JPS61265792A - Semiconductor memory circuit - Google Patents
Semiconductor memory circuitInfo
- Publication number
- JPS61265792A JPS61265792A JP60107663A JP10766385A JPS61265792A JP S61265792 A JPS61265792 A JP S61265792A JP 60107663 A JP60107663 A JP 60107663A JP 10766385 A JP10766385 A JP 10766385A JP S61265792 A JPS61265792 A JP S61265792A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- level
- circuit
- word line
- signal
- decoder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体記憶回路、特にいわゆるスタティックR
AM(以下SRAMという、)に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to semiconductor memory circuits, particularly so-called static R
This relates to AM (hereinafter referred to as SRAM).
第6図は従来例に係る半導体記憶回路の問題点を説明す
るための回路図であり、lはワード線(WL)、2はメ
モリセル、3はトランジスタTI と72よりなるビッ
ト線負R素子である。またメモリセル2は、負荷抵抗R
,と12 、読出し/書込みトランジスタT3とT4
およびドライバトランジスタT5とT6からなっている
。4と5はビット線である。FIG. 6 is a circuit diagram for explaining the problems of a conventional semiconductor memory circuit, where l is a word line (WL), 2 is a memory cell, and 3 is a bit line negative R element consisting of a transistor TI and 72. It is. Furthermore, the memory cell 2 has a load resistance R
, and 12, read/write transistors T3 and T4
and driver transistors T5 and T6. 4 and 5 are bit lines.
いまセルに一定の情報が蓄積されており、ドライバトラ
ンジスタT5がオン、ドライバトランジスタT6がオフ
しているとする。従ってビット線4は低レベル状態(以
下“L″とする)に、ビット線5は高レベル状!s(以
下“H″とする)にある、またワード線lが選択されて
おり、読出し/書込みトランジスタT3とT4がオンし
ているとする。従って図において矢印で示すように、電
源VCCからトランジスタT I−T 3 1 T 5
を介して電源VSSに電流■1が流れる。Assume that a certain amount of information is currently stored in the cell, the driver transistor T5 is on, and the driver transistor T6 is off. Therefore, the bit line 4 is at a low level (hereinafter referred to as "L"), and the bit line 5 is at a high level! Suppose that the word line 1 is at the current level s (hereinafter referred to as "H"), the word line l is selected, and the read/write transistors T3 and T4 are turned on. Therefore, as shown by the arrow in the figure, from the power supply VCC to the transistor T I-T 3 1 T 5
A current 1 flows through the power supply VSS.
ところで非同期fisRAMでは、この電流11はワー
ド線が選択されている限り流れており、一般にはいずれ
かのワード線が選択されているから、常時この電流が流
れている。By the way, in the asynchronous fisRAM, this current 11 flows as long as a word line is selected, and since any word line is generally selected, this current always flows.
またこの電流II は選択ワード線につながっている全
てのセルにおいて流れるものであるから。Further, this current II flows in all cells connected to the selected word line.
特に大容徽のSRAM程大き敬重流が流れ、消費電力の
点で問題になっていた。In particular, there was a trend to pay more attention to SRAMs made by Dayonghui, which caused problems in terms of power consumption.
なおセルが非選択状態で読出し/書込みトランジスタT
3とT4がオフのときにも電流I2が図示するように流
れるが、電流工!の方が大きいので電流It を減らす
ことが消費電力低減化のために重要である。Note that when the cell is not selected, the read/write transistor T
Even when T3 and T4 are off, the current I2 flows as shown, but the current flow! Since it is larger, it is important to reduce the current It to reduce power consumption.
この問題を解決するため、従来より種々の方法が提案さ
れているが、その1つとして、読出し又は−1込みに最
低限必要な期間のみ、アドレスで指定されたワード線を
選択状態にする方法がある。In order to solve this problem, various methods have been proposed in the past, one of which is a method of keeping the word line specified by the address in the selected state only for the minimum period necessary for reading or adding -1. There is.
第7図はその一例を示すタイミング図であり。FIG. 7 is a timing diagram showing an example of this.
Addはアドレス信号、WEは書込み制御信号。Add is an address signal, and WE is a write control signal.
WLはワード線選択信号、DOυ丁は読出されたデータ
の信号である。 この方法によれば、読出し動作ではア
ドレス信号Addにより所定のワード線を選択して(W
L=“H”)セルからデータをビット線4.5に読出す
が、読出しデータが不図示のラッチ回路によりラッチさ
れるとこれを検出してワード線を非選択状11(WL=
“L″)にするものであり、また書込み動作でも同様に
、所定のワード線を選択して(WL=″H″)セルにデ
ータを書込むが、書込みが終了するとワード線を非選択
状l!B(WL=“L”)にするものである。WL is a word line selection signal, and DOυ is a read data signal. According to this method, in a read operation, a predetermined word line is selected by the address signal Add (W
L="H") Data is read from the cell to the bit line 4.5, but when the read data is latched by a latch circuit (not shown), this is detected and the word line is set to the unselected state 11 (WL=
Similarly, in the write operation, a predetermined word line is selected (WL=“H”) and data is written into the cell, but when the write is completed, the word line is unselected. l! B (WL="L").
このように従来の方法によれば、読出しや書込み動作に
必要な期間のみアドレスで指定されたワード線を選択し
くWL=”H″)、それ以外の期間はワード線を非選択
状@(Wt=“L”)にするものであるから、ビット線
からセル内に電流が流れ込む期間を短くでき、無駄な電
力消費を防止することができる。これは特にサイクルタ
イムの長いSRAMにとって有効であった。In this way, according to the conventional method, the word line specified by the address is selected only during the period necessary for read or write operations (WL="H"), and the word line is left unselected @(Wt ="L"), the period during which current flows from the bit line into the cell can be shortened, and wasteful power consumption can be prevented. This was particularly effective for SRAMs with long cycle times.
以上のように、従来の方法によれば確かに消費電力を大
幅に部域することがでさるが、読出しや書込み動作のた
びにワード線を“L”レベル(非選択状態)から“H″
レベル選択状態)まで立上げなければならず、このため
ワード線の容量負荷が大きいときワード線を非選択状態
にするのに時間がかかり、読出しや書込み時間が長くな
る問題点があった。As described above, it is true that the conventional method can significantly reduce power consumption.
Therefore, when the capacitive load on the word line is large, it takes time to bring the word line into a non-selected state, resulting in a problem that read and write times become longer.
本発明はかかる点に鑑みて創作されたものであり、消費
電力の低減化とともに、読出しや書込み時間の短縮化を
可能にする半導体記憶回路の提供を目的とする。The present invention was created in view of these points, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory circuit that can reduce power consumption and shorten read and write times.
本発明に係る半導体記憶回路の構成は、第1図に示すよ
うに、デコーダ出力信号(XI)−制御信号(φ)およ
び占込み制御信号(WE)を入力する論理回路(オア回
路6.インバータ回路7と10、ナンド回路8.アンド
回路9およびNチャンネルトランジスタ12とにより構
成されている。)と、この論理回路の出力信号に従って
ワード線(WLi)の信号レベルを設定する回路(Pチ
ャンネルトランジスタ11.Nチャンネルトランジスタ
18.および中間レベル供給回路13とにより構成され
ている。)とを有することを特徴としている。As shown in FIG. 1, the configuration of the semiconductor memory circuit according to the present invention includes a logic circuit (OR circuit 6. circuits 7 and 10, a NAND circuit 8, an AND circuit 9, and an N-channel transistor 12), and a circuit (P-channel transistor 11. N-channel transistor 18. and an intermediate level supply circuit 13).
なお21はワードドライバ(wn)であり、後述する第
3図内のそれに対応している。Note that 21 is a word driver (wn), which corresponds to that in FIG. 3, which will be described later.
上記の論理回路により、デコーダが非選択でデコーダ出
力信号(XI)が“L”レベルのとき、Pチャンネルト
ランジスタitとNチャンネルトランジスタ12がオフ
、かつNチャンネルトランジスタ1Bがオンしてワード
線の信号(WLi)をL”レベル(第1のレベル)に設
定する。According to the above logic circuit, when the decoder is not selected and the decoder output signal (XI) is at the "L" level, the P-channel transistor it and the N-channel transistor 12 are turned off, and the N-channel transistor 1B is turned on, so that the word line signal (WLi) is set to L'' level (first level).
デコーダが選択されてデコーダ出力信号(XI )が“
H″レベル、かつアドレスが変化したときに所定M間“
H”レベルとなる制御信号(φ)又は書込み制御信号(
WE)がH”レベルのとき、Nチャンネルトランジスタ
12と18がオフ、かつPチャンネルトランジスタti
がオンしてワード線の信号(WLi)を′H″ルベル(
第2のレベル)に設定する。The decoder is selected and the decoder output signal (XI) is “
H'' level and for a predetermined M period when the address changes.
The control signal (φ) or write control signal (
When WE) is at H level, N-channel transistors 12 and 18 are off, and P-channel transistor ti
is turned on and the word line signal (WLi) goes to 'H' level (
second level).
またデコーダが選択されてデコーダ出力信号(Xt)が
H”レベルであるが、制御信号(φ)又は書込み制御信
号(WE)の双方が“L”レベルのとき、Pチャーンネ
ルトランジスタ11とNチャンネルトランジスタ1Bが
オフ、かつNチャンネルトランジスタ12がオンして中
間レベル供給回路13によりワード線の信号(WLi
)を中11ルベル(第3のレベル、M”レベル)に設定
する。Further, when the decoder is selected and the decoder output signal (Xt) is at the "H" level, but both the control signal (φ) or the write control signal (WE) are at the "L" level, the P channel transistor 11 and the N channel The transistor 1B is turned off, the N-channel transistor 12 is turned on, and the intermediate level supply circuit 13 outputs the word line signal (WLi
) is set to middle 11 level (third level, M” level).
以下図面を参照しながら本発明の実施例について説明す
る。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
ft515!Jは本発明の実施例に係るCMO3による
半導体記憶回路のワードドライバ回路の構IIG図であ
り、6は制御信号(φ)と書込み制御信号(WE)を2
人力とするオア回路、7はオア回路6の出力信号を反転
するインバータ回路である。ft515! J is a block diagram of a word driver circuit of a semiconductor memory circuit using a CMO3 according to an embodiment of the present invention, and 6 is a diagram showing a control signal (φ) and a write control signal (WE) by 2.
The manually operated OR circuit 7 is an inverter circuit that inverts the output signal of the OR circuit 6.
ここでφはアドレスが変化したときから一定期間“H”
レベルとなる制御信号であり(後に第4図、第5図を参
照しながら詳述する。)。Here, φ is “H” for a certain period of time from when the address changes.
This is a control signal that becomes a level (described in detail later with reference to FIGS. 4 and 5).
W E 4i″L”レベルのときリード、″H″レベル
のときライトを示す書込み制御信号である。W E 4i This is a write control signal indicating a read when the level is ``L'' and a write when the level is ``H''.
また8はデコーダの出力信号(xl)とオア回路6の出
力信号Aを2人力とするナンド回路。Further, 8 is a NAND circuit which generates the output signal (xl) of the decoder and the output signal A of the OR circuit 6 by two people.
9はデコーダの出力信号(Xt)とインバータ回路7の
出力信号Bを2人力とするアンド回路であ ・す
、10はデコーダの出力信号(Xt)を反転するインバ
ータ回路である。Reference numeral 9 is an AND circuit that inputs the output signal (Xt) of the decoder and the output signal B of the inverter circuit 7, and 10 is an inverter circuit that inverts the output signal (Xt) of the decoder.
11はPチャンネルトランジスタでソースをVCC電源
、ゲートをナンド回路8の出力、ドレインをワード線(
WLi)に接続しており、12はトランスファーゲート
用のNチャンネルトランジスタでドレインをワード線(
WLi ) 、ゲートをアンド回路9の出力に接続し
ている。11 is a P-channel transistor whose source is the VCC power supply, whose gate is the output of the NAND circuit 8, and whose drain is the word line (
12 is an N-channel transistor for transfer gate whose drain is connected to the word line (WLi).
WLi), whose gate is connected to the output of the AND circuit 9.
13は中間レベル供給回路であり、負荷用Nチャンネル
トランジスタ14とそれぞれのゲートとドレインを接続
する直列の3つのNチャンネルトランジスタ15.16
.17とにより構成されており、その出力はNチャンネ
ルトランジスタ12のソースに接続している。なお中間
レベル供給回路13の構成トランジスタの数と各トラン
ジスタのディメンジョンの大きさは、要求される中間レ
ベル電圧(Vn )の大きさや供給回路自体の消費する
電力を考慮して定められるものである。Reference numeral 13 denotes an intermediate level supply circuit, which includes three N-channel transistors 15 and 16 connected in series to the load N-channel transistor 14 and their gates and drains.
.. 17, the output of which is connected to the source of the N-channel transistor 12. Note that the number of transistors constituting the intermediate level supply circuit 13 and the size of each transistor are determined by taking into consideration the magnitude of the required intermediate level voltage (Vn) and the power consumed by the supply circuit itself.
18はNチャンネルトランジスタでドレインをワード線
(WLi)、ゲートをインバータ回路lOの出力、ソー
スをVSS電源に接続している。18 is an N-channel transistor whose drain is connected to the word line (WLi), whose gate is connected to the output of the inverter circuit IO, and whose source is connected to the VSS power supply.
ワード線(WLi)は第6図で示すセル内の読出し/書
込みトランジスタのゲートに接続されている。The word line (WLi) is connected to the gate of the read/write transistor in the cell shown in FIG.
次に第1図に示す本実施例回路の動作を。Next, the operation of the circuit of this embodiment shown in FIG. 1 will be explained.
第2図のタイミング図を参照しながら説明する。This will be explained with reference to the timing diagram shown in FIG.
第2図の記号は第1図の記号と対応している。The symbols in FIG. 2 correspond to those in FIG.
ワードM (WLi )に対応するアドレスがデコーダ
(不図示)に久方されていないとき、デコーダ出力信号
(xl)は“L′″レベルである。When the address corresponding to word M (WLi) has not been stored in the decoder (not shown) for a long time, the decoder output signal (xl) is at the "L'" level.
このときナンド回路8の出力Cは“H”レベル。At this time, the output C of the NAND circuit 8 is at "H" level.
アンド回路9の出力Dは“L′Iレベルでトランジスタ
11と12がオフ、一方トランジスタ18がオンしてい
るから、ワードm (WLi )は“L”レベルである
。従ってこのワード線の信号をゲート信号とするセル内
のNチャンネルトランスファーゲー)T3.T4は閉じ
ており(第6図参照)、“L”レベル側のビット線を介
してセル内に電流が流れ込むことはない、なお、このと
き制御信号(φ)と書込み制御信号(WE)によってA
点、B点のレベルが変わっても、0点、D点のレベル状
態は変わらない。Since the output D of the AND circuit 9 is at the "L'I level" and the transistors 11 and 12 are off, while the transistor 18 is on, the word m (WLi) is at the "L" level. Therefore, the signal on this word line is N-channel transfer gates (T3 and T4 in the cell used as gate signals) are closed (see Figure 6), and no current flows into the cell via the bit line on the "L" level side. When A is set by the control signal (φ) and the write control signal (WE)
Even if the levels of point and point B change, the level states of point 0 and point D do not change.
一方、7− Fil (Wl、+ )に対応するアドレ
スがデコーダに久方されると、まずデコーダ出方信号(
X、)がH”レベルとなり(第2図では、アドレスA1
が久方されるとデコーダ出方信号(xI)が“H”レベ
ルになるものとしてぃる、)、トランジスタ18はカッ
トオフする。このとき制御信号(φ)と占込み制御信号
(WE)はまだ“L”レベルにあるから、A点は“L”
レベル、B点は“H″レベルある。従ってナンド回路8
の出力Cは“H″レベルアンド回路9の出力りも″H″
レベルとなってトランジスタ11がオフ、トランジスタ
12がオンし、ワード線(WLi)のレベルは中間レベ
ル供給回路13の出力する″M″レベルとなる。このた
めセル内のトランスファーゲート(第6図のTゴ 。On the other hand, when the address corresponding to 7-Fil (Wl, +) is sent to the decoder, first the decoder output signal (
X,) becomes H” level (in Figure 2, address A1
(assuming that the decoder output signal (xI) becomes "H" level), the transistor 18 is cut off. At this time, the control signal (φ) and the occupation control signal (WE) are still at the "L" level, so the A point is "L".
Level, point B has "H" level. Therefore, NAND circuit 8
The output C of is “H” level and the output of the AND circuit 9 is also “H”
The transistor 11 is turned off, the transistor 12 is turned on, and the level of the word line (WLi) becomes the "M" level output from the intermediate level supply circuit 13. For this reason, the transfer gate in the cell (Tgo in Figure 6).
T4)の導通度は、ワード線(WLi )が非選択のと
きよりも高く、しかし選択されたときよりも低い状態に
なり、“L”レベル側のビット線(BL)を介してセル
内に微少電流が流れる。The conductivity of T4) is higher than when the word line (WLi) is not selected, but lower than when it is selected, and the conductivity of T4) is higher than when the word line (WLi) is not selected, but lower than when it is selected. A minute current flows.
一方、アドレスA1.1からアドレスA、への変化が検
出されて制御信号(φ)が“H”レベルとなると、オア
回路6の出力信号Aが“H″レベルインバータ回路7の
出力信号Bが“L”レベル、従ってナンド回路8の出力
信号Cが“L”レベル、アンド回路9の出力信号りが“
L”レベルになってトランジスタ11がオン、トランジ
スタ12がオフするので、ワード線(WLi)は“H″
レベルなる。このためセル内のトランスファーゲート(
T3 * Ts )は完全に導通し。On the other hand, when a change from address A1.1 to address A is detected and the control signal (φ) goes to "H" level, output signal A of OR circuit 6 goes to "H" level and output signal B of inverter circuit 7 goes to "H" level. “L” level, therefore the output signal C of the NAND circuit 8 is “L” level, and the output signal C of the AND circuit 9 is “L” level.
Since the word line (WLi) becomes "L" level and transistor 11 is turned on and transistor 12 is turned off, the word line (WLi) becomes "H" level.
level. For this reason, the transfer gate (
T3 * Ts ) is completely conductive.
データが読出される。Data is read.
このようにして読み出されたデータは、制御信号(φ)
が′H″レベルの間に不図示のラッチ回路によりラッチ
される。このとき制御信号(φ)のパルス幅は、データ
をラッチするに充分な幅に設定されている。制御信号(
φ)が″L″レベルとなり書込み制御信号(WE)が“
L″ルベルままであれば、信号Aが″L″レベル、信
゛号Bが“H”レベルとなる。一方、デコーダ出
力信号(X+)はまだ“H”レベルであるから、信号C
が“H”レベル、信号りが”H″レベルなる。これによ
りトランジスタ11がオフ、トランジスタ12がオンし
、一方トランジスタ18はオフのままで、従ってワード
線(WLi)は再び“M″レベルなる。The data read in this way is controlled by the control signal (φ).
is latched by a latch circuit (not shown) while it is at 'H' level.At this time, the pulse width of the control signal (φ) is set to a width sufficient to latch the data.The control signal (
φ) becomes “L” level and the write control signal (WE) becomes “
If the signal A remains at the “L” level, the signal A becomes “L” level and reliable.
No. B becomes "H" level. On the other hand, since the decoder output signal (X+) is still at "H" level, the signal C
is at "H" level, and the signal is at "H" level. As a result, transistor 11 is turned off and transistor 12 is turned on, while transistor 18 remains off, so that the word line (WLi) becomes "M" level again.
この状態は、後述するように、書込みa1w信号(WE
)が″H″ルベルにならない限り、デコーダが選択され
ている間(デコーダ出方信号(xl)がH”レベル)保
持される。This state corresponds to the write a1w signal (WE
) is held at the "H" level while the decoder is selected (the decoder output signal (xl) is at the "H" level).
この状態で1次に書込み制御信号(WE)が“H”レベ
ル、つまりライトモードになると、制御信号(φ)が“
H”レベルとなったときと同様に、トランジスタ18は
オフのままで、トランジスタ11がオン、トランジスタ
12がオフとなるので、ワード線(WLi)は°′H″
レベルとなってセル内のトランスファーゲー) (T3
。In this state, when the primary write control signal (WE) is at “H” level, that is, the write mode is set, the control signal (φ) becomes “
As in the case of the high level, the transistor 18 remains off, the transistor 11 turns on, and the transistor 12 turns off, so the word line (WLi) goes to °'H''.
Level and transfer game in the cell) (T3
.
T4)は完全に導通し、データが書込まれる。T4) is fully conductive and data is written.
次にアドレスがA、からA1÷1に変わるとワード線(
WLi)は“L”レベルにもどり、信号Cが“H″レベ
ル信号りが“L”レベルとなり、このとき信号Aは“L
”レベル、信号Bは″H″レベルであるので、トランジ
スタ11゜12がオフ、信号Eは“H″レベルなるから
トランジスタ18がオンして、ワード線(wLt)は“
L″レベルなる。Next, when the address changes from A to A1÷1, the word line (
WLi) returns to the "L" level, the signal C becomes the "H" level, the signal becomes the "L" level, and at this time the signal A becomes the "L" level.
Since the signal B is at the "H" level, the transistors 11 and 12 are off, and the signal E is at the "H" level, so the transistor 18 is on, and the word line (wLt) is at the "H" level.
It becomes L″ level.
このように本実施例では、デコーダ出力信号(xl)が
“H”レベルである間、つまりデコーダが選択出力を出
している間に、制御信号(φ)、又は書込み制御信号(
WE)の少なくともどちらか一方が″H″レベルとなれ
ばワード線(WLt)はH”レベルとなり、制御信号(
φ)と書込み制御信号(WE)の双方が“L”レベルで
あれば、デコーダ出力信号(X+)が選択出力であって
もワード1!(WLi)は“H″レベルならず、中間レ
ベルに保持される。As described above, in this embodiment, while the decoder output signal (xl) is at the "H" level, that is, while the decoder is outputting the selection output, the control signal (φ) or the write control signal (
When at least one of the control signals (WE) becomes "H" level, the word line (WLt) becomes "H" level, and the control signal (
If both φ) and write control signal (WE) are at “L” level, even if the decoder output signal (X+) is a selection output, word 1! (WLi) is not held at "H" level but at an intermediate level.
従ってワード線(WLi)はリード、ライトに必要な期
間だけ完全に″H″レベルとなるので。Therefore, the word line (WLi) becomes completely "H" level only during the period required for reading and writing.
ビット線からセルへ流れる電流量が減り、かつリード、
ライト後にワード線(WLt)を完全に″L″レベルに
もどすのではなく、ワード線(WLi)が“H”レベル
であるときには、中間レベルにしているので、リード後
、同じアドレスに対してライトするときにはすみやかに
ワード線(WLi)を立ち上げることができる。The amount of current flowing from the bit line to the cell is reduced, and the lead
Rather than completely returning the word line (WLt) to the "L" level after writing, when the word line (WLi) is at the "H" level, the word line (WLi) is set to an intermediate level, so after reading, the same address is written. When this happens, the word line (WLi) can be quickly raised.
第3図は本発明の実施例に係る半導体記憶回路(4行4
列構成例)の全体構成図であり、19は列アドレスデコ
ーダ、20は行アドレスデコーダ、21はワードドライ
バー、22はメモリセル、23は列アドレス遷移検出回
路、24は遅延回路、25はR−5yリツプ・フロップ
である。FIG. 3 shows a semiconductor memory circuit (four rows and four rows) according to an embodiment of the present invention.
19 is a column address decoder, 20 is a row address decoder, 21 is a word driver, 22 is a memory cell, 23 is a column address transition detection circuit, 24 is a delay circuit, and 25 is an R- It is a 5y lip flop.
また26はラッチ回路、27はセンスアンプ。Also, 26 is a latch circuit, and 27 is a sense amplifier.
28はD 0L11バツフア?29はDinバ、ファ。28 is D0L11 Batsuhua? 29 is Dinba, Fa.
30はライトバッファであり、AO”A3 はアドレス
信号である。30 is a write buffer, and AO''A3 is an address signal.
第4図は第3図に示す列アドレス遷移検出回路23の動
作を説明するための回路図であり、列アドレス遷移検出
回路23は、遅延回路31゜32、イックスフルーシブ
・オア回路33゜34およびオア回路35により構成さ
れている。FIG. 4 is a circuit diagram for explaining the operation of the column address transition detection circuit 23 shown in FIG. and an OR circuit 35.
第4図の回路動作を、第5図のタイミング図を参照しな
がら説明する。なお:jSs図の記号は第4図の記号と
対応している。The circuit operation of FIG. 4 will be explained with reference to the timing diagram of FIG. 5. Note: The symbols in the jSs diagram correspond to the symbols in FIG.
列アドレス信号aOが“L”レベルから“H”レベルに
変化すると、遅延回路31の出力信号Ao(d)も一定
時間後に“L″レベルらH”レベルに変化する。従って
これらを2人力とするイックスフルーシブ・オア回路3
3の出力PGには入力信号の遷移時間のずれをパルス幅
とするパルスが出力される。同様に1列アドレス信号a
Oが“H”レベルから“L”レベルに変化すると、イッ
クスフルーシブ・オフ回路33によりパルスが発生する
。When the column address signal aO changes from the "L" level to the "H" level, the output signal Ao(d) of the delay circuit 31 also changes from the "L" level to the H level after a certain period of time. Ixflusive OR circuit 3
A pulse having a pulse width equal to the transition time shift of the input signal is output to the output PG of No. 3. Similarly, 1st column address signal a
When O changes from the "H" level to the "L" level, the exhaustive off circuit 33 generates a pulse.
一方、列アドレス信号A1のレベルが変化したときにも
イックスフルーシブ・オア回路33の出力PIからパル
スが発生する。すなわち列アドレス信号AO、又はAI
大入力少なくとも一方が変化した時には、オア回路35
の出力φ0にパルスが発生する。On the other hand, a pulse is also generated from the output PI of the exhaustive OR circuit 33 when the level of the column address signal A1 changes. That is, column address signal AO or AI
When at least one of the large inputs changes, the OR circuit 35
A pulse is generated at the output φ0 of.
次にこのパルスはR−Sフリップのフロ、プ25のセッ
ト入力に入力し、クリップ・フロップをセットするとと
もに、遅延回路24にも入力する。そして所定時間後に
出力される遅延回路24の出力信号φ1のパルスがR−
Sフリップ・フロ7プ25のリセット人力に入力してフ
リップ・フロップをリセットする。これによりR−Sフ
リップ・フロップ25から、遅延回路24の遅延時間に
より設定されるパルス幅のパルスが出力される。Next, this pulse is input to the set input of the RS flip flop 25, setting the clip flop, and also input to the delay circuit 24. Then, the pulse of the output signal φ1 of the delay circuit 24 output after a predetermined time is R-
Reset the flip-flop by inputting the reset manual input to the S flip-flop 7p25. As a result, the R-S flip-flop 25 outputs a pulse having a pulse width set by the delay time of the delay circuit 24.
以上のように、R−Sフリップ・フロップ25からは、
列アドレス信号All 、又はAIのレベルが変化す
るたびに所定のパルス幅のパルスが出力される。これが
制W信号φのパルスである。As mentioned above, from the R-S flip-flop 25,
A pulse with a predetermined pulse width is output every time the level of the column address signal All or AI changes. This is the pulse of the W control signal φ.
なお、φ0のパルスは列アドレスのレベル変化に対して
あまり遅延しないで発生されるワンショットハルスであ
り、φ1のパルスは榮えられた列アドレスに対して選択
されたセルから読出されたデータがセンスアンプ27の
出力に到達する頃に発生されるワンショットパルスでh
’J、データのラッチ回路26への取り込みを行う、ま
たφのパルスは列アドレスのレベル変化時に立ち−Lが
り、 Dourのラッチ後に立ち)°がるパルスである
。Note that the φ0 pulse is a one-shot pulse that is generated without much delay in response to a change in the level of the column address, and the φ1 pulse is generated when the data read from the cell selected for the column address is A one-shot pulse generated around the time it reaches the output of the sense amplifier 27.
'J, data is taken into the latch circuit 26, and the φ pulse is a pulse that rises (low) when the column address level changes, and rises (low) after Dour is latched.
第3図に示すように、前述(第1図)の中間レベル供給
回路13は複数のワードドライバに共通接続することが
できる0選択されるワードドライバは1つであり、従っ
て複数のワードドライバに共通接続してもその機能を充
分に発揮することができるからである。As shown in FIG. 3, the intermediate level supply circuit 13 described above (FIG. 1) can be commonly connected to a plurality of word drivers. Only one word driver is selected, so This is because even if they are commonly connected, their functions can be fully demonstrated.
このように、本構成により、特に大きな面積を要するこ
となく、高速で、かつ低消費電力の半導体記憶回路が可
能となる。In this manner, this configuration enables a high-speed semiconductor memory circuit with low power consumption without requiring a particularly large area.
以ト説明したように1本発明に係る半導体記憶回路によ
れば、ワード線が選択された状態において、読出しや書
込みの終了後は、入力アドレスが変わらない限り、ワー
ド線を中間レベル状態に立りげておくものであるから、
読出し又は書込み時のワード線の立ち上げ時間の短縮化
が可能となり、従ってデータの読出し又は書込み時間の
短縮を図ることができる。また中間レベル状態における
ビット線からセルへ流れる電流は流れるとしても微少で
あり、従って全体として電力消費の節約を図ることが可
能となる。As explained above, according to the semiconductor memory circuit according to the present invention, in a state where a word line is selected, after reading or writing is completed, the word line is brought to an intermediate level state unless the input address changes. Because it is something to keep
It is possible to shorten the rise time of the word line during reading or writing, and therefore it is possible to shorten the time for reading or writing data. Further, the current flowing from the bit line to the cell in the intermediate level state is very small, so it is possible to save power consumption as a whole.
第1図は本発明の実施例に係る半導体記憶回路のワード
ドライバ回路の構成図であり、第2図は第1図の実施例
回路の動作を説明するためのタイミング図である。また
第3図は本発明の実施例に係る半導体回路の全体構成図
である。
第4図は第3図に示す列アドレス遷移検出回路23の動
作を説明するための回路図であり。
第5図は第4vlIの回路動作を説明するためのタイミ
ング図である。
第6図は従来例に係る半導体記憶回路の問題点をa t
jlするための回路図であり、第7図は別の従来例に係
る半導体記憶回路の問題点を説明するためのタイミング
図である。
6・・・オア回路
7.10・・・インバータ回路
8・・・ナンド回路
9・・・アンド回路
11・・・Pチャンネルトランジスタ
1、2 、18・・・Nチャンネルトランジスタ13・
・・中間レベル供給回路
第1図
第2図FIG. 1 is a block diagram of a word driver circuit of a semiconductor memory circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of the embodiment circuit of FIG. Further, FIG. 3 is an overall configuration diagram of a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a circuit diagram for explaining the operation of the column address transition detection circuit 23 shown in FIG. 3. FIG. 5 is a timing diagram for explaining the circuit operation of the fourth vlI. FIG. 6 shows the problems of a conventional semiconductor memory circuit.
FIG. 7 is a timing chart for explaining problems in another conventional semiconductor memory circuit. 6...OR circuit 7.10...Inverter circuit 8...NAND circuit 9...AND circuit 11...P channel transistors 1, 2, 18...N channel transistor 13.
...Intermediate level supply circuit Figure 1 Figure 2
Claims (1)
ード線を非選択状態の第1のレベルに設定し、 デコーダの出力信号が選択状態で、かつ読出し制御信号
または書込み制御信号が入力しているとき、対応するワ
ード線を選択状態の第2のレベルに設定し、 デコーダの出力信号が選択状態であるが、読出し制御信
号または書込み制御信号が入力していないとき、対応す
るワード線を前記第1のレベルと前記第2のレベルの中
間レベルである第3のレベルに設定する回路とを備えた
ことを特徴とする半導体記憶回路。[Claims] When the output signal of the decoder is in the non-selected state, the corresponding word line is set to the first level of the non-selected state, and when the output signal of the decoder is in the selected state and the read control signal or write control When a signal is input, the corresponding word line is set to the second level of the selected state, and when the decoder output signal is in the selected state but no read control signal or write control signal is input, the corresponding word line is set to the second level of the selected state. 1. A semiconductor memory circuit comprising: a circuit for setting a word line to a third level that is an intermediate level between the first level and the second level.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60107663A JPH07105144B2 (en) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | Semiconductor memory circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60107663A JPH07105144B2 (en) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | Semiconductor memory circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61265792A true JPS61265792A (en) | 1986-11-25 |
JPH07105144B2 JPH07105144B2 (en) | 1995-11-13 |
Family
ID=14464857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60107663A Expired - Fee Related JPH07105144B2 (en) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | Semiconductor memory circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07105144B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01248393A (en) * | 1988-03-30 | 1989-10-03 | Toshiba Corp | Static type random access memory |
JPH0589673A (en) * | 1991-03-14 | 1993-04-09 | Samsung Electron Co Ltd | Driver circuit for word line in semiconductor memory device |
JP2008097804A (en) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Hynix Semiconductor Inc | Voltage controller and control method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5778695A (en) * | 1980-10-29 | 1982-05-17 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device |
JPS59201464A (en) * | 1983-04-30 | 1984-11-15 | Toshiba Corp | Semiconductor memory device |
JPS59213090A (en) * | 1983-05-18 | 1984-12-01 | Toshiba Corp | Driving circuit |
JPS59221891A (en) * | 1983-05-31 | 1984-12-13 | Toshiba Corp | Static semiconductor storage device |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP60107663A patent/JPH07105144B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5778695A (en) * | 1980-10-29 | 1982-05-17 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device |
JPS59201464A (en) * | 1983-04-30 | 1984-11-15 | Toshiba Corp | Semiconductor memory device |
JPS59213090A (en) * | 1983-05-18 | 1984-12-01 | Toshiba Corp | Driving circuit |
JPS59221891A (en) * | 1983-05-31 | 1984-12-13 | Toshiba Corp | Static semiconductor storage device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01248393A (en) * | 1988-03-30 | 1989-10-03 | Toshiba Corp | Static type random access memory |
JPH0589673A (en) * | 1991-03-14 | 1993-04-09 | Samsung Electron Co Ltd | Driver circuit for word line in semiconductor memory device |
JP2008097804A (en) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Hynix Semiconductor Inc | Voltage controller and control method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07105144B2 (en) | 1995-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7599210B2 (en) | Nonvolatile memory cell, storage device and nonvolatile logic circuit | |
KR100932342B1 (en) | SRM Cells with Separate Read-Write Circuits | |
US20050162919A1 (en) | Semiconductor memory device capable of controlling potential level of power supply line and/or ground line | |
JP2876830B2 (en) | Semiconductor storage device | |
KR970023375A (en) | Data holding circuit | |
US8964451B2 (en) | Memory cell system and method | |
JPH01251496A (en) | Static type random access memory | |
JPH08279282A (en) | Integrated circuit memory | |
JP3754593B2 (en) | Integrated circuit having memory cells for storing data bits and method for writing write data bits to memory cells in integrated circuits | |
JPH0883498A (en) | Semiconductor storage device | |
US20050013159A1 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US4665507A (en) | Semiconductor memory having load devices controlled by a write signal | |
JP3317746B2 (en) | Semiconductor storage device | |
US4858188A (en) | Semiconductor memory with improved write function | |
JPH06162784A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
KR20010021416A (en) | Ultra-low voltage static ram memory cell | |
JP2009295229A (en) | Semiconductor memory device | |
JPS61265792A (en) | Semiconductor memory circuit | |
US20040090817A1 (en) | Split local and continuous bitline requiring fewer wires | |
JPS621189A (en) | Mos memory circuit | |
JPS60119691A (en) | Memory circuit | |
JPH05128866A (en) | Writing and reading control circuit for random access memory | |
KR101579958B1 (en) | Five transistor sram cell | |
JP2557835B2 (en) | First-stage control circuit for semiconductor memory device | |
KR100282445B1 (en) | Sense amplifier |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |