JPS61284449A - Liquid jet recording head and apparatus - Google Patents

Liquid jet recording head and apparatus

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JPS61284449A
JPS61284449A JP60125155A JP12515585A JPS61284449A JP S61284449 A JPS61284449 A JP S61284449A JP 60125155 A JP60125155 A JP 60125155A JP 12515585 A JP12515585 A JP 12515585A JP S61284449 A JPS61284449 A JP S61284449A
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liquid
recording head
resistance
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Masao Sugata
菅田 正夫
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Shinichi Hirasawa
平澤 伸一
Hirokazu Komuro
博和 小室
Yasuhiro Yano
泰弘 矢野
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Abstract

PURPOSE:To make excellent in electrochemical reaction resistance, oxidation resistance, mechanical impact resistance, and heat resistance and to further enhance heat response, by forming a heat-generating resistor layer from an amorphous material having carbon atoms as a matrix and containing halogen atoms and a substance dominating electric conductivity. CONSTITUTION:A plurality of sets each consisting of a heat-generating resistor layer 14 and a pair of electrodes 16, 17 connected to said layer 14 are together provided on a support 12 and effective heat-generating layers 18, 18', 18'' are provided to said support 12 at predetermined intervals. The heat-generating resistor layer 14 comprises an amorphous material based on carbon atoms and containing halogen atoms and a substance dominating electric conductivity. As the halogen atoms, F and C1 are pref. As the substance dominating electric conductivity, P-type impurities imparting a P-type conductive characteristic and N-type impurities imparting a N-type conductive characteristic can be utilized. Because this resistor layer has high durability to mechanical impact and excellent chemical stability, no protective layer is especially required. Therefore, the liquid jet recording head using this heat-generating resistor layer is improved in heat response because heat energy generated with the input of a signal is imparted to a liquid in an extremely efficient manner.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は液体噴射記録ヘッド及び該記録ヘッドをP5載
した液体噴射記録装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a liquid jet recording head and a liquid jet recording apparatus in which the recording head is mounted on a P5.

[従来の技術] 現在知られている各種の記録法のなかでも、記録時に騒
音の発生がほとんどないノンインパクト記録方式であっ
て且つ高速記録が可能であり、しかも普通紙に特別の定
着処理を必要とせずに記録の行なえるいわゆるインクジ
ェット記録法は、極めて有用な記録方式であると認めら
れている。このインクジェット記録法については、これ
までにも様々な方式が提案され改良が加えられて商品化
されたものもあれば現在もなお実用化への努力が続けら
れているものもある。
[Prior Art] Among the various recording methods currently known, the non-impact recording method generates almost no noise during recording, is capable of high-speed recording, and uses special fixing treatment on plain paper. The so-called inkjet recording method, which can perform recording without the need for a conventional inkjet recording method, is recognized as an extremely useful recording method. Regarding this inkjet recording method, various methods have been proposed so far, some of which have been improved and commercialized, and efforts are still being made to put some into practical use.

インクジェット記録法は、インクと称される記録液の液
滴(clroplet)を種々の作用原理で飛翔させ、
それを紙等の被記録部材に付若させて記録を行なうもの
である。
The inkjet recording method uses various working principles to fly droplets of recording liquid called ink.
Recording is performed by attaching it to a recording member such as paper.

そして1本件出願人もかかるインクジェット記録法に係
わる新規方式について既に提案を行なっている。この新
規方式は特開昭52−118798号公報において提案
されており、その基本原理は次に概説する通りである。
The present applicant has also already proposed a new system related to such an inkjet recording method. This new method has been proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 52-118798, and its basic principle is as outlined below.

つまり、このインクジェット記録方式は、記録液を収容
することのできる作用室中に導入された記録液に対して
情報信号として熱的パルスを与え、これにより記録液が
蒸気泡を発生し自己収縮する過程で生ずる作用力に従っ
て前記作用室に連通せる吐出口より前記記録液を吐出し
て小液滴として飛翔せしめ、これを被記録部材に付着さ
せて記録を行なう方式である。
In other words, in this inkjet recording method, a thermal pulse is applied as an information signal to the recording liquid introduced into an action chamber that can contain the recording liquid, whereby the recording liquid generates vapor bubbles and self-contracts. In this method, the recording liquid is ejected from an ejection port communicating with the action chamber according to the acting force generated in the process, and is caused to fly as small droplets, which are attached to a recording member to perform recording.

ところで、この方式は高密度マルチアレー構成にして高
速記録、カラー記録に適合させやすく、実施装置の構成
が従来のそれに比べて簡略であるため、記録ヘッドとし
て全体的にはコンパクト化が図れ且つ量産に向くこと、
半導体分野において技術の進歩と信頼性の向上が著しい
IC技術やマイクロ加工技術の長所を十二分に利用する
ことで長尺化が容易であること等の利点があり、適用範
囲の広い方式である。
By the way, this method has a high-density multi-array configuration and is easily adapted to high-speed recording and color recording, and the configuration of the implementation device is simpler than conventional ones, so the overall recording head can be made more compact and mass-produced. to turn towards;
By making full use of the advantages of IC technology and micro-processing technology, which have seen remarkable technological progress and improved reliability in the semiconductor field, it has the advantage of being easy to lengthen, and is a method with a wide range of applications. be.

上記液体噴射記録装置の特徴的な記録ヘッドには、吐出
口より液体を吐出して飛翔的液滴を形成する手段として
の電気熱変換体が設けられている。
The characteristic recording head of the liquid jet recording apparatus described above is provided with an electrothermal transducer as a means for ejecting liquid from an ejection port to form flying droplets.

該電気熱変換体は、発生する熱エネルギーを効率良く液
体に作用させること、液体への熱作用の0N−OFF応
答速度を高めること等のために。
The electrothermal converter is used to efficiently apply the generated thermal energy to the liquid, increase the ON-OFF response speed of the thermal effect on the liquid, and so on.

液体に直接接触する様に吐出口が連通している熱作用部
に設けられる構造とするのが望ましいとされている。
It is said that it is desirable to have a structure in which the discharge port is provided in a heat acting part communicating with the liquid so as to be in direct contact with the liquid.

しかしながら、前記の電気熱変換体は通電されることに
よって発熱する発熱抵抗体と該発熱抵抗体に通電するた
めの一対の電極とで基本的には構成されているために1
発熱抵抗体が直に液体に接触する状態であると、記録用
の液体の電気抵抗値如何によっては該液体を通じて電気
が流れたり、液体を通じての電気の流れによって液体自
体が電気分解したり、あるいは発熱抵抗体への通電の際
に該発熱抵抗体と液体とが反応して、発熱抵抗体自体の
腐食による抵抗値の変化や発熱抵抗体の破損あるいは破
壊が起こったり、更には発熱抵抗体から発生される熱の
作用による熱の作用による液体の蒸気泡の発生から自己
消滅に至る状態変化に伴う機械的衝撃によって発熱抵抗
体の表面が破損したり、あるいは発熱抵抗体の一部に亀
裂が生ずる等して破壊されたりする場合があった。
However, since the electrothermal converter basically consists of a heating resistor that generates heat when energized and a pair of electrodes for energizing the heating resistor,
If the heating resistor is in direct contact with the liquid, depending on the electrical resistance of the recording liquid, electricity may flow through the liquid, or the liquid itself may be electrolyzed by the flow of electricity through the liquid. When the heating resistor is energized, the heating resistor reacts with the liquid, resulting in a change in resistance value due to corrosion of the heating resistor itself, damage or destruction of the heating resistor, or even damage from the heating resistor. The surface of the heating resistor may be damaged or a portion of the heating resistor may be cracked due to the mechanical impact caused by the change in state from the generation of liquid vapor bubbles to self-extinction due to the action of the generated heat. In some cases, it was destroyed due to the occurrence of damage.

そのために、従来においては、NiCr等の合金やZr
B2.HfB2等の金属ホウ化物等の比較的発熱抵抗体
材料としての特性に優れた無機材料で発熱抵抗体を構成
すると共に、該材料で構成された発熱抵抗体上に5i0
2等の耐酸化性に優れた材料で構成された保護層(上部
層)を設けることで発熱抵抗体が液体に直に接触するの
を防止して、前記の諸問題を解決し信頼性と繰返し使用
耐久性の向上を図ろうとすることが提案されていた。
For this reason, in the past, alloys such as NiCr and Zr
B2. The heating resistor is made of an inorganic material that has relatively excellent characteristics as a heating resistor material, such as metal boride such as HfB2, and 5i0 is applied on the heating resistor made of the material.
By providing a protective layer (upper layer) made of a material with excellent oxidation resistance such as No. It has been proposed to improve durability against repeated use.

しかしながら、上記の様な構成の電気熱変換体が設けら
れた記録ヘッドを有する液体噴射記録装置は、記録用の
着色された液体として電気伝導度の比較的低い液体(例
えば液媒体として水やアルコールを用いたもの)を使用
する場合には、耐酸化性に優れ繰返し使用耐久性の点で
満足のいくものであるが、Naイオン等の含有率が高く
電気伝導度の大きな記録用の液体や電界質の液体を使用
する場合には、繰返し使用耐久性、耐経時的変化性の点
で不十分であった。従って、使用する記録用液体の選択
に制約があって、ことに多色あるいは天然色のカラー記
録を行なう場合には障害となっていた。
However, a liquid jet recording device having a recording head equipped with an electrothermal converter having the above-mentioned configuration uses a liquid with relatively low electrical conductivity (for example, water or alcohol as a liquid medium) as a colored liquid for recording. When using recording liquids with high content of Na ions and high electrical conductivity, they have excellent oxidation resistance and are satisfactory in terms of repeated use durability. When an electrolyte liquid is used, it is insufficient in terms of durability against repeated use and resistance to change over time. Therefore, there are restrictions on the selection of the recording liquid to be used, which is particularly an obstacle when recording in multiple colors or in natural colors.

また、上記の様に発熱抵抗体上に保Ws層を設ける場合
においても、例えば層形成時に生ずる保護層自体の欠陥
に基づく発熱抵抗体側方向への液体の侵入を実質上完全
に防止することは再現性、量産性の点で非常に困難であ
る。ましてや、高密度に多数の熱作用部をその構成の一
部とする液流路(ノズル)を設ける。いわゆる高密度マ
ルチオリフィス化の場合〈は、少なくとも液流路数だけ
電気熱変換体を一度に設ける必要性から、先の保護層の
欠陥による不良化の電気熱変換体の製造歩留りへの影響
は製造コストの面も含めて大きな問題である。また、前
記保護層の存在により熱応答性が犠牲になるという問題
もある。更に、保al1層の存在により所定の電気信号
に対する発熱応答性が犠牲になっている。従って、保護
層がなく、記録用の液体に発熱抵抗体が直に接触する状
態であっても、耐熱性2耐酸化性、耐機械的衝撃性、耐
電気化学反応性、熱応答性に優れた電気熱変換体を具備
する液体噴射記録装置の開発が広く望まれている。
Furthermore, even in the case where the Ws protection layer is provided on the heating resistor as described above, it is impossible to substantially completely prevent liquid from entering the heating resistor side due to defects in the protective layer itself that occur during layer formation, for example. This is extremely difficult in terms of reproducibility and mass production. Furthermore, a liquid flow path (nozzle) having a high density and a large number of heat acting parts as part of its structure is provided. In the case of so-called high-density multi-orifice construction, it is necessary to provide at least as many electrothermal converters as the number of liquid channels at once, so the impact of failure due to defects in the protective layer on the manufacturing yield of electrothermal converters is limited. This is a big problem, including in terms of manufacturing costs. Furthermore, there is also the problem that thermal responsiveness is sacrificed due to the presence of the protective layer. Furthermore, the presence of the Al1 layer sacrifices heat generation responsiveness to a predetermined electrical signal. Therefore, even when there is no protective layer and the heating resistor is in direct contact with the recording liquid, it has excellent heat resistance 2 oxidation resistance, mechanical shock resistance, electrochemical reactivity resistance, and thermal response. It is widely desired to develop a liquid jet recording device equipped with an electrothermal converter.

[発明の目的] 本発明は、上記の諸点に鑑みてなされたものであって、
前記の従来における諸問題を解決した優れた液体噴射記
録ヘッド及び該記録ヘッドを搭載した液体噴射記録装置
を提供することを主たる目的とする。
[Object of the invention] The present invention has been made in view of the above points, and
The main object of the present invention is to provide an excellent liquid jet recording head that solves the conventional problems described above, and a liquid jet recording apparatus equipped with the recording head.

本発明の別の目的は、特に化学的安定性が高く、耐電気
化学反応性、耐酸化性に優れ、且つ耐機械的衝撃性、耐
熱性にも優れ、更に保護層をなくすことにより熱応答性
を向上させ得る発熱抵抗体を具備した液体噴射記録ヘッ
ド及び該記録ヘッドを搭載した液体噴射記録装置を提供
することである。
Another object of the present invention is to have particularly high chemical stability, excellent electrochemical reaction resistance, and oxidation resistance, as well as excellent mechanical impact resistance and heat resistance, and furthermore, by eliminating the protective layer, thermal response is improved. An object of the present invention is to provide a liquid jet recording head equipped with a heating resistor that can improve performance, and a liquid jet recording apparatus equipped with the recording head.

[発明の概要] 本発明によれば、上記の目的は、液体を吐出して飛翔的
液滴を形成するために設けられた吐出口と前記飛翔的液
滴を形成するために利用される熱エネルギーを発生する
電気熱変換体とを具備する液体噴射記録ヘッドにおいて
、前記電気熱変換体を構成する発熱抵抗層が炭素原子を
母体としハロゲン原子と電気伝導性を支配する物質とを
含有してなる非晶質材料からなることを特徴とする、液
体噴射記録ヘッド、及び該液体噴射記録ヘッドを搭載し
た液体噴射記録装置によって達成される。
[Summary of the Invention] According to the present invention, the above-mentioned object includes an ejection port provided for ejecting a liquid to form flying droplets, and a heat utilized for forming the flying droplets. In a liquid jet recording head equipped with an electrothermal converter that generates energy, the heating resistance layer constituting the electrothermal converter has carbon atoms as a matrix and contains halogen atoms and a substance that controls electrical conductivity. This is achieved by a liquid jet recording head characterized by being made of an amorphous material, and a liquid jet recording apparatus equipped with the liquid jet recording head.

以下、図面を参照しながら本発明を具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の液体噴射記録ヘッドの一実施態様例の
構成を示す部分平面図であり、第2図はその■−■断面
図である。
FIG. 1 is a partial plan view showing the structure of an embodiment of the liquid jet recording head of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line 1--2.

図において、12は電気熱変換体が設けられる支持体で
あり、14は電気熱変換体を構成する発熱抵抗層であり
、16.17は電気熱変換体を構成する対をなす電極で
ある。第1図に示される様に、発熱抵抗層14と該発熱
抵抗!j14に接続された1対の電極16.17との組
が複数個併設されており、これによって有効発熱部18
.18’。
In the figure, 12 is a support body on which an electrothermal converter is provided, 14 is a heating resistance layer constituting the electrothermal converter, and 16 and 17 are paired electrodes constituting the electrothermal converter. As shown in FIG. 1, the heating resistor layer 14 and the heating resistor! A plurality of sets with a pair of electrodes 16 and 17 connected to
.. 18'.

18 ” 、・・・・が所定の間隔をおいて配列されて
いる。尚、本実施態様例においては、一方の電極16は
複数の電極がまとめられて共通の電極とされている。各
発熱部18.18”、18″。
18'', . . . are arranged at predetermined intervals. In this embodiment, one electrode 16 is a common electrode in which a plurality of electrodes are grouped together. Part 18.18", 18".

・・・・を構成する発熱抵抗層14に対してはそれぞれ
電極16.17を通じて電気信号が印加され、これに基
づき各発熱部が発熱する。
An electric signal is applied to the heat generating resistor layer 14 constituting the... through electrodes 16 and 17, and each heat generating portion generates heat based on this.

第2図に示される様に、支持体12と発熱抵抗層14と
電極16.17とを有する基板には支持体12の発熱部
側に溝が形成された天板20が接合されている。第2図
の■−■断面図を第3図に示す、第2図及び第3図に示
される様に、天板20には各発熱部is、ia′、is
“、・1III・に対応する位こにそれぞれ第1図の■
−■方向に沿う溝22 、22 ′、 22 ″・・・
―が形成されている。これらの溝はそれぞれ支持体12
との間に記録液を収容する空間を形成する。これらの空
間は記録液に対し熟エネルギーを作用せしめる熱作用部
24を有する。
As shown in FIG. 2, a top plate 20 in which a groove is formed on the side of the heat generating portion of the support 12 is bonded to a substrate having the support 12, the heat generating resistance layer 14, and the electrodes 16,17. A sectional view taken along the line ■-■ in FIG. 2 is shown in FIG. 3. As shown in FIGS.
"■" in Figure 1 in the places corresponding to ", 1III."
Grooves 22, 22', 22'' along the -■ direction...
- is formed. These grooves each correspond to the support 12
A space for accommodating the recording liquid is formed between the two. These spaces have heat acting portions 24 that apply heating energy to the recording liquid.

第2図における左方において前記空間は外部に対し開口
しており、該開口が液体の吐出口26となる。空間は第
2図における右方において記録液供給源と接続されてい
る。そして、空間において記録信号に基づき発熱部から
熱エネルギーが発生され空間内の記録液に作用すると該
記録液中において蒸気泡が発生し、その際の圧力で吐出
口26付近の記録液が矢印Xの向きに吐出する。
On the left side in FIG. 2, the space opens to the outside, and this opening becomes a liquid discharge port 26. The space is connected to a recording liquid supply source on the right side in FIG. When thermal energy is generated from a heat generating part in the space based on the recording signal and acts on the recording liquid in the space, vapor bubbles are generated in the recording liquid, and the pressure at that time causes the recording liquid near the discharge port 26 to Discharge in the direction of.

尚、以上の説明から分る様に、第1図においては天板2
0の図示が省略されている。
Furthermore, as can be seen from the above explanation, in Fig. 1, the top plate 2
The illustration of 0 is omitted.

本発明において、支持体12の材料としては特に制限は
ないが、実際上はその表面上に形成される発熱抵抗層1
4を形成する際の熱及び使用時において該発熱抵抗層1
4により発生される熱に対する耐久性の良好なものが好
適に使用される。また、支持体12としてはその表面上
に形成される発熱抵抗層14よりも大きな電気抵抗を有
するのが好ましいが、支持体12と発熱抵抗層14との
間に絶縁層を介在せしめである場合には支持体12が発
熱抵抗層14よりも小さな電気抵抗を有する材料からな
るものであってもよい、更に、本発明においては、液体
噴射記録ヘッドの使用状況等に応じて、熱伝導性の小さ
な或いは大きな支持体12を用いることができる。
In the present invention, the material of the support 12 is not particularly limited, but in practice, the heating resistance layer 1 formed on the surface of the support 12 is not particularly limited.
4 and during use, the heat generating resistive layer 1
A material having good durability against the heat generated by No. 4 is preferably used. Further, it is preferable that the support 12 has a higher electrical resistance than the heat generating resistance layer 14 formed on the surface thereof, but in the case where an insulating layer is interposed between the support 12 and the heat generating resistance layer 14. Alternatively, the support 12 may be made of a material having a smaller electrical resistance than the heat generating resistance layer 14.Furthermore, in the present invention, depending on the usage conditions of the liquid jet recording head, the support 12 may be made of a material having a lower electrical resistance than the heat generating resistance layer 14. Small or large supports 12 can be used.

本発明において使用される支持体12としてはガラス、
セラミックス、シリコン、金属等の無機物からなるもの
やポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等の有機物からなる
ものが例示できる。
The support 12 used in the present invention is glass,
Examples include those made of inorganic materials such as ceramics, silicon, and metals, and those made of organic materials such as polyamide resin and polyimide resin.

本発明においては1発熱抵抗層14は炭素原子を母体と
しハロゲン原子と電気伝導性を支配する物質とを含有し
てなる非晶質材料からなる。ハロゲン原子としてはF、
CI、Br、I等が利用でき、これらは単独でもよいし
複数の組合せでもよい、ハロゲン原子としては特にF、
CIが好ましく、なかでもFが好ましい、また、電気伝
導性を支配する物質としては、いわゆる半導体分野にお
いていうところの不純物即ちp型伝導特性を与えるp型
不純物及びn型伝導特性を与えるn型不純物が利用でき
る。p覆不純物としては元素周期律表第■族に属する原
子、たとえばB、AI、Ga、In、TI等があり、特
にB、Gaが好ましい、n型不純物としては元素周期律
表第V族に属する原子、たとえばP、As、Sb、Bi
等があり、特にP、Asが好ましい、これらは単独でも
よいし複数の組合せでもよい。
In the present invention, the first heating resistance layer 14 is made of an amorphous material having carbon atoms as its base material and containing halogen atoms and a substance controlling electrical conductivity. F as a halogen atom,
CI, Br, I, etc. can be used, and these may be used alone or in a combination of two or more.As the halogen atom, especially F,
CI is preferable, and F is particularly preferable. Also, as substances that control electrical conductivity, so-called impurities in the semiconductor field, that is, p-type impurities that give p-type conductivity characteristics and n-type impurities that give n-type conductivity characteristics. is available. Examples of p-type impurities include atoms belonging to group Ⅰ of the periodic table of the elements, such as B, AI, Ga, In, TI, etc., with B and Ga being particularly preferred. Belonging atoms, such as P, As, Sb, Bi
P and As are particularly preferred, and these may be used alone or in combination.

発熱抵抗層14中におけるハロゲン原子の含有率は、使
用目的の応じ所望の特性が得られる様に適宜選択される
が、好ましくはo、ooot〜3O原子%であり、更に
好ましくは0.0005〜20原子%であり、好適には
o、ooi〜10原子%である。
The content of halogen atoms in the heating resistor layer 14 is appropriately selected depending on the purpose of use so as to obtain desired characteristics, and is preferably o, ooot to 30 atomic %, more preferably 0.0005 to 30 atomic %. It is 20 atomic %, preferably o, ooi to 10 atomic %.

発熱抵抗層14中における電気伝導性支配物質の含有率
は、所望の特性が得られる様に適宜選択されるが、、好
ましくは0.01〜50000原子ppmであり、更に
好ましくは0.5〜10000原子ppmであり、最適
には1〜5000原子ppmである。
The content of the electrically conductive substance in the heating resistance layer 14 is appropriately selected so as to obtain desired characteristics, and is preferably 0.01 to 50,000 atomic ppm, more preferably 0.5 to 50,000 atomic ppm. 10,000 atomic ppm, optimally 1 to 5,000 atomic ppm.

また、発熱抵抗層14の厚さには特に制限がない。Furthermore, there is no particular limit to the thickness of the heat generating resistor layer 14.

本発明記録ヘッドにおける炭素を母体としハロゲン原子
と電気伝導性支配物質とを含有してなる非晶質材料(以
下、ra−C:X(p、n)Jと略記することがある。
In the recording head of the present invention, an amorphous material (hereinafter sometimes abbreviated as ra-C:X(p,n)J) comprising carbon as a matrix and containing halogen atoms and an electrically conductive dominant substance.

ここでXはハロゲン原子を表わしくp 、 n)は電気
伝導性支配物質を表わす、)からなる発熱抵抗層14は
、たとえばグロー放電法の様なプラズマCVD法あるい
はスパッタリング法等の真空堆積法によって形成される
Here, X represents a halogen atom, and p and n represent an electrically conductive dominant substance. It is formed.

たとえば、グロー放電法によってa−C:X(p 、 
n)からなる抵抗層14を形成するには。
For example, a-C:X(p,
n) to form the resistive layer 14 consisting of:

基本的には支持体12を減圧下の堆積室内に配置し、該
堆積室内に炭素原子(C)を供給し得るC供給用の原料
ガスとハロゲン原子(X)を供給し得るX供給用の原料
ガスと電気伝導性支配物質供給用の原料ガスとを導入し
て、該堆積室内にて高周波またはマイクロ波を用いてグ
ロー放電を生起させ支持体2の表面上にa−C:X(p
、n)からなる層を形成させればよい。
Basically, the support 12 is placed in a deposition chamber under reduced pressure, and a raw material gas for C supply that can supply carbon atoms (C) and an X supply gas that can supply halogen atoms (X) are used in the deposition chamber. A raw material gas and a raw material gas for supplying an electrically conductive substance are introduced, and a glow discharge is generated in the deposition chamber using high frequency or microwave to form a-C:X(p) on the surface of the support 2.
, n) may be formed.

また、スパッタリング法によってa−C:X(p 、 
n)からなる抵抗層14を形成するには、基本的には支
持体2を減圧下の堆積室内に配置し、該堆積室内にてた
とえばAr、He等の不活性ガスまたはこれらのガスを
べ=スとした混合ガスの雰囲気中でCで構成されたター
ゲットをスパッタリングする際、堆積室内にX供給用の
原料ガス及び電気伝導性支配物質供給用の原料ガスを導
入すればよい。
In addition, a-C:X(p,
In order to form the resistance layer 14 consisting of n), basically the support 2 is placed in a deposition chamber under reduced pressure, and an inert gas such as Ar, He, etc. or these gases are heated in the deposition chamber. When sputtering a target made of C in an atmosphere of a gaseous mixed gas, a raw material gas for supplying X and a raw material gas for supplying an electrically conductive substance may be introduced into the deposition chamber.

上記方法において、C供給用の原料ガス、X供給用の原
料ガス及び電気伝導性支配物質供給用の原料ガスとして
は常温常圧においてガス状態のもののほかに減圧下にお
いてガス化し得る物質を使用することができる。
In the above method, as the raw material gas for supplying C, the raw material gas for supplying X, and the raw material gas for supplying electrically conductive substance, in addition to those in a gaseous state at room temperature and normal pressure, substances that can be gasified under reduced pressure are used. be able to.

C供給用の原料としては、たとえば炭素数1〜5の飽和
炭化水素、炭素数2〜5のエチレン系炭化水素、炭素数
2〜4のアセチレン系炭化水素、芳香族炭化水素等、具
体的には、飽和炭化水素としてはメタン(CH4)、エ
タン(C2H8)、プロパ7(C3)1B)、n−ブタ
y(n−C4H10)、ペンタン(C5B12) 、 
xチレン系炭化水素としてはエチレン(C2H4) 、
プロピレン(C3Ha ) 、ブテン−1(C4H8)
、ブテン−2(C4H8) 、インブチレン(C4Ha
 )、ペンテン(C5HIO) 、アセチレン系炭化水
素としてはアセチレン(C2B2 ) 、 メチルアセ
チレン(C3H4) 、ブチン(C4He ) 、芳香
族炭化水素としてはベンゼン(C6He )等があげら
れる。
Examples of raw materials for C supply include saturated hydrocarbons having 1 to 5 carbon atoms, ethylene hydrocarbons having 2 to 5 carbon atoms, acetylenic hydrocarbons having 2 to 4 carbon atoms, aromatic hydrocarbons, etc. The saturated hydrocarbons include methane (CH4), ethane (C2H8), propa7(C3)1B), n-buty(n-C4H10), pentane (C5B12),
x Tyrenic hydrocarbons include ethylene (C2H4),
Propylene (C3Ha), butene-1 (C4H8)
, butene-2 (C4H8), inbutylene (C4Ha
), pentene (C5HIO), acetylene hydrocarbons such as acetylene (C2B2), methylacetylene (C3H4), butyne (C4He), and aromatic hydrocarbons such as benzene (C6He).

X供給用の原料としては、たとえばハロゲン。As a raw material for supplying X, for example, halogen.

ハロゲン化物、ハロゲン間化合物、ハロゲン置換炭化水
素誘導体等、具体的にはハロゲンとしてはF2.C12
,Br2.I2、ハロゲン化物としてはHF、HCI、
HBr、HI、ハロゲン間化合物としてはBrF、CI
F、ClF3.BrF5 、BrF:+ 、IF3 、
IF7 、ICI、よりr、ハロゲン置換炭化水素誘導
体としてはCF4 、CHF3 、CH2F2 、CH
3F、CC14、CHC13、CH2C12、CH3C
l、CB F4 、 CI(B F3 、 CI(2B
 F2、CH3B r、CI4 、CHI3 、CH2
I2、CH3I等があげられる。
Examples of halogens include halides, interhalogen compounds, halogen-substituted hydrocarbon derivatives, and specifically F2. C12
, Br2. I2, halides include HF, HCI,
HBr, HI, BrF, CI as interhalogen compounds
F, ClF3. BrF5, BrF:+, IF3,
IF7, ICI, more r, halogen-substituted hydrocarbon derivatives include CF4, CHF3, CH2F2, CH
3F, CC14, CHC13, CH2C12, CH3C
l, CB F4 , CI(B F3 , CI(2B
F2, CH3Br, CI4, CHI3, CH2
Examples include I2, CH3I, etc.

電気伝導性支配物質供給用の原料としては次の様なもの
が例示される。
Examples of raw materials for supplying electrically conductive substances include the following.

第m族原子供給用原料としては、たとえばホウ素原子供
給用にB2 H6、84HlG、 B5 B9 。
Examples of raw materials for supplying group m atoms include B2 H6, 84HlG, and B5 B9 for supplying boron atoms.

B5H11、BθH10、B6H12、B8H14等の
水素化ホウ素やBF3 、BC13、BB r3等ノハ
ロゲン化ホウ素等が用いられ、更にその他の原子供給用
にAlCl3.GaCl3.Ga(C)I3)3.In
Cl3.TlCl3等が用いられる。
Boron hydrides such as B5H11, BθH10, B6H12, and B8H14 and boron halides such as BF3, BC13, and BBr3 are used, and AlCl3. GaCl3. Ga(C)I3)3. In
Cl3. TlCl3 etc. are used.

第V族原子供給用原料としては、たとえばリン原子供給
用にPH3、F2 H4等の水素化リンやPH41,P
F3 、PFs 、PC13、FCl2.PBr3.P
Br3.PI3等ノハロゲン化リン等が用いられ、更に
その他の原子供給用にAsH3、AsF3 、AsC1
3、AsBr3 、AgF2 、SbH3、SbF3 
、SbF5.5bCI3.5bC15、BiH3、Bi
Cl3.13tBr3等が用いられる。
As raw materials for supplying Group V atoms, for example, hydrogenated phosphorus such as PH3, F2 H4, PH41, P
F3, PFs, PC13, FCl2. PBr3. P
Br3. Phosphorus halides such as PI3 are used, and AsH3, AsF3, AsC1 are used to supply other atoms.
3, AsBr3, AgF2, SbH3, SbF3
, SbF5.5bCI3.5bC15, BiH3, Bi
Cl3.13tBr3 etc. are used.

これらの原料は単独で用いてもよいし、複数組合せて用
いてもよい。
These raw materials may be used alone or in combination.

以上の様な発熱抵抗層形成法において、形成される抵抗
層14中に含まれるハロゲン原子の量及び電気伝導性支
配物質の量や抵抗層14の特性を制御するには、支持体
温度、原料ガスの供給量4放電電力、堆積室内の圧力等
を適宜設定する。
In the heating resistance layer forming method as described above, in order to control the amount of halogen atoms and the amount of electrical conductivity controlling substance contained in the resistance layer 14 to be formed, and the characteristics of the resistance layer 14, it is necessary to control the support temperature, the raw material Gas supply amount 4. Discharge power, pressure in the deposition chamber, etc. are set appropriately.

支持体温度は好ましくは20〜1500℃、更に好まし
くは30〜1200℃、最適には50〜1100℃のう
ちから選ばれる。
The support temperature is preferably selected from 20 to 1500°C, more preferably 30 to 1200°C, and optimally 50 to 1100°C.

原料ガスの供給量は目的とする発熱抵抗層性能や目標と
する成膜速度に応じ適宜状められる。
The supply amount of the raw material gas is determined as appropriate depending on the desired performance of the heating resistance layer and the desired film formation rate.

放′准電力は好ましくは0.001〜20W/CrrI
′、より好ましくは0 、01〜15W/crrf、最
適にはO−05〜l ON/ crrr’(7)うちか
ら選ばれる。
The output power is preferably 0.001 to 20W/CrrI
', more preferably 0, 01 to 15 W/crrf, optimally O-05 to lON/crrr' (7).

堆積室内の圧力は、好ましくは10−4〜10Torr
、より好ましくはには10−2〜5Torrとされる。
The pressure inside the deposition chamber is preferably 10-4 to 10 Torr.
, more preferably 10-2 to 5 Torr.

以上の様な発熱抵抗層形成法を用いて得られる本発明記
録ヘッドの抵抗層はダイヤモンドに近い特性を有する。
The resistive layer of the recording head of the present invention obtained using the heat generating resistive layer forming method as described above has characteristics close to those of diamond.

即ち、たとえばビッカース硬度1800〜5000のも
のが得られる。また、ハロゲン原子及び電気伝導性支配
物質を含有するので特に抵抗値制御性が極めて良好であ
る。
That is, for example, one having a Vickers hardness of 1,800 to 5,000 can be obtained. Furthermore, since it contains a halogen atom and an electrically conductive controlling substance, it has particularly good controllability of resistance value.

本発明における発熱抵抗層は、機械的衝撃に対し高い耐
久性を有し且つ化学的安定性に優れているので、特別に
保護層を必要としない、したがって、本発明における発
熱抵抗層を用いた液体噴射記録ヘッドは信号入力にとも
なって発生される熱エネルギーが極めて効率よく液体に
付与されるので熱応答性が良好となる。このことは、液
体噴射記録ヘッドに入力される信号に対応して形成され
る飛翔液滴の吐出応答性の向上にもつながる。
The heat generating resistive layer of the present invention has high durability against mechanical shock and excellent chemical stability, and therefore does not require a special protective layer. The liquid jet recording head has good thermal responsiveness because thermal energy generated in response to signal input is applied to the liquid extremely efficiently. This also leads to improved ejection responsiveness of flying droplets that are formed in response to signals input to the liquid jet recording head.

但し、所望の応答性が発揮されるのであれば、上記した
様な発熱抵抗層上に保護層を形成しても一層にかまわな
い。
However, as long as the desired responsiveness is exhibited, a protective layer may be formed on the heating resistor layer as described above.

また、記録液が導電性の場合には電極間のショートを防
止する上で保護層が必要である。
Furthermore, when the recording liquid is conductive, a protective layer is necessary to prevent short circuits between electrodes.

上記実施態様例においては支持体上に発熱抵抗層及び電
極をこの順に設けた例が示されているが、本発明記録ヘ
ッドにおいては支持体上に電極及び発熱抵抗層をこの順
に設けてもよい、第4図はこの様な記録ヘッドの電気熱
変換体を有する基板の部分断面図である。
In the above embodiment example, an example is shown in which the heat generating resistive layer and the electrode are provided on the support in this order, but in the recording head of the present invention, the electrode and the heat generating resistive layer may be provided in this order on the support. , FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a substrate having an electrothermal transducer of such a recording head.

尚1以上の実施態様例において、支持体12は単一のも
のであるとされているが、本発明における支持体12は
複合体であってもよい、その様な一実施態様例の構成を
第5図に示す、即ち、支持体12は基部12aと表面層
12bとの複合体からなり、基部12aとしてはたとえ
ば上記第1〜3図に関し説明した支持体材料を使用する
ことができまた表面層12bとしてはその上に形成され
る抵抗層14との密着性のより良好な材料を使用するこ
とができる0表面層12bはたとえば炭素原子を母体と
する非晶質材料や従来より知られている酸化物等から構
成される。゛この様な表面層12bは基部12a上に上
記発熱抵抗層形成法と類似の方法により適宜の原料を用
いて堆積させることにより得られる。また、表面層12
bは通常のガラス質のグレーズ層であってもよく、ある
いは基部12aが金属であればその表面を酸化させ形成
させた酸化物層であってもよい。
Note that in one or more embodiments, the support 12 is described as being single, but the support 12 in the present invention may be a composite. As shown in FIG. 5, the support 12 is composed of a composite of a base 12a and a surface layer 12b, and the base 12a can be made of, for example, the support materials described in connection with FIGS. 1 to 3 above. For the layer 12b, a material with better adhesion to the resistance layer 14 formed thereon can be used.The surface layer 12b may be made of, for example, an amorphous material containing carbon atoms as a matrix or a conventionally known material. It is composed of oxides etc. ``Such a surface layer 12b can be obtained by depositing an appropriate raw material on the base 12a by a method similar to the method for forming the heating resistor layer described above. In addition, the surface layer 12
b may be a normal glassy glaze layer, or if the base 12a is metal, it may be an oxide layer formed by oxidizing its surface.

本発明記録ヘッドにおける電ai16.17は所定の導
電性を有しているものであればよく、たとえばAu、C
u、A1.Ag、Ni等の金属からなる。
The electrical ai16.17 in the recording head of the present invention may be of any material as long as it has a predetermined conductivity, such as Au, C
u, A1. Made of metal such as Ag and Ni.

次に、本発明の記録ヘッドの製造方法の概略について説
明する。
Next, the outline of the method for manufacturing the recording head of the present invention will be explained.

第6図は支持体表面上に発熱抵抗層を形成する際に用い
られる堆積装置の一例を示す模式的説明図である。tt
otは堆積室であり、1102〜1106はガスボンベ
であり、1107〜1111はマスフローコントローラ
であり、1112〜titsは流入バルブであり、11
17〜1121は流出バルブであり、1122〜112
6はガスボンベのバルブであり、1127〜1131は
出口圧ゲージであり、1132は補助バルブであり、1
133はレバーであり、1134はメインバルブであり
、1135はリークバルブであり、1136は真空計で
あり、1137は製造すべき電気熱変換体を有する基板
を形成するための支持体材料であり、1138はヒータ
であり、1139は支持体支持手段で条り、1140は
高電圧電源であり、1141は電極であり、1142は
シャッタである。尚、1142−1はスパッタリング法
を行なう際に電極1141に取付けられるターゲットで
ある。
FIG. 6 is a schematic explanatory diagram showing an example of a deposition apparatus used when forming a heat generating resistive layer on the surface of a support. tt
ot is a deposition chamber, 1102-1106 are gas cylinders, 1107-1111 are mass flow controllers, 1112-tits are inflow valves, 11
17-1121 are outflow valves, 1122-112
6 is a gas cylinder valve, 1127 to 1131 are outlet pressure gauges, 1132 is an auxiliary valve, 1
133 is a lever, 1134 is a main valve, 1135 is a leak valve, 1136 is a vacuum gauge, 1137 is a support material for forming a substrate with an electrothermal converter to be manufactured, 1138 is a heater, 1139 is a support means, 1140 is a high voltage power source, 1141 is an electrode, and 1142 is a shutter. Note that 1142-1 is a target attached to the electrode 1141 when performing the sputtering method.

たとえば、1102にはArガスで希釈されたCF4ガ
ス(純度99.9%以上)が密封されており、1103
にはArガスで希釈されたBF3ガス(純度99.9%
以上)が密封されており、1104にはArガスで希釈
されたPF5ガス(純度99.9%以上)が密封されて
いる。これらボンベ中のガスを堆積室1101に流入さ
せるに先立ち、各ガスボンベ1102〜110617)
バルブ1122〜1126及びリークバルブ1135が
閉じられていることを確認し、また流入バルブ1112
〜1116、流出バルブ1117〜1121及び補助バ
ルブ1132が開かれていることを確認して、先ずメイ
ンバルブ1134を開いて堆積室1101及びガス配管
内を排気する0次に真空計1136の読みが約1.5X
10−6Torrになった時点で、補助バルブ1132
、流入バルブ1112〜1116及び流出バルブl  
・117〜1121を閉じる。その後、堆積室1101
内に導入すべきガスのボンベに接続されているガス配管
のバルブを開いて所望のガスを堆積室1101内に導入
する。
For example, 1102 is sealed with CF4 gas (99.9% purity or higher) diluted with Ar gas, and 1103
BF3 gas diluted with Ar gas (purity 99.9%)
1104 is sealed with PF5 gas (purity of 99.9% or more) diluted with Ar gas. Before the gas in these cylinders flows into the deposition chamber 1101, each gas cylinder 1102 to 110617)
Ensure that valves 1122-1126 and leak valve 1135 are closed, and that inlet valve 1112
~1116, confirm that the outflow valves 1117~1121 and the auxiliary valve 1132 are open, and first open the main valve 1134 to evacuate the deposition chamber 1101 and gas piping.Next, the vacuum gauge 1136 reads approximately 1.5X
When the temperature reaches 10-6 Torr, the auxiliary valve 1132
, inlet valves 1112-1116 and outlet valve l
・Close 117-1121. After that, the deposition chamber 1101
A desired gas is introduced into the deposition chamber 1101 by opening the valve of the gas pipe connected to the cylinder of the gas to be introduced into the deposition chamber 1101 .

次に、以上の装置を用いてグロー放電法によって本発明
記録ヘッドの抵抗層を形成する場合の手順の一例につい
て説明する。バルブ1122を開いてガスポンベ110
2からCF、/Arガスを流出させ、バルブ1123を
開いてガスポンベ1103からBF3/Arガスを流出
させ、出口圧ゲージ1127.1128の圧力を1kg
/crn’に調整し、次に流入バルブ1112.111
3を徐々に開いてマスフローコントローラ1107.1
108内に流入させておく、続いて、流出バルブ111
7.1118、補助バルブ1132を徐々に開いテCF
 4 / A rガスとBF3/Arガスとを堆積室1
101内に導入する。この時、CF、/Arガスの流量
とBF:+/Arガスの流量との比が所望の値になる様
にマスフローコントローラ1107.1108を調整し
、また堆積室1101内の圧力が所望の値になる様に真
空計1136の読みを見ながらメインバルブ1134の
開度を調整する。そして、堆積室1101内の支持手段
1139により支持されている支持体1137の温度が
所望の温度になる様にヒータ1138により加熱した上
で、シャッタ1142を開き堆積室tioi内にてグロ
ー放電を生起させる。
Next, an example of the procedure for forming the resistive layer of the recording head of the present invention by the glow discharge method using the above-described apparatus will be described. Open the valve 1122 and turn on the gas pump 110
2, open the valve 1123 to let the BF3/Ar gas flow out from the gas pump 1103, and set the pressure on the outlet pressure gauges 1127 and 1128 to 1 kg.
/crn', then inlet valve 1112.111
3 gradually open the mass flow controller 1107.1.
108, and then the outflow valve 111.
7.1118, gradually open the auxiliary valve 1132 CF
4/ Ar gas and BF3/Ar gas in deposition chamber 1
101. At this time, the mass flow controllers 1107 and 1108 are adjusted so that the ratio of the flow rate of CF, /Ar gas and the flow rate of BF:+/Ar gas becomes the desired value, and the pressure in the deposition chamber 1101 is adjusted to the desired value. Adjust the opening degree of the main valve 1134 while checking the reading on the vacuum gauge 1136 so that Then, the temperature of the support 1137 supported by the support means 1139 in the deposition chamber 1101 is heated by the heater 1138 to a desired temperature, and then the shutter 1142 is opened to generate a glow discharge in the deposition chamber tioi. let

次に、以上の装置を用いてスパッタリング法によって本
発明記録ヘッドの抵抗層を形成する場合の手順の一例に
ついて説明する。高圧電源1140により高電圧が印加
される電極1141上には予め高純度グラフアイ)11
42−1をターゲットとして設置しておく、グロー放電
法の場合と同様にして、ガスポンベ1102からCF4
/Arガスをガスポンベ1103からBF3/Arガス
をそれぞれ所望の流量にて堆積室1101内に導入させ
る。シャッタ1142を開いて、高圧電源1140を投
入することによりターゲット1142−1をスパッタリ
ングする。尚、この際ヒータ1138により支持体11
37を所望の温度に加熱し、メインバルブ1134の開
度を調整することにより堆積室1101内を所望の圧力
とすることはグロー放電法の場合と同様である。
Next, an example of the procedure for forming the resistive layer of the recording head of the present invention by sputtering using the above-described apparatus will be described. A high-purity graphite (11
42-1 as a target, CF4 from gas pump 1102 in the same manner as in the glow discharge method.
/Ar gas and BF3/Ar gas are introduced into the deposition chamber 1101 from the gas pump 1103 at desired flow rates, respectively. The target 1142-1 is sputtered by opening the shutter 1142 and turning on the high voltage power supply 1140. At this time, the support 11 is heated by the heater 1138.
37 to a desired temperature and adjusting the opening degree of the main valve 1134 to bring the inside of the deposition chamber 1101 to a desired pressure is similar to the glow discharge method.

第1〜31λに示される様な液体噴射記録ヘッドの電気
熱変換体を有する基板の場合には、上記の様にして支持
体上に発熱抵抗層を形成した後に、該発熱抵抗層上に電
極形成のための導電層(たとえばAu層、A1層)を形
成し、その後フォトリソグラフィー技術を利用して導電
層及び発熱抵抗層のバターニングを行なう、そして、更
に必要ならば絶縁性材料等からなる保、4層を積層して
もよい。
In the case of a substrate having an electrothermal converter of a liquid jet recording head as shown in Nos. 1 to 31λ, after forming a heating resistor layer on the support as described above, an electrode is placed on the heating resistor layer. A conductive layer (for example, an Au layer, an A1 layer) is formed, and then a conductive layer and a heat-generating resistive layer are patterned using photolithography, and if necessary, the layer is made of an insulating material, etc. However, four layers may be laminated.

また、第4図に示される様な液体噴射記録ヘッドの電気
熱変換体を有する基板の場合には、予め支持体上に導電
層を形成し、フォトリソグラフィー技術を用いて該導電
層のバターニングを行なった後に、以上の様なグロー放
電法またはスパッタリング法による発熱抵抗層の形成が
行なわれる。
In addition, in the case of a substrate having an electrothermal converter of a liquid jet recording head as shown in FIG. 4, a conductive layer is formed on the support in advance, and the conductive layer is patterned using photolithography technology. After this, a heat generating resistor layer is formed by the glow discharge method or sputtering method as described above.

溝付の天板としては、たとえば上記支持体と同様な材質
からなり、適宜の手段たとえばマイクロカッターによる
機械的切削や化学的エツチング等により、また天板が感
光性ガラス等の場合には所望のパターンの露光、現像に
より溝を形成したものを利用することができる・ 電気熱変換体を有する基板と天板との接合は位置合せを
十分に行なった丘でたとえば接着剤による接着や天板の
材質によっては熱融着によって行なうことができる。
The grooved top plate may be made of the same material as the above-mentioned support, for example, by mechanical cutting with a microcutter, chemical etching, etc., or if the top plate is made of photosensitive glass, the desired shape can be formed. A substrate with grooves formed by exposing and developing a pattern can be used. The board with the electrothermal transducer and the top plate can be joined with a well-aligned hill, for example by bonding with adhesive or by attaching the top plate. Depending on the material, this can be done by heat fusion.

以上の実施態様例においては、第7図に部分斜視図を示
す様なタイプの液体噴射記録ヘット即ち記録液吐出口2
6が天板20に形成された溝22の方向に開口している
ヘッドについて説明したが、本発明においては第8図に
示される様に液体吐出口26が天板20に直接設けられ
ていてもよい、第8図のタイプのヘッドにおいては天板
20に形成された溝2この端部の開口は記録液導入口と
して利用され、記録液は吐出口26から矢印Yの方向に
吐出する。もちろん、t+弯22の端部は一方が閉じら
れた形状となっていてもよく、記録液の導入も少なくと
も一方の開口から行なわればよい。
In the embodiment described above, a liquid jet recording head of the type shown in a partial perspective view in FIG.
Although the head 6 has been described as opening in the direction of the groove 22 formed in the top plate 20, in the present invention, the liquid discharge port 26 is provided directly in the top plate 20 as shown in FIG. In the head of the type shown in FIG. 8, the opening at the end of the groove 2 formed in the top plate 20 is used as a recording liquid inlet, and the recording liquid is discharged from the discharge port 26 in the direction of arrow Y. Of course, one end of the t+ curve 22 may be closed, and the recording liquid may be introduced from at least one opening.

次に、本発明液体噴射記録ヘッドの変形例を示す。Next, a modification of the liquid jet recording head of the present invention will be described.

第9図は上記第8図におけるIX−IX断面図である。FIG. 9 is a sectional view taken along line IX-IX in FIG. 8.

この場合には天板20の溝22の部分以外は電気熱変換
体を有する基板と密着している。従って、天板20の谷
溝z2に対応して形成される各熱作用部24は支持体1
2との密着部分よりなるバリヤ部30により星いに遮断
されている。尚、第9図において各発熱部18は各吐出
口26に対応して設けられている。
In this case, the portion of the top plate 20 other than the groove 22 is in close contact with the substrate having the electrothermal converter. Therefore, each heat acting part 24 formed corresponding to the valley groove z2 of the top plate 20 is connected to the support body 1.
The barrier portion 30, which is a portion in close contact with the portion 2, is used to block the cylindrical portion 2. In addition, in FIG. 9, each heat generating part 18 is provided corresponding to each discharge port 26.

第10〜12図はその他の例を示す第9図に対応する断
面図である。
10 to 12 are sectional views corresponding to FIG. 9 showing other examples.

第10図の場合にはバリヤ部30が支持体12とは完全
には密着しておらず、各発熱部18に対応する熱作用部
24は互いに連通している。
In the case of FIG. 10, the barrier part 30 is not in complete contact with the support body 12, and the heat acting parts 24 corresponding to each heat generating part 18 are in communication with each other.

第11図の場合にはバリヤ部30が天板20ではなく基
板に形成されており、上記第10図の場合と同様各発熱
部18に対応する熱作用部24は互いに連通している。
In the case of FIG. 11, the barrier section 30 is formed not on the top plate 20 but on the substrate, and the heat acting sections 24 corresponding to the respective heat generating sections 18 communicate with each other as in the case of FIG. 10 above.

第12図の場合には第9〜11図の場合の様なバリヤ部
は形成されていない。
In the case of FIG. 12, no barrier portion is formed as in the cases of FIGS. 9 to 11.

以上の第9〜12図は第8図に示されるタイプの液体噴
射記録ヘッドについてのものであるが、第7図に示され
るタイプのものについても同様である。
Although FIGS. 9 to 12 above relate to the liquid jet recording head of the type shown in FIG. 8, the same applies to the type of liquid jet recording head shown in FIG.

バリヤ部(壁)30は上記した様に必ず設けなければな
らないというものではない、隣接する吐出口から吐出さ
れる液体の吐出方向や吐出速度、または吐出量等に影響
を与えても飛翔液滴の被記録部材への着弾点に許容範囲
を越える誤差がでなければバリヤ部は必ずしも設ける必
要はない。しかし、吐出口間相互の影響を一層少なくす
るためやエネルギー効率(液体の吐出効率)を向上させ
るためにはバリヤ部を設けることは好ましい、また、バ
リヤ部は天板に一体的に形成されてもよいしバリヤ部の
みが別部材とされていてもよいのはもちろんである。平
板な天板としては前記溝付き天板と同様の材質を用いる
ことができる。また、バリヤ部及び天板としては感光性
樹脂を用いることもできる。
The barrier part (wall) 30 does not necessarily have to be provided as described above, and even if it affects the ejection direction, ejection speed, or ejection amount of the liquid ejected from the adjacent ejection ports, the flying droplets may be prevented. It is not necessarily necessary to provide a barrier section unless there is an error exceeding an allowable range in the point of impact on the recording member. However, in order to further reduce the mutual influence between the discharge ports and to improve energy efficiency (liquid discharge efficiency), it is preferable to provide a barrier section, and the barrier section is preferably formed integrally with the top plate. Of course, only the barrier portion may be a separate member. The flat top plate may be made of the same material as the grooved top plate. Moreover, a photosensitive resin can also be used for the barrier part and the top plate.

以下に1本発明液体噴射記録ヘッドの具体的実施例を示
す。
A specific example of the liquid jet recording head of the present invention will be shown below.

[実施例] 先ず、以下の実施例及び比較例において使用される電気
熱変換体を有する基板を次の要領で作成した。
[Example] First, a substrate having an electrothermal converter used in the following Examples and Comparative Examples was prepared in the following manner.

支持体としては、コーニング社製の#7059ガラス、
表面層として熱酸化5i02蓄熱層(厚さ5Bm)を設
けたSt板を用いた。
As a support, #7059 glass manufactured by Corning Co., Ltd.
An St plate provided with a thermally oxidized 5i02 heat storage layer (thickness 5 Bm) as a surface layer was used.

支持体上に発熱抵抗層及び電極、ならびに場合により更
に保護層を形成する。これら発熱抵抗層、電極及び保護
層の層構成は以下のA、B、Cの3種類のタイプとした
A heating resistance layer, an electrode, and optionally a protective layer are formed on the support. The layer configurations of the heating resistor layer, electrode, and protective layer were of the following three types: A, B, and C.

タイプA 支持体上に第6図に示される堆積装置を用いて発熱抵抗
層を形成した。堆積の際の条件は第1表及び第2表にそ
れぞれ示される通りである。尚、第1表記載の実施例は
グロー放電法で行なわれ、また第2表記載の実施例及び
比較例はスパッタリング法により行なわれた。スパッタ
リングの際のターゲットとしては比較例を除いてグラフ
ァイト(99,99%)が用いられ、比較例はHfB2
が用いられた。
A heating resistor layer was formed on the Type A support using the deposition apparatus shown in FIG. The conditions during the deposition are as shown in Tables 1 and 2, respectively. The Examples listed in Table 1 were carried out by the glow discharge method, and the Examples and Comparative Examples listed in Table 2 were carried out by the sputtering method. Graphite (99,99%) was used as a target during sputtering except for the comparative example, and the comparative example was HfB2.
was used.

堆積中において各ガスの流量及びその他の条件は第1表
及び第2表にそれぞれ示されるとおりに保たれ、第3表
に示される厚さの発熱抵抗層が形成された1次に、その
発熱抵抗層上に電子ビーム法によりAt層を形成しフォ
トリソグラフィー技術によりレジストパターンを形成し
、A1層を所望の形状にエツチングして複数対の電極を
形成した。続いて、フォトリソグラフィー技術によりレ
ジストパターンを形成してHF系エツチング液を用いて
所定の部分の発熱抵抗層を除去した。その−例として、
40μmX200終mの発熱抵抗層の部分からなる発熱
部に上記電極が付されている発熱抵抗素子を形成した。
During the deposition, the flow rate of each gas and other conditions were maintained as shown in Tables 1 and 2, respectively, and the heating resistance layer was formed on the primary layer with the thickness shown in Table 3. An At layer was formed on the resistance layer by an electron beam method, a resist pattern was formed by a photolithography technique, and the A1 layer was etched into a desired shape to form a plurality of pairs of electrodes. Subsequently, a resist pattern was formed by photolithography, and predetermined portions of the heating resistor layer were removed using an HF-based etching solution. As an example,
A heat generating resistor element was formed in which the above electrode was attached to a heat generating portion consisting of a portion of the heat generating resistor layer measuring 40 μm x 200 m.

この発熱部は8個/mmピッチで配列した。The heat generating parts were arranged at a pitch of 8 pieces/mm.

次に、感光性ポリイミド(商品名フォトニース)をスピ
ンコードする。そして、80℃で1時間プリベークし、
アライナ−で露光後、現像し。
Next, a photosensitive polyimide (trade name: Photonice) is spin-coded. Then, prebaked at 80℃ for 1 hour,
After exposure with an aligner, develop.

発8部を窓あけ構造とした構成にする。そして、140
℃で30分更に400℃で1峙間ポストベークをして電
気熱変換体を有する基板が完成する。
The 8th section of the building will be constructed with a window opening structure. And 140
After baking at 400°C for 30 minutes and 1 hour at 400°C, a substrate having an electrothermal transducer is completed.

尚、かくして得られた電気熱変換体の各発熱部の抵抗は
:53表に示される通りであった。
The resistance of each heat generating part of the electrothermal converter thus obtained was as shown in Table 53.

尚、感光性ポリイミドはAlfi極のインク中における
電解を防ぐためのものである。
Note that the photosensitive polyimide is used to prevent electrolysis in the ink of the Alfi electrode.

完成した電気熱変換体を有する基板の模式的斜視図を第
13図に、模式的断面図を第14図に示す8図において
、28はポリイミド層である。
In FIG. 8, a schematic perspective view of a completed substrate having an electrothermal converter is shown in FIG. 13, and a schematic cross-sectional view is shown in FIG. 14, 28 is a polyimide layer.

タイプB タイプAの場合と同様にして支持体上に発熱抵抗層を形
成した。堆積の案件は第1表及び第2表にそれぞれ示さ
れる通りである。なお、堆積中において各ガスの流量及
びその他の条件は第1表及び第2表にそれぞれ示される
とおりに保たれ、第3表に示される厚さの発熱抵抗層を
か形成された。次に、その発熱抵抗層上に電子ビーム法
によりAu層を形成しフォトリソグラフィー技術によリ
レジス]・パターンを形成しAu層を所望の形状にエツ
チングして複数対の電極を形成した。続いて、フォトリ
ソグラフィー技術によりレジストパターンを形成してH
F系エツチング液を用いて所定の部分の発熱抵抗層を除
去した。その−例として40gmX200pmの発熱抵
抗層の部分からなる発熱部にL記電極が伺されている発
熱抵抗素子を形成した。この発熱部は8個/mmピッチ
で配列した。かくして、電気熱変換体を有する基板が完
成する。
Type B A heating resistance layer was formed on the support in the same manner as in Type A. The deposition cases are shown in Tables 1 and 2, respectively. Note that during the deposition, the flow rate of each gas and other conditions were maintained as shown in Tables 1 and 2, respectively, and a heat generating resistive layer having the thickness shown in Table 3 was formed. Next, an Au layer was formed on the heating resistor layer by an electron beam method, a re-registration pattern was formed by a photolithography technique, and the Au layer was etched into a desired shape to form a plurality of pairs of electrodes. Next, a resist pattern is formed using photolithography technology, and H
Predetermined portions of the heating resistor layer were removed using an F-based etching solution. As an example, a heat generating resistor element was formed in which an L-shaped electrode was placed on a heat generating portion consisting of a heat generating resistor layer of 40 gm x 200 pm. The heat generating parts were arranged at a pitch of 8 pieces/mm. In this way, a substrate having an electrothermal transducer is completed.

尚、かくして得られた電気熱変換体の各発熱部の抵抗は
第3表に示される通りであった。
The resistance of each heat generating part of the electrothermal converter thus obtained was as shown in Table 3.

完成した電気熱変換体を有する基板の模式的斜視図を第
15図に、模式的断面図を第16図に示す。
A schematic perspective view of a completed substrate having an electrothermal converter is shown in FIG. 15, and a schematic cross-sectional view is shown in FIG. 16.

タイプC 支持体上に電子ビーム法によりA1層を形成しフォトリ
ソグラフィー技術によりレジストパターンを形成しA1
層を所望の形状にエツチングして複数対の電極を形成し
た0次に、パターンが形成されたA1層の上に発熱抵抗
層を形成した。
Type C A1 layer is formed on the support by electron beam method, and a resist pattern is formed by photolithography technique.
After etching the layer into a desired shape to form a plurality of pairs of electrodes, a heating resistor layer was formed on the patterned A1 layer.

発熱抵抗層はタイプAの場合と同様にして形成された。The heating resistance layer was formed in the same manner as in the case of type A.

堆積の条件は第1表及び第2表にそれぞれ示される通り
に保たれ、第3表に示される厚さの発熱抵抗層が形成さ
れた。続いて、フォトリソグラフィー技術によりレジス
トパターンを形成してHF系エツチング液を用いて所定
の部分の発熱抵抗層を除去した。その−例として40g
mX200gmの発熱抵抗層の部分からなる発熱部に上
記電極が付されている発熱抵抗素子を形成した。
The deposition conditions were maintained as shown in Tables 1 and 2, respectively, and heat generating resistive layers having the thicknesses shown in Table 3 were formed. Subsequently, a resist pattern was formed by photolithography, and predetermined portions of the heating resistor layer were removed using an HF-based etching solution. - As an example, 40g
A heat generating resistor element was formed in which the above electrode was attached to a heat generating portion consisting of a heat generating resistor layer of m×200 gm.

この発熱部は8個/mmピッチで配列した。尚。The heat generating parts were arranged at a pitch of 8 pieces/mm. still.

A1電極はこの発熱抵抗層によって保護されているので
保護膜を形成する必要はない。かくして、電気熱変換体
を有する基板が完成する。
Since the A1 electrode is protected by this heating resistance layer, there is no need to form a protective film. In this way, a substrate having an electrothermal transducer is completed.

尚、かくして得られた電気熱変換体の各発熱部の抵抗は
第3表に示される通りであった。
The resistance of each heat generating part of the electrothermal converter thus obtained was as shown in Table 3.

完成した電気熱変換体を有する基板の模式的斜視図を第
17図に、模式的断面図を第18図に示す。
A schematic perspective view of a completed substrate having an electrothermal converter is shown in FIG. 17, and a schematic cross-sectional view is shown in FIG. 18.

以上の様にして完成した電気熱変換体を有する基板を用
いて液体噴射記録へ71゛を作成する。作成されるヘッ
ドには上記第7図に示されるタイプ(以下、タイプ1と
いう)及び上記第8図に示されるタイプ(以下、タイプ
2という)がある。
Using the substrate having the electrothermal transducer completed as described above, a liquid jet recording device 71 is created. The heads to be produced include the type shown in FIG. 7 (hereinafter referred to as type 1) and the type shown in FIG. 8 (hereinafter referred to as type 2).

タイプlについては2種類の作成方法により、また夕・
Cプ2については1種類の作成方法により作成が行なわ
れた。以下、それらの作成方法について述へる。
For type l, there are two ways to create
C-P2 was created using one type of creation method. The method for creating them will be described below.

タイプ1−1 先ず、第19図の模式的斜視図に示す様に、ガラス板4
0に複数本の溝22(幅40ルm、深さ4ogm)と共
通インク室となる溝42とをマイクロカッターを用いて
切削形成してなる溝付きの天板20を作成する。
Type 1-1 First, as shown in the schematic perspective view of FIG.
A grooved top plate 20 is prepared by cutting a plurality of grooves 22 (width: 40 lm, depth: 4 ogm) and a groove 42 serving as a common ink chamber on a micro-cutter using a micro-cutter.

次に、上記で完成した基板と天板20とを発熱部と溝2
2との位置合せをした上で接合し、更に第20図の模式
的斜視図に示す様に不図示のインク供給部から共通イン
ク室にインクを導入するためのインク導入管44を接続
して記録へラド46を一体的に完成した。
Next, the substrate completed above and the top plate 20 are connected to the heat generating part and the groove 2.
2 and then joined together, and furthermore, as shown in the schematic perspective view of FIG. 20, an ink introduction pipe 44 for introducing ink from an ink supply section (not shown) to the common ink chamber is connected. Record Rad 46 was completed in one piece.

タイプ1−2 上記で完成した基板上に感光性フィルム50(商品名オ
ーディール、東京応化)をラミネートする。そして、Y
ライナーで露光し、現像し、所望のパターン形状に作成
する0次に、感光性樹脂フィルム52(商品名オーディ
ール、東京応化)をラミネートしたガラス板54を上記
のパターン形成したフィルム上にはりあわせ接合する。
Type 1-2 A photosensitive film 50 (trade name: Odile, Tokyo Ohka) is laminated on the substrate completed above. And Y
A glass plate 54 laminated with a photosensitive resin film 52 (trade name Odile, Tokyo Ohka) is then laminated onto the patterned film. Join.

そして、この接合体をたとえばダイシング切断等の機械
加工により整形して吐出口26を形成し、更に不図示の
インク供給部から共通インク室にインク導入管44を接
続して、第21図の模式的斜視図に示す様な記録ヘッド
56が一体的に完成した。
Then, this joined body is shaped by machining such as dicing to form the discharge port 26, and an ink introduction pipe 44 is connected from an ink supply section (not shown) to the common ink chamber, as shown in the schematic diagram of FIG. A recording head 56 as shown in the perspective view was integrally completed.

タイプ2 先ず、吐出口26が形成された天板20を作成する。天
板20はエツチングなどで溝をつけたステンレス板上に
感光性フィルム(商品名PHT−145FT−,50、
日立化成)のパターンを形成し、そしてその上にNiメ
ッキで電鋳をして作成する。吐出口26として穴があく
部分は感光性フィルムのパターンがあるところである。
Type 2 First, the top plate 20 in which the discharge port 26 is formed is created. The top plate 20 is a stainless steel plate with grooves formed by etching, etc., and a photosensitive film (product name: PHT-145FT-, 50,
Hitachi Chemical) pattern is formed, and Ni plating is electroformed on top of the pattern. The portion where the hole is formed as the discharge port 26 is where the pattern of the photosensitive film is located.

この様にして作成した天板20と上記で完成した基板と
を発熱部とこれに対応した吐出口26とで位置合せをし
て接着剤で接合する。尚、基板は天板20内にインクが
供給できる様に、機械加工で穴をあけである8次に、接
合した基板の背面に不図示のインク供給部から共通イン
ク室にインクを導入するための導入管60を接合して第
22図の模式的斜視図に示す様な記録ヘッド62を一体
的に完成した。尚、64は天板20の凹部であリバリャ
部を構成する。
The top plate 20 created in this way and the substrate completed above are aligned with the heat generating parts and the discharge ports 26 corresponding thereto, and then bonded with adhesive. Incidentally, the board is machined to make holes so that ink can be supplied into the top plate 20.Next, in order to introduce ink into the common ink chamber from an ink supply section (not shown) on the back side of the joined board, The introduction tube 60 was joined to integrally complete a recording head 62 as shown in the schematic perspective view of FIG. Note that 64 is a recessed portion of the top plate 20 and constitutes a rebarrier portion.

電気熱変換体を有する基板の層構成のタイプA、タイプ
B、タイプCとヘッド作成方法のタイプ1−1.タイプ
1−2.タイプ2どの組合せがあるが、以下の耐久性実
験においてはタイプAとタイプ1−1との組合せが用い
られた。
Type A, Type B, and Type C of the layer structure of the substrate having an electrothermal converter and the head manufacturing method Type 1-1. Type 1-2. Although there are any combinations of type 2, a combination of type A and type 1-1 was used in the following durability experiment.

以下1作成された記録ヘッドの耐久性についての実験に
ついて述べる。
An experiment on the durability of the produced recording head will be described below.

以上において作成された記録ヘッドには各発熱部に関す
る個別の電極17と各発熱部に共通の電極16とにそれ
ぞれ接続されている電極リード(個別電極リード及び共
A電極リード:不図示)を有するリード基板が付設され
、記録ヘッドユニットが完成した。
The recording head created above has electrode leads (individual electrode leads and common A electrode leads: not shown) connected to individual electrodes 17 for each heat generating part and electrodes 16 common to each heat generating part. A lead board was attached and the recording head unit was completed.

これら記録ヘッドユニットを用いて、第23図に概略斜
視図の示される様な液体噴射記録装置を構成した。
Using these recording head units, a liquid jet recording apparatus as shown in a schematic perspective view in FIG. 23 was constructed.

第23図において、70は記録ヘッドユニットであり、
72は該記録へ−Iドユニット70の載置されているキ
ャリッジであり、74は3にキャリッジ72の往復移動
のためのガイド部材である。また、76はプラテンであ
り、78は該プラテン76上に保持されている被記録部
材たとえば紙である。
In FIG. 23, 70 is a recording head unit;
72 is a carriage on which the recording unit 70 is placed, and 74 is a guide member for reciprocating the carriage 72. Further, 76 is a platen, and 78 is a recording member held on the platen 76, such as paper.

記録ヘッドユニット70の記録液吐出口は矢印Zの方向
を向いており、記録液は該矢印方向に液滴となって吐出
せしめられ、プラテン76上の被記録部材78上にドツ
ト状に付着する。適宜の駆動手段により記録ヘッドユニ
ット70をガイド部材74に沿って移動させることによ
り主走査が行なわれ、一方適宜の駆動手段によりプラテ
ン76を回転軸77のまわりに回転させることにより副
走査が行なわれ、これにより被記録部材78上に記録が
行なわれる。
The recording liquid ejection ports of the recording head unit 70 are oriented in the direction of arrow Z, and the recording liquid is ejected in the form of droplets in the direction of the arrow, and is deposited in the form of dots on the recording member 78 on the platen 76. . Main scanning is performed by moving the recording head unit 70 along the guide member 74 by an appropriate driving means, and sub-scanning is performed by rotating the platen 76 around a rotation axis 77 by an appropriate driving means. , whereby recording is performed on the recording member 78.

実験条件は次の通りであった。The experimental conditions were as follows.

発熱部にt 0JLs e cのパルス幅、200IL
secのパルス入力周期で最低発泡電圧(インク中で発
泡しはじめる電圧)の12倍の電圧(たとえば最低発泡
電圧が20Vであれば24■)の矩形パルスを印加した
。用いたインクの組成は以下の通りであった。
Pulse width of t0JLs e c, 200IL in the heat generating part
A rectangular pulse with a voltage 12 times the minimum bubbling voltage (the voltage at which bubbling begins in the ink) (for example, 24 cm if the minimum bubbling voltage is 20 V) was applied with a pulse input period of sec. The composition of the ink used was as follows.

水          68重量部 DEC30重量部 黒色染料       −2重量部 り記実験条件及びインクを用いてインク滴吐出実験を行
なったところ、第3表に示す様な耐久性評価が得られた
Water: 68 parts by weight DEC: 30 parts by weight Black dye - 2 parts by weight When an ink droplet ejection experiment was conducted using the experimental conditions and ink described above, durability evaluations as shown in Table 3 were obtained.

なお、このらの実施例及び比較例における耐久性の評価
は次の通り電虱的パルスの崩返し印加可能回数により行
なった。即ち、第3表中の耐久性の欄に示されている「
○」、「×」は、以下の通り電気的パルスの繰返し印加
回数が何回であったかを示している。
The durability of these Examples and Comparative Examples was evaluated based on the number of times that electrical pulses could be applied in the following manner. In other words, "
"○" and "x" indicate the number of times the electrical pulse was repeatedly applied as shown below.

Q      10’1回以北 ×     100回以下 以1−の結果から、本発明の実施例においては比較例に
比べで著しく優れた耐久性を有する記録−・ラドが得ら
れたことが分る。また1本発明実施例においては記録性
も優れていいるものであった。
From the results of Q 10' 1 time or more x 100 times or less, it can be seen that in the examples of the present invention, records with significantly superior durability compared to the comparative examples were obtained. Furthermore, in one example of the present invention, the recording performance was also excellent.

上記耐久性実験においてはL記タイプAとタイプ1−1
との組合せが用いられたが、他の組合せにおいても同様
の結果が得られた。
In the above durability experiment, L type A and type 1-1 were used.
Similar results were obtained with other combinations.

第3表 次に、本発明液体噴射記録装厩の一実施態様例の一部切
欠斜視図を第24図に示す。
Table 3 Next, FIG. 24 shows a partially cutaway perspective view of an embodiment of the liquid jet recording device of the present invention.

本実施悪様例においては、2個の記録ヘッドユニット7
oがそれぞれ押え部材71により並列にキャリッジ72
に固定されて載置されている。記録ヘッドユニット70
はいわゆる使い捨てタイプのものであり、記録液を内蔵
している。キャリッジ72のガイド部材74に沿っての
移動は、プーリ80,81間に巻回されたワイヤ82の
一部を上記午ヤリッジ72に固定しておき、モータ84
によりプーリ81を駆動回転させることにより行なわれ
る。
In this example of bad implementation, two recording head units 7
o are held in parallel by the carriage 72 by the pressing member 71.
It is fixed and placed on. Recording head unit 70
is a so-called disposable type, and contains recording liquid. The movement of the carriage 72 along the guide member 74 is achieved by fixing a part of the wire 82 wound between the pulleys 80 and 81 to the shaft ridge 72, and moving the carriage 72 along the guide member 74 using the motor 84.
This is done by driving and rotating the pulley 81.

一方、プラテン76の回転軸77はモータ86及びギヤ
機構88により駆動回転せしめられ、これにより被記録
部材78が送られる。
On the other hand, the rotating shaft 77 of the platen 76 is driven and rotated by a motor 86 and a gear mechanism 88, thereby feeding the recording member 78.

90はキャリッジ72を介して記録へ7ドユニツ)70
に対しZ方向への記録液の吐出の電気信号を供給するた
め、キャリッジ72に接続されているフレキシブル配線
板である。
90 is recorded via the carriage 72) 70
This is a flexible wiring board connected to the carriage 72 in order to supply an electric signal for ejecting recording liquid in the Z direction.

[発明の効果] 以上の様な本発明によれば、発熱抵抗層として炭素原子
を母体としハロゲン原子と電気伝導性支配物質とを含有
してなる非晶質材料を用いていることにより、化学的安
定性が高く、耐電気化学反応性、耐酸化性に優れ、且つ
#機械的衝撃性、1耐熱性に優れた電気熱変換体を有し
、従って熱応答性及び繰返し使用耐久性が極めて良好な
液体噴射記録ヘッド及び液体噴射記録装置が提供される
[Effects of the Invention] According to the present invention as described above, chemical It has high mechanical stability, excellent electrochemical reactivity resistance, oxidation resistance, and an electrothermal converter with excellent mechanical impact resistance and heat resistance. Therefore, it has extremely high thermal response and repeated use durability. A good liquid jet recording head and liquid jet recording device are provided.

本発明によれば特に発熱抵抗層の抵抗値制御性が良好で
ある。
According to the present invention, the resistance value controllability of the heating resistance layer is particularly good.

よって1本発明により高周波数応答でしかも信頼性の高
い液体噴射記録を実現することが可能となる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to realize liquid jet recording with high frequency response and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明記録ヘッドの部分平面図であり、第2図
はその■−■断面図であり、第3図は第2図のm−m断
面図である。 第4図及び第5図は本発明記録ヘッドの電気熱変換体奢
有する基板の部分断面図である。 第6図は堆積装置の模式的説明図である。 第7図及び第8図は本発明記録ヘッドの部分斜視図であ
る。 第9図〜第12図は本発明記録ヘッドの部分断面図であ
る。 第13図、第15図及び第17図は本発明記録ヘッドの
電気熱変換体を有する基板の斜視図であり、第14図、
第16図及び第18図はそれぞれそれらの断面図である
。 第19図は本発明記録ヘッドの天板の斜視図である。 第20図、第21図及び第22図は本発明記録ヘッドの
斜視図である。 第23図は本発明記録装置の斜視図である。 第24図は本発明記録装置の一部切欠斜視図である。 12:支持体    24:発熱抵抗層16.17:電
極  18:発熱部 20:天板     24:熱作用部 26二吐出口 第7図 第8図 第 9図 第10閃 第13図 第14  図゛
FIG. 1 is a partial plan view of the recording head of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line 1--2, and FIG. 3 is a sectional view taken along line mm in FIG. 4 and 5 are partial cross-sectional views of a substrate containing an electrothermal transducer of the recording head of the present invention. FIG. 6 is a schematic illustration of the deposition apparatus. 7 and 8 are partial perspective views of the recording head of the present invention. 9 to 12 are partial sectional views of the recording head of the present invention. FIGS. 13, 15, and 17 are perspective views of a substrate having an electrothermal transducer of the recording head of the present invention, and FIGS.
FIGS. 16 and 18 are sectional views thereof, respectively. FIG. 19 is a perspective view of the top plate of the recording head of the present invention. 20, 21, and 22 are perspective views of the recording head of the present invention. FIG. 23 is a perspective view of the recording apparatus of the present invention. FIG. 24 is a partially cutaway perspective view of the recording apparatus of the present invention. 12: Support 24: Heat generating resistance layer 16. 17: Electrode 18: Heat generating part 20: Top plate 24: Heat acting part 26 Two discharge ports Fig. 7 Fig. 8 Fig. 9 Fig. 10 Flash Fig. 13 Fig. 14

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)液体を吐出して飛翔的液滴を形成するために設け
られた吐出口と前記飛翔的液滴を形成するために利用さ
れる熱エネルギーを発生する電気熱変換体とを具備する
液体噴射記録ヘッドにおいて、前記電気熱変換体を構成
する発熱抵抗層が炭素原子を母体としハロゲン原子と電
気伝導性を支配する物質とを含有してなる非晶質材料か
らなることを特徴とする、液体噴射記録ヘッド。
(1) A liquid comprising an ejection port provided for ejecting a liquid to form flying droplets, and an electrothermal converter that generates thermal energy used to form the flying droplets. The ejection recording head is characterized in that the heating resistance layer constituting the electrothermal converter is made of an amorphous material containing carbon atoms as a matrix, halogen atoms, and a substance controlling electrical conductivity. Liquid jet recording head.
(2)液体を吐出して飛翔的液滴を形成するために設け
られた吐出口と前記飛翔的液滴を形成するために利用さ
れる熱エネルギーを発生する電気熱変換体とを具備する
液体噴射記録ヘッドを搭載してなる液体噴射記録装置に
おいて、前記電気熱変換体を構成する発熱抵抗層が炭素
原子を母体としハロゲン原子と電気伝導性を支配する物
質とを含有してなる非晶質材料からなることを特徴とす
る、液体噴射記録装置。
(2) A liquid comprising an ejection port provided for ejecting liquid to form flying droplets, and an electrothermal converter that generates thermal energy used to form the flying droplets. In a liquid jet recording device equipped with a jet recording head, the heating resistance layer constituting the electrothermal converter is an amorphous layer made of carbon atoms as a matrix and containing halogen atoms and a substance controlling electrical conductivity. A liquid jet recording device characterized by being made of a material.
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