防止を行なったり、また半田浴を通して導通路の上に半
田をのせることも可能である。
Furthermore, copper, nickel,
It is also possible to electroplate a metal such as gold to protect the surface and prevent corrosion, or to apply solder on the conductive path through a solder bath.

本発明において実施される蒸着によって前記の前記金属
または合金の板およびセラミックス層の表面およびスル
ホール穴の内面に蒸着により、回路を形成するいわゆる
フル・アディティブ法も可能である。
A so-called full additive method is also possible in which a circuit is formed by vapor deposition carried out in the present invention on the surfaces of the metal or alloy plate and ceramic layer and on the inner surfaces of the through holes.

その他、特願昭130−99139号明細書に詳細に記
載されている無電解メッキ法または無電解メッキ法と電
解メッキ法とを併用して導電性金属層を製造することが
できる。
In addition, the conductive metal layer can be manufactured using an electroless plating method or a combination of an electroless plating method and an electrolytic plating method as described in detail in Japanese Patent Application No. 130-99139.

(F)プリント基板 本発明において用いられるプリント基板は以上のように
して得られた肉薄物と導電性金属層とからなるものでも
よいが、これらと後記の他の物質とからなるものでもよ
い。
(F) Printed board The printed board used in the present invention may be made of the thin material obtained as described above and a conductive metal layer, but may also be made of these and other substances described below.

(1)他の物質 他の物質としては前記導電性金属層の金属または合金の
板、ガラスのFam布または不繊布およびポリアミドイ
ミド、ポリイミドおよびポリエステルのごとき耐熱性熱
可塑性樹脂のフィルムがあげられる。金属または合金の
厚さは通常0o02ないし3.01であり、特に0.1
〜2.0 mmのものが好ましい。また、ガラスの繊維
布または不繊布の厚さは5ミクロンないし5mmであり
、とりわけ20ミクロンないし 1.hmのものが望ま
しい。さらに、耐熱    ゛性態可塑性樹脂のフィル
ムの厚さは3ミクロンないし 1.0mmであり、特に
10ミクロンないし200ミクロンのものが好ましい。
(1) Other substances Other substances include metal or alloy plates of the conductive metal layer, glass Fam cloth or nonwoven fabric, and films of heat-resistant thermoplastic resins such as polyamide-imide, polyimide, and polyester. The thickness of the metal or alloy is usually between 0.02 and 3.01, especially 0.1
~2.0 mm is preferred. The thickness of the glass fiber cloth or non-woven cloth is 5 microns to 5 mm, especially 20 microns to 1. hm is desirable. Further, the thickness of the film of the heat-resistant plastic resin is 3 microns to 1.0 mm, preferably 10 microns to 200 microns.

(2)プリント基板の製造 本発明のプリント基板は、前記の肉薄物を後記のように
加熱・加圧処理させ、得られる架橋物の片面に前記の「
蒸着、無電解メッキ法また無電解、メッキ法と電解メッ
キ法とを併用させる方法のうちのいずれかの方法」 〔
以下r方法(A)」と云う〕によって導電性金属層とを
設けてもよく、金属箔と肉薄物とを加熱・加圧処理させ
てもよい。
(2) Manufacture of printed circuit board The printed circuit board of the present invention is produced by heating and pressurizing the above-mentioned thin material as described below, and applying the above-mentioned "
Vapor deposition, electroless plating method, or a combination of electroless plating method and electrolytic plating method"
The conductive metal layer may be provided by a method (hereinafter referred to as "Method (A)"), or the metal foil and the thin material may be subjected to heat and pressure treatment.

また、肉薄物の片面または両面に少なくとも一種の他の
物質を置き、これらを加熱・加圧処理させ、得られる架
橋物の片面に方法(A)によって導電性金属層を設けて
もよく、肉薄物の片面に金属箔を他の面に他の物質もし
くは肉薄物の片面に金属箔と他の物質(金属箔が表面に
なるように)を他の面に他の物質を置き、加熱・加圧処
理させてもよい。
Alternatively, at least one other substance may be placed on one or both sides of the thin-walled object, and these materials may be heated and pressurized, and a conductive metal layer may be provided on one side of the resulting crosslinked object by method (A). Place a metal foil on one side of an object and another substance on the other side, or place a metal foil and another substance on one side of a thin object (with the metal foil on the surface), and place another substance on the other side and heat/process it. Pressure treatment may also be applied.

(3)加熱・加圧処理 前記のようにして得られる肉薄物は架橋がほとんど進行
していないために通常の肉薄物と同一の挙動を示す。該
肉薄物に耐熱性を付与するために100〜400℃の範
囲で加熱・加圧させることが重要である。加熱温度が1
00〜160℃の範囲では10〜20分、 1[io 
〜240℃の範囲では0.5〜10分、240〜400
°Cの範囲では0.1〜5分加熱・加圧させることによ
って前記の樹脂内で架橋反応(縮合反応)が起り、接着
性および耐熱性が著しく向上する。加圧条件としては、
一般には0.1Kg/cm’(ゲージ圧)以上であり、
 1〜100 Kg/ c m’が望ましく、とりわけ
2〜20Kg/ c m’が好適である。
(3) Heat/pressure treatment The thin-walled product obtained as described above exhibits the same behavior as a normal thin-walled product because crosslinking has hardly progressed. In order to impart heat resistance to the thin-walled product, it is important to heat and pressurize it in the range of 100 to 400°C. Heating temperature is 1
10 to 20 minutes in the range of 00 to 160℃, 1 [io
0.5-10 minutes in the range of ~240℃, 240-400℃
In the range of °C, by heating and pressurizing for 0.1 to 5 minutes, a crosslinking reaction (condensation reaction) occurs within the resin, and the adhesiveness and heat resistance are significantly improved. As for the pressurizing conditions,
Generally it is 0.1Kg/cm' (gauge pressure) or more,
1 to 100 Kg/cm' is desirable, particularly 2 to 20 Kg/cm'.

さらに均一な接着を得るために特に真空減圧下で微荷重
で加圧する方法もとられる。
Furthermore, in order to obtain uniform adhesion, a method of applying pressure with a slight load under vacuum and reduced pressure is also used.

本発明によって得られる肉薄物は100℃以上の温度で
熱圧着性(接着性)を示すために架橋処理と同時に金属
層と接着を行なうことによって本発明の効果が一層広が
る。すなわち、エチレン系共重合体(A)とエチレン系
共重合体(B)との混合物が250℃以下の温度で熱可
塑性を示すが、該混合物を loGI°C以上に加熱・
加圧処理させることによって架橋反応され、同時に接着
性を示す。
Since the thin-walled article obtained by the present invention exhibits thermocompression adhesion (adhesiveness) at a temperature of 100° C. or higher, the effects of the present invention are further enhanced by performing the crosslinking treatment and adhesion to the metal layer simultaneously. That is, a mixture of ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B) exhibits thermoplasticity at a temperature of 250°C or lower, but if the mixture is heated to a temperature of loGI°C or higher,
Pressure treatment causes a crosslinking reaction, and at the same time exhibits adhesive properties.

金属箔または他の物質と肉薄物との間に空気などを巻き
込む場合は熱プレス、熱ロールなどを使って熱圧着する
必要がある。加熱温度が300℃以下でも充分な接着性
を有するものが得られるが、耐熱性を必要とする場合で
は、出来る限り高い温度(通常、200〜300℃)に
おいて圧着させることが好ましい。
When air is involved between a metal foil or other material and a thin object, it is necessary to use a hot press, hot roll, etc. to bond the thin material. Even if the heating temperature is 300°C or lower, a product with sufficient adhesiveness can be obtained, but if heat resistance is required, it is preferable to press the adhesive at as high a temperature as possible (usually 200 to 300°C).

このようにして加熱・加圧された肉薄物の抽出残香は通
常少なくとも60%であり、とりわけ70%以上のもの
が望ましく、殊に75%以下が好適である。
The extracted residual aroma of the thin-walled product heated and pressurized in this manner is usually at least 60%, preferably 70% or more, and particularly preferably 75% or less.

(G)プリント基板を有する成形物 本発明のプリント基板を有する成形物を製造するには、
以上のようにして得られるプリント基板に熱可塑性樹脂
またはその組成物を前記の成形法によって製造すること
ができる。また、肉薄物または肉薄物と少なくとも一種
の他の物質に熱可塑性樹脂またはその組成物を成形させ
、得られる成形物の肉薄物または他の物質表面にインサ
ート成形またはその他の方法によって導電性金属層を設
けることによって製造することができる。
(G) Molded article having a printed circuit board To manufacture a molded article having a printed circuit board of the present invention,
A thermoplastic resin or a composition thereof can be produced on the printed circuit board obtained as described above by the above-described molding method. Alternatively, a thermoplastic resin or its composition may be molded onto a thin object or a thin object and at least one other substance, and a conductive metal layer may be formed on the surface of the thin object or other material of the resulting molded object by insert molding or other methods. It can be manufactured by providing

本発明によって得られる代表的なプリント基板を有する
成形物を図面の簡単な説明する。
A molded product having a typical printed circuit board obtained according to the present invention will be briefly described with reference to the drawings.

代表的なプリント基板を有する成形物の断面を第1図に
示す、また、第1図に断面図として示されているプリン
ト基板を有する成形物のうち1代表例として熱可塑性樹
脂またはその組成物1、肉薄物4および導電性金属層3
またはそれらと他の物質(耐熱性フィルム5、ガラス繊
維布または不縁布6)が積層している場合の部分拡大断
面を第1−1図ないし第1−6図に示す。
A cross section of a molded product having a typical printed circuit board is shown in FIG. 1. Thin material 4 and conductive metal layer 3
1-1 to 1-6 show partially enlarged cross-sections in the case where these and other materials (heat-resistant film 5, glass fiber cloth, or non-woven cloth 6) are laminated.

第1−1図は熱可塑性樹脂またはその組成物の暦(以下
「樹脂層」と云う)lと導電性金属層3との間に肉薄物
4が介在している場合であり、第1−2図は樹脂層1に
肉薄物4.耐熱性フィルム5、肉薄物4および導電性金
属層3とが順次積層している場合であり、第1−3図は
樹脂層lに肉薄物4、ガラス繊維布または不繊布6、肉
薄物4および導電性金属層3が順次積層している場合で
ある。また第1−4図ないし第1−8図は、成形物を製
造する前にエツチングなどによって導電性金属層3とし
て回路形成後でこれらの成形物を前記成形法で製造した
場合、あるいは肉薄物4または肉薄物と少なくとも一種
の他の物質に樹脂層lを成形法で成形物を製造した後で
エツチングなどで回路を形成させた場合によって得られ
るプリント基板を有する成形物の部分拡大断面図である
FIG. 1-1 shows a case where a thin material 4 is interposed between a thermoplastic resin or its composition (hereinafter referred to as "resin layer") l and a conductive metal layer 3. Figure 2 shows a resin layer 1 with a thin material 4. This is a case in which a heat-resistant film 5, a thin material 4, and a conductive metal layer 3 are laminated in sequence, and in FIG. and a case where the conductive metal layers 3 are sequentially laminated. Figures 1-4 to 1-8 show cases in which the conductive metal layer 3 is formed by etching or the like before manufacturing the molded product, and a circuit is formed after the molded product is manufactured by the above-mentioned molding method, or when the molded product is manufactured using the above-mentioned molding method. 4 or a partially enlarged cross-sectional view of a molded product having a printed circuit board obtained by manufacturing a molded product using a molding method in which a resin layer l is applied to a thin material and at least one other substance, and then forming a circuit by etching or the like. be.

これらの図面は前記第1−1図ないし第1−3図のごと
く、樹脂層lと導電性金属層3の間に肉薄物4が介在し
ている場合を第1−4図に、両肉薄物4の間に耐熱性フ
ィルム5またはガラス繊維布または不縁布6を介在した
場合についてそれぞれ第1−5図および第1−6図に示
す。
These drawings are as shown in FIGS. 1-1 to 1-3 above, in which a thin material 4 is interposed between the resin layer l and the conductive metal layer 3, and FIG. A case in which a heat-resistant film 5, glass fiber cloth, or unlined cloth 6 is interposed between the objects 4 is shown in FIGS. 1-5 and 1-6, respectively.

さらに、あらかじめプリント基板に回路を形成させ、こ
のプリント基板と熱可塑性樹脂またはその組成物とを成
形させて得られる成形物あるいは回路が形成されていな
い(導電性金属層を有さない)プリント基板と樹脂層と
を成形させて得られる成形物にメッキなどで回路を形成
させて得られる成形物の断面を第1図に示す。また第1
図に断面図として示されているプリント基板を有する成
形物の部分拡大断面を第1−4図および第1−5図に示
す。
Furthermore, a molded product obtained by forming a circuit on a printed circuit board in advance and molding this printed circuit board with a thermoplastic resin or its composition, or a printed circuit board on which a circuit is not formed (not having a conductive metal layer) FIG. 1 shows a cross section of a molded product obtained by forming a circuit by plating or the like on the molded product obtained by molding the resin layer and the resin layer. Also the first
FIGS. 1-4 and 1-5 show partially enlarged cross-sections of a molded product having a printed circuit board shown as a cross-sectional view in the figures.

また、回路をあらかじめ成形した後で積層させる方法で
は、以下に示されるような各種の立体的な回路形成も可
能である。
In addition, by forming the circuit in advance and then laminating it, it is also possible to form various three-dimensional circuits as shown below.

第2−1図は回路面3と樹脂層1とが接触している場合
である(肉薄物4の一部は回路と樹脂層のそれぞれの一
部が接触している)、第2−2図および第2−3図はそ
れぞれスルーホールを有する積層された回路(プリント
基板)をあらかじめ形成し、このプリント基板と樹脂層
lとが積層された場合である。第2−4図は樹脂層lの
両面に肉薄物4が積層され、それらの間をスルーホール
にて結ばれた場合である。この場合では、成形物の表と
裏の両面に回路を有し、しかもスルーホールによって一
体化された回路を形成することも可能である。
Fig. 2-1 shows the case where the circuit surface 3 and the resin layer 1 are in contact (a part of the thin material 4 is in contact with a part of the circuit and the resin layer), Fig. 2-2 Figures 2 and 2-3 show the case where a laminated circuit (printed circuit board) having through holes is formed in advance, and this printed circuit board and the resin layer 1 are laminated. 2-4 shows a case where thin materials 4 are laminated on both sides of the resin layer 1, and a through hole is connected between them. In this case, it is also possible to have circuits on both the front and back sides of the molded product, and to form integrated circuits using through holes.

また、第1−4図に示されるごとく、成形物の内面に肉
薄物4を置き、アディティブ法などによって回路部分の
みに導電層を形成させる方法も採用することができる。
Alternatively, as shown in FIGS. 1-4, a method may be adopted in which a thin material 4 is placed on the inner surface of the molded product and a conductive layer is formed only on the circuit portion by an additive method or the like.

以上の図面において、lは樹脂層(熱可塑性樹脂または
その組成物の層)であり、2はプリント基板である。ま
た、3は導電性金属層(金属箔、スパーター、蒸着、メ
ッキなどによる金属層)であり、4はエチレン系重合体
(A)とエチレン系重合体CB)との混合物より製造さ
れた肉薄物の層である。さらに、5は耐熱性フィルムで
あり、6はガラス布、ガラスマット、ガラス繊維などの
ガラス繊維布または不繊布である。
In the above drawings, l is a resin layer (layer of thermoplastic resin or its composition), and 2 is a printed circuit board. Further, 3 is a conductive metal layer (a metal layer formed by metal foil, sparter, vapor deposition, plating, etc.), and 4 is a thin material manufactured from a mixture of ethylene polymer (A) and ethylene polymer CB). This is the layer of Further, 5 is a heat-resistant film, and 6 is a glass fiber cloth or nonwoven fabric such as glass cloth, glass mat, or glass fiber.

び 以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
The present invention will now be explained in more detail with reference to Examples.

なお、実施例および比較例において、剥離強度はJIS
  C−8481に準拠して導電性金属層(銅箔なと)
を3mm残し、残りをエツチングでおとし、導電性金属
層を80度剥離させた(引張速度 50sv/分)時の
剥離強度を測定して求めた。
In addition, in the examples and comparative examples, the peel strength is JIS
Conductive metal layer (copper foil) in accordance with C-8481
The conductive metal layer was peeled off at 80 degrees (pulling speed: 50 sv/min), and the peel strength was measured.

なお、実施例および比較例において使って熱可塑性樹脂
、無機充填剤、エチレン系共重合体(A)とエチレン系
共重合体(B)との混合物を下記に示す。
The thermoplastic resin, inorganic filler, and mixture of ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B) used in Examples and Comparative Examples are shown below.

〔(A)熱可塑性樹脂〕[(A) Thermoplastic resin]

熱可塑性樹脂として、下記の熱可塑性樹脂を使った。 The following thermoplastic resin was used as the thermoplastic resin.

(1)オレフィン系重合体 オレフィン系重合体として、MFIが2.0g/10分
であるプロピレン単独重合体〔以下rPP(A) Jと
云う) 、 MFIが15 g / 10分であるプロ
ピレン−エチレンブロック共重合体〔エチレン含有率 
15重量%、以下rPP(B) Jと云う〕を用いた。
(1) Olefin polymers As olefin polymers, propylene homopolymer with an MFI of 2.0 g/10 minutes (hereinafter referred to as rPP(A) J), propylene-ethylene with an MFI of 15 g/10 minutes Block copolymer [ethylene content
15% by weight, hereinafter referred to as rPP(B)J] was used.

(1)ポリカーボネート樹脂 ポリカーボネート樹脂として、ビスフェノールAを主原
料として製造された中密度ポリカーボネート樹脂(v、
度1.2/crn’、MFI  4.5/ 10分、以
下r PCJ と云う)を使用した。
(1) Polycarbonate resin Medium density polycarbonate resin (v,
1.2/crn', MFI 4.5/10 minutes, hereinafter referred to as rPCJ).

(3)アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン三元共
重合樹脂(ABS樹脂) アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン三元共重合樹
脂として、特開昭58−134144号の実施例および
比較例において使用したABS樹脂(以下rABsJ 
と云う)を用いた。
(3) Acrylonitrile-butadiene-styrene ternary copolymer resin (ABS resin) As the acrylonitrile-butadiene-styrene ternary copolymer resin, the ABS resin (hereinafter rABsJ
) was used.

(0アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン
三元共重合樹脂(ACB) アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン三元
共重合樹脂として、特開昭58−191751号の実施
例および比較例において用いたACS(1)と同様にグ
ラフト物(以下rAcsJと云う)を製造し、このAC
’Jに特開昭58−191751号と同様にジブチルマ
レート系安定剤を混合させて使った。
(Acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene ternary copolymer resin (ACB)) As the acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene terpolymer resin, ACS (1 ), a grafted product (hereinafter referred to as rAcsJ) was produced in the same manner as
'J was mixed with a dibutylmalate stabilizer as in JP-A-58-191751.

また、同58−191751号の実施例において使った
混合物(2)と同様に塩素化ポリエチレン、アクリロニ
トリル−スチレン共重合樹脂および安定剤を混合し、得
られた混合物を使用した。
Further, in the same manner as the mixture (2) used in the Example of No. 58-191751, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-styrene copolymer resin, and a stabilizer were mixed, and the resulting mixture was used.

(5)芳香族ポリエステル 芳香族ポリエステルとして、極限粘度が0.65である
ポリエチレンテレフタレート(以下rPETJと云う)
および極限粘度が0.85であるポリブチレンテレフタ
レート(以下rPBT Jと云う)を使った。
(5) Aromatic polyester As an aromatic polyester, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as rPETJ) has an intrinsic viscosity of 0.65.
and polybutylene terephthalate (hereinafter referred to as rPBT J) having an intrinsic viscosity of 0.85.

(8)変性ppo(グラフト物) 変性PPOとして、下記のように製造したものを用いた
(8) Modified PPO (grafted product) Modified PPO produced as follows was used.

まず、2,6−キシレノールを酸化カップリング法によ
って重縮合し、ポリ2,8−ジメチルフェニレン−1,
4−エーテル〔固有粘度(30℃、クロロホルム中で測
定、単位dfL/g)  0.53、以下rPPOJと
云う)を製造した。100重量部のPPOに25重量部
のスチレン単量体、10重量部のスチレン単独重合体〔
メルトフローインデックス(JIS  K−7210に
したがい、温度が2.18Kgおよび荷重が10Kgの
条件で測定)が13.0g710分〕および2.1重量
部のジー第三級−ブチルパーオキサイドをヘンシェルミ
キサーを使って10分間混合した後、二軸押出機(径 
30a+o、樹脂温度 270℃)を用いてスチレング
ラフ) PPO混合物〔以下「変性PPOJと云う〕を
製造した。
First, 2,6-xylenol was polycondensed by an oxidative coupling method, and poly-2,8-dimethylphenylene-1,
4-ether [intrinsic viscosity (measured in chloroform at 30°C, unit dfL/g) 0.53, hereinafter referred to as rPPOJ] was produced. 100 parts by weight of PPO, 25 parts by weight of styrene monomer, 10 parts by weight of styrene homopolymer [
Melt flow index (according to JIS K-7210, measured under conditions of temperature 2.18 kg and load 10 kg) of 13.0 g 710 minutes] and 2.1 parts by weight of di-tertiary-butyl peroxide were mixed in a Henschel mixer. After mixing for 10 minutes using a twin screw extruder (dia.
A styrene graph) PPO mixture (hereinafter referred to as "modified PPOJ") was produced using a styrene graph (30a+o, resin temperature 270°C).

〔(B)無機充填剤〕[(B) Inorganic filler]

無機充填剤として、平均粒径が3ミクロンであるタルク
(アスペクト比 約7)、平均粒径が3ミクロンである
マイカ(スペクト比 約8)グラスファイバー(単la
m径 11ミクロン、カット長 3 mm、以下rGF
Jと云う)および平均粒径が0.8ミクロンである炭酸
カルシウム(以下r’cacO3J と云う)を用いた
As inorganic fillers, talc with an average particle size of 3 microns (aspect ratio of about 7), mica with an average particle size of 3 microns (aspect ratio of about 8), glass fiber (single la
m diameter 11 microns, cut length 3 mm, hereinafter referred to as rGF
J) and calcium carbonate (hereinafter referred to as r'cacO3J) having an average particle size of 0.8 microns were used.

〔(C)エチレン系共重合体の混合物〕エチレン系共重
合体(A)とエチレン系共重合体(B)トノ混合物トシ
テ)1.1.が30G g 710分テアルエチレンー
アクリル酸共重合体(密度 0.954 g/cm”、
アクリル酸共重合割合 20重量%、以下rEAA J
と云う)と酢酸ビニル共重合割合が28重量%であるエ
チレン−酢酸ビニル共重合体をけん化させることによっ
て得られるけん化物(けん化度 97.5%、M、1.
 75g/10分、密度  0.951 g/、cm”
、以下「けん化物」と云う)とからなる混合物〔混合割
合 50 : 50 (重量比〕、以下「混合物(1)
」と云う〕、に、■、が200 g / 10分である
エチレン−メタクリル酸共重合体(密度 0.950g
 / c m″、メタクリル酸共重合割合 25重量%
)と上記けん化度との混合物〔混合割合 50:50(
重量比)、以下「混合物(■)」と云う〕。
[(C) Mixture of ethylene copolymer] Mixture of ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B) 1.1. is 30G g 710 minutes Theal ethylene-acrylic acid copolymer (density 0.954 g/cm",
Acrylic acid copolymerization ratio 20% by weight, hereinafter referred to as rEAA J
) and an ethylene-vinyl acetate copolymer with a vinyl acetate copolymerization ratio of 28% by weight (saponification degree 97.5%, M, 1.
75g/10min, density 0.951g/, cm”
, hereinafter referred to as "saponified material") [mixing ratio 50:50 (weight ratio)], hereinafter referred to as "mixture (1)"
], 2, 200 g/10 minutes (density 0.950 g)
/ cm'', methacrylic acid copolymerization ratio 25% by weight
) and the above saponification degree [mixing ratio 50:50 (
weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (■)"].

に、■、が212 g / 10分であるエチレン−エ
チルアクリレート−無水マレイン酸の三元共重合体(エ
チルアクリレート共重合割合 30.7重量%、無水マ
レイン酸共重合・割合 1.7重量%)とに、■、が 
123g/10分であるエチレン−メチルメタクリレー
ト−ヒドロキシメタフレレートの三元共重合体(メチル
メタクリレートの共重合割合 20.7重量%。
A ternary copolymer of ethylene-ethyl acrylate-maleic anhydride (ethyl acrylate copolymerization ratio: 30.7% by weight, maleic anhydride copolymerization ratio: 1.7% by weight) with ) toni,■,ga
A terpolymer of ethylene-methyl methacrylate-hydroxy methacrylate (copolymerization ratio of methyl methacrylate 20.7% by weight) with a yield of 123 g/10 minutes.

ヒドロキシメタクリレートの共重合割合 11.7重量
%)との混合物(混合割合 50 : 50 (重量比
)、以下「混合物(m)Jと云う〕ならびにM、1.が
 105g/10分であるエチレン−メチルメタクリレ
ート−無水マレイン酸の三元共重合体(メチルメタクリ
レートの共重合割合 20.5重量%、無水マレイン酸
の共重合割合 3.1重量%)とエチレン−メチルメタ
クリレート−グリシジルメタクリレートの三元共重合体
(メチルメタクリレートの共重合割合 18.6重量%
、グリシジルメタクリレートの共重合割合 12.7重
量%)との混合物〔混合割合 30 : 7G (重量
比)、以下「混合物(■)」と云う〕を使用した。なお
、これらの混合物はそれぞれの共重合体または三元共重
合体をヘンシェルミキサーを使って5分間トライブレン
ドさせることによって製造した・ 前記のようにして得られた混合物(I)ないしくIV)
ならびにEAAおよびけん化物をそれぞれTダイを備え
た押出機(径 40III11、ダイス幅 30cm、
回転数 85@転/分)を用いて第1表にシリンダ一温
度が示される条件で厚さが100ミクロンのフィルムを
成形した。得られたフィルムの前記抽出残香の測定を行
なった。いずれの場合も0%であった。
A mixture of hydroxy methacrylate (copolymerization ratio 11.7% by weight) (mixing ratio 50:50 (weight ratio), hereinafter referred to as "Mixture (m) J") and ethylene in which M, 1. is 105 g/10 min. Ternary copolymer of methyl methacrylate-maleic anhydride (copolymerization ratio of methyl methacrylate: 20.5% by weight, copolymerization ratio of maleic anhydride: 3.1% by weight) and ternary copolymer of ethylene-methylmethacrylate-glycidyl methacrylate Polymer (copolymerization ratio of methyl methacrylate: 18.6% by weight)
, glycidyl methacrylate (copolymerization ratio: 12.7% by weight) [mixing ratio: 30:7G (weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (■)"] was used. These mixtures were manufactured by tri-blending the respective copolymers or terpolymers for 5 minutes using a Henschel mixer. Mixtures (I) or IV) obtained as described above.
and an extruder equipped with a T-die (diameter 40III11, die width 30cm,
A film having a thickness of 100 microns was formed using a rotational speed of 85 rotations/min under the conditions where the cylinder temperature is shown in Table 1. The extracted residual aroma of the obtained film was measured. In both cases, it was 0%.

第  1  表 実施例 1−14、比較例 l、2 このようにして得られた各フィルムを250℃および3
00℃でそれぞれ10分間熱プレス機を使ってそれぞれ
20Kg/am″(ゲージ圧)の加圧下で電解銅箔(厚
さ 35ミクロン)と積層してプリント基板を製造した
Table 1 Examples 1-14, Comparative Examples 1 and 2 Each film thus obtained was heated at 250°C and
Printed circuit boards were manufactured by laminating them with electrolytic copper foil (thickness: 35 microns) under pressure of 20 Kg/am'' (gauge pressure) using a heat press machine at 00° C. for 10 minutes each.

このようにして得られた各プリント基板を射出成形機(
型締力 200トン)の金型の雄型面にプリント基板の
電解銅箔が接触するように挿入した。型を閉じた後、射
出圧力が90Kg/crn’および樹脂温度が第1表に
示される条件で第2表に種類が示される熱可塑性樹脂(
ただし、実施例12では、30重量%の前記タルクを含
有するABS 、実施例13では、30重量%の前記G
Fを含有するABS 。
Each printed circuit board obtained in this way was put into an injection molding machine (
The electrolytic copper foil of the printed circuit board was inserted so as to be in contact with the male mold surface of the mold (clamping force: 200 tons). After closing the mold, the injection pressure is 90 Kg/crn' and the resin temperature is as shown in Table 1, and the thermoplastic resin (type shown in Table 2) is
However, in Example 12, ABS containing 30% by weight of the talc, and in Example 13, 30% by weight of the G
ABS containing F.

実施例14では、30重量%のCaC03を含有するA
BS )をインサート射出成形を行ない、厚さが2mm
、幅が2.5cm、横が4cmおよび縦が10cmの形
状を有する電話機の受話器の把持部を製造した。
In Example 14, A containing 30% by weight of CaC03
BS) was insert injection molded to a thickness of 2mm.
A grip for a telephone receiver having a shape of 2.5 cm in width, 4 cm in width and 10 cm in length was manufactured.

(以下余白) 第2表 実施例 15〜19 前記の電解銅箔と400g/m″の平織ガラスクロス(
実施例15)または400g/m″のチップラントマッ
ト(実施例16)との間にそれぞれ厚さが75ミクロン
を介在して前記と同じ条件でプリント基板を製造した。
(Margins below) Table 2 Examples 15 to 19 The electrolytic copper foil and 400 g/m'' plain-woven glass cloth (
A printed circuit board was manufactured under the same conditions as described above, with a thickness of 75 microns interposed between each of Example 15) or 400 g/m'' chiplant mat (Example 16).

前記の電解銅箔、厚さが50ミクロンの混合物(ff)
のフィルム、厚さが25ミクロンのポリイミドのフィル
ムおよび厚さが50ミクロンの混合物(rV)のフィル
ムの順序に積層されたプリント基板を前記と同じ条件で
製造した(実施例17)、実施例17において使ったポ
リイミドのフィルムのかわりに厚さが25ミクロンのポ
リエステル(米デュポン社製、商品名 マイラー)を用
いたほかは、実施例17と同様にプリント基板を製造し
た(実施例18)、厚さが17ミクロンの電解鋼箔、厚
さが25ミクロンの混合物CI)のフィルム、厚さが2
5ミクロンのポリイミドフィルムおよび厚さが25ミク
ロンの混合物(I)のフィルムの順序に積層されたプリ
ント基板を前記と同じ条件で製造した(実施例19)。
Mixture of the electrolytic copper foil described above, thickness 50 microns (ff)
A printed circuit board was manufactured under the same conditions as described above (Example 17), in which a film of polyimide with a thickness of 25 microns and a film of the mixture (rV) with a thickness of 50 microns were laminated in this order (Example 17). A printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 17 (Example 18), except that a 25 micron thick polyester (trade name: Mylar, manufactured by DuPont, USA) was used instead of the polyimide film used in Example 18. Electrolytic steel foil with a thickness of 17 microns, a film of mixture CI) with a thickness of 25 microns, a thickness of 2
A printed circuit board having a polyimide film of 5 microns and a film of mixture (I) having a thickness of 25 microns laminated in this order was manufactured under the same conditions as described above (Example 19).

このようにして得られたプリント基板を第3表に示され
る樹脂温度で第3表に種類が示される熱可塑製樹脂を前
記と同様にインサート射出成形を行ない、前記と同じ形
状を宥する電話機の受話器の把持部を製造した。
The thus obtained printed circuit board is subjected to insert injection molding in the same manner as above using thermoplastic resin whose type is shown in Table 3 at the resin temperature shown in Table 3, and a telephone having the same shape as above is manufactured. manufactured the grip part for the handset.

第  3  表 実施g420.21.比較例 3 厚さが100ミクロンである混合物(m)のフィルムに
スクリーン印刷機を用いて回路以外のところにマスキン
グを施した。
Table 3 Implementation g420.21. Comparative Example 3 A film of the mixture (m) having a thickness of 100 microns was masked in areas other than the circuit using a screen printer.

得られたフィルムを11の水溶液中に下記の組成の化学
メッキ液で72℃でメッキを行ない、シートの両面に約
20ミクロンの銅メッキ膜を得た。
The obtained film was plated at 72° C. with a chemical plating solution having the following composition in an aqueous solution of No. 11 to obtain a copper plating film of about 20 microns on both sides of the sheet.

Cu5O/ 5H2010g EDTA・2Na  ・2H20。30gHCHO(3
8%)        3m文NaOH12g メッキ終了後、上記マスキングを洗い落し、水洗し、乾
燥を行なった(実施例20)。
Cu5O/ 5H2010g EDTA・2Na・2H20.30gHCHO(3
8%) 3m NaOH 12g After plating was completed, the masking was washed off, washed with water, and dried (Example 20).

厚さがそれぞれ100ミクロンである混合物(■)(実
施例21)またはEAA  (比較例3)のフィルムの
表面を真空蒸着装置(日本電子社製、商品名 JEE−
4X型)を使って2X 10’ )−ル中で白金を蒸着
させ、厚さが5000スの金属膜を得た。
The surface of the mixture (■) (Example 21) or EAA (Comparative Example 3) film, each having a thickness of 100 microns, was coated with a vacuum evaporation device (manufactured by JEOL Ltd., trade name JEE-).
Platinum was deposited using a 4X model in a 2X 10'-hole to obtain a metal film with a thickness of 5000 mm.

以上のようにして得られた銅メッキまたは白金蒸着され
た各フィルムに前記と同様に230℃の樹脂温度でAB
S 132重量部とヘキサンクロロシクロペンタジェン
の二量体25重量部および13重量部の三酸化アンチモ
ン(平均粒径 1.0ミクロン)とをヘンシェルミキサ
ーを使って5分間トライブレンドし、得られた混合物を
溶融混練させて得られる8合物(ペレット)をインサー
ト射出成形させ、前記と同じ形状を有する電話機の受話
器の把持部を製造した。
The copper-plated or platinum-deposited films obtained in the above manner were treated with AB at a resin temperature of 230°C in the same manner as described above.
132 parts by weight of S, 25 parts by weight of hexanechlorocyclopentadiene dimer and 13 parts by weight of antimony trioxide (average particle size 1.0 microns) were triblended for 5 minutes using a Henschel mixer. The 8 compound (pellet) obtained by melt-kneading the mixture was subjected to insert injection molding to produce a grip part for a telephone receiver having the same shape as above.

実施例 22 あらかじめ厚さが100ミクロンの混合物(m)のフィ
ルムに230℃の樹脂温度でABSを射出成形させて第
1−1図に部分拡大断面図が示されている厚さが2mm
、幅が3CI、縦が5cmおよび横が8cmのカメラの
ボディーの一部を製造した。
Example 22 A film of the mixture (m) with a thickness of 100 microns was injection molded with ABS at a resin temperature of 230° C., and the thickness was 2 mm, as shown in a partially enlarged cross-sectional view in Figure 1-1.
, a part of a camera body with a width of 3 CI, a length of 5 cm, and a width of 8 cm was manufactured.

このようにして得られたボディーの一部の混合物(II
I)のフィルムがインサートされた表面に実施例20と
同様に銅メッキ(厚さ 17ミクロン)を行なった。
A mixture of parts of the bodies thus obtained (II
The surface on which the film I) was inserted was plated with copper (thickness: 17 microns) in the same manner as in Example 20.

実施例 23〜25 あらかじめ厚さが17ミクロンである銅箔および厚さが
100ミクロンの混合物CI)のフィルムを実施例1と
同様に熱プレスし、プリント基板を製造した(実施例2
3)、厚さが17ミクロンである銅箔、厚さが50ミク
ロンの混合物(I)のフィルム、実施例15において用
いた平織ガラスクロスおよび厚さが50ミクロンの混合
物のフィルムの・順序に積層されたプリント基板を製造
した(実施例24)、また、厚さがそれぞれ100ミク
ロンのEAAのフィルム(比較例4)およびけん化物の
フィルム(比較例5)に実施例20と同様にメッキを行
なった。また、電解銅箔(厚さ 35ミ クロン)に通
常使われているエポキシ樹脂を塗布させ、乾燥した(比
較例6)。
Examples 23 to 25 A printed circuit board was manufactured by hot pressing a film of a copper foil having a thickness of 17 microns in advance and a film of a mixture CI having a thickness of 100 microns in the same manner as in Example 1 (Example 2).
3) Copper foil with a thickness of 17 microns, a film of mixture (I) with a thickness of 50 microns, the plain woven glass cloth used in Example 15, and a film of the mixture with a thickness of 50 microns, laminated in this order. A printed circuit board was produced (Example 24), and an EAA film (Comparative Example 4) and a saponified film (Comparative Example 5) each having a thickness of 100 microns were plated in the same manner as in Example 20. Ta. Further, a commonly used epoxy resin was applied to an electrolytic copper foil (thickness: 35 microns) and dried (Comparative Example 6).

以上のようにして得られたプリント基板とABSを表面
温度が 180℃(ただし実施例25では、170℃)
の条件で一段目が20Kg/ c rn’の加圧下で3
0秒および二段目が50Kg/ c rn”の加圧下で
20秒保持させることによって二段階でスタンピング成
形を行ない、前記と同じ形状を有する電話機の受話器の
把持部を製造した。
The surface temperature of the printed circuit board and ABS obtained as described above was 180°C (170°C in Example 25).
Under the conditions, the first stage is 3
Stamping was carried out in two stages by holding the pressure at 50 Kg/c rn'' for 20 seconds in the 0 second and second stages to produce a grip for a telephone handset having the same shape as above.

′ さらに、実施例25では、厚さが35ミクロンの電
解銅箔、厚さが100ミクロンの混合物(IV)のフィ
ルム、変性変性ppoのシート(厚さ3sm)、厚さが
100ミクロンの混合物(IV)のフィルムおよび厚さ
が35ミクロンの電解銅箔を250℃で20Kg/ct
rfの加圧下で30秒保持させながら第2−4図に示さ
れる断面を有する積層(架橋)を行ない、前記と同じ形
状を有する受話器の把持部を製造した。得られた積層物
にドリルを使って径が0.5m層および 1.0■のス
ルーホール孔をあけ、実施例20において使った化学メ
ッキ液を使用して実施例20と同様にメッキをスルーホ
ール部で行ない厚さ約5ミクロンの銅メッキ膜を製造し
た(実施例25)。
' Furthermore, in Example 25, an electrolytic copper foil with a thickness of 35 microns, a film of mixture (IV) with a thickness of 100 microns, a sheet of modified modified PPO (thickness 3 sm), a mixture (IV) with a thickness of 100 microns, IV) film and electrolytic copper foil with a thickness of 35 microns at 20Kg/ct at 250℃
Lamination (crosslinking) having the cross section shown in FIGS. 2-4 was carried out while holding the product under RF pressure for 30 seconds to produce a handset grip having the same shape as above. A drill was used to drill through holes of 0.5 m and 1.0 mm in diameter in the obtained laminate, and through plating was performed in the same manner as in Example 20 using the chemical plating solution used in Example 20. A copper plating film having a thickness of approximately 5 microns was manufactured by performing this in the hole portion (Example 25).

以上のようにして得られた電気機器および電子機器の剥
離硬度の測定を行なった。それらの結果を第5表に示す
、このさい、剥離面の界面を、第4表に示す、この欄に
おいて、゛金属層゛とは導電性金属層(銅箔なと)を意
味し、“フィルム”とは混合物CI)ないしくrV) 
、 EAAおよびけん化物のフィルムを意味し、゛樹脂
”とは射出成形される熱可塑性樹脂または無機充填剤を
含有する熱可塑性樹脂の層を意味する。また、第1−1
図ないし第1−6図および第2−1図ないし第2−4図
に対応する得られた電気機器および電子機器の部分拡大
断面を第4表に示す。
The peel hardness of the electrical devices and electronic devices obtained as described above was measured. The results are shown in Table 5. In this case, the interface of the peeled surface is shown in Table 4. In this column, "metal layer" means a conductive metal layer (such as copper foil), and ""Film" means mixture CI) or rV)
, EAA and a saponified film, and "resin" means an injection molded thermoplastic resin or a layer of thermoplastic resin containing an inorganic filler.
Table 4 shows partially enlarged cross-sections of the obtained electrical equipment and electronic equipment corresponding to Figures 1-6 and 2-1 to 2-4.

(以下余白) 第 4 表(そのl) 第 4 表(その2) 以上の実施例および比較例の結果から、本発明のプリン
ト基板を有する成形物は、成形物の内面に回路が一体と
なって形成されるために非常にコンパクトな機器設計が
可能であるばかりか、耐熱性も良好であり1回路に直接
ハンダ付をすることができ、さらに衝撃などによって回
路が機器から剥離したりすることもなく、またインサー
ト成形によって配線が立体的に形成することもでき、配
線が機器内に浮いていないのでショートなどの事故も発
生しないので、今後大いに利用されることができること
は明らかである。
(Leaving space below) Table 4 (Part 1) Table 4 (Part 2) From the results of the above examples and comparative examples, the molded product having the printed circuit board of the present invention has a circuit integrated into the inner surface of the molded product. Not only is it possible to design a very compact device because it is formed of a metal, but it also has good heat resistance and can be directly soldered to a single circuit, and it also prevents the circuit from peeling off from the device due to impact, etc. In addition, the wiring can be formed three-dimensionally by insert molding, and since the wiring is not floating inside the device, accidents such as short circuits will not occur, so it is clear that it will be widely used in the future.

l且立力】 本発明のプリント基板を有する成形物はその製造工程も
含めて下記のごとき効果(特徴)を発揮する。
The molded product having the printed circuit board of the present invention exhibits the following effects (features) including its manufacturing process.

(1)前記の成形法によって導電性金属層(プリント基
板)と熱可塑性樹脂層または無機充填剤を含有する熱可
塑性樹脂層とが一体化しているため、従来のごとくプリ
ント基板を成形物に固定する工程が省略されるのみなら
ず、その工程に付随する煩雑もない。
(1) Because the conductive metal layer (printed circuit board) and thermoplastic resin layer or thermoplastic resin layer containing inorganic filler are integrated by the above molding method, the printed circuit board is fixed to the molded product as in the conventional method. Not only is this step omitted, but there is also no complication associated with that step.

(2)成形物の内部に回路の形成が可能なために製品の
小型化が可能となり、軽量化することができる。
(2) Since a circuit can be formed inside the molded product, the product can be made smaller and lighter.

(3)立体配線が可能となるために複雑な回路まわしも
少なくすることができ、そのためにコネクターなどを使
っての接続が減少するから、事故を減少させることがで
きる。
(3) Since three-dimensional wiring becomes possible, the number of complicated circuits can be reduced, and the number of connections using connectors and the like is therefore reduced, thereby reducing accidents.

(4)成形物(電気機器、電子機器など)を製造するに
あたり、従来使われている熱可塑性樹脂がすべて可能で
あり、幅広い製品展開が可能となる。
(4) All conventionally used thermoplastic resins can be used to manufacture molded products (electrical equipment, electronic equipment, etc.), making it possible to develop a wide range of products.

(5)前記混合物の耐熱性が良好であり、ハンダを混合
物の層の表面に施すことが可能であるから、ハンダによ
る結線が可能である。
(5) Since the mixture has good heat resistance and it is possible to apply solder to the surface of the layer of the mixture, connection by solder is possible.

(8)該混合物は電気的特性(たとえば、絶縁性。(8) The mixture has electrical properties (eg, insulating properties).

耐電圧、放電正接性能)がすぐれている。Excellent withstand voltage and discharge tangent performance).

本発明のプリント基板を有する成形物は以上のごとき効
果を発揮するために種々の機器や成形物の一部として利
用することが可能である0代表的なこれらの機器や成形
物を下記に示す。
The molded product having the printed circuit board of the present invention can be used as a part of various devices and molded products to exhibit the above-mentioned effects. Representative devices and molded products are shown below. .

し く1)洗濯機、冷蔵庫、電子レンジ、テジビジョン受像
器、ビデオカメラ、ラジオ付カセットレコーダーおよび
スピーカーユニットなどの家電機器。
1) Home appliances such as washing machines, refrigerators, microwave ovens, TV sets, video cameras, cassette recorders with radios, and speaker units.

(2)自動車の部品(たとえば、インストルメントパネ
ル、ライト、ワイパー、ドアー) (3)OA機器(たとえば、ワードプロセッサー、その
プリンター、湿式または乾式複写機、ファクシミリ−、
コンピューター類、卓上計算41)(4)その他にカメ
ラ、電話交換機、電話機、火災報知器、時計
(2) Automobile parts (e.g. instrument panel, lights, wipers, doors) (3) OA equipment (e.g. word processors, printers, wet or dry copying machines, facsimiles, etc.)
Computers, desktop calculations 41) (4) Also cameras, telephone exchanges, telephones, fire alarms, clocks

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は、いずれも本発明のプリント基板
を有する成形物の部分断面図である。また、第1−1図
ないし第1−6図および第2−1図ないし第2−4図は
第1図または第2図で示されるプリント基板を有する成
形物の部分拡大断面図である。 1・・・・・・熱可塑性樹脂またはその組成物の層2・
・・・・・プリント基板 3・・・・・・導電性金属層またはそれらと他の物質と
が積層されている積層状物 4・・・・・・肉薄物 5・・・・・・耐熱性フィルム
FIG. 1 and FIG. 2 are both partial cross-sectional views of a molded product having a printed circuit board of the present invention. Moreover, FIGS. 1-1 to 1-6 and FIGS. 2-1 to 2-4 are partially enlarged sectional views of the molded product having the printed circuit board shown in FIG. 1 or 2. 1... Layer 2 of thermoplastic resin or its composition.
...Printed circuit board 3...Laminated material in which conductive metal layers or these and other substances are laminated 4...Thin material 5...Heat resistant sex film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  プリント基板を有する成形物であり、(A)少なくと
もエチレンとカルボン酸単位、ジカルボン酸単位、その
無水物単位およびハーフエステル単位からなる群かえら
ばれた少なくとも一種の単位とからなり、かつエチレン
単位の含有量が30〜99.5重量%であるエチレン系
共重合体1〜99重量%ならびに(B)少なくともエチ
レン単位とヒドロキシル単位、アミノ単位およびグリシ
ジル単位からなる群からえらばれた少なくとも一種の単
位とからなり、かつエチレン単位の含有量が30〜99
.5重量%であるエチレン系共重合体99〜1重量%で
ある混合物の架橋物を少なくとも有する厚さが3ミクロ
ンないし5mmである肉薄物と熱可塑性樹脂またはその
組成物とが積層されてなるプリント基板を有する成形物
A molded article having a printed circuit board, (A) consisting of at least ethylene and at least one unit selected from the group consisting of carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, anhydride units thereof, and half ester units, and containing ethylene units; 1 to 99% by weight of an ethylene copolymer in an amount of 30 to 99.5% by weight; and (B) at least ethylene units and at least one unit selected from the group consisting of hydroxyl units, amino units and glycidyl units. and the content of ethylene units is 30 to 99
.. A print comprising a thermoplastic resin or a composition thereof laminated with a thin material having a thickness of 3 microns to 5 mm and having at least a crosslinked product of a mixture of 5% by weight of an ethylene copolymer and 99 to 1% by weight. Molded product with a substrate.
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