JPS61274205A - 光学式変位測定装置 - Google Patents
光学式変位測定装置Info
- Publication number
- JPS61274205A JPS61274205A JP11742085A JP11742085A JPS61274205A JP S61274205 A JPS61274205 A JP S61274205A JP 11742085 A JP11742085 A JP 11742085A JP 11742085 A JP11742085 A JP 11742085A JP S61274205 A JPS61274205 A JP S61274205A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、光学式変位測定
装置に係り、特にファブリペロ−
の干渉計を利用した光学式変位
測定装置に関する。
発明の技術的背景
を互いに内側に向けた２枚の半透明鏡を有するファブリ
ペロ−の干渉計を示すものであるが、従来このような干
渉計は微小変位の測定に役立たなかった。以下；これを
説明する。
ペロ−の干渉計を示すものであるが、従来このような干
渉計は微小変位の測定に役立たなかった。以下；これを
説明する。
この種の干渉計は、外乱などにて互いに対抗する２つの
鏡の間隔が変動することにより、光路位相が変化し干渉
強度が大きく変化する。このような干渉計の干渉強度工
は、鏡の反射率Ｒ１位相差をδとして、 で表される。ただし、ここで位相差δは、λを光の波長
、φを鏡の間隔、ｌを鏡の間隔の変位として、 ４π（ｌ＋φ） δ＝ □・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・（２）λ である。
鏡の間隔が変動することにより、光路位相が変化し干渉
強度が大きく変化する。このような干渉計の干渉強度工
は、鏡の反射率Ｒ１位相差をδとして、 で表される。ただし、ここで位相差δは、λを光の波長
、φを鏡の間隔、ｌを鏡の間隔の変位として、 ４π（ｌ＋φ） δ＝ □・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・（２）λ である。
以上の（１）式を図示すれば、第４図に示すようであり
、周期性がある。尚、第４図中ｍは整数である。またＥ
は反射率Ｒが小の場合を、Ｆは反射率Ｒが約０，２５の
場合を、Ｇは反射率Ｒが大の場合をそれぞれ示す。
、周期性がある。尚、第４図中ｍは整数である。またＥ
は反射率Ｒが小の場合を、Ｆは反射率Ｒが約０，２５の
場合を、Ｇは反射率Ｒが大の場合をそれぞれ示す。
また、鏡の間隔を適当に調節することにより、干渉強度
の中点付近での変位ｉの変動を干渉強度の変化から検出
することができる。
の中点付近での変位ｉの変動を干渉強度の変化から検出
することができる。
しかし、このような干渉計は、干渉強度が周期的であり
、ダイナミックレンジは正負の方向に光の波長λの１４
程度であり、直線性も非常に悪い。
、ダイナミックレンジは正負の方向に光の波長λの１４
程度であり、直線性も非常に悪い。
しかも、鏡の間隔φは、温度変化や経時変化の影響を受
は易く、設定当初から動作点が不正確となる可能性があ
る。
は易く、設定当初から動作点が不正確となる可能性があ
る。
従って、現実にこの種の干渉計を工業用の変位測定装置
として用いることは、従来できなかった。
として用いることは、従来できなかった。
（発明の目的）
この発明は、以上の実状に基づいて成されたものであり
、微小変位であっても精密な測定が可能な光学式変位測
定装置を提供することを目的とする。
、微小変位であっても精密な測定が可能な光学式変位測
定装置を提供することを目的とする。
（発明の概要）
この目的を達成するため、この発明によれば、ファブリ
ペロ−の干渉計の光路長変化を交流成分と直流成分とに
分離して、各成分の変動又は偏差を打ち消すように干渉
計の鏡の位置を変更すするように制御する。この位置変
更は、鏡を圧電駆動手段や動電駆動手段で行うことがで
きる。なお、ここで「変位」とは、一方向への位置変化
、及び往復的な位置変化すなわち振動の双方を含むもの
とする。
ペロ−の干渉計の光路長変化を交流成分と直流成分とに
分離して、各成分の変動又は偏差を打ち消すように干渉
計の鏡の位置を変更すするように制御する。この位置変
更は、鏡を圧電駆動手段や動電駆動手段で行うことがで
きる。なお、ここで「変位」とは、一方向への位置変化
、及び往復的な位置変化すなわち振動の双方を含むもの
とする。
（発明の実施例）
以下、添付図面に従ってこの発明の詳細な説明する。各
図において同一の符号は同様の対象を示す。
図において同一の符号は同様の対象を示す。
第１図は、この発明の実施例に係る測定装置を示すもの
であり、特に振動加速度を検出する装置を示す。
であり、特に振動加速度を検出する装置を示す。
図において、１は装置のケーシング、２は加速度を検知
するためのウェイト部材、３はこのウェイト部材を弾性
的に支持する支持手段、４及び５は位置変更手段、６及
び７は半透明鏡、８はレーザー光源、９は光源８の測定
光ビーム、１０は測定光９を平行光ビームにするための
コリメーションレンズ、１２は測定光９によって形成す
る干渉光を検出しその強度を電気信号に変換する光電変
換手段である。
するためのウェイト部材、３はこのウェイト部材を弾性
的に支持する支持手段、４及び５は位置変更手段、６及
び７は半透明鏡、８はレーザー光源、９は光源８の測定
光ビーム、１０は測定光９を平行光ビームにするための
コリメーションレンズ、１２は測定光９によって形成す
る干渉光を検出しその強度を電気信号に変換する光電変
換手段である。
ケーシング１は、干渉光を形成しこれを検出する全ての
構成要素を含んでいるが、装置を固定する場所によって
はこれらを１つのケーシングに装備しなくてもよい。ケ
ーシング１を構成する材料も適宜選定することができる
。ウェイト部材２は、例えば円筒状でありその中央部に
、後述する測定光９の光軸とほぼ同軸状の貫通孔２人を
有する。
構成要素を含んでいるが、装置を固定する場所によって
はこれらを１つのケーシングに装備しなくてもよい。ケ
ーシング１を構成する材料も適宜選定することができる
。ウェイト部材２は、例えば円筒状でありその中央部に
、後述する測定光９の光軸とほぼ同軸状の貫通孔２人を
有する。
従って、測定光９はこの貫通孔２人を通過する。
支持手段３はバネなどの弾性部材であり、上述のように
測定光９が貫通孔２Ａを通過することができるようにウ
ェイト部材２を支持する。このため、加速度の存在によ
って、ウェイト部材２は測定光９の光軸に沿って矢印Ｘ
の方向に自由に運動することができる。支持手段３の他
端はケーシング１に固定されている。また、支持手段３
の貫通孔２人と対応する部分には開口３Ａが形成されて
いる。
測定光９が貫通孔２Ａを通過することができるようにウ
ェイト部材２を支持する。このため、加速度の存在によ
って、ウェイト部材２は測定光９の光軸に沿って矢印Ｘ
の方向に自由に運動することができる。支持手段３の他
端はケーシング１に固定されている。また、支持手段３
の貫通孔２人と対応する部分には開口３Ａが形成されて
いる。
位置変更手段４は、スペーサ部材４Ａを介してウェイト
部材２の一側面２Ｂに固定されている。
部材２の一側面２Ｂに固定されている。
この位置変更手段４は、電気信号の印加によって測定光
９の光軸方向に変位可能であり、例えば電気歪み効果を
生ずる圧電素子を用いることができる。その他の動電手
段を用いてもよい。この位置変更手段４も支持手段３と
同様の開口４Ｂを有する。
９の光軸方向に変位可能であり、例えば電気歪み効果を
生ずる圧電素子を用いることができる。その他の動電手
段を用いてもよい。この位置変更手段４も支持手段３と
同様の開口４Ｂを有する。
位置変更手段５は、スペーサ部材５Ａを介してケーシン
グｌ内のフレーム部材ＩＡに、位置変更手段４と対向す
るように固定されている。この位置変更手段５も、電気
信号の印加によって測定光９の光軸方向に変位可能であ
り、例えば電気歪み効果を生ずる圧電素子を用いること
ができる。
グｌ内のフレーム部材ＩＡに、位置変更手段４と対向す
るように固定されている。この位置変更手段５も、電気
信号の印加によって測定光９の光軸方向に変位可能であ
り、例えば電気歪み効果を生ずる圧電素子を用いること
ができる。
その他の動電手段を用いてもよい。位置変更手段５も支
持手段３及び位置変更手段４と同様の開口５Ｂを有する
。また、フレーム部材ＩＡにも開口３Ａ、４Ｂ、５Ｂと
同軸状に開口ＩＢが形成されている。
持手段３及び位置変更手段４と同様の開口５Ｂを有する
。また、フレーム部材ＩＡにも開口３Ａ、４Ｂ、５Ｂと
同軸状に開口ＩＢが形成されている。
位置変更手段４，５の開口４Ｂ、５Ｂをそれぞれ塞ぐよ
うに半透明鏡６，７が各位置変更手段４゜５の対向面４
Ｃ，５Ｃに固定されている。半透明鏡６，７の各反射面
６Ｒ，７Ｒは互いに対抗している。これらの反射面６Ｒ
８７Ｒは互いに平行であることが理想的であるが、干渉
が生ずればよいのであるから、必ずしも平行である必要
はない。
うに半透明鏡６，７が各位置変更手段４゜５の対向面４
Ｃ，５Ｃに固定されている。半透明鏡６，７の各反射面
６Ｒ，７Ｒは互いに対抗している。これらの反射面６Ｒ
８７Ｒは互いに平行であることが理想的であるが、干渉
が生ずればよいのであるから、必ずしも平行である必要
はない。
ケーシングｌの左側端部のフレーム部材ＩＤには、コヒ
ーレントな測定光９を発生するレーザダイオードなどの
光源８が固定されている。この光源８は、レーザダイオ
ードに限らず、ガスレーザなど各種の光源を用いること
ができる。この光源８から出射する測定光９は、コリメ
ーションレンズ１０で平行光束となる。コリメーション
レンズ１０は、光源８とウェイト部材２との間のフレー
ム部材ＩＥの開口ＩＦに装備されている。
ーレントな測定光９を発生するレーザダイオードなどの
光源８が固定されている。この光源８は、レーザダイオ
ードに限らず、ガスレーザなど各種の光源を用いること
ができる。この光源８から出射する測定光９は、コリメ
ーションレンズ１０で平行光束となる。コリメーション
レンズ１０は、光源８とウェイト部材２との間のフレー
ム部材ＩＥの開口ＩＦに装備されている。
また、ケーシング１の右端部のフレーム部材ＩＧには測
定光９を受ける光電変換手段１２が固定されている。
定光９を受ける光電変換手段１２が固定されている。
以上において、貫通孔や開口は全て同軸状に配列されて
いるため、光源８の光は、レンズ１０、開口３Ａ、貫通
孔２人、開口３Ａ、４Ｂ、半透明鏡６．７、開口５Ｂ、
ＩＢを介して光電変換手段１２に到達する。
いるため、光源８の光は、レンズ１０、開口３Ａ、貫通
孔２人、開口３Ａ、４Ｂ、半透明鏡６．７、開口５Ｂ、
ＩＢを介して光電変換手段１２に到達する。
位置変更手段４，５である圧電素子のリード線１４．１
５、及び光電変換手段１２のリード線１９は、それぞれ
第２図に示す電気回路に接続する。
５、及び光電変換手段１２のリード線１９は、それぞれ
第２図に示す電気回路に接続する。
第２図において、２０はプリアンプ、２１は比較器、２
２はバイパスフィルタ、２３は積分増幅器、２４はロー
パスフィルタ、２５は積分増幅器、２６は出力端子、２
９は基準電圧端子である。
２はバイパスフィルタ、２３は積分増幅器、２４はロー
パスフィルタ、２５は積分増幅器、２６は出力端子、２
９は基準電圧端子である。
バイパスフィルタ２２及び積分増幅器２３は干渉光に対
応する電気信号（以下、干渉信号とする）の交流成分を
検出し、またローパスフィルタ２４及び積分増幅器２５
は干渉信号の直流成分を検出する。
応する電気信号（以下、干渉信号とする）の交流成分を
検出し、またローパスフィルタ２４及び積分増幅器２５
は干渉信号の直流成分を検出する。
積分増幅器２３．２５は、圧電位置変更手段４，５の時
定数に応じて駆動電圧を保持するためのものである。各
増幅器２３．２５の出力は、それぞれ圧電位置変更手段
４，５に供給され、フィードバックループが形成されて
いる。
定数に応じて駆動電圧を保持するためのものである。各
増幅器２３．２５の出力は、それぞれ圧電位置変更手段
４，５に供給され、フィードバックループが形成されて
いる。
端子２９の基準電圧ｖＯは、干渉強度が強く直線性の長
い領域の中心点に半透明鏡６が位置するように、位置変
更手段４にバイアス電圧を印加するためのものである。
い領域の中心点に半透明鏡６が位置するように、位置変
更手段４にバイアス電圧を印加するためのものである。
。
なお、以上のフィードバック系では、圧電位置変更手段
の単体での、電圧に対する変位を考慮し、補正量よりも
充分大きな帰還電圧を印加する必要があり、このために
はプリアンプ２０を含む増幅系のゲインを充分に大きく
する必要がある。
の単体での、電圧に対する変位を考慮し、補正量よりも
充分大きな帰還電圧を印加する必要があり、このために
はプリアンプ２０を含む増幅系のゲインを充分に大きく
する必要がある。
次に、この実施例の動作を説明する。
測定に先立って、第１図のユニットを加速度を測定すべ
き対象（以下、測定対象とする）に固定する。第２図の
電気回路は第１図のユニットに組み込んでもよいし、別
としてもよい。
き対象（以下、測定対象とする）に固定する。第２図の
電気回路は第１図のユニットに組み込んでもよいし、別
としてもよい。
測定対象が等速度運動しているとき、加速度は零である
。従って、鏡６，７の間隔は変化せず、光電変換器１２
によって得られる干渉信号には交流成分はない。このた
め、増幅器２３の出力は零又は基準電位であり、位置変
更手段５は設定位置から動かない。
。従って、鏡６，７の間隔は変化せず、光電変換器１２
によって得られる干渉信号には交流成分はない。このた
め、増幅器２３の出力は零又は基準電位であり、位置変
更手段５は設定位置から動かない。
干渉信号の直流成分が基準電位ＶＯである場合は、比較
器２１の出力偏差も零であり、ローパスフィルタ２４を
介して圧電位置変更手段４に供給される電気信号も零で
あり、位置変更手段４は設定位置から動かない。
器２１の出力偏差も零であり、ローパスフィルタ２４を
介して圧電位置変更手段４に供給される電気信号も零で
あり、位置変更手段４は設定位置から動かない。
直流成分がある場合には、比較器２１に偏差出力信号が
発生し、この偏差信号はローパスフィルタ２４及び増幅
器２５を介して位置変更手段４に印加される。このため
、位置変更手段・１は、偏差の大きさ及び極性に従った
量だけ測定暴９の光軸方向に変位する。この変位量は極
く僅かであるため、鏡６．７の配列状態（例えば、平行
度）が変化することはない。
発生し、この偏差信号はローパスフィルタ２４及び増幅
器２５を介して位置変更手段４に印加される。このため
、位置変更手段・１は、偏差の大きさ及び極性に従った
量だけ測定暴９の光軸方向に変位する。この変位量は極
く僅かであるため、鏡６．７の配列状態（例えば、平行
度）が変化することはない。
また、前述からも明らかであるが、鏡の変位方向及び変
位量は基準電圧Ｖｏに対する偏差で決定され、鏡が変位
に対する干渉強度の直線性の良い領域の中点に位置し、
偏差が零となるまで鏡は格点は、厳密には反射率に依存
し、干渉の中点ではない。しかし、反射率が小さい場合
には、干渉の中点と最も直線性の良い部分とは一致する
。従っ測定対象が加速度運動をしている場合、ウェイト
部材２は振動し、干渉信号には交流成分と直流成分とが
含まれる。直流成分による位置変更手段４の動作は前述
と同様である。
位量は基準電圧Ｖｏに対する偏差で決定され、鏡が変位
に対する干渉強度の直線性の良い領域の中点に位置し、
偏差が零となるまで鏡は格点は、厳密には反射率に依存
し、干渉の中点ではない。しかし、反射率が小さい場合
には、干渉の中点と最も直線性の良い部分とは一致する
。従っ測定対象が加速度運動をしている場合、ウェイト
部材２は振動し、干渉信号には交流成分と直流成分とが
含まれる。直流成分による位置変更手段４の動作は前述
と同様である。
干渉信号の交流成分は、バイパスフィルタ２２を通過し
、積分増幅器２３の出力信号で圧電位置変更手段５を駆
動するが、この増幅器２３によって信号は反転されてい
る。従って、位置変更手段５には干渉信号従ってウェイ
ト部材２の運動を打ち消すような駆動信号が供給される
。すなわち、−位置変更手段５も常に干渉の中点に相当
する距離を保つように、距離忘だけ外部振動に追随して
変位する。
、積分増幅器２３の出力信号で圧電位置変更手段５を駆
動するが、この増幅器２３によって信号は反転されてい
る。従って、位置変更手段５には干渉信号従ってウェイ
ト部材２の運動を打ち消すような駆動信号が供給される
。すなわち、−位置変更手段５も常に干渉の中点に相当
する距離を保つように、距離忘だけ外部振動に追随して
変位する。
圧電変位手段は、増幅器２３により印加される信号電圧
Ｖと変位ぎとの間に、 ！＝αＶ （αは比例定数） なる線形の関係があるため、端子２６の電圧を検出する
ことにより、変位ｌを測定することができる。
Ｖと変位ぎとの間に、 ！＝αＶ （αは比例定数） なる線形の関係があるため、端子２６の電圧を検出する
ことにより、変位ｌを測定することができる。
なお、第４図からも分かるように、反射率が小さい場合
には、干渉強度の変化は小さくなり検出感度は劣化する
。また、反射率が大きい場合には、検出感度は良い。こ
の発明によれば、どのような反射率でも実施できるが、
反射率が０．２５程度の場合が実際的である。
には、干渉強度の変化は小さくなり検出感度は劣化する
。また、反射率が大きい場合には、検出感度は良い。こ
の発明によれば、どのような反射率でも実施できるが、
反射率が０．２５程度の場合が実際的である。
以上の各種の構成要素の形状及び原理を変更しても同様
にこの発明の目的を達成することができる。また、加速
度検出装置のみでなく各種の装置にこの発明を適用する
ことができる。
にこの発明の目的を達成することができる。また、加速
度検出装置のみでなく各種の装置にこの発明を適用する
ことができる。
（発明の効果）
この発明によれば、以上のように、ファブリペロ−の干
渉計の光路長変化を交流成分と直流成分とに分離し、各
成分の変動又は偏差を打ち消すように干渉計の鏡の位置
を変更するように制御することにより、測定のダイチッ
クレンジと直線性を大幅に改善し、いかなる変位に対し
ても正確な測定の可能な光学式変位測定装置を得ること
ができる。
渉計の光路長変化を交流成分と直流成分とに分離し、各
成分の変動又は偏差を打ち消すように干渉計の鏡の位置
を変更するように制御することにより、測定のダイチッ
クレンジと直線性を大幅に改善し、いかなる変位に対し
ても正確な測定の可能な光学式変位測定装置を得ること
ができる。
第１図はこの発明の実施例の要部側面図、第２図はこの
発明の実施例の他の要部である電気系統図、第３図はこ
の発明の原理説明図、第４図は第３図の原理による干渉
強度の説明図である。 １・・・ケーシング、２・・・ウェイト部材、３・・・
弾性支持手段、４，５・・・位置変更手段、６，７・・
・半透明鏡、８・・・光源、９・・・測定光、１２・・
・光電変換手段、２２、２３・・・第１の電気回路の主
要部、２４．２５・・・第２の電気回路の主要部。
発明の実施例の他の要部である電気系統図、第３図はこ
の発明の原理説明図、第４図は第３図の原理による干渉
強度の説明図である。 １・・・ケーシング、２・・・ウェイト部材、３・・・
弾性支持手段、４，５・・・位置変更手段、６，７・・
・半透明鏡、８・・・光源、９・・・測定光、１２・・
・光電変換手段、２２、２３・・・第１の電気回路の主
要部、２４．２５・・・第２の電気回路の主要部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光源のコヒーレントな測定光が到来するのとは逆の
方向に反射面を有する第１の半透明鏡と、この半透明鏡
の前記反射面とその反射面が互いに対向するように配置
した第２の半透明鏡と、これら第１及び第２の半透明鏡
を前記測定光が透過可能であるようにそれぞれ搭載し電
気信号の印加によって前記測定光の光軸方向に変位可能
な第１及び第２の位置変更手段とを備えて成る光学式変
位測定装置。 ２、光源のコヒーレントな測定光が到来するのとは逆の
方向に反射面を有する第１の半透明鏡と、この半透明鏡
の前記反射面とその反射面が互いに対向するように配置
した第２の半透明鏡と、これら第１及び第２の半透明鏡
を前記測定光が透過可能であるようにそれぞれ搭載し電
気信号の印加によって前記測定光の光軸方向に変位可能
な第１及び第２の位置変更手段と、前記第１及び第２の
半透明鏡が前記測定光によって形成する干渉光を検出し
その強度を電気信号に変換する光電変換手段と、この光
電変換手段の出力電気信号の交番的変化を打ち消すよう
に前記位置変更手段の一方を駆動する電気信号を供給す
る第１の電気回路と、前記光電変換手段の出力電気信号
の直流成分の基準電気信号に対する偏差を検出しこの偏
差が零になるように前記位置変更手段の他方を駆動する
第２の電気回路とを備えて成る光学式測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11742085A JPS61274205A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光学式変位測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11742085A JPS61274205A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光学式変位測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61274205A true JPS61274205A (ja) | 1986-12-04 |
Family
ID=14711202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11742085A Pending JPS61274205A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光学式変位測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61274205A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63204673A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-24 | Hitachi Ltd | 圧電素子制御装置 |
| WO2015146533A1 (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-01 | 独立行政法人情報通信研究機構 | 加速度センサーとそれを用いた能動除振装置 |
| CN105842478A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-10 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 一种耐高温一体化弹性结构光纤f-p腔加速度传感器 |
| CN114252002A (zh) * | 2022-02-25 | 2022-03-29 | 国科大杭州高等研究院 | 一种可标定的亚纳米级高精度微位移装置及应用 |
-
1985
- 1985-05-30 JP JP11742085A patent/JPS61274205A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63204673A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-24 | Hitachi Ltd | 圧電素子制御装置 |
| WO2015146533A1 (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-01 | 独立行政法人情報通信研究機構 | 加速度センサーとそれを用いた能動除振装置 |
| JP2015184115A (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-22 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 | 加速度センサーとそれを用いた能動除振装置 |
| CN105842478A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-10 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 一种耐高温一体化弹性结构光纤f-p腔加速度传感器 |
| CN114252002A (zh) * | 2022-02-25 | 2022-03-29 | 国科大杭州高等研究院 | 一种可标定的亚纳米级高精度微位移装置及应用 |
| CN114252002B (zh) * | 2022-02-25 | 2022-06-21 | 国科大杭州高等研究院 | 一种可标定的亚纳米级高精度微位移装置 |
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