JPS61261471A - Partial coating method - Google Patents

Partial coating method

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JPS61261471A
JPS61261471A JP10085685A JP10085685A JPS61261471A JP S61261471 A JPS61261471 A JP S61261471A JP 10085685 A JP10085685 A JP 10085685A JP 10085685 A JP10085685 A JP 10085685A JP S61261471 A JPS61261471 A JP S61261471A
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JP
Japan
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strip
substrate
sprocket
masking
substrate strip
Prior art date
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Application number
JP10085685A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Kanehiro
金廣 一雄
Tadashi Igarashi
五十嵐 廉
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Japan Science and Technology Agency
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Research Development Corp of Japan
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To attain highly accurate and high-quality partial coating by conforming via locating means a substrate bar and a masking bar of the same length to a prescribed position and then by subjecting the substrate to partial coating. CONSTITUTION:The masking bar 14 having a length equal to that of the substrate bar 12 and also having openings of the same shape as that of a film to be formed on the substrate bar 12 is prepared. The masking bar 14 and the substrate bar 12 to be partially coated are continuously fed into a vacuum vessel to allow the two bars 12, 14 to adhere each other. Subsequently, in a locating zone B, guide holes provided to the above bars 12, 14 are pierced with the pins of a sprocket 18 to subject the bars 12, 14 to locating. Then the above substrate bar 12 is partially coated in a film-forming zone C.

Description

【発明の詳細な説明】 11ユ盈五里分! 本発明は、真空容器内で長尺条を連続的に部分被覆する
方法に係り、更に詳しくは、簡便な手段により高品質、
高精度の部分被覆を形成し得る長尺条の部分被覆方法に
関するものである。
[Detailed Description of the Invention] 11 Yu Einggomi minutes! The present invention relates to a method for continuously partially coating a long strip in a vacuum container, and more specifically, it relates to a method for continuously partially coating a long strip in a vacuum container, and more specifically, it provides high quality and high quality coating by a simple means.
The present invention relates to a method for partially covering long strips that can form highly accurate partial coverings.

従来の技術 長尺条に連続的に部分被覆を施すことが必要とされる分
野としては、例えば半導体集積回路装置(Ic)等の各
種電子部品のパッケージングの際に使用されるリードフ
レームが挙げられる。一般に、このリードフレームはそ
の上のワイヤボンディング部等に貴金属あるいはAI等
が被覆されて使用されるが、近年のICの動向にふいて
は高信頼性、小型化、低価格化を狙って、スポット状の
Al被覆リードフレームが専ら使用されつつある。
Conventional technology An example of a field where continuous partial coating is required on a long strip is lead frames used in the packaging of various electronic components such as semiconductor integrated circuit devices (ICs). It will be done. Generally, this lead frame is used with the wire bonding parts on it coated with precious metals or AI, etc., but in recent years, trends in IC have led to higher reliability, smaller size, and lower cost. Spot-shaped Al-coated lead frames are being used exclusively.

このような、スポット状のAl被覆を有するリードフレ
ームの製法としては、アルミニウム箔をローラ等により
冷間圧着させるクラッド法、あるいは真空蒸着法により
金属テープ上の全面にA1を被覆し、しかる後にA1被
覆の必要部だけを残すべく、該部分に有機被膜を施した
り、あるいはゴム等で押えながら、残部を化学的にエツ
チングすることによりスポット状のAl被覆を得るなど
の方法が採用されている。
The manufacturing method of such a lead frame having a spot-like Al coating includes a cladding method in which aluminum foil is cold-pressed using a roller or the like, or a vacuum evaporation method is used to coat the entire surface of the metal tape with A1, and then A1 is coated on the entire surface of the metal tape. In order to leave only the necessary parts of the coating, methods have been adopted, such as applying an organic film to the part, or chemically etching the remaining part while holding it down with rubber etc. to obtain a spot-like Al coating.

しかしながら、クラッド法では所定形状の被覆を所定の
間隔で不連続的に形成することは困難であり、また後者
の真空蒸着法を利用する方法では、工程数が多くなる事
や、Al被覆面に有機被膜やゴム等が接触する事による
汚染の問題などがあり、コスト面、品質面で有利な方法
とは言い難い。
However, with the cladding method, it is difficult to form a coating of a predetermined shape discontinuously at a predetermined interval, and the latter method, which uses vacuum evaporation, requires a large number of steps and There are problems with contamination due to contact with organic films, rubber, etc., and it is difficult to say that this method is advantageous in terms of cost and quality.

この様な理由から、最近ではスポット状のA1被膜を直
接形成する方法の開発が強く要望されている。ところで
、AI箔を冷間圧接するクラッド法については、上記の
如く製法自体の限界から品質面で満足なものを得ること
は非常に困難である。即ち、クラッド法で直接スポット
状のA1被膜を形成しようとする場合、大きく分類して
2種類の方法が考えられる。第1の方法は、第3図に示
すような所定の部分に開口部1を有するAI箔2を冷間
圧接する方法が考えられる。クラッド法での位置決めは
、AI箔に所定の張力を与えて基板との位置決定を行っ
ているが、第3図のような形状の層箔では、スポット形
状部1をつないでいる部分3が細いので、十分な張力を
与える事が出来ない。また、この様な複雑な形状で張力
を与えた場合、各箇所で応力集中が生じ結果的にAI箔
がねじれる等の問題を生ずるので、十分な位置決め精度
が得られない。
For these reasons, there has recently been a strong demand for the development of a method for directly forming spot-like A1 coatings. By the way, as for the cladding method of cold-pressure welding AI foil, it is extremely difficult to obtain a product that is satisfactory in terms of quality due to the limitations of the manufacturing method itself as described above. That is, when trying to directly form a spot-like A1 film using the cladding method, there are two main types of methods that can be considered. A first method is to cold press an AI foil 2 having an opening 1 in a predetermined portion as shown in FIG. 3. In the cladding method, positioning with the substrate is determined by applying a predetermined tension to the AI foil, but with a layered foil shaped like the one shown in Figure 3, the part 3 connecting the spot shaped parts 1 is Since it is thin, it is not possible to apply sufficient tension. Furthermore, if tension is applied to such a complicated shape, stress will be concentrated at each location, resulting in problems such as twisting of the AI foil, and therefore sufficient positioning accuracy cannot be obtained.

第2の方法としては、AI箔片を基板テープに一時的に
貼り付け、しかる後に冷間圧接する方法が考えられる。
A second method is to temporarily attach the AI foil piece to the substrate tape and then cold press it.

しかしながら、この方法では、A1箔片を接着剤等で一
時的に基板テープに固定する必要がある事から、接着剤
等による汚染が生じ、リードフレームの品質を著しく低
下させるので実用的な方法とはいえない。
However, with this method, it is necessary to temporarily fix the A1 foil piece to the board tape with an adhesive, etc., which causes contamination with the adhesive, which significantly deteriorates the quality of the lead frame, so it is not a practical method. No, no.

一方、真空蒸着法は、上記クラッド法と比較すると、位
置決め精度並びにAl被覆純度等の品質面で非常に優れ
ていると言える。その為、真空蒸着法による長尺条の直
接スポット形成に関しては、マスキング条を用いた方法
が種々検討されているが、このような方法においては長
尺条とマスキング条との位置決めを、高い精度で実現す
ることが重要である。これらの位置決め方法としては、
大きく分けると光学的手段を用いたもの及び機械的手段
を用いたものに分類できる。
On the other hand, it can be said that the vacuum evaporation method is very superior in terms of quality such as positioning accuracy and Al coating purity when compared to the above-mentioned cladding method. For this reason, various methods using masking strips have been studied for direct spot formation of long strips by vacuum evaporation, but these methods require high precision positioning of the long strips and masking strips. It is important to realize this. These positioning methods include:
Broadly speaking, it can be classified into those using optical means and those using mechanical means.

前者は、スポット形状部につき光学的手段により直接そ
の大きさ、基板との位置関係を測定し、所定の位置との
誤差を演算した後、マスクキング条もしくは基板条を修
正移動する事により部分被覆を達成するものである。し
かしながら、この方法は、使用する装置が複雑であるば
かりでなく高価なものであり、また場合によっては光学
系レンズ等に蒸発物が耐着し、そのために測定精度の低
下を招くなどの欠点があり好ましい方法とは言い難い。
In the former method, the size and positional relationship with the substrate of the spot-shaped portion are directly measured by optical means, the error from the predetermined position is calculated, and then the masking strip or the substrate strip is corrected and moved to partially cover the spot. The goal is to achieve the following. However, this method has the disadvantage that the equipment used is not only complicated but also expensive, and in some cases, evaporated matter may adhere to the optical system lens, etc., resulting in a decrease in measurement accuracy. It is hard to say that this is a preferable method.

一方、機械的手段による位置決め法では、両条(マスク
条および基板条)をピンチローラと称する2ケの押えロ
ーラにより挟み込むことにより位置決めを行う事が一般
的に多用されている。しかし、本方法では、金属のロー
ラを用いた場合、条とローラ間ですべりが生じ易く、そ
のため高精度の位置決めは困難である。また、有機物系
ローラを使用した場合においても、該有機物が真空容器
内にガスを放出するので、純度の高い被膜を得ることが
できない。
On the other hand, in the positioning method using mechanical means, positioning is often performed by sandwiching both strips (the mask strip and the substrate strip) between two holding rollers called pinch rollers. However, in this method, when metal rollers are used, slippage is likely to occur between the strips and the rollers, making highly accurate positioning difficult. Further, even when an organic roller is used, the organic substance releases gas into the vacuum container, making it impossible to obtain a highly pure coating.

これら欠点を克服する手段として、基板条及びマスキン
グ条に各々スプロケットを用いて両条を同期させる試み
もされているが、実際問題としては、スプロケットの製
作誤差や両スプロケット周期回転誤差等を考えれば、高
精度の位置決めを達成することは難しい。更に、スプロ
ケットのピンによる走行中の基板条、マスキング条の持
ち上げ現象がみられ、これによって高精度の部分被覆製
品を得ることができないことが知られている。
As a means to overcome these drawbacks, attempts have been made to use sprockets for the substrate strip and the masking strip to synchronize the two strips, but as a practical matter, considering manufacturing errors of the sprockets and periodic rotation errors of both sprockets, etc. , it is difficult to achieve high precision positioning. Furthermore, it is known that the sprocket pin lifts up the substrate strips and masking strips during running, and this makes it impossible to obtain highly accurate partially coated products.

発明が解決しようとする問題点 以上詳しく述べたように、IC等を代表とする電子部品
に使用されるリードフレームにおいては、信頼性の向上
、小型化、低価格化などの最近の動向に照らして、部分
被覆されたものが主流となってきている。しかしながら
、上記のように従来の部分被覆法はいずれも上記の如き
各種欠点を有しており、改良の余地が多分に残されてい
る。
Problems to be Solved by the Invention As detailed above, in light of recent trends in lead frames used in electronic components such as ICs, improvements in reliability, miniaturization, and cost reduction, Therefore, partially covered products are becoming mainstream. However, as mentioned above, all of the conventional partial coating methods have various drawbacks as mentioned above, and there is still much room for improvement.

上記従来法の呈する諸欠点の中でも、特に連続的かつ効
率よく部分被覆するためにはマスク条と基板条との間の
位置決めの精度を向上させることが重要である。従来こ
のような位置決め法としては光学的あるいは機械的方法
が知られているが、装置が複雑かつ高価であったり、蒸
着物あるいは有機物による汚染のために精度が低下した
り、被覆純度が損なわれたりするなどの問題があり、充
分満足できる方法はいまのところ知られていない。
Among the various drawbacks of the conventional methods described above, it is particularly important to improve the accuracy of positioning between the mask strip and the substrate strip in order to achieve continuous and efficient partial coverage. Conventionally, optical or mechanical methods are known as such positioning methods, but the equipment is complicated and expensive, the accuracy is reduced due to contamination by deposits or organic matter, and the coating purity is compromised. However, there are problems such as misunderstandings, and so far no method that is fully satisfactory is known.

そこで、位置決め精度の高い、半導体リードフレーム等
の部分被覆方法を開発することは、高品位の部分被覆製
品を効率良く製造する上で極めて大きな意義がある。
Therefore, developing a method for partially covering semiconductor lead frames and the like with high positioning accuracy is of great significance in efficiently manufacturing high-quality partially covered products.

即ち、本発明の目的は、上記諸欠点を解消し、寸法精度
の非常によい、高品質の部分被覆を長尺条に連続的に形
成することのできる簡単な方法を提供するものである。
That is, an object of the present invention is to provide a simple method capable of solving the above-mentioned drawbacks and continuously forming a high-quality partial coating in a long strip with very good dimensional accuracy.

問題点を解決するための手段 本発明者等は従来の長尺条の連続的部分被覆方法におけ
る上記の如き欠点、特に位置決め精度の問題を解決すべ
く種々検討した結果、基板条およびマスキング条両者に
開口部(以下ガイド孔という)を設けこれを位置決めの
ために利用すると共に、独自の駆動機構をもたないスプ
ロケットを使用することが有効であることを見出し、本
発明を完成した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted various studies to solve the above-mentioned shortcomings in the conventional continuous partial coating method for long strips, especially the problem of positioning accuracy. The present invention was completed based on the discovery that it is effective to provide an opening (hereinafter referred to as a guide hole) in the sprocket and utilize this for positioning, as well as to use a sprocket that does not have its own drive mechanism.

即ち、本発明の部分被覆方法は、部分被覆すべき基板条
と、該基板条とほぼ同じ長さを有し、該基板条に形成す
べき被膜形状の開口部を所定の間隔で有するマスキング
条とを、真空容器内に、少なくとも該容器内で該両条が
密着するように連続的に供給し、一方前記両条に設けら
れたガイド孔に駆動機構をもたないスプロケット上のス
プロケットピンを貫通させてこれらの位置決めを行い、
前記基板条を部分被覆することを特徴とする。
That is, the partial coating method of the present invention includes a substrate strip to be partially coated, and a masking strip having approximately the same length as the substrate strip and having film-shaped openings to be formed in the substrate strip at predetermined intervals. are continuously supplied into a vacuum container so that at least the two strips are in close contact with each other in the container, while a sprocket pin on a sprocket without a drive mechanism is inserted into a guide hole provided in the two strips. These positions are determined by penetrating the
The method is characterized in that the substrate strip is partially covered.

本発明の連続的部分被覆法においては、使用するスプロ
ケットの構成に特徴があり、このものは基板条並びにマ
スキング条の搬送方向にのみ回転でき、逆の方向に対し
ては所定の制動力が付与されており、しかむ独自の駆動
機構は与えられていない。これはほぼ円柱状または円板
状の本体と、該本体表面に突出して設けられたスプロケ
ットピンとで構成され、該スプロケットピンは、基板条
ならびにマスキング条に予め設けられたガイド孔の間隔
(ピッチ)に正しく適合した間隔で隔置された複数の突
起である。
The continuous partial coating method of the present invention is characterized by the structure of the sprocket used, which can rotate only in the conveying direction of the substrate strip and masking strip, and applies a predetermined braking force in the opposite direction. The original drive mechanism is not provided. This consists of a substantially cylindrical or disk-shaped main body and a sprocket pin provided protruding from the surface of the main body. A plurality of protrusions spaced apart at intervals properly adapted to the

該スプロケットのピンは、例えばネジ込み式、スロット
式にスプロケット側面に設けられた多数の孔内に嵌合し
得るようになっており、従って各マスキング条の開口部
のピッチ等に合わせてピンを嵌合させることにより、開
口部の寸法、これらのピッチの異なる複数のマスキング
条に対して交換することなく使用することができる。
The pins of the sprocket are designed to fit into a number of holes provided on the side of the sprocket, for example, in a screw-in type or slot type. By fitting, it is possible to use a plurality of masking stripes with different opening dimensions and pitches without replacing them.

更に、本発明の方法においては、マスキング条は被膜形
成の際の熱の影響を考慮して、基板条よりも熱膨張係数
の小さな材質から形成することが好ましいが、要求被覆
精度、コストとの兼ね合いで適宜選択することができ、
例えばステンレススチール、ニツケノペクロム等、ある
いはまた他の金属、合金、例えば銅、鋼などに上記材料
をコーティングしたものなどがあげられる。また、マス
キング条としては基板条とほぼ同等の長さのものが使用
される。
Furthermore, in the method of the present invention, the masking strip is preferably formed from a material with a smaller coefficient of thermal expansion than the substrate strip, taking into consideration the influence of heat during film formation. You can choose as appropriate depending on the balance,
Examples include stainless steel, Nitsukenopechrome, etc., or other metals and alloys, such as copper and steel coated with the above materials. Furthermore, the length of the masking strip is approximately the same as that of the substrate strip.

更に、本発明の方法において被膜形成法としては、特に
イオンプレーティング法を使用する。従って、直流法、
高周波法、クラスターイオンビーム法、熱陰極線法のい
ずれも使用でき、同様な効果を期待す、ることができる
Furthermore, in the method of the present invention, an ion plating method is particularly used as a film forming method. Therefore, the DC method,
Any of the radio frequency method, cluster ion beam method, and hot cathode ray method can be used, and similar effects can be expected.

又スプロケットを中心とし、基板条およびマスキング条
の前、後方における張力は個別に設定することができる
ようになっている。
Moreover, the tension in front and rear of the substrate strip and the masking strip can be set individually with the sprocket as the center.

本発明の方法において、基板条、マスキング条の寸法(
長さ、巾)については特に制限はなく、被覆物の用途等
に応じて適宜選ぶことができる。
In the method of the present invention, the dimensions of the substrate strip and the masking strip (
There are no particular restrictions on the length and width, and they can be selected as appropriate depending on the intended use of the covering.

詐月 本発明の方法は、まず同等な長さの基板条とマスキング
条とを位置決め手段によって所定の配置整合を図り、次
いで被膜形成処理に付すことにより実施される。
The method of the present invention is carried out by first aligning a substrate strip and a masking strip of equal length in a predetermined manner using positioning means, and then subjecting them to a film forming process.

前述の通り、本発明で用いる位置決め手段(スプロケッ
ト)は独自の駆動機構を持たず、かつ一方向に対しては
所定の制動力が与えられているので基板条等の走行方向
にのみ回転できるものであり、そのために基板条、マス
キング条に不必要な張力が掛からないようになっている
As mentioned above, the positioning means (sprocket) used in the present invention does not have its own drive mechanism and is given a predetermined braking force in one direction, so it can rotate only in the direction in which the substrate strip, etc. runs. Therefore, unnecessary tension is not applied to the substrate strip and the masking strip.

即ち、本発明の方法において基板条の走行は被膜処理後
の巻取り手段(リールまたはピンチローラ−など)によ
って与えられる。基板条、マスキング条は各々別個に張
力設定できるような機構とされており、従って側条に張
力検出器を取りつけて、予め設定された張力の過不足を
修正して張力精度を向上させるように工夫することも可
能である。
That is, in the method of the present invention, the running of the substrate strip is provided by a winding means (such as a reel or a pinch roller) after coating. The tension of the substrate strip and masking strip can be set separately, so tension detectors are attached to the side strips to correct excess or deficiency in the preset tension and improve tension accuracy. It is also possible to devise ways of doing this.

前記スプロケットに独自の駆動機構を付与しないのは、
一般的に使用されているスプロケットの如く、基板条等
の送りを兼ねさせた場合、練条がスプロケットピンから
離脱する際に、該ピンがガイド孔に引っ掛かり、条を持
ち上げる現象が生じるためである。本発明者等はこの点
につき、条およびピンの材質、表面状態、形状等種々検
討したが、どのような組合せによってもこの条の持ち上
げを防止することは不可能であることを確認している。
The reason why the sprocket is not provided with its own drive mechanism is that
This is because when a generally used sprocket is also used to feed a substrate strip, etc., when the drill strip is detached from the sprocket pin, the pin gets caught in the guide hole, causing a phenomenon that lifts the strip. . Regarding this point, the inventors have investigated various materials, surface conditions, shapes, etc. of the strips and pins, but have confirmed that it is impossible to prevent the strips from lifting no matter what combination they use. .

この条のスプロケットピンによる持ち上げは被覆操作の
精度を著しく疎外することがわかっているが、これは本
発明におけるようにスプロケットに駆動機構、即ち条の
送り機構を持たせないことにより解決できた。
It has been found that lifting this strip by the sprocket pin significantly impairs the precision of the coating operation, but this can be solved by not providing the sprocket with a drive mechanism, ie, a thread feeding mechanism, as in the present invention.

本発明の方法においては、マスキング条として基板条と
ほぼ同等の長さのものを使用するが、これは、無端マス
クを用いた場合には、所定形状の開口部に蒸発物質が堆
積することにより、該開口部の寸法が減少すると共に、
蒸発物の凝集熱、輻射熱などの影響でマスクが変形し、
更にマスクの熱膨張により張力が一定に維持できないな
どの欠点を有し、高精度の部分被覆が困難となることに
よる。
In the method of the present invention, a masking strip with approximately the same length as the substrate strip is used, but this is because when an endless mask is used, the evaporated material is deposited in the openings of a predetermined shape. , the size of the opening decreases, and
The mask may become deformed due to the effects of heat of condensation and radiant heat from evaporated matter,
Furthermore, it has the disadvantage that the tension cannot be maintained constant due to thermal expansion of the mask, making it difficult to cover parts with high precision.

また、スプロケットを中心にして、基板条及びマスキン
グ条の前方張力及び後方張力が個別に設定可能な機構を
採用している理由は、第2図に示したような条のガイド
孔とピンとの位置関係を維持する為には、絶えず前方張
力が大きくなっている必要があり、特に基板条について
は、スプロケット部で張力によるスプロケットロール面
での摩擦力及びマスキング条との摩擦力の加算された力
が働き、該摩擦力より大なる前方張力を要する。
In addition, the reason why we have adopted a mechanism that allows the front tension and rear tension of the substrate strip and masking strip to be set individually, centering on the sprocket, is due to the position of the guide hole of the strip and the pin as shown in Figure 2. In order to maintain this relationship, the forward tension must constantly increase, and especially for the substrate strip, the force is the sum of the frictional force on the sprocket roll surface due to the tension at the sprocket part and the frictional force with the masking strip. acts, requiring a forward tension greater than the frictional force.

一方、マスキング条の前方張力は、基板条のそれと基本
的に同じ考えであるが、更に、該張力は、基板条とマス
キング条との間隙に大きな影響を与える。即ち、該間隙
が大きい場合には、蒸着物質がマスキング条の所定の開
口部でまわり込みスポット寸法精度を著しく劣化させる
。その為、マスキング条の前方張力については、その材
質、要求寸法精度を加味して決定される必要がある為で
ある。
On the other hand, the forward tension of the masking strip is basically the same as that of the substrate strip, but furthermore, the tension has a large effect on the gap between the substrate strip and the masking strip. That is, if the gap is large, the vapor deposition material wraps around the predetermined opening of the masking strip, significantly deteriorating the spot size accuracy. Therefore, the front tension of the masking strip needs to be determined by taking into account its material and required dimensional accuracy.

また、側条の後方張力に関しては、上述した状態を乱す
事なく、スプロケットピンのストレート部が側条のガイ
ド孔に完全に挿入されるように決定される。以上のこと
から、基板条およびマスキング条のスプロケットを中心
にした前方張力及び後方張力は、例えば第2図に示すよ
うな位置関係を維持する為に、個々の値が異なるのが通
常であり、本発明では、それらが個別に設定可能な機構
を採択している。
Further, the rear tension of the side strip is determined so that the straight portion of the sprocket pin can be completely inserted into the guide hole of the side strip without disturbing the above-mentioned state. From the above, the front tension and rear tension around the sprocket of the substrate strip and the masking strip usually have different values in order to maintain the positional relationship as shown in FIG. 2, for example. The present invention adopts a mechanism in which these can be set individually.

最後に、被覆方法にイオンプレーティングを採用してい
る理由は、真空蒸着法の場合、基板条と被膜間の密着性
が乏しく、それを補う為に一般的に基板条に予備加熱を
施しているが、これは、基板条に熱膨張を生じせしめ高
精度の部分被覆が得られないばかりでなく、基板条その
ものに熱歪を与え、更には、加熱によるガス放出があり
、被覆膜自体の良好な品質が得られない為である。また
、基板条の加熱は、ガイドロールやスプロケット等に熱
蓄積を与え、それらの寸法精度に悪影響を及ぼし、その
対策として水冷化を図った場合には、装置自体が複雑化
し、高価なものとなってしまう。
Finally, the reason why ion plating is adopted as a coating method is that in the case of vacuum evaporation, the adhesion between the substrate strip and the coating is poor, and to compensate for this, the substrate strip is generally preheated. However, this not only causes thermal expansion in the substrate strip, making it impossible to obtain high-precision partial coverage, but also causes thermal distortion of the substrate strip itself.Furthermore, gas is released due to heating, and the coating film itself is damaged. This is because good quality cannot be obtained. In addition, heating of the substrate strips causes heat to accumulate in guide rolls, sprockets, etc., which adversely affects their dimensional accuracy.If water cooling is used as a countermeasure, the equipment itself becomes complicated and expensive. turn into.

11男 以下、添付図を参照しつつ記載される実施例により本発
明をさらに具体的に説明する。しかしながら、本発明の
範囲は以下の実施例により何等制限されない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to the embodiments described with reference to the accompanying drawings. However, the scope of the present invention is not limited in any way by the following examples.

第1図は本発明の方法を実施するために有用な部分被覆
装置を概略的に示したものであり、被覆すべき基板条お
よびマスキング条の供給部A、基板とマスクとの位置決
め部B1被膜形成部Cおよび基板条およびマスキング条
の巻取り部りから主として構成されている。
FIG. 1 schematically shows a partial coating apparatus useful for carrying out the method of the present invention, which includes a supply section A for substrate strips to be coated and masking strips, and a positioning section B1 for the substrate and mask. It mainly consists of a forming section C and a winding section for substrate strips and masking strips.

まず、供給部Aにおいて、基板供給リール11から基板
条12が、一方マスキング条供給リール13からマスキ
ング条14が夫々繰り出される。基板条12はマスキン
グ条14と接する前に、ガス導入口15からの不活性ガ
スArの吹きつけと、直流電源16による電圧の印加に
よりイオンボンバード処理に付される。
First, in the supply section A, the substrate strip 12 is fed out from the substrate supply reel 11, and the masking strip 14 is fed out from the masking strip supply reel 13, respectively. Before the substrate strip 12 comes into contact with the masking strip 14, it is subjected to ion bombardment treatment by blowing inert gas Ar from the gas inlet 15 and applying voltage from the DC power supply 16.

ついで、基板条12およびマスキング条14はガイドロ
ール17によって安定化され、位置決め部已に送られる
。ここで、基板条12およびマスキング条14は、これ
らに予め設けられたガイド孔にスプロケット18のガイ
ドピンが貫通されることにより位置決めされる。
The substrate strip 12 and the masking strip 14 are then stabilized by guide rolls 17 and sent to the positioning station. Here, the substrate strips 12 and the masking strips 14 are positioned by passing guide pins of the sprocket 18 through guide holes provided therein in advance.

この位置決めは、この領域を拡大して示した第2図を参
照することにより更によく理解することができる。即ち
、このスプロケット18は基板条12およびマスキング
条14両者に設けられたガイド孔41に対してスプロケ
ットピン42が、両条の走行方向に対して該ガイド孔の
最後部に当接されるように設定されており、従ってスプ
ロケット自体は両条の移動によって回転される。但し、
第2図の状態は少なくとも各条の走行方向に対して、最
初のピン(例えばピン42)のみが上記の当接状態を維
持していればよく、他のピン(例えばピン42゛)につ
いては両条のガイド孔に対して挿入容易な状態となって
いればよい。
This positioning can be better understood by referring to FIG. 2, which shows an enlarged view of this area. That is, this sprocket 18 is arranged so that the sprocket pin 42 is brought into contact with the guide hole 41 provided in both the substrate strip 12 and the masking strip 14 at the rearmost part of the guide hole with respect to the running direction of both strips. so that the sprocket itself is rotated by the movement of both threads. however,
In the state shown in FIG. 2, only the first pin (for example, pin 42) needs to maintain the above-mentioned contact state at least with respect to the running direction of each strip, and the other pins (for example, pin 42) It suffices that it be in a state where it can be easily inserted into the guide holes of both strips.

かくして、位置決め邪Bで正確に位置合わせされた基板
条12及びマスキング条14は、次いで被膜形成部Cに
撮人される。この被膜形成部は、本発明ではイオンプレ
ーティング装置で構成される。
Thus, the substrate strip 12 and the masking strip 14, which have been accurately aligned by the positioning tool B, are then taken to the film forming section C. In the present invention, this film forming section is constituted by an ion plating device.

この例では高周波法を用いており、その構成は第1図に
示したように真空容器内に設けられたルツボ21、電子
銃22、高周波電源23に接続された高周波励起コイル
24とから主として構成されるものである。ここで25
はガス導入口であり、Arなどのガスが導入される。
In this example, the high frequency method is used, and its configuration mainly consists of a crucible 21 provided in a vacuum container, an electron gun 22, and a high frequency excitation coil 24 connected to a high frequency power source 23, as shown in FIG. It is something that will be done. here 25
is a gas introduction port through which a gas such as Ar is introduced.

かくして被膜形成処理された後、基板条12およびマス
キング条14は真空容器から送り出され、ガイドロール
17°を介して夫々の巻取りリール31および32によ
って巻き取られ回収される。
After being coated in this manner, the substrate strip 12 and the masking strip 14 are sent out from the vacuum vessel, wound up and collected by the respective take-up reels 31 and 32 via the guide roll 17°.

かくして、本発明の方法に従って長尺条の基板を部分被
覆すれば、位置決め精度が良好であり、スプロケットピ
ンによる基板条およびマスキング条の持ち上げが完全に
防止できることが確認された。また、得られた被膜の品
位も満足できるものであった。
Thus, it was confirmed that if a long strip of substrate is partially coated according to the method of the present invention, the positioning accuracy is good and lifting of the substrate strip and masking strip by sprocket pins can be completely prevented. Moreover, the quality of the obtained film was also satisfactory.

発明の効果 以上の説明から明らかな如く、本発明によれば簡便な方
法により位置決め精度を著しく向上せしめる事が可能と
なり、高精度高品質の部分被覆が達成できる。尚、本発
明の方法の適用を、層被覆リードフレームを例にとって
説明したが、本方法の適用範囲はこれに限られるもので
はなく、基板条は金属、有機物を問わず、また、蒸発物
質も限定されるものではない。また、本発明の実施は、
第2図に示すものだけではなく、スプロケットの位置、
条への張力供給方法、イオンプレーティング方法、制御
方法を問うものではない。
Effects of the Invention As is clear from the above explanation, according to the present invention, it is possible to significantly improve positioning accuracy using a simple method, and high-precision, high-quality partial coverage can be achieved. Although the application of the method of the present invention has been explained by taking a layer-coated lead frame as an example, the scope of application of this method is not limited to this, and the substrate strip may be made of metal or organic material, and may also be made of evaporated substances. It is not limited. Furthermore, the implementation of the present invention includes:
In addition to what is shown in Figure 2, the location of the sprocket,
It does not matter the method of supplying tension to the strip, the method of ion plating, or the method of control.

更に、本発明では、高精度、高品質の部分被膜を狙って
イオンプレーティング方法を採択しているが、それらの
要求度から、真空蒸着法やスパッタリング法を採択して
も勿論よい。
Further, in the present invention, the ion plating method is adopted with the aim of achieving a high-precision, high-quality partial coating, but it is of course possible to adopt a vacuum evaporation method or a sputtering method depending on the requirements.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の方法を実施するのに有用な装置を概
略的に示した図であり、 第2図は、本発明でのスプロケットピンとガイド孔との
位置関係を示す図であり、 第3図は、クラッド法により直接A1部分被膜を行なう
為のAI箔を示す模式的な図である。 (主な参照番号) 1・・・・・・・・開口部、 2・・・・・・・・A1箔 11・・・・・・・・基板条供給リール、12・・・・
・・・・基板条、 13・・・・・・・・マスキング条供給す−ノぺ14・
・・・・・・・マスキンク条、 15.25・・・・・ガス導入口、 16・・・・・・・・直流電源、 17.17°・・・・ガイドロール、 18・・・・・・・・スプロケット、 21・・・・・・・・るつぼ、 22・・・・・・・・電子銃、 23・・・・・・・高周波電源、 24・・・・・・・高周波励起コイル、31・・・・・
・・基板条巻取りリール、32・・・・・・・マスキン
グ条巻取りリール、41・・・・・・・ガイド孔、 42.42’・・・スプロケットピン、特許出願Am看
V請%νj晶
1 is a diagram schematically illustrating an apparatus useful for carrying out the method of the present invention; FIG. 2 is a diagram illustrating the positional relationship between sprocket pins and guide holes in the present invention; FIG. 3 is a schematic diagram showing an AI foil for direct A1 partial coating by the cladding method. (Main reference numbers) 1...Opening, 2...A1 foil 11...Substrate strip supply reel, 12...
...Substrate strip, 13...Masking strip supply - Knope 14.
......Maskink strip, 15.25...Gas inlet, 16...DC power supply, 17.17°...Guide roll, 18... ... Sprocket, 21 ... Crucible, 22 ... Electron gun, 23 ... High frequency power supply, 24 ... High frequency excitation Coil, 31...
... Board strip take-up reel, 32... Masking strip take-up reel, 41... Guide hole, 42.42'... Sprocket pin, Patent application Am View Request% νj crystal

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)部分被覆すべき基板条と、該基板条とほぼ同じ長
さを有し、該基板条に形成すべき被膜形状の開口部を所
定の間隔で有するマスキング条とを、真空容器内に、少
なくとも該容器内で該両条が密着するように連続的に供
給し、一方前記両条に設けられたガイド孔に駆動機構を
もたない、一方向に自由回転可能なスプロケット上のス
プロケットピンを貫通させてこれらの位置決めを行い、
前記基板条を部分被覆することを特徴とする長尺基板条
の部分被覆方法。
(1) A substrate strip to be partially covered and a masking strip having approximately the same length as the substrate strip and having film-shaped openings to be formed on the substrate strip at predetermined intervals are placed in a vacuum container. , at least a sprocket pin on a sprocket that is continuously supplied so that the two threads are in close contact with each other in the container, and that has no drive mechanism in the guide holes provided in the two threads and is freely rotatable in one direction. These positions are determined by penetrating the
A method for partially covering a long substrate strip, comprising partially covering the substrate strip.
(2)前記両条の移動が該条の巻取りリールもしくはピ
ンチローラーにより行われ、該条のガイド孔に貫通した
スプロケットピンが、該条の走行方向に対して両条の開
口部の最後部と接触することにより位置決めが実施され
ることを特徴とする特許請求範囲第1項記載の部分被覆
方法。
(2) The movement of the two strips is performed by a take-up reel or a pinch roller of the strip, and a sprocket pin passing through a guide hole of the strip is located at the rearmost part of the opening of both strips with respect to the running direction of the strip. 2. The partial covering method according to claim 1, wherein positioning is carried out by contacting with.
(3)前記スプロケットを中心とした、基板条およびマ
スキング条の前方張力及び後方張力が個々に設定される
事を特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載
の部分被覆方法。
(3) The partial coating method according to claim 1 or 2, wherein the front tension and rear tension of the substrate strip and the masking strip are individually set around the sprocket.
(4)前記被覆方法がイオンプレーティング法、真空蒸
着法またはスパッタリング法であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項、第2項あるいは第3項記載の部分
被覆方法。
(4) The partial coating method according to claim 1, 2, or 3, wherein the coating method is an ion plating method, a vacuum evaporation method, or a sputtering method.
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