JPS61284451A - Liquid jet recording head and apparatus - Google Patents

Liquid jet recording head and apparatus

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JPS61284451A
JPS61284451A JP12515785A JP12515785A JPS61284451A JP S61284451 A JPS61284451 A JP S61284451A JP 12515785 A JP12515785 A JP 12515785A JP 12515785 A JP12515785 A JP 12515785A JP S61284451 A JPS61284451 A JP S61284451A
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JP
Japan
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heat
layer
liquid
recording head
resistance
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Pending
Application number
JP12515785A
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Japanese (ja)
Inventor
Masao Sugata
菅田 正夫
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Shinichi Hirasawa
平澤 伸一
Hirokazu Komuro
博和 小室
Yasuhiro Yano
泰弘 矢野
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/03Specific materials used

Abstract

PURPOSE:To make excellent in electrochemical reaction resistance, oxidation resistance, mechanical impact resistance and heat resistance and to further enhance heat response, by forming a heat-generating resistor layer from an amorphous material having carbon atoms as a matrix and containing hydrogen atoms and a substance dominating electric conductivity. CONSTITUTION:A plurality of sets each consisting of a heat-generating resistor layer 14 and a pair of electrodes 16, 17 connected to said layer 14 are together provided on a support 12 and effective heat-generating parts 18, 18', 18'' are arranged to said support at predetermined intervals. The heat generating resistor layer 14 comprises an amorphous material based on carbon atoms and containing hydrogen atoms and a substance dominating electric conductivity. As the substance dominating electric conductivity, P-type impurities imparting a P-type conductive characteristic and N-type impurities imparting a N-type conductive characteristic can be utilized. Because the heat-generating resistor layer has high durability to mechanical impact and excellent chemical stability, no protective layer is especially required. Therefore, the liquid jet recording head using the heat-generating resistor layer is improved in heat stability because the energy generated with the input of a signal is imparted to a liquid in an extremely efficient manner.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は液体噴射記録ヘッド及び該記録ヘッドを搭載し
た液体噴射記録装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a liquid jet recording head and a liquid jet recording apparatus equipped with the recording head.

[従来の技術] 現在知られている各種の記録法のなかでも、記録時に騒
音の発生がほとんどないノンインパクト記録方式であっ
て且つ高速記録が可俺であり、しかも普通紙に特別の定
着処理を必要とせずに記録の行なえるいわゆるインクジ
ェット記録法は、極めて有用な記録方式であると認めら
れている。このインクジェット記録法については、これ
までにも様々な方式が提案され改良が加えられて商品化
されたものもあれば現在もなお実用化への努力が続けら
れているものもある。
[Prior Art] Among the various recording methods currently known, it is a non-impact recording method that generates almost no noise during recording, is capable of high-speed recording, and uses a special fixing process on plain paper. The so-called inkjet recording method, which allows recording without the need for a recording medium, is recognized as an extremely useful recording method. Regarding this inkjet recording method, various methods have been proposed so far, some of which have been improved and commercialized, and efforts are still being made to put some into practical use.

インクジェット記録法は、インクと称される記録液の液
滴(droplet)を種々の作用原理で飛翔させ、そ
れを紙等の被記録部材に付着させて記録を行なうもので
ある。
In the inkjet recording method, recording is performed by causing droplets of a recording liquid called ink to fly based on various working principles and making them adhere to a recording member such as paper.

そして1本件出願人もかかるインクジェット記録法に係
わる新規方式について既に提案を行なっている。この新
規方式は特開昭52−118798号公報において提案
されており、その基本原理は次に概説する通りである。
The present applicant has also already proposed a new system related to such an inkjet recording method. This new method has been proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 52-118798, and its basic principle is as outlined below.

つまり、このインクジェット記録方式は、記録液を収容
することのできる作用室中に導入された記録液に対して
情報信号として熱的パルスを与え、これにより記録液が
蒸気泡を発生し自己収縮する過程で生ずる作用力に従っ
て前記作用室に連通せる吐出口より前記記録液を吐出し
て小液滴として飛翔せしめ、これを被記録部材に付着さ
せて記録を行なう方式である。
In other words, in this inkjet recording method, a thermal pulse is applied as an information signal to the recording liquid introduced into an action chamber that can contain the recording liquid, whereby the recording liquid generates vapor bubbles and self-contracts. In this method, the recording liquid is ejected from an ejection port communicating with the action chamber according to the acting force generated in the process, and is caused to fly as small droplets, which are attached to a recording member to perform recording.

ところで、この方式は高密度マルチアレー構成にして高
速記録、カラー記録に適合させやすく、実施装置の構成
が従来のそれに比べて簡略であるため、記録ヘッドとし
て全体的にはコンパクト化が図れ且つ量産に向くこと、
半導体分野において技術の進歩と信頼性の向上が著しい
IC技術やマイクロ加工技術の長所を十二分に利用する
ことで長尺化が容易であること等の利点があり、適用範
囲の広い方式である。
By the way, this method has a high-density multi-array configuration and is easily adapted to high-speed recording and color recording, and the configuration of the implementation device is simpler than conventional ones, so the overall recording head can be made more compact and mass-produced. to turn towards;
By making full use of the advantages of IC technology and micro-processing technology, which have seen remarkable technological progress and improved reliability in the semiconductor field, it has the advantage of being easy to lengthen, and is a method with a wide range of applications. be.

上記液体噴射記録装この特徴的な記録ヘッドには、吐出
口より液体を吐出して飛翔的液滴を形成する手段として
の電気熱変換体が設けられている。
The above-mentioned liquid jet recording device This characteristic recording head is provided with an electrothermal transducer as a means for ejecting liquid from an ejection port to form flying droplets.

該電気熱変換体は、発生する熱エネルギーを効率良く液
体に作用させること、液体への熱作用の0N−OFF応
答速度を高めること等のために、液体に直接接触する様
に吐出口が連通している熱作用部に設けられる構造とす
るのが望ましいとされている。
The electrothermal converter has a discharge port that communicates with the liquid so that it is in direct contact with the liquid in order to efficiently apply the generated thermal energy to the liquid and increase the ON-OFF response speed of the thermal effect on the liquid. It is said that it is desirable to have a structure in which the heat acting part is provided in a heat-acting part.

しかしながら、前記の電気熱変換体は通電されることに
よって発熱する発熱抵抗体と該発熱抵抗体に通電するた
めの一対の電極とで基本的には構成されているために、
発熱抵抗体が直に液体に接触する状態であると、記録用
の液体の電気抵抗値如何によっては該液体を通じて電気
が流れたり、液体を通じての電気の流れによって液体自
体が電気分解したり、あるいは発熱抵抗体への通電の際
に該発熱抵抗体と液体とが反応して1発熱抵抗体自体の
腐食による抵抗値の変化や発熱抵抗体の破損あるいは破
壊が起こったり、更には発熱抵抗体から発生される熱の
作用による熱の作用による液体の蒸気泡の発生から自己
消滅に至る状態変化に伴う機械的衝撃によって発熱抵抗
体の表面が破損したり、あるいは発熱抵抗体の一部に亀
裂が生ずる等して破壊されたりする場合があった。
However, since the electrothermal converter basically consists of a heating resistor that generates heat when energized and a pair of electrodes for energizing the heating resistor,
If the heating resistor is in direct contact with the liquid, depending on the electrical resistance of the recording liquid, electricity may flow through the liquid, or the liquid itself may be electrolyzed by the flow of electricity through the liquid. When the heating resistor is energized, the heating resistor reacts with the liquid, causing a change in resistance value due to corrosion of the heating resistor itself, damage or destruction of the heating resistor, or even damage from the heating resistor. The surface of the heating resistor may be damaged or a portion of the heating resistor may be cracked due to the mechanical impact caused by the change in state from the generation of liquid vapor bubbles to self-extinction due to the action of the generated heat. In some cases, it was destroyed due to the occurrence of damage.

そのために、従来においては、NiCr等の合金やZr
B2.HfB2等の金属ホウ化物等の比較的発熱抵抗体
材料としての特性に優れた無機材料で発熱抵抗体を構成
すると共に、該材料で構成された発熱抵抗体上に5i0
2等の耐酸化性に優れた材料で構成された保護層(上部
層)を設けることで発熱抵抗体が液体に直に接触するの
を防止して、前記の諸問題を解決し信頼性と緑返し使用
耐久性の向上を図ろうとすることが提案されていた。
For this reason, in the past, alloys such as NiCr and Zr
B2. The heating resistor is made of an inorganic material that has relatively excellent characteristics as a heating resistor material, such as metal boride such as HfB2, and 5i0 is applied on the heating resistor made of the material.
By providing a protective layer (upper layer) made of a material with excellent oxidation resistance such as No. It has been proposed to try to improve the durability of green leaves.

しかしながら、上記の様な構成の電気熱変換体が設けら
れた記録ヘッドを有する液体噴射記録装置は、記録用の
着色された液体として電気伝導度の比較的低い液体(例
えば液媒体として水やアルコールを用いたもの)を使用
する場合には、耐酸化性に優れ繰返し使用耐久性の点で
満足のいくものであるが、Haイオン等の含有率が高く
電気伝導度の大きな記録用の液体や電界質の液体を使用
する場合には、繰返し使用耐久性、耐経時的変化性の点
で不十分であった。従って、使用する記録用液体の選択
に制約があって、ことに多色あるいは天然色のカシ−記
録を行なう場合には障害となっていた。
However, a liquid jet recording device having a recording head equipped with an electrothermal converter having the above-mentioned configuration uses a liquid with relatively low electrical conductivity (for example, water or alcohol as a liquid medium) as a colored liquid for recording. When using a recording liquid with a high content of Ha ions and high electrical conductivity, it has excellent oxidation resistance and is satisfactory in terms of repeated use durability. When an electrolyte liquid is used, it is insufficient in terms of durability against repeated use and resistance to changes over time. Therefore, there are restrictions on the selection of the recording liquid to be used, which is particularly an obstacle when performing multicolor or natural color oak recording.

また、上記の様に発熱抵抗体上に保護層を設ける場合に
おいても、例えば層形成時に生ずる保護層自体の欠陥に
基づく発熱抵抗体側方向への液体の侵入を実質上完全に
防止することは再現性、量産性の点で非常に困難である
。ましてや、高密度に多数の熱作用部をその構成の一部
とする液流路(ノズル)を設ける。いわゆる高密度マル
チオリフィス化の場合には、少なくとも液流路数だけ電
気熱変換体を一度に設ける必要性から、先の保護層の欠
陥による不良化の電気熱変換体の製造歩留りへの影響は
製造コストの面も含めて大きな問題である。また、前記
保護層の存在により熱応答性が犠牲になるという問題も
ある。更に、保護層の存在により所定の電気信号に対す
る発熱応答性が犠牲になっている。従って、保護層がな
く、記録用の液体に発熱抵抗体が直に接触する状態であ
っても、耐熱性、耐酸化性、耐機械的衝撃性、耐電気化
学反応性、熱応答性に優れた電気熱変換体をA@する液
体噴射記録装置の開発が広く望まれている。
Furthermore, even when a protective layer is provided on the heating resistor as described above, it is possible to virtually completely prevent liquid from entering the heating resistor due to defects in the protective layer itself that occur during layer formation, for example. It is extremely difficult in terms of performance and mass production. Furthermore, a liquid flow path (nozzle) having a high density and a large number of heat acting parts as part of its structure is provided. In the case of so-called high-density multi-orifice technology, it is necessary to provide at least as many electrothermal converters as the number of liquid flow channels at once, so the impact of failure due to defects in the protective layer on the manufacturing yield of electrothermal converters is limited. This is a big problem, including in terms of manufacturing costs. Furthermore, there is also the problem that thermal responsiveness is sacrificed due to the presence of the protective layer. Furthermore, the presence of the protective layer sacrifices heat generation responsiveness to a given electrical signal. Therefore, even when there is no protective layer and the heating resistor is in direct contact with the recording liquid, it has excellent heat resistance, oxidation resistance, mechanical shock resistance, electrochemical reaction resistance, and thermal response. It is widely desired to develop a liquid jet recording device that uses an electrothermal transducer.

[発明の目的] 本発明は、上記の諸点に鑑みてなされたものであって、
前記の従来における諸問題を解決した優れた液体噴射記
録ヘッド及び該記録ヘッドを搭載した液体噴射記録装置
を提供することを主たる目的とする。
[Object of the invention] The present invention has been made in view of the above points, and
The main object of the present invention is to provide an excellent liquid jet recording head that solves the conventional problems described above, and a liquid jet recording apparatus equipped with the recording head.

本発明の別の目的は、特に化学的安定性が高く、耐電気
化学反応性、耐酸化性に優れ、且つ耐機械的衝撃性、耐
熱性にも優れ、更に保護層をなくずことにより熱応答性
を向丑させ得る発熱抵抗体を具備した液体噴射記録ヘッ
ド及び該記録ヘッドを搭載した液体噴射記録装置を提供
することである。
Another object of the present invention is to have particularly high chemical stability, excellent electrochemical reaction resistance, and oxidation resistance, as well as excellent mechanical impact resistance and heat resistance, and furthermore, by eliminating the protective layer, An object of the present invention is to provide a liquid jet recording head equipped with a heating resistor that can improve responsiveness, and a liquid jet recording apparatus equipped with the recording head.

[発明の概要] 本発明によれば、上記の目的は、液体を吐出して飛翔的
液滴を形成するために設けられた吐出口と前記飛翔的液
滴を形成するために利用される熱エネルギーを発生する
電気熱変換体とを具備する液体噴射記録ヘッドにおいて
、前記電気熱変換体を構成する発熱抵抗層が炭素原子を
母体とし水素原子と電気伝導性を支配する物質とを含有
してなる非晶質材料からなることを特徴とする、液体噴
射記録ヘッド、及び該液体噴射記録ヘッドを搭載した液
体噴射記録装置によって達成される。 以下、図面を参
照しながら本発明を具体的に説明する。
[Summary of the Invention] According to the present invention, the above-mentioned object includes an ejection port provided for ejecting a liquid to form flying droplets, and a heat utilized for forming the flying droplets. A liquid jet recording head comprising an electrothermal transducer that generates energy, wherein the heating resistance layer constituting the electrothermal transducer has carbon atoms as a matrix and contains hydrogen atoms and a substance that controls electrical conductivity. This is achieved by a liquid jet recording head characterized by being made of an amorphous material, and a liquid jet recording apparatus equipped with the liquid jet recording head. Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の液体噴射記録ヘッドの一実施態様例の
構成を示す部分平面図であり、第2図はそのn−n断面
図である。
FIG. 1 is a partial plan view showing the configuration of an embodiment of the liquid jet recording head of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line nn.

図において、12は電気熱変換体が設けられる支持体で
あり、14は電気熱変換体を構成する発熱抵抗層であり
、18.17は電気熱変換体を構成する対をなす電極で
ある。第1図に示される様に、発熱抵抗層14と該発熱
抵抗層14に接続された1対の電極16.17との組が
複数個併設されており、これによって有効発熱部18.
18’t a 、・・・・が所定の間隔をおいて配列さ
れている。尚、本実施態様例においては、一方の電極1
6は複数の電極がまとめられて共通の電極とされている
。各発熱部18.18’、18″。
In the figure, 12 is a support body on which an electrothermal converter is provided, 14 is a heating resistance layer constituting the electrothermal converter, and 18 and 17 are paired electrodes constituting the electrothermal converter. As shown in FIG. 1, a plurality of pairs of a heat generating resistor layer 14 and a pair of electrodes 16, 17 connected to the heat generating resistor layer 14 are provided side by side, thereby creating an effective heat generating section 18.
18't a , . . . are arranged at predetermined intervals. Note that in this embodiment, one electrode 1
6, a plurality of electrodes are grouped together to form a common electrode. Each heat generating part 18.18', 18''.

・・・φを構成する発熱抵抗層14に対してはそれぞれ
電極16.17を通じて電気信号が印加さ、  れ、こ
れに基づき各発熱部が発熱する。
...Electric signals are applied to the heating resistor layers 14 constituting φ through the electrodes 16 and 17, respectively, and each heating section generates heat based on this.

第2図に示される様に、支持体12と発熱抵抗層14と
電極16.17とを有する基板には支持体12の発熱部
側に溝が形成された天板20が接合されている。第2図
の■−■断面図を第3図に示す、第2図及び第3図に示
される様に、天板20には各発熱部18.18’、18
#、―傘・・に対応する位Hvそれぞれ第1図の■−■
方向に沿う溝22.22’、22”・・拳φが形成され
ている。これらの溝はそれぞれ支持体12との間に記録
液を収容する空間を形成する。これらの空間は記録液に
対し熟エネルギーを作用せしめる熱作用部24を有する
As shown in FIG. 2, a top plate 20 in which a groove is formed on the side of the heat generating portion of the support 12 is bonded to a substrate having the support 12, the heat generating resistance layer 14, and the electrodes 16,17. A sectional view taken along the line ■-■ in FIG. 2 is shown in FIG. 3. As shown in FIGS.
Hv corresponding to #, -umbrella... in Figure 1, respectively.
Grooves 22, 22', 22'', . It has a heat acting part 24 that applies ripening energy to the heat acting part 24.

第2図における左方において前記空間は外部に対し開口
しており、該開口が液体の吐出口26となる。空間は第
2図における右方において記録液供給源と接続されてい
る。そして、空間において記録信号に基づき発熱部から
熱エネルギーが発生され空間内の記録液に作用すると該
記録液中において蒸気泡が発生し、その際の圧力で吐出
口26付近の記録液が矢Ixの向きに吐出する。
On the left side in FIG. 2, the space opens to the outside, and this opening becomes a liquid discharge port 26. The space is connected to a recording liquid supply source on the right side in FIG. When thermal energy is generated from a heat generating part in the space based on the recording signal and acts on the recording liquid in the space, vapor bubbles are generated in the recording liquid, and the pressure at that time causes the recording liquid near the discharge port 26 to Discharge in the direction of.

尚、以上の説明から分る様に、第1図においては天板2
0の図示が省略されている。
Furthermore, as can be seen from the above explanation, in Fig. 1, the top plate 2
The illustration of 0 is omitted.

本発明において、支持体12の材料としてば特に制限は
ないが、実際上はその表面上に形成される発熱抵抗層1
4を形成する際の熱及び使用時において該発熱抵抗層1
4により発生される熱に対する耐久性の良好なものが好
適に使用される。また、支持体12としてはその表面上
に形成される発熱抵抗層14よりも大きな電気抵抗を有
するのが好ましいが、支持体12と発熱抵抗層14との
間に絶縁層を介在せしめである場合には支持体12が発
熱抵抗層14よりも小さな電気抵抗を有する材料からな
るものであってもよい、更に、本発明においては、液体
噴射記録ヘッドの使用状況等に応じて、熱伝導性の小さ
な或いは大きな支持体12を用いることができる。
In the present invention, the material of the support 12 is not particularly limited, but in practice, the heating resistance layer 1 formed on the surface of the support 12 is not particularly limited.
4 and during use, the heat generating resistive layer 1
A material having good durability against the heat generated by No. 4 is preferably used. Further, it is preferable that the support 12 has a higher electrical resistance than the heat generating resistance layer 14 formed on the surface thereof, but in the case where an insulating layer is interposed between the support 12 and the heat generating resistance layer 14. Alternatively, the support 12 may be made of a material having a smaller electrical resistance than the heat generating resistance layer 14.Furthermore, in the present invention, depending on the usage conditions of the liquid jet recording head, the support 12 may be made of a material having a lower electrical resistance than the heat generating resistance layer 14. Small or large supports 12 can be used.

本発明において使用される支持体12としてはガラス、
セラミックス、シリコン、金属等の無機物からなるもの
やポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等の有機物からなる
ものが例示できる。
The support 12 used in the present invention is glass,
Examples include those made of inorganic materials such as ceramics, silicon, and metals, and those made of organic materials such as polyamide resin and polyimide resin.

本発明においては、発熱抵抗層14は炭素原子を母体と
し水素原子と電気伝導性を支配する物質とを含有してな
る非晶質材料からなる。電気伝導性を支配する物質とし
ては、いわゆる半導体分野においていうところの不純物
即ちP型伝導特性を与えるp型不純物及びn型伝導特性
を与えるn型不純物が利用できる。p型不純物としては
元素周期律表第■族に属する原子、たとえばB、AI、
Ga、In、TI等があり、特にB、Gaが好ましい、
n型不純物としては元素周期律表第V族に属する原子、
たとえばP、As、Sb、Bi等があり、特にP、As
が好ましい、これらは単独でもよいし複数の組合せでも
よい。
In the present invention, the heating resistance layer 14 is made of an amorphous material having carbon atoms as its base material and containing hydrogen atoms and a substance controlling electrical conductivity. As the substance that controls electrical conductivity, so-called impurities in the semiconductor field, that is, p-type impurities that provide P-type conductivity characteristics and n-type impurities that provide N-type conductivity characteristics can be used. P-type impurities include atoms belonging to Group Ⅰ of the periodic table of elements, such as B, AI,
There are Ga, In, TI, etc., and B and Ga are particularly preferred.
As n-type impurities, atoms belonging to Group V of the periodic table of elements,
For example, there are P, As, Sb, Bi, etc., especially P, As
These are preferred, and may be used alone or in combination.

発熱抵抗層14中における水素原子の含有率は、使用目
的の応じ所望の特性が得られる様に適宜選択されるが、
好ましくはo、oooi〜30原子%であり、更に好ま
しくはo、ooos〜20M子%であり、好適には0.
001〜10原子%である。
The content of hydrogen atoms in the heating resistor layer 14 is selected as appropriate to obtain desired characteristics depending on the purpose of use.
Preferably o, oooi to 30 atomic %, more preferably o, ooos to 20 M atomic %, preferably 0.
001 to 10 atomic %.

発熱抵抗fi14中における電気伝導性支配物質の含有
率は、所望の特性が得られる様に適宜選択されるが、好
ましくは0.01〜50000原子ppmであり、更に
好ましくは0.5〜10000原子ppmであり、最適
には1〜50005子ppmである。
The content of the electrically conductive substance in the heating resistor fi14 is appropriately selected so as to obtain desired characteristics, and is preferably 0.01 to 50,000 atomic ppm, more preferably 0.5 to 10,000 atomic ppm. ppm, optimally from 1 to 50005 ppm.

また、発熱抵抗層14の厚さには特に制限がない。Furthermore, there is no particular limit to the thickness of the heat generating resistor layer 14.

本発明記録ヘッドにおける炭素を母体とし水素原子と電
気伝導性支配物質とを含有してなる非晶質材料(以下、
ra−C:H(p、n)Jと略記することがある。ここ
で(p、n)は電気伝導性支配物質を表わす、)からな
る発熱抵抗層14は、たとえばグロー放電法の様なプラ
ズマCVD法あるいはスパッタリング法等の真空堆積法
によって形成される。
In the recording head of the present invention, an amorphous material (hereinafter referred to as
ra-C: Sometimes abbreviated as H(p,n)J. Here, (p, n) represents an electrically conductive dominant substance) The heating resistor layer 14 is formed by, for example, a plasma CVD method such as a glow discharge method, or a vacuum deposition method such as a sputtering method.

たとえば、グロー放電法によってa−C:H(p 、 
n)からなる抵抗N14を形成するには、基本的には支
持体12を減圧下の堆積室内に配置し、1該JIE積室
内に炭素原子(C)を供給し得るC供給用の原料ガスと
水素原子(H)を供給し得る゛H供給用の原料ガスと電
気伝導性支配物質供給用の原料ガスとを導入して、該堆
積室内にて高周波またはマイクロ波を用いてグロー放電
を生起させ支持体2の表面上にa−C:H(p、n)か
らなる層を形成させればよい。
For example, a-C:H(p,
In order to form the resistor N14 consisting of n), basically the support 12 is placed in a deposition chamber under reduced pressure, and 1. a source gas for C supply that can supply carbon atoms (C) into the JIE stack chamber. A source gas for supplying H and a source gas for supplying an electrically conductive substance that can supply hydrogen atoms (H) are introduced, and a glow discharge is generated in the deposition chamber using high frequency or microwaves. A layer consisting of a-C:H(p,n) may be formed on the surface of the support 2.

また、スパッタリング法によってa−C:H(p’、n
)からなる抵抗層14を形成するには、基本的には支持
体12を減圧下の堆積室内に配置し、該堆積室内にてた
とえばAr、He等の不活性ガスまたはこれらのガスを
ベースとした混合ガスの雰囲気中でCで構成されたター
ゲットをスパッタリングする際、堆積室内にH供給用の
原料ガス及び電気伝導性支配物質供給用の原料ガスを導
入すればよい。
In addition, a-C:H(p', n
), basically, the support 12 is placed in a deposition chamber under reduced pressure, and an inert gas such as Ar, He, etc. or an inert gas based on these gases is injected in the deposition chamber. When sputtering a target made of C in a mixed gas atmosphere, a raw material gas for supplying H and a raw material gas for supplying an electrically conductive substance may be introduced into the deposition chamber.

上記方法において、C供給用の原料ガス、H供  ・船
用の原料ガス及び電気伝導性支配物質供給用の原料ガス
としては常温常圧においてガス状態のもののほかに減圧
下においてガス化し得る物質を使用することができる。
In the above method, as the raw material gas for supplying C, the raw material gas for supplying H, the raw material gas for ships, and the raw material gas for supplying electrically conductive substances, in addition to gases at room temperature and normal pressure, substances that can be gasified under reduced pressure are used. can do.

C供給用の原料としては、たとえば炭素数1〜5の飽和
炭化水素、炭素数2〜5のエチレン系炭化水素、炭素数
2〜4のアセチレン系炭化水素。
Examples of raw materials for supplying C include saturated hydrocarbons having 1 to 5 carbon atoms, ethylene hydrocarbons having 2 to 5 carbon atoms, and acetylene hydrocarbons having 2 to 4 carbon atoms.

芳香族炭化水素等、具体的には、飽和炭化水素としては
メタン(CH4)、エタン(C2Ha )、プロパy(
C3Ha)、n−ブタ7(n−C4HIQ)、ペンタン
(C5Hl2) 、エチレン系炭化水素としてはエチレ
ン(C2H4) 、プロピレン(C3He ) 、ブテ
ン−1(C4H11)、ブテン−2(C4H8) 、 
 インブチレン(C4Ha)。
Aromatic hydrocarbons, etc., specifically saturated hydrocarbons include methane (CH4), ethane (C2Ha), propylene (
C3Ha), n-buta7 (n-C4HIQ), pentane (C5Hl2), ethylene hydrocarbons include ethylene (C2H4), propylene (C3He), butene-1 (C4H11), butene-2 (C4H8),
Inbutylene (C4Ha).

ペンテン(Cs Hlo) 、アセチレン系炭化水素と
してはアセチレン(C2B2 ) 、メチルアセチレン
(C3H4) 、ブチン(C4Ha ) 、芳香族炭化
水素としてはベンゼン(C6He )等があげられる。
Examples of the acetylene hydrocarbons include acetylene (C2B2), methylacetylene (C3H4), butyne (C4Ha), and aromatic hydrocarbons include benzene (C6He).

H供給用の原料としては、たとえば水素ガス、及び上記
C供給用原料でもある飽和炭化水素、エチレン系炭化水
素、アセチレン系炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水
素があげられる。
Examples of raw materials for supplying H include hydrogen gas and hydrocarbons such as saturated hydrocarbons, ethylene hydrocarbons, acetylene hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons, which are also the raw materials for supplying C.

電気伝導性支配物質供給用の原料としては次の様なもの
が例示される。
Examples of raw materials for supplying electrically conductive substances include the following.

第■族原子供給用原料としては、たとえばホウ素原子供
給用にB2 Br3 、 B4 Hl(1,B5 B9
、B5 Hll、 BQ )(to、 BG H124
EOB14等の水素化ホウ素やBF3 、BC13、B
B r3等のハロゲン化ホウ素等が用いられ、更にその
他の原子供給用にAlCl2 、GaCl3.Ga(C
H3) 3 、  I nCH3、T’IC13等が用
いられる。
Examples of raw materials for supplying group (III) atoms include B2 Br3, B4 Hl(1, B5 B9
, B5 Hll, BQ ) (to, BG H124
Boron hydride such as EOB14, BF3, BC13, B
Boron halides such as B r3 are used, and AlCl2, GaCl3. Ga(C
H3) 3, InCH3, T'IC13, etc. are used.

第V族原子供給用原料としては、たとえばリン原子供給
用にPH3、P2 H4等の水素化リンやPH4I、P
F3 、PFs 、PC13。
As raw materials for supplying Group V atoms, for example, hydrogenated phosphorus such as PH3, P2 H4, PH4I, P
F3, PFs, PC13.

PCl5 、PBr3 、PBr3 、PI3等ノハロ
ゲン化リン等が用いられ、更にその他の原子供給用にA
sH3、A、sF3 、AsC13、AsBr3 、A
sF5 、SbH3、SbF3 、SbF5.5bC1
3,5bC15,BiI3.BiCl3.B1Br3等
が用いられる。
Phosphorus halides such as PCl5, PBr3, PBr3, PI3, etc. are used, and A is used for supplying other atoms.
sH3, A, sF3, AsC13, AsBr3, A
sF5, SbH3, SbF3, SbF5.5bC1
3,5bC15, BiI3. BiCl3. B1Br3 etc. are used.

これらの原料は単独で用いてもよいし、複数組合せて用
いてもよい。
These raw materials may be used alone or in combination.

以上の様な発熱抵抗層形成法において、形成される抵抗
層14中に含まれる水素原子の量及び電気伝導性支配物
質の量や抵抗層14の特性を制御するには、支持体温度
、原料ガスの供給量、放電電力、堆積室内の圧力等を適
宜設定する。
In the heat generating resistance layer forming method as described above, in order to control the amount of hydrogen atoms and the amount of the electrically conductive substance contained in the resistance layer 14 to be formed, and the characteristics of the resistance layer 14, it is necessary to The gas supply amount, discharge power, pressure inside the deposition chamber, etc. are set appropriately.

支持体温度は好ましくは20〜1500℃、更に好まし
くは30〜1200℃、最適には50〜1100℃のう
ちから選ばれる。
The support temperature is preferably selected from 20 to 1500°C, more preferably 30 to 1200°C, and optimally 50 to 1100°C.

原料ガスの供給量は目的とする発熱抵抗層性能や目標と
する成膜速度に応じ適宜法められる。
The supply amount of the raw material gas is determined as appropriate depending on the desired performance of the heating resistance layer and the desired film formation rate.

放電電力は好ましくはo、oot〜20W/crn’、
より好ましくは0.01〜15W/cゴ、最適には0.
05〜log/crn”のうちから選ばれる。
The discharge power is preferably o, oot~20W/crn',
More preferably 0.01 to 15 W/c, optimally 0.01 to 15 W/c.
05 to log/crn”.

堆積室内の圧力は、好ましくはto−4〜10Torr
、より好ましくはには10−2〜5TOrrとされる。
The pressure inside the deposition chamber is preferably to-4 to 10 Torr.
, more preferably 10-2 to 5 TOrr.

以上の様な発熱抵抗層形成法を用いて得られる本発明記
録ヘッドの抵抗層はダイヤモンドに近い特性を有する。
The resistive layer of the recording head of the present invention obtained using the heat generating resistive layer forming method as described above has characteristics close to those of diamond.

即ち、たとえばビッカース硬度1800〜5000のも
のが得られる。また、水素原子及び電気伝導性支配物質
を含有するので特に抵抗値制御性が極めて良好である。
That is, for example, one having a Vickers hardness of 1,800 to 5,000 can be obtained. In addition, since it contains hydrogen atoms and electrical conductivity controlling substances, resistance value controllability is particularly good.

本発明における発熱抵抗層は、機械的衝撃に対し高い耐
久性を有し且つ化学的安定性に優れているので、特別に
保護層を必要としない、したがって、本発明における発
熱抵抗層を用いた液体噴射記録へ一2ドは信号入力にと
もなって発生される熱エネルギーが極めて効率よく液体
に付与されるので熱応答性が良好となる。このことは、
液体噴射記録ヘッドに入力される信号に対応して形成さ
れる飛翔液滴の吐出応答性の向上にもつながる。
The heat generating resistive layer of the present invention has high durability against mechanical shock and excellent chemical stability, and therefore does not require a special protective layer. In liquid jet recording, the thermal energy generated in response to signal input is applied to the liquid extremely efficiently, resulting in good thermal response. This means that
This also leads to improved ejection responsiveness of flying droplets that are formed in response to signals input to the liquid jet recording head.

但し、所望の応答性が発揮されるのであれば。However, if the desired responsiveness is achieved.

上記した様な発熱抵抗層上に保護層を形成しても一層に
かまわない。
It is even more acceptable to form a protective layer on the heating resistor layer as described above.

また、記録液が導電性の場合には電極間のショートを防
止する上で保護層が必要である。
Furthermore, when the recording liquid is conductive, a protective layer is necessary to prevent short circuits between electrodes.

上記実施態様例においては支持体上に発熱抵抗層及び電
極をこの順に設けた例が示されているが、本発明記録ヘ
ッドにおいては支持体上に電極及び発熱抵抗層をこの順
に設けてもよい、第4図はこの様な記録ヘッドの電気熱
変換体を有する基板の部分断面図である。
In the above embodiment example, an example is shown in which the heat generating resistive layer and the electrode are provided on the support in this order, but in the recording head of the present invention, the electrode and the heat generating resistive layer may be provided in this order on the support. , FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a substrate having an electrothermal transducer of such a recording head.

尚、以上の実施態様例において、支持体12は単一のも
のであるとされているが、本発明における支持体12は
複合体であってもよい、その様な一実施態様例の構成を
第5図に示す、即ち、支持体12は基部12aと表面層
12bとの複合体からなり、基部12aとしてはたとえ
ば上記第1〜3、図に関し説明した支持体材料を使用す
ることができまた表面層12bとしてはその上に形成さ
れる抵抗層14との密着性のより良好な材料を使用する
ことができる0表面層12bはたとえば炭素原子を母体
とする非晶質材料や従来より知られている酸化物等から
構成される。この様な表面層12bは基部12a上に上
記発熱抵抗層形成法と類似の方法により適宜の原料を用
いて堆積させることにより得られる。また、表面層12
bは通常のガラス賀のグレーズ層であってもよく、ある
いは基部12aが金属であればその表面を酸化させ形成
させた酸化物層であってもよい。
In the embodiments described above, the support 12 is assumed to be a single body, but the support 12 in the present invention may be a composite body. In other words, the support 12 shown in FIG. 5 is composed of a composite body of a base 12a and a surface layer 12b, and for the base 12a, for example, the support materials described in connection with the above-mentioned Nos. 1 to 3 and the figures can be used. For the surface layer 12b, a material having better adhesion to the resistance layer 14 formed thereon can be used.The surface layer 12b may be made of, for example, an amorphous material containing carbon atoms as a matrix or a conventionally known material. It is composed of oxides etc. Such a surface layer 12b can be obtained by depositing an appropriate raw material on the base 12a by a method similar to the above-described method for forming the heating resistor layer. In addition, the surface layer 12
b may be a normal glass glaze layer, or if the base 12a is metal, it may be an oxide layer formed by oxidizing its surface.

本発明記録ヘッドにおける電極16.17は所定の導電
性を有しているものであればよく、たとえばAu、Cu
、Al、Ag、Ni等の金属からなる。
The electrodes 16 and 17 in the recording head of the present invention may be made of any material having a predetermined conductivity, such as Au or Cu.
, Al, Ag, Ni, and other metals.

次に、本発明の記録ヘッドの製造方法の概略について説
明する。
Next, the outline of the method for manufacturing the recording head of the present invention will be explained.

第6図は支持体表面上に発熱抵抗層を形成する際に用い
られる堆積装置の一例を示す模式的説明図である。1i
otは堆積室であり、1102〜tioaはガスボンベ
であり、1107〜1111はマスフローコントローラ
であ!J、1112〜1116は流入バルブであり、1
117〜1121は流出バルブであり、1122〜11
26はガスボンベのバルブであり、1127〜1131
は出口圧ゲージであり、1132は補助バルブであり、
1133はレバーであり、1134はメインバルブであ
り、1135はリークバルブであり、1136は真空計
であり、1137は製造すべき電気熱変換体を有する基
板を形成するための支持体材料であり、1138はヒー
タであり、■139は支持体支持手段であり、1140
は高電圧電源であり、1141は電極であり、1142
はシャッタである。尚、1142−1はスパッタリング
法を行なう際に電極1141に取付けられるターゲット
である。
FIG. 6 is a schematic explanatory diagram showing an example of a deposition apparatus used when forming a heat generating resistive layer on the surface of a support. 1i
ot is a deposition chamber, 1102 to tioa are gas cylinders, and 1107 to 1111 are mass flow controllers! J, 1112-1116 are inflow valves, 1
117-1121 are outflow valves, 1122-11
26 is a gas cylinder valve, 1127 to 1131
is an outlet pressure gauge, 1132 is an auxiliary valve,
1133 is a lever, 1134 is a main valve, 1135 is a leak valve, 1136 is a vacuum gauge, 1137 is a support material for forming a substrate with an electrothermal converter to be manufactured, 1138 is a heater, 139 is a support means, 1140
is a high voltage power supply, 1141 is an electrode, and 1142
is the shutter. Note that 1142-1 is a target attached to the electrode 1141 when performing the sputtering method.

たとえば、1102にはArガスで希釈されたCH4ガ
ス(純度99.9%以上)が密封されており、1103
にはArガスで希釈されたPH3ガス(純度99.9%
以上)が密封されており。
For example, 1102 is sealed with CH4 gas (purity of 99.9% or more) diluted with Ar gas, and 1103
PH3 gas diluted with Ar gas (99.9% purity)
above) are sealed.

1104にはArガスで希釈されたB2 H,ガス(純
度99.9%以上)が密封されている。これらボンベ中
のガスを堆積室1101に流入させるに先立ち、各ガス
ボンベ1102〜1106のバルブ1122〜1126
及びリークバルブ1135が閉じられていることを確認
し、また流入バルブ1112〜1116、流出バルブ1
.117〜1121及び補助バルブ1132が開かれて
いることを確認して、先ずメインバルブ1134を開い
て堆積室1101及びガス配管内を排気する0次に真空
計1136の読みが約t、5xto−aTorrになっ
た時点で、補助バルブ1132、流入バルブ1112〜
1116及び流出バルブ1117〜1121を閉じる。
1104 is sealed with B2H gas (purity of 99.9% or more) diluted with Ar gas. Before the gas in these cylinders flows into the deposition chamber 1101, the valves 1122 to 1126 of each gas cylinder 1102 to 1106 are opened.
and leak valve 1135 are closed, and inlet valves 1112 to 1116 and outlet valve 1.
.. 117 to 1121 and the auxiliary valve 1132 are open, first open the main valve 1134 to evacuate the deposition chamber 1101 and gas piping. Next, the vacuum gauge 1136 reads approximately t, 5xto-aTorr. At the point when the auxiliary valve 1132, inflow valve 1112~
1116 and outflow valves 1117-1121 are closed.

その後、堆積室1101内に導入すべきガスのボンベに
接続されているガス配管のバルブを開いて所望のガスを
堆積室1101内に導入する。
Thereafter, a valve of a gas pipe connected to a cylinder of gas to be introduced into the deposition chamber 1101 is opened to introduce a desired gas into the deposition chamber 1101.

次に、以上の装置を用いてグロー放電法によって本発明
記録ヘッドの抵抗層を形成する場合の手順の一例につい
て説明する。バルブ1122を開いてガスボンベ110
2からCH4/ A rガスを流出させ、バルブ112
3を開いてガスボンベ1103からPH3/Arガスを
流出させ、出口圧ゲージ1127.1128の圧力を1
kg/crn’に調整し、次に流入バルブ111’2.
1113を徐々に開いてマスフローコントローラ110
7.1108内に流入させておく、続いて、流出バルブ
1117.1118、補助バルブ1132を徐々に開い
てcH4/ArガスとPH3/Arガスとを堆積室t 
toi内に導入する。この時、CH4/Arガスの流量
とPH3/Arガスの流量との比が所望の値になる様に
マスフローコントローラ1107.1108を調整し、
また堆積室1101内の圧力が所望の値になる様に真空
計1136の読みを見ながらメインバルブ1134の開
度を調整する。そして、堆積室1101内の支持手段1
139により支持されている支持体1137の温度が所
望の温度になる様にヒータ1138により加熱した上で
、シャッタ1142を開き堆積室1101内にてグロー
放電を生起させる。
Next, an example of the procedure for forming the resistive layer of the recording head of the present invention by the glow discharge method using the above-described apparatus will be described. Open the valve 1122 and open the gas cylinder 110
CH4/Ar gas flows out from valve 112.
3 to let the PH3/Ar gas flow out from the gas cylinder 1103, and reduce the pressure on the outlet pressure gauges 1127 and 1128 to 1.
kg/crn', then inlet valve 111'2.
1113 gradually opens the mass flow controller 110.
7. Let the cH4/Ar gas and PH3/Ar gas flow into the deposition chamber t by gradually opening the outflow valves 1117 and 1118 and the auxiliary valve 1132.
Introduce it into toi. At this time, adjust the mass flow controllers 1107 and 1108 so that the ratio of the flow rate of CH4/Ar gas and the flow rate of PH3/Ar gas becomes a desired value,
Further, the opening degree of the main valve 1134 is adjusted while checking the reading of the vacuum gauge 1136 so that the pressure in the deposition chamber 1101 reaches a desired value. Then, the support means 1 in the deposition chamber 1101
After the temperature of the support 1137 supported by the deposition chamber 1139 is heated by the heater 1138 to a desired temperature, the shutter 1142 is opened to generate a glow discharge in the deposition chamber 1101.

次に、以上の装置を用いてスパッタリング法によって本
発明記録ヘッドの抵抗層を形成する場合の手順の一例に
ついて説明する。高圧電源1140により高電圧が印加
される電極1141上には予め高純度グラフアイ)11
42−1をターゲットとして設置しておく、グロー放電
法の場合と同様にして、ガスポンベ1102からCH4
/Arガスをガスボンベ1103からPH3/Arガス
をそれぞれ所望の流量にて堆積室1toi内に導入させ
る。シャッタ1142を開いて、高圧電源1140を投
入することによりターゲット114°2−1をスパッタ
リングする。尚、この際ヒータ1138により支持体1
137を所望の温度に加熱し、メインバルブ1134の
開度を調整することにより堆積室1101内を所望の圧
力とすることはグロー放電法の場合と同様である。
Next, an example of the procedure for forming the resistive layer of the recording head of the present invention by sputtering using the above-described apparatus will be described. A high-purity graphite (11
42-1 as a target, CH4 from gas pump 1102 in the same manner as in the glow discharge method.
/Ar gas and PH3/Ar gas are introduced from the gas cylinder 1103 into the deposition chamber 1toi at desired flow rates. By opening the shutter 1142 and turning on the high voltage power supply 1140, the target 114°2-1 is sputtered. At this time, the support 1 is heated by the heater 1138.
137 to a desired temperature and adjusting the opening degree of the main valve 1134 to bring the inside of the deposition chamber 1101 to a desired pressure is similar to the glow discharge method.

第1〜3図に示される様な液体噴射記録ヘッドの電気熱
変換体を有する基板の場合には、上記の様にして支持体
上に発熱抵抗層を形成した後に、該発熱抵抗層上に電極
形成のための導電層(たとえばAu層、A1層)を形成
し、その後フォトリソグラフィー技術を利用して導電層
及び発熱抵抗層のパターニングを行なう、そして、更に
必要ならば絶縁性材料等からなる保護層を積層してもよ
い。
In the case of a substrate having an electrothermal transducer of a liquid jet recording head as shown in FIGS. 1 to 3, after forming a heat generating resistor layer on the support as described above, A conductive layer (for example, an Au layer, an A1 layer) for forming an electrode is formed, and then a conductive layer and a heat-generating resistive layer are patterned using photolithography, and if necessary, the layer is made of an insulating material, etc. A protective layer may be laminated.

また、第4図に示される様な液体噴射記録ヘッドの電気
熱変換体を有する基板の場合には、予め支持体上に導電
層を形成し、フォトリソグラフィー技術を用いて該導電
層のバター゛ニングを行なった後に、以上の様なグロー
放電法またはスパッタリング法による発熱抵抗層の形成
が行なわれる。
In addition, in the case of a substrate having an electrothermal converter for a liquid jet recording head as shown in FIG. 4, a conductive layer is formed on the support in advance, and a pattern of the conductive layer is formed using photolithography technology. After the coating, a heat generating resistor layer is formed by the glow discharge method or sputtering method as described above.

溝付の天板としては、たとえば上記支持体と同様な材質
からなり、適宜の手段たとえばマイクロカッターによる
機械的切削や化学的エツチング等により、また天板が感
光性ガラス等の場合には所望のパターンの露光、現像に
より溝を形成したものを利用することができる。
The grooved top plate may be made of the same material as the above-mentioned support, for example, by mechanical cutting with a microcutter, chemical etching, etc., or if the top plate is made of photosensitive glass, the desired shape can be formed. It is possible to use a material in which grooves are formed by pattern exposure and development.

電気熱変換体を有する基板と天板との接合は位置合せを
十分に行なった上でたとえば接着剤によるtiや天板の
材質によっては熱融着によって行なうことができる。
The substrate having the electrothermal transducer and the top plate can be joined after sufficient alignment, for example, by using an adhesive or by thermal fusion depending on the material of the top plate.

以上の実施態様例においては、第7図に部分斜視図を示
す様なタイプの液体噴射記録ヘッド即ち記録液吐出口2
6が天板20に形成された溝22の方向に開口している
ヘッドについて説明したが、本発明においては第8図に
示される様に液体吐出口26が天板20に直接設けられ
ていてもよい、第8図のタイプのヘッドにおいては天板
20に形成されたrIlt22の端部の開口は記録液導
入口として利用され、記録液は吐出口26から矢印Yの
方向に吐出する。もちろん、溝22の端部は一方が閉じ
られた形状となっていてもよく、記録液の導入も少なく
とも一方の開口から行なわればよい。
In the embodiment described above, a liquid jet recording head of the type shown in a partial perspective view in FIG.
Although the head 6 has been described as opening in the direction of the groove 22 formed in the top plate 20, in the present invention, the liquid discharge port 26 is provided directly in the top plate 20 as shown in FIG. In the head of the type shown in FIG. 8, the opening at the end of the rIlt 22 formed in the top plate 20 is used as a recording liquid inlet, and the recording liquid is discharged from the discharge port 26 in the direction of arrow Y. Of course, one end of the groove 22 may be closed, and the recording liquid may be introduced from at least one opening.

次に、本発明液体噴射記録ヘッドの変形例を示す・ 第9図は上記第8図における■−区区部面図ある。この
場合には天板20の溝22の部分以外は電気熱変換体を
有する基板と密着している。従って、天板20の谷溝2
2に対応して形成される各熱作用部24は支持体12と
の密着部分よりなるバリヤ部30により瓦いに遮断され
ている。尚、第9図において各発熱部18は各吐出口2
6に対応して設けられている。
Next, a modified example of the liquid jet recording head of the present invention will be shown. FIG. 9 is a plan view of the section (■) in FIG. 8 above. In this case, the portion of the top plate 20 other than the groove 22 is in close contact with the substrate having the electrothermal converter. Therefore, the valley groove 2 of the top plate 20
Each heat acting part 24 formed corresponding to each of the heat acting parts 24 is shielded by a barrier part 30 formed of a part in close contact with the support body 12. In addition, in FIG. 9, each heat generating part 18 corresponds to each discharge port 2.
6.

第10〜12図はその他の例を示す第9図に対応する断
面図である。
10 to 12 are sectional views corresponding to FIG. 9 showing other examples.

第10図の場合にはバリヤ部30が支持体12とは完全
には密着しておらず、各発熱部18に対応する熱作用部
24は互いに連通している。
In the case of FIG. 10, the barrier part 30 is not in complete contact with the support body 12, and the heat acting parts 24 corresponding to each heat generating part 18 are in communication with each other.

第11図の場合にはバリヤ部30が天板20ではなく基
板に形成されており、上記第1O図の場合と同様6発熱
部18に対応する熱作用部24は互いに連通している。
In the case of FIG. 11, the barrier portion 30 is formed on the substrate instead of the top plate 20, and the heat acting portions 24 corresponding to the six heat generating portions 18 communicate with each other as in the case of FIG. 1O.

第12図の場合には第9〜11図の場合の様なバリヤ部
は形成されていない。
In the case of FIG. 12, no barrier portion is formed as in the cases of FIGS. 9 to 11.

以上の第9〜12図はi8図に示されるタイプの液体噴
射記録ヘッドについてのものであるが、第7図に示され
るタイプのものについても同!である。
The above figures 9 to 12 relate to the type of liquid jet recording head shown in figure i8, but the same applies to the type shown in figure 7! It is.

バリヤ部(壁)30は上記した様に必ず設けなければな
らないというものではない、隣接する吐出口から吐出さ
れる液体の吐出方向や吐出速度、または吐出量等に影響
を与えても飛翔液滴の被記録部材への着弾点に許容範囲
を越える誤差がでなければバリヤ部は必ずしも設ける必
要はない。しかし、吐出口間相互の影響を一層少なくす
るためやエネルギー効率(液体の吐出効率)を向上させ
るためにはバリヤ部を設け゛ることは好ましい。また、
バリヤ部は天板に一体的に形成されてもよいしバリヤ部
のみが別部椙とされていてもよいのはもちろんである。
The barrier part (wall) 30 does not necessarily have to be provided as described above, and even if it affects the ejection direction, ejection speed, or ejection amount of the liquid ejected from the adjacent ejection ports, the flying droplets may be prevented. It is not necessarily necessary to provide a barrier section unless there is an error exceeding an allowable range in the point of impact on the recording member. However, in order to further reduce the mutual influence between the ejection ports and to improve energy efficiency (liquid ejection efficiency), it is preferable to provide a barrier portion. Also,
Of course, the barrier part may be formed integrally with the top plate, or only the barrier part may be formed as a separate part.

平板な天板としては前記溝付き天板と同様の材質を用い
ることができる。また、バリヤ部及び天板としては感光
性樹脂を用いることもできる。
The flat top plate may be made of the same material as the grooved top plate. Moreover, a photosensitive resin can also be used for the barrier part and the top plate.

以下に、本発明液体噴射記録ヘッドの具体的実施例を示
す。
Specific examples of the liquid jet recording head of the present invention will be shown below.

[実施例] 先ず、以下の実施例及び比較例において使用される電気
熱変換体を有する基板を次の要領で作成した。
[Example] First, a substrate having an electrothermal converter used in the following Examples and Comparative Examples was prepared in the following manner.

支持体としては、コーニング社製の#7059ガラス、
表面層として熱酸化5i02蓄熱層(厚さ5JLm)を
設けたSi板を用いた。
As a support, #7059 glass manufactured by Corning Co., Ltd.
A Si plate provided with a thermally oxidized 5i02 heat storage layer (thickness: 5 JLm) was used as a surface layer.

支持体上に発熱抵抗層及び電極、ならびに場合により更
に保護層を形成する。これら発熱抵抗層、電極及び保I
I層の層構成は以下のA、B、Cの3種類のタイプとし
た。
A heating resistance layer, an electrode, and optionally a protective layer are formed on the support. These heating resistance layers, electrodes and
The layer structure of the I layer was of the following three types: A, B, and C.

タイプA 支持体上に第6図に示される堆a装置を用いて発熱抵抗
層を形成した。堆積の際の条件は第1表及び第2表にそ
れぞれ示される通りである。尚。
A heat generating resistor layer was formed on a Type A support using a deposition apparatus shown in FIG. The conditions during the deposition are as shown in Tables 1 and 2, respectively. still.

第1表記載の実施例はグロー放電法で行なわれ、また第
2表記載の実施例及び比較例はスパッタリング法により
行なわれた。スパッタリングの際のターゲットとしては
比較例を除いてグラファイト(99,99%)が用いら
れ、比較例はHfB2が用いられた。
The Examples listed in Table 1 were carried out by the glow discharge method, and the Examples and Comparative Examples listed in Table 2 were carried out by the sputtering method. Graphite (99.99%) was used as a target during sputtering except for the comparative example, in which HfB2 was used.

堆積中において各ガスの流量及びその他の条件は第1表
及び第2表にそれぞれ示されるとおりに保たれ、第3表
に示される厚さの発熱抵抗層が形成された0次に、その
発熱抵抗層上に電子ビーム法によりA1層を形成しフォ
トリソグラフィー技術によりレジストパターンを形成し
、A1層を所望の形状にエツチングして複数対の電極を
形成した。I&いて、フォトリングラフイー技術により
レジストパターンを形成してHF系エツチング液を用い
て所定の部分の発熱抵抗層を除去した。その−例として
、40jLmX200#Lmの発熱抵抗層の部分からな
る発熱部に上記電極が付されている発熱抵抗素子を形成
した。この発熱部は8個/mmピッチで配列した。
During the deposition, the flow rate of each gas and other conditions were maintained as shown in Tables 1 and 2, respectively, and the heat generation resistance layer was formed with the thickness shown in Table 3. An A1 layer was formed on the resistance layer by an electron beam method, a resist pattern was formed by a photolithography technique, and the A1 layer was etched into a desired shape to form a plurality of pairs of electrodes. Then, a resist pattern was formed using photolithography technology, and predetermined portions of the heating resistor layer were removed using an HF-based etching solution. As an example, a heat generating resistor element was formed in which the above electrode was attached to a heat generating portion consisting of a heat generating resistor layer portion of 40jLm×200#Lm. The heat generating parts were arranged at a pitch of 8 pieces/mm.

次に、感光性ポリイミド(商品名フォトニース)をスピ
ンコードする。そして、80℃で1時間プリベークし、
アライナ−で露光後、現像し。
Next, a photosensitive polyimide (trade name: Photonice) is spin-coded. Then, prebaked at 80℃ for 1 hour,
After exposure with an aligner, develop.

発熱部を窓あけ構造とした構成にする。そして、140
℃で30分更に400℃で1時間ポストベークをして電
気熱変換体を有する基板が完成する。
The heat generating part has a structure with a window opening. And 140
C. for 30 minutes and then post-baked at 400.degree. C. for 1 hour to complete a substrate having an electrothermal transducer.

尚、かくして得られた電気熱変換体の各発熱部の抵抗は
第3表に示される通りであった。
The resistance of each heat generating part of the electrothermal converter thus obtained was as shown in Table 3.

尚、感光性ポリイミドはAI主電極インク中における電
解を防ぐためのものである。
Note that the photosensitive polyimide is used to prevent electrolysis in the AI main electrode ink.

完成した電気熱変換体を有する基板の模式的斜視図を第
13図に、模式的断面図を第14図に示す1図において
、28はポリイミド層である。
In FIG. 1, a schematic perspective view of a completed substrate having an electrothermal converter is shown in FIG. 13, and a schematic cross-sectional view is shown in FIG. 14, 28 is a polyimide layer.

タイプB タイプAの場合と同様にして支持体上に発熱抵抗層を形
成した。堆積の条件は第1表及び第2表にそれぞれ示さ
れる通りである。なお、堆積中において各ガスの流量及
びその他の条件は第1表及び第2表にそれぞれ示される
とおりに保たれ、第3表に示される厚さの発熱抵抗層を
か形成された0次に、その発熱抵抗層上に電子ビーム法
によりAu層を形成しフォトリソグラフィー技術により
レジストパターンを形成しAu層を所望の形状にエツチ
ングして複数対の電極を形成した。続いて、フォトリソ
グラフィー技術によりレジストパターンを形成してHF
系エツチング液を用いて所定の部分の発熱抵抗層を除去
した。その−例として40 gmX 200ルmの発熱
抵抗層の部分からなる発熱部に上記電極が付されている
発熱抵抗素子を形成した。この発熱部は8個/ m m
ピッチで配列した。かくして、電気熱変換体を有する基
板が完成する。
Type B A heating resistance layer was formed on the support in the same manner as in Type A. The deposition conditions are as shown in Tables 1 and 2, respectively. During the deposition, the flow rate of each gas and other conditions were maintained as shown in Tables 1 and 2, respectively, and the heating resistor layer with the thickness shown in Table 3 was formed. An Au layer was formed on the heating resistor layer by an electron beam method, a resist pattern was formed by photolithography, and the Au layer was etched into a desired shape to form a plurality of pairs of electrodes. Next, a resist pattern is formed using photolithography technology and HF is applied.
Predetermined portions of the heat generating resistor layer were removed using an etching solution. As an example, a heating resistor element was formed in which the above-mentioned electrodes were attached to a heating portion consisting of a portion of a heating resistor layer of 40 gm x 200 lumen. There are 8 heat generating parts/mm
Arranged by pitch. In this way, a substrate having an electrothermal transducer is completed.

尚、かくして得られた電気熱変換体の各発熱部の抵抗は
第3表に示される通りであった。
The resistance of each heat generating part of the electrothermal converter thus obtained was as shown in Table 3.

完成した電気熱変換体を有する基板の模式的斜視図を第
15図に、模式的断面図を第16図に示す。
A schematic perspective view of a completed substrate having an electrothermal converter is shown in FIG. 15, and a schematic cross-sectional view is shown in FIG. 16.

タイプC 支持体上に電子ビーム法によりAt層を形成しフォトリ
ソグラフィー技術によりレジストパターンを形成しA1
層を所望の形状にエツチングして複数対の電極を形成し
た0次に、パターンが形成されたAIHの上に発熱抵抗
層を形成した。
Type C: Form an At layer on the support using an electron beam method, and form a resist pattern using photolithography.A1
The layer was etched into a desired shape to form a plurality of pairs of electrodes. Next, a heating resistor layer was formed on the patterned AIH.

発熱抵抗層はタイプAの場合と同様にして形成された。The heating resistance layer was formed in the same manner as in the case of type A.

堆積の条件は第1表及び第2表にそれぞれ示される通り
に保たれ、第3表に示される厚さの発熱抵抗層が形成さ
れた。続いて、フォトリソグラフィー技術によりレジス
トパターンを形成してI(F系エツチング液を用いて所
定の部分の発熱抵抗層を除去した。その−例として40
 gmX 200ルmの発熱抵抗層の部分からなる発熱
部に上記電極が付されている発熱抵抗素子を形成した。
The deposition conditions were maintained as shown in Tables 1 and 2, respectively, and heat generating resistive layers having the thicknesses shown in Table 3 were formed. Subsequently, a resist pattern was formed using photolithography technology, and predetermined portions of the heating resistor layer were removed using an I(F-based etching solution.
A heat generating resistor element was formed in which the above electrode was attached to a heat generating portion consisting of a portion of a heat generating resistor layer having a gmX of 200 lumens.

この発熱部は8個/ m mピッチで配列した。尚、A
I主電極この発熱抵抗層によって保護されているので保
護膜を形成する必要はない、かくして。
The heat generating parts were arranged at a pitch of 8 pieces/mm. Furthermore, A
Since the I main electrode is protected by this heating resistance layer, there is no need to form a protective film, thus.

電気熱変換体を有する基板が完成する。A substrate having an electrothermal transducer is completed.

尚、かくして得られた電気熱変換体の各発熱部の抵抗は
第3表に示される通りであった。
The resistance of each heat generating part of the electrothermal converter thus obtained was as shown in Table 3.

完成した電気熱変換体を有する基板の模式的凝視図を第
17因に、模式的断面図を第18図に示す。
A schematic perspective view of the completed substrate having an electrothermal converter is shown in factor 17, and a schematic cross-sectional view is shown in FIG. 18.

以1−の様にして完成した電気熱変換体を有する基板を
用いて液体噴射記録ヘッドを作成する0作成されるヘッ
ドには上記第7図に示されるタイプ(以下、タイプlと
いう)及び上記第8図に示されるタイプ(以下、タイプ
2という)がある。
A liquid jet recording head is manufactured using a substrate having an electrothermal transducer completed as described in 1-0. The head to be manufactured includes the type shown in FIG. 7 (hereinafter referred to as type I) and the type described above. There is a type shown in FIG. 8 (hereinafter referred to as type 2).

タイプエについては2種類の作成方法により、またタイ
プ2については1種類の作成方法により作成が行なわ′
れた。以下、それらの作成方法について述べる・ タイプ1−1 先ず、第19図の模式的斜視図に示す様に、ガラス板4
0に複数本の溝22(幅40pLm、深さ40JLm)
と共通インク室となる11t42とをマイクロカッター
を用いて切削形成してなる溝付きの天板20を作成する
Typee can be created using two methods, and Type 2 can be created using one method.
It was. The method for making them will be described below.Type 1-1 First, as shown in the schematic perspective view of FIG.
Multiple grooves 22 in 0 (width 40pLm, depth 40JLm)
A grooved top plate 20 is created by cutting and forming a common ink chamber 11t42 using a micro cutter.

次に、上記で完成した基板と天板20とを発熱部と溝2
2どの位置合せをした上で接合し、更に第20図の模式
的斜視図に示す様に不図示のインク供給部から共通イン
ク室にインクを導入するためのインク導入管44を接続
して記録へラド46を一体的に完成した。
Next, the substrate completed above and the top plate 20 are connected to the heat generating part and the groove 2.
2. After alignment, they are joined together, and as shown in the schematic perspective view of FIG. 20, an ink introduction pipe 44 for introducing ink from an ink supply section (not shown) to the common ink chamber is connected for recording. Herad 46 was completed in one piece.

タイプ1−2 上記で完成した基板上に感光性フィルム50(商品名オ
ーディール、東京応化)をラミネートする。そして、ア
ライナ−で露光し、現像し、所望のパターン形状に作成
する0次に、感光性樹脂フィルム52(商品名オーディ
ール、東京応化)をラミネートしたガラス板54を上記
のパターン形成したフィルム上にはりあわせ接合する。
Type 1-2 A photosensitive film 50 (trade name: Odile, Tokyo Ohka) is laminated on the substrate completed above. Then, a glass plate 54 laminated with a photosensitive resin film 52 (trade name Odile, Tokyo Ohka) is placed on top of the patterned film, which is exposed and developed using an aligner to create a desired pattern shape. Glue and join.

そして、この接合体をたとえばダイシング切断等の機械
加工により整形して吐出口26を形成し、更に不図示の
インク供給部から共通インク室にインク導入管44を接
続して、第21図の模式的斜視図に示す様な記録ヘッド
56が一体的に完成した。
Then, this joined body is shaped by machining such as dicing to form the discharge port 26, and an ink introduction pipe 44 is connected from an ink supply section (not shown) to the common ink chamber, as shown in the schematic diagram of FIG. A recording head 56 as shown in the perspective view was integrally completed.

タイプ2 先ず、吐出口26が形成された天板20を作成する。天
板20はエツチングなどで溝をつけたステンレス板りに
感光性フィルム(商品名PHT−145FT−50、日
立化成)のパターンを形成し、そしてその上にNiメッ
キで電鋳をして作成する。吐出口26として穴があく部
分は感光性フィルムのパターンがあるところである。こ
の様にして作成した天板20と上記で完成した基板とを
発熱部とこれに対応した吐出口26とで位置合せをして
接着剤で接合する。尚、基板は天板20内にインクが供
給できる様に、機械加工で穴をあけである0次に、接合
した基板の背面に不図示のインク供給部から共通インク
室にインクを導入するための導入管60を接合して第2
2図の模式的斜視図に示す様な記録ヘッド62を一体的
に完成した。尚、64は天板20の凹部であリバリャ部
を構成する。
Type 2 First, the top plate 20 in which the discharge port 26 is formed is created. The top plate 20 is created by forming a pattern of photosensitive film (product name: PHT-145FT-50, Hitachi Chemical) on a stainless steel plate with grooves formed by etching, and then electroforming with Ni plating on top of the pattern. . The portion where the hole is formed as the discharge port 26 is where the pattern of the photosensitive film is located. The top plate 20 created in this way and the substrate completed above are aligned with the heat generating parts and the discharge ports 26 corresponding thereto, and then bonded with adhesive. The board is machined to make holes so that ink can be supplied into the top plate 20. Next, a hole is made by machining so that ink can be introduced into the common ink chamber from an ink supply section (not shown) on the back side of the joined board. The introduction pipe 60 of the second
A recording head 62 as shown in the schematic perspective view of FIG. 2 was integrally completed. Note that 64 is a recessed portion of the top plate 20 and constitutes a rebarrier portion.

電気熱変換体を有する基板の層構成のタイプA、タイプ
B、タイプCとヘッド作成方法のタイプ1−1.タイプ
l−2,タイプ2との組合せがあるが、以下の耐久性実
験においてはタイプAとタイプ1−1との組合せが用い
られた。
Type A, Type B, and Type C of the layer structure of the substrate having an electrothermal converter and the head manufacturing method Type 1-1. Although there are combinations of type 1-2 and type 2, a combination of type A and type 1-1 was used in the following durability experiment.

以下、作成された記録ヘッドの耐久性についての実験に
ついて述べる。
Hereinafter, an experiment regarding the durability of the produced recording head will be described.

以上において作成された記録ヘッドには各発熱部に関す
る個別の電極17と各発熱部に共通の電極16とにそれ
ぞれ接続されている電極リード(個別電極リード及び共
通電極リード:不図示)を有するリード基板が付設され
、記録ヘッドユニットが完成した。
The recording head created in the above manner has a lead having electrode leads (individual electrode leads and common electrode leads: not shown) connected to individual electrodes 17 for each heat generating part and electrodes 16 common to each heat generating part. The board was attached and the recording head unit was completed.

これら記録ヘッドユニットを用いて、第23図に概略斜
視図の示される様な液体噴射記録装置を構成した。
Using these recording head units, a liquid jet recording apparatus as shown in a schematic perspective view in FIG. 23 was constructed.

第23図において、70は記録ヘッドユニットであり、
72は該記録ヘッドユニット70のH,置されているキ
ャリッジであり、74は該キャリッジ72の往復移動の
ためのガイド部材である。また、76はプラテンであり
、78は該プラテン76上に保持されている被記録部材
たとえば紙である。
In FIG. 23, 70 is a recording head unit;
72 is a carriage on which the recording head unit 70 is placed, and 74 is a guide member for reciprocating the carriage 72. Further, 76 is a platen, and 78 is a recording member held on the platen 76, such as paper.

記録ヘッドユニット70の記録液吐出口は矢印Zの方向
を向いており、記録液は該矢印方向に液滴となって吐出
せしめられ、プラテン76上の被記録部材78上にドツ
ト状に付着する。適宜の駆動手段により記録ヘッドユニ
ット70をガイド部材74に沿って移動させることによ
り主走査が行”なわれ、一方適宜の駆動手段によりプラ
テン76を回転軸77のまわりに回転させることにより
副走査が行なわれ、これにより被記録部材78上に記録
が行なわれる。
The recording liquid ejection ports of the recording head unit 70 are oriented in the direction of arrow Z, and the recording liquid is ejected in the form of droplets in the direction of the arrow, and is deposited in the form of dots on the recording member 78 on the platen 76. . Main scanning is performed by moving the recording head unit 70 along the guide member 74 by an appropriate driving means, and sub-scanning is performed by rotating the platen 76 around the rotation axis 77 by an appropriate driving means. As a result, recording is performed on the recording member 78.

実験条件は次の通りであった。The experimental conditions were as follows.

発熱部に1017−5ecのパルス幅、200ALse
cのパルス入力周期で最低発泡電圧(インク中で発泡し
はじめる電圧)の1.2倍の電圧(たとえば最低発泡電
圧が20Vであれば24V)の矩形パルスを印加した。
Pulse width of 1017-5ec, 200ALse in the heat generating part
A rectangular pulse with a voltage 1.2 times the minimum bubbling voltage (the voltage at which bubbling begins in the ink) (for example, 24 V if the minimum bubbling voltage is 20 V) was applied at a pulse input cycle of c.

用いたインクの組成は以下の通りであった。The composition of the ink used was as follows.

水          68重量部 DEC30重量部 黒色染料        2重量部 上記実験条件及びインクを用いてインク滴吐出実験を行
なったところ、第3表に示す様な耐久性評価が得られた
Water: 68 parts by weight DEC: 30 parts by weight Black dye: 2 parts by weight When an ink droplet ejection experiment was conducted using the above experimental conditions and ink, durability evaluations as shown in Table 3 were obtained.

なお、このらの実施例及び比較例における耐久性の評価
は次の通り電気的パルスの繰返し印加可能回数により行
なった。即ち、第3表中の耐久性の欄に示されている「
O」、「×」は、以下の通り電気的パルスの繰返し印加
回数が何回であったかを示している。
The durability of these Examples and Comparative Examples was evaluated based on the number of times electrical pulses could be repeatedly applied as follows. In other words, "
"O" and "x" indicate the number of times the electric pulse was repeatedly applied as shown below.

0    109回以上 ×     100回以下 以上の結果から、本発明の実施例においては比較例に比
べて著しく優れた耐久性を有する記録ヘッドが得られた
ことが分る。また、本発明実施例においては記録性も優
れていいるものであった。
From the results of 0 109 times or more x 100 times or more, it can be seen that in the examples of the present invention, recording heads with significantly superior durability compared to the comparative examples were obtained. Further, in the examples of the present invention, the recording properties were also excellent.

上記耐久性実験においては上記タイプAとタイプ1−1
との組合せが用いられたが、他の組合せにおいても同様
の結果が得られた。
In the above durability experiment, the above type A and type 1-1 were used.
Similar results were obtained with other combinations.

第     3     表 次に1本発明液体噴射記録装2の一実施態様例の一部切
欠斜視図を第24図に示す。
Table 3 Next, FIG. 24 shows a partially cutaway perspective view of an embodiment of the liquid jet recording device 2 of the present invention.

本実施態様例においては、2個の記録ヘッドユニット7
0がそれぞれ押え部材71により並列にキャリッジ72
に固定されてa、置されている。記録ヘッドユニット7
0はいわゆる使い捨てタイプのものであり、記録液を内
蔵している。午ヤリッジ72のガイド部材74に沿って
の移動は、プーリ80,81間に巻回されたワイヤ82
の一部を上記キャリッジ72に固定しておき、モータ8
4によりプーリ81を駆動回転させることにより行なわ
れる。
In this embodiment, two recording head units 7
0 are held in parallel by the carriage 72 by the holding member 71.
It is fixed at a and placed at. Recording head unit 7
0 is a so-called disposable type, and contains recording liquid. The movement of the arm ridge 72 along the guide member 74 is caused by a wire 82 wound between pulleys 80 and 81.
A part of the motor 8 is fixed to the carriage 72, and the motor 8
4 by driving and rotating the pulley 81.

一方、プラテン76の回転軸77はモータ86及びギヤ
機構88により駆動回転せしめられ、これにより被記録
部材78が送られる。
On the other hand, the rotating shaft 77 of the platen 76 is driven and rotated by a motor 86 and a gear mechanism 88, thereby feeding the recording member 78.

90はキャリッジ72を介して記録ヘッドユニット70
に対しZ方向への記録液の吐出の電気信号を供給するた
め、キャリッジ72に接続されているフレキシブル配線
板である。
90 is a recording head unit 70 via a carriage 72.
This is a flexible wiring board connected to the carriage 72 in order to supply an electric signal for ejecting recording liquid in the Z direction.

[発明の効果] 以上の様な本発明によれば、発熱抵抗層として炭素原子
を母体とし水素原子と電気伝導性支配物質とを含有して
なる非晶質材料を用いていることにより、化学的安定性
が高く、耐電気化学反応性、+Mm化性に優れ、且つ耐
機械的衝撃性、耐熱性に優れた電気熱変換体を有し、従
って熱応答性及び繰返し使用耐久性が極めて良好な液体
噴射記録ヘッド及び液体噴射記録装置が提供される6本
発明によれば特に発熱抵抗層の抵抗値制御性が良好であ
る。
[Effects of the Invention] According to the present invention as described above, chemical It has high mechanical stability, excellent electrochemical reaction resistance, +Mm conversion property, and has an electrothermal converter with excellent mechanical impact resistance and heat resistance, and therefore has extremely good thermal response and repeated use durability. According to the present invention, which provides a liquid jet recording head and a liquid jet recording apparatus, the resistance value controllability of the heat generating resistive layer is particularly good.

よって、本発明により高周波数応答でしかも信頼性の高
い液体噴射記録を実現することが可能となる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to realize liquid jet recording with high frequency response and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明記録ヘッドの部分平面図であり、第2図
はその■−■断面図であり、第3図は第2図のm−m断
面図である。 第4図及び第5図は本発明記録ヘッドの電気熱変換体を
有する基板の部分断面図である。 第6図は堆積装置の模式的説明図である。 第7図及び第8図は本発明記録ヘッドの部分斜視図であ
る。 第9図〜t512図は本発明記録ヘッドの部分断面図で
ある。 第13図、第15図及び第17図は未発明記録・\ラド
の電気熱変換体を有する基板の斜視図であり、第14図
、第16図及び第18図はそれぞれそれらの断面図であ
る。 第19図は本発明記録ヘッドの天板の斜視図である。 第20図、第21図及び第22図は本発明記録ヘッドの
斜視図である。 第23図は本発明記録装置の斜視図である。 第24図は本発明記録装置の一部切欠斜視図である。 12:支持体    24:発熱抵抗層16.17:電
極  18:発熱部 20:天板     24:熱作用部 26:吐出口 、3エト 第7図 第8UA 第 9 図 第10閃 第15図 第16図
FIG. 1 is a partial plan view of the recording head of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line 1--2, and FIG. 3 is a sectional view taken along line mm in FIG. 4 and 5 are partial cross-sectional views of a substrate having an electrothermal transducer of the recording head of the present invention. FIG. 6 is a schematic illustration of the deposition apparatus. 7 and 8 are partial perspective views of the recording head of the present invention. 9 to t512 are partial cross-sectional views of the recording head of the present invention. Figures 13, 15, and 17 are perspective views of a substrate having an electrothermal transducer made by Uninvented Record\RAD, and Figures 14, 16, and 18 are cross-sectional views thereof, respectively. be. FIG. 19 is a perspective view of the top plate of the recording head of the present invention. 20, 21, and 22 are perspective views of the recording head of the present invention. FIG. 23 is a perspective view of the recording apparatus of the present invention. FIG. 24 is a partially cutaway perspective view of the recording apparatus of the present invention. 12: Support 24: Heat generating resistance layer 16. 17: Electrode 18: Heat generating section 20: Top plate 24: Heat acting section 26: Discharge port, 3 et. figure

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)液体を吐出して飛翔的液滴を形成するために設け
られた吐出口と前記飛翔的液滴を形成するために利用さ
れる熱エネルギーを発生する電気熱変換体とを具備する
液体噴射記録ヘッドにおいて、前記電気熱変換体を構成
する発熱抵抗層が炭素原子を母体とし水素原子と電気伝
導性を支配する物質とを含有してなる非晶質材料からな
ることを特徴とする、液体噴射記録ヘッド。
(1) A liquid comprising an ejection port provided for ejecting a liquid to form flying droplets, and an electrothermal converter that generates thermal energy used to form the flying droplets. The ejection recording head is characterized in that the heating resistance layer constituting the electrothermal transducer is made of an amorphous material containing carbon atoms as a matrix and hydrogen atoms and a substance controlling electrical conductivity. Liquid jet recording head.
(2)液体を吐出して飛翔的液滴を形成するために設け
られた吐出口と前記飛翔的液滴を形成するために利用さ
れる熱エネルギーを発生する電気熱変換体とを具備する
液体噴射記録ヘッドを搭載してなる液体噴射記録装置に
おいて、前記電気熱変換体を構成する発熱抵抗層が炭素
原子を母体とし水素原子と電気伝導性を支配する物質と
を含有してなる非晶質材料からなることを特徴とする、
液体噴射記録装置。
(2) A liquid comprising an ejection port provided for ejecting liquid to form flying droplets, and an electrothermal converter that generates thermal energy used to form the flying droplets. In a liquid jet recording device equipped with a jet recording head, the heating resistance layer constituting the electrothermal converter is an amorphous material having carbon atoms as a matrix and containing hydrogen atoms and a substance controlling electrical conductivity. characterized by being made of materials,
Liquid jet recording device.
JP12515785A 1985-06-10 1985-06-11 Liquid jet recording head and apparatus Pending JPS61284451A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12515785A JPS61284451A (en) 1985-06-11 1985-06-11 Liquid jet recording head and apparatus
DE19863618534 DE3618534A1 (en) 1985-06-10 1986-06-03 Fluid-jet recording head, and recording system containing this fluid-jet recording head
GB8613938A GB2176443B (en) 1985-06-10 1986-06-09 Liquid jet recording head and recording system incorporating the same
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