JPS6126136B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 円盤状の情報記録媒体（以下、デイスクと記載
されることもある）を用いて各種の情報信号を高
密度記録し、それを再生する技術に関しての研究
開発が盛んに行なわれていることは周知のとおり
であり、本出願人会社においても各種方式による
デイスクを用いた高密度記録再生方式についての
開発研究ならびに実用化研究を行なつて来てい
る。

さて、デイスクの原盤に対して、情報信号を高
い記録密度で記録しようとする場合に従来から行
なわれている記録手段の代表的なものは、情報信
号によつて変調されたレーザ光ビームの微小なス
ポツト、あるいは情報信号によつて変調された電
子ビームの微小なスポツトをデイスクの原盤のビ
ーム感材層（例えばフオトレジスト層）上に投射
する、というものであつたが、前記の記録手段の
内で、電子ビームを用いる記録手段は高価な装置
の使用が必要とされるために、デイスクの回転数
が低く設定された場合の他は、安価なレーザ光ビ
ームを用いる記録手段が採用されることが多い。

ところで、デイスクに記録形成されるべき情報
信号による記録跡は、記録跡中から情報信号を読
取るために用いられる再生素子の情報読取り能力
その他多くの要因の存在によつて、ある定められ
た記録跡巾を有するものとなされていることが必
要とされ、そのために、デイスクの原盤に対する
情報信号の記録に当つて投射されるビームスポツ
トが、その断面形状寸法として記録跡の延長方向
の寸法よりも記録跡の巾方向の寸法の方が大きい
というような略々長方形のものとなされることが
あつた。

第１図は、デイスクの原盤に対する情報信号の
記録が、情報信号によつて変調され、かつ、その
断面形状寸法として記録跡の巾方向の寸法が記録
跡の延長方向の寸法よりも大きな略々長方形のレ
ーザ光ビームスポツトの投射によつて光学的に行
なわれるようになされた光学的記録装置の概略構
成を示すブロツク図であつて、この第１図におい
て１はターンテーブルであり、このターンテーブ
ル１はモータＭによつて所定の回転数で回転され
ると共に、図示していない移送機構によつて横方
向に移送される。ターンテーブル１上には平坦な
表面を備えた基板（例えばガラス板）上にフオト
レジスト層を付着形成されてなるデイスクの原盤
Ｄが固定されており、前記の原盤Ｄに形成された
フオトレジスト層に、情報信号によつて変調さ
れ、かつ、所定の断面形状を有するレーザ光ビー
ムスポツトが投射されて記録が行なわれる。

すなわち、第１図において２はレーザ光源２か
ら放射されたレーザ光ビームは、反射鏡３を介し
て光量調整用変調器４に供給され、この光量調整
用光変調器４においてレーザ光のドリフトの除去
やレーザノイズの除去ならびにデイスクの原盤の
径方向での光量制御などが行なわれ（この光量調
整用光変調器４については特開昭52−76003号公
報を参照されるとよい）た後に、情報信号による
光変調器５に与えられて、端子６に供給されてい
る情報信号によつて変調される。

前記した光変調器５において情報信号によつて
変調されたレーザ光ビームは反射鏡７を介して光
学系８に与えられ、この光学系８においてビーム
の断面形状が所要のように変形された後に、反射
鏡９を介して結像レンズ１０に与えられ、前記し
た結像レンズ１０によつてデイスクＤのフオトレ
ジスト層に、情報信号によつて変調され、かつ、
所定の断面形状を有するレーザ光ビームスポツト
が投射される。

前記した第１図中において、レーザ光ビームの
断面形状を所要のように変形させる光学系８は、
レンズ８ａと、円筒状レンズ８ｂ，８ｃ，８ｅ
と、スリツトＳを有する遮光部材８ｄなどで構成
されており、その動作は第２図ａに示されている
平面図と、第２図ｂ図に示されている側面図（ス
リツトＳの部分は断面が示されている）とによつ
て図示説明されているとおりであつて、反射鏡７
から光学系８に入射した円形の断面形状を有する
レーザ光ビームは、レンズ８ａ、円筒状レンズ８
ｂ，８ｃなどにより、断面の長手方向がスリツト
Ｓの長手方向と一致するような偏平な断面形状を
有するレーザ光ビームとなされて遮光部８ｄにお
けるスリツトＳの部分に投射される。

前記の遮光部材８ｄはスリツトＳの２辺Su，
Sdの部分によつてレーザ光ビームを遮断し、そ
れに投射されたレーザ光ビームの内でスリツトＳ
を通過したものだけを円筒状レンズ８ｅ及び反射
鏡９を介して結像レンズ１０に与える。

そして、結像レンズ１０はそれに与えられた断
面形状が偏平なレーザ光ビームを集束してデイス
クの原盤Ｄに断面形状が略々直方形なスポツトを
投射するが、デイスクの原盤Ｄに投射された断面
形状が略々直方形なスポツトは、前記した結像レ
ンズ１０に与えられた入射光の偏平な断面におけ
る長辺側α，αが略々直方形なスポツトの短辺側
α′，α′となり、また、結像レンズ１０に与えら
れた入射光の偏平な断面における短辺側β，βが
略々直方形なスポツトの長辺側β′，β′となるよ
うに結像されたものである。

そして、前記した結像レンズ１０によつてデイ
スクの原盤Ｄに結像された略々長方形状のレーザ
光ビームスポツトにおける短辺α′の長さは、結
像レンズ１０の開口数（Ｎ・Ａ）と、使用したレ
ーザ光の波長とによつて定まり、情報信号の記録
に当つては短辺α′の長さが所要のように小さな
値となるように、結像レンズ１０としては開口数
の大きなものが使用される。また、前記した略々
長方形状のレーザ光ビームスポツトにおける長辺
β′の長さは、スリツトＳにおけるスリツト巾St
と、円筒状レンズ８ｅの焦点距離ｆ８ｅと、結像
レンズ１０の焦点距離ｆ１０とによつて次式で示
されるものとなる。

β＝St×f10／f8e ……(1) しかし、実際には上記したスポツトの長辺β′
の長さは、レンズの回折によつて上記の(1)式で示
される長さよりも少し大きな値となる。

一例として、直径が約30cmで毎分900回転する
デイスクに、デイスクを外周から約15cmの所を記
録跡の最内周として、１時間にわさる情報信号を
記録しようとする場合には、記録跡間隔は約1.5
μｍとなるが、第１図示のような記録装置を用い
て情報信号を記録する際に、波長が4579゜Ａのレ
ーザ光を用い、また、開口数が0.9の結像レンズ
１０を用いると、デイスクの原盤上にはα′が約
0.6μｍ、β′が約1.5μｍというような略々長方
形のレーザ光ビームスポツトを投射させることが
できる。なお、記録間隔に応じてレーザ光ビーム
スポツトの大きさを適当なものとなしうることは
いうまでもない。

さて、前記した光学系におけるスリツトＳを通
過した光の強度分布は、スリツトＳによる光の回
折によつてスリツト巾の方向（第１図中のＺ―Ｚ
方向）へ第３図、第４図の各ａ図示のように現わ
れる。第３図ａ図第４図ａ図中におけるS₀，S₁，
S₂，S₃はそれぞれ零次回折光、１次回折光、２次
回折光、３次回折光を示しているものである。な
お、スリツトＳによる光の回折によつて、スリツ
トＳからは、４次回折光、５次回折光、及びそれ
以上の次数の回折光も生じているのであるが、第
３図ａ図中においては高次の回折光の図示が省略
されている｛この点は、４次回折光S₄までを示し
た第４図ａ図についても同様である｝。

第３図ｂ図は、第３図ａ図示のような強度分布
を示すレーザ光ビームが、円筒状レンズ８ｅ、反
射鏡９、及び結像レンズ１０などを通して、デイ
スクの原盤Ｄにおけるポジ型のフオトレジストに
与えられる際に、前記のレーザ光ビームにおける
３次以上の次数の回折光が円筒状レンズ８ｅと結
像レンズ１０との開口数や反射鏡９の大きさなど
によつて制限されて、結像レンズ１０を通過した
光が、第３図ａ図中の点線矢印の範囲内に示され
ている零次回折光So、１次回折光S₁、２次回折
光S₂だけとなされた場合に、現像処理後にデイス
クの原盤Ｄに形成されるビツトの縦断側面図であ
つて、この第３図ｂ図｛後述される第４図ｂ図、
第７図ａ，ｂ図でも同じ｝において、横軸は記録
跡の巾方向、縦軸は深さ方向を示しており、ま
た、図における縦軸方向は図示説明を容易にする
ために、横軸方向に比べて寸法を拡大した状態で
図示されている。

また、第４図ｂ図は、スリツトＳによつてスリ
ツトＳの巾方向に生じた第４図ａ図示のような強
度分布を示すレーザ光ビームが、円筒状レンズ８
ｅ、反射鏡９、及び結像レンズ１０などを通して
デイスクの原盤Ｄにおけるポジ型のフオトレジス
トに与えられる際に、前記のレーザ光ビームにお
ける４次以上の次数の回折光が円筒状レンズ８ｅ
と結像レンズ１０との開口数や反射鏡９の大きさ
などによつて制限されて、結像レンズ１０を通過
した光が、第４図ａ図中の点線矢印の範囲内に示
されている零次回折光So、１次回折光S₁、２次
回折光S₂、３次回折光S₃だけとなされた場合に、
現像処理後にデイスクの原盤Ｄに形成されるビツ
トの縦断側面図である。

前記のように、結像レンズ１０を通過する光の
強度分布が第３図ａ図及び第４図ａ図の場合に、
結像レンズ１０で結像された光のスポツトで露光
されたポジ型のフオトレジストが現像処理された
後に得られるピツトの縦断側面図が、それぞれ第
３図ｂ図及び第４図ｂ図で示されるようなものに
なる理由は次のとおりである。

すなわち、前記のように結像レンズ１０を通過
する光の強度分布が第３図ａ図に示されているも
のであるときに、結像レンズ１０で結像されてポ
ジ型のフオトレジストを露光する光のスポツトに
おける光の強度分布は、第３図Ｃ図に示されてい
るように、結像レンズ１０を通過している回折光
の次数の個数と対応している個数の凹凸を有して
いるものとなつており、結像レンズ１０を介して
前記の光で露光されたポジ型のフオトレジストに
は、現像処理後に第３図ｂ図に例示されているよ
うに、フオトレジストの露光に使用された光を構
成している回折光の次数の個数と対応した個数の
凹凸がピツトの底面に現われるのであり、同様
に、結像レンズ１０を通過する光の強度分布が第
４図ａ図に示されているものであるときに、結像
レンズ１０で結像されてポジ型のフオトレジスト
を露光する光のスポツトにおける光の強度分布
は、第４図ｃ図に示されているように、結像レン
ズ１０を通過している回折光の次数の個数と対応
している個数の凹凸を有しているものとなつてお
り、結像レンズ１０を介して前記の光で露光され
たポジ型のフオトレジストには、現像処理後に第
４図ｂ図に例示されているように、フオトレジス
トの露光に使用された光を構成している回折光の
次数の個数と対応した個数のピツトの底面に現わ
れるのである。

これを具体的に説明すると、結像レンズ１０を
通してポジ型のフオトレジストの露光に使用され
た光が第３図ａ図のように零次の回折光Soと、
１次の回折光S₁と、２次の回折光S₂とからなる場
合、すなわち、回折光の次数の個数が３個の場合
には、現像処理によつてフオトレジストに形成さ
れたピツトの底部には第３図ｂ図に示されている
ように、３個の山を生じるような凹凸が現われ、
また結像レンズ１０を通してポジ型のフオトレジ
ストの露光に使用された光が第４図ａ図のように
零次の回折光Soと、１次の回折光S₁と、２次の
回折光S₂と３次の回折光とからなる場合、すなわ
ち、回折光の次数の個数が４個の場合には、現像
処理によつてフオトレジストに形成されたピツト
の底面には第４図ｂ図に示されているように、４
個の山を生じるような凹凸が現われるのである。
そして、前記したピツトの底面の状態は４次以上
の高次の回折光も結像レンズ１０を通過するよう
になされた場合には、第４図ｂ図示の場合よりも
より一層多くの凹凸が現われた状態となされるの
である。

一方、ピツトの縦断側面形状において、その側
壁部分については、次々により一層の高次の回折
光までもが結像レンズ１０を通過するようになさ
れて行くのにつれて、次第に垂直の状態に近づい
て行く。

ところで、ピツトの底面に凹凸が存在している
ことは、外見上で望ましくないというだけではな
く、再生素子として接触型のものが用いられた場
合において、再生素子における接触子（例えば再
生針）の寿命が短かくなつたり、デイスクが損傷
を受け易いという好ましくない傾向が生じ、ま
た、ピツトの側壁部分が傾斜の緩やかなものであ
つた場合には、情報信号の検出が充分に行なわれ
ないことも起こり、そのために再生信号のS/Nの
劣化が生じるおそれがあるということも問題とな
る。

本発明は、デイスクの原盤に投射されたレーザ
光ビームスポツトを構成している複数個の次数を
異にしている回折光の個々のものの強度をそれぞ
れ所定のように定めることにより、前記した問題
点の生じない縦断面形状を備えたピツトを容易に
デイスクの原盤に形成させることができるように
するための光学的記録方法を提供するものであつ
て、以下、添付図面を参照しながら本発明の光学
的記録方法について詳細に説明する。

第５図は、既述した第１図示の光学的記録装置
に対して、本発明の光学的記録方法を適用した光
学的記録装置の一実施態様のものの要部の構成を
示す斜視図であつて、この第５図において、第１
図示の構成部分と同様な構成部分には、第１図中
で使用した図面符号と同一の図面符号を付してあ
る。

第５図において、反射鏡９と、結像レンズ１０
との間の光路中には、光学系８における遮光部材
８ｄに設けられたスリツトＳによつて生じた複数
の次数を異にする回折光の内で、結像レンズを通
過させるべきものとして定められた複数の次数を
異にする回折光の個々のものに対して、それぞれ
個別に所定の減衰を与えうるような減衰付与部材
１１が設けられている。

前記した減衰付与部材１１としては、所定形状
の孔が穿設された遮光板１１としてそれが構成さ
れたものが用いられても、あるいは、所定のパタ
ーンを有する濃度フイルタとしてそれが構成され
たものが用いられてもよい。

光学系８における遮光部材８ｄに設けられたス
リツトＳによつて生じた複数の次数を異にする回
折光は、前記した減衰付与部材１１によつて、各
次数を異にする回折光毎に、それぞれ個別の減衰
を受けた後に、結像レンズ１０に入射されて結像
レンズ１０によつてデイスクの原盤Ｄのフオトレ
ジスト上に結像される。

前記した減衰付与部材１１を設けることによつ
て、結像レンズ１０を通過する各異なる次数の回
折光の強度がそれぞれ所定の値となされると、フ
オトレジストに対する現像処理後に得られるピツ
トの縦断面形状は凹凸のないものとなされるので
ある。

そして、フオトレジストに対する現像処理後に
得られるピツトが、それの底面に凹凸がない状態
となされるように、減衰付与部材１１によつて、
複数の次数の回折光における個々の回折光に与え
られるべき減衰量は、結像レンズ１０を通過する
複数の次数の回折光がどのような組合わせ態様で
あるのかに応じて、それぞれ異なるものとなされ
なければならないことが実験の結果明らかとなつ
た。

すなわち、結像に用いられるために結像レンズ
１０を通過させられる各次数を異にする回折光の
組合わせが、零次の回折光と１次の回折光との場
合、零次の回折光と１次の回折光と２次の回折光
との場合、零次の回折光と１次の回折光と２次の
回折光と３次の回折光の場合、零次の回折光と１
次の回折光と２次の回折光と３次の回折光と４次
の回折光との場合、あるいはその他の次数の回折
光の組合わせの場合などにおいて、前記の各組合
わせられた複数個の次数の回折光における個々の
次数の回折光に対して減衰付与部材１１から与え
られるべき減衰量はそれぞれ異なつたものとなさ
れなければならないことが実験によつて明らかと
なつた。

第６図は、結像レンズ１０を通過させるべき複
数の次数を異にする回折光の次数を横軸にとり、
また、縦軸には光学系８中の遮光部材８ｄのスリ
ツトＳに対して一様な強度分布の光を入射させた
ときに、前記のスリツトＳによつて生じた回折光
の内の零次の回折光の強度Soaと、結像レンズ１
０を通過した零次の回折光の強度Sobとの比Sob/
Ｓｏａを100とした場合に、デイスクの原盤Ｄに形
成されたピツトの縦断面形状における底面に、２
％以上の凹凸が生じることがないようにするため
に必要とされる、前記した遮光部材８ａのスリツ
トＳで生じた次数ｉが１，２，３，４のような高
次の各回折光の強度Shai、と結像レンズ１０を通
過した高次の各回折光の強度Shbiとの比Shbi/Sh
ａｉとの関係を示した曲線図である。

今、例えば結像のために結像レンズ１０を通過
させる複数の次数の異なる回折光として、零次、
１次の２つの回折光が選定使用された場合には、
スリツトＳによつて生じた零次の回折光の強度
Soaと、その零次の回折光の内で結像レンズ１０
を通過した分の強度Sobとの比を100（第６図中
のＡ点）とした時に、１次回折光におけるSha₁
と、１次回折光におけるShb₁との比Shb₁/Sha₁の
所定の値は、第６図中のＢ点で示される37とな
る。

また、例えば、結像のために結像レンズ１０を
通過させる複数の次数の異なる回折光として、零
次、１次、２次の３つの回折光が選定使用された
場合には、零次回折光におけるSob/Soaの値を第
６図中のＡ点で示される100として、１次回折光
におけるShb₁/Sha₁の値として例えば第６図中の
Ｃ点で示される50が選ばれたとすれば、この時に
必要な２次回折光におけるShb₂/Sha₂の値は、第
６図中のＥ点で示される８となり、また、１次回
折光におけるShb₁/Sha₂の値として例えば第６図
中のＦ点で示される60が選ばれたとすれば、この
時に必要とされる２次回折光におけるShb₂/Sha₂
の値は、第６図中のＧ点で示される17となる。

さらに、前記の場合に、１次回折光におけるS
ｈｂ_１／Ｓｈａ_１の値として、例えば第６図中のＨ点で
示される５５が選ばれたとすれば、この時に必要
な２次回折光におけるShb₂/Sha₂の値は、第６図
中のＪ点で示される12.5となる。

このように、１次回折光におけるShb₁/Sha₁の
ある１つの値に対しては、２次回折光におけるS
ｈｂ_２／Ｓｈａ_２の特定なある１つの値だけが用いられ
なければならないのであり、前記した特定な組合
わせの値以外の値が用いられた場合には、ピツト
の底面には２％以上の凹凸が生じてしまう。

次に、結像のために結像レンズ１０を通過させ
る複数の次数の異なる回折光として、零次、１
次、２次、３次の４つの回折光が選定された場合
には零次回折光におけるSob/Soaの値を第６図中
のＡ点で示される100として、１次回折光におけ
るShb₁/Sha₁の値が例えば第６図中のＫ点で示さ
れる75に選ばれたとすれば、この時に必要な２次
回折光におけるShb₂/Sha₂の値は第６図中のＬ点
で示される40となり、また、この時に必要な３次
回折光におけるShb₃/Sha₃の値は第６図中のＭ点
で示される12となる。

上記の場合に、１次回折光におけるShb₁/Sha₁
の値が第６図中のＰ点で示される70に選ばれたと
すれば、この時に必要とされるShb₂/Sha₂の値は
第６図中のＱ点で示される33となり、Shb₃/Sha₃
の値は第６図中のＲ点で示される８となる。

このように、１次回折光におけるShb₁/Sha₁の
ある１つの値に対しては、２次回折光におけるS
ｈｂ_２／Ｓｈａ_２の特定なある１つの値と、３次回折光
におけるShb₃/Sha₃の特定なある１つの値とだけ
が用いられることが必要なのであり、そうでない
とピツトの底面における凹凸を２％以下にするこ
とができない。

そしてこの点は、結像のために結像レンズ１０
を通過させる複数の異なる回折光として、さらに
多くのものが用いられた場合でも同様であつて、
例えば、結像のために結像レンズ１０を通過させ
る複数の次数の回折光として、零次、１次、２
次、３次、４次の５つの回折光が選定された場合
には、Sob/Soaを100とし、Shb₁/Sha₁が85のとき
に、Shb₂/Sha₂は60、Shb₃/Sha³は35、Shb₄/Sha₄
は13となり、また、上記の場合にShb₁/Sha₁が83
のときに、Shb₂/Sha₂は55、Shb₃/Sha₃は30、Shb
_４／Ｓｈａ_４は10となる。

なお、第６図中には図示が省略されているが、
５次、６次の回折光、あるいはそれ以上の次数の
回折光を組合わせて結像のために使用される場合
についても前述と同様に考えられる。

第７図ａ，ｂ図は、本発明方法が適用された記
録装置によつてフオトレジストに形成されたピツ
トの縦断側面図であつて、第７図ａ図は結像のた
めに結像レンズ１０を零次、１次、２次の３つの
回折光を通過させた場合のピツトの縦断面形状を
示しまた、第７図ｂ図は結像のために結像レンズ
１０を零次、１次、２次、３次の４つの回折光を
通過させた場合のピツトの縦断面形状を示してい
る。

この第７図ａ，ｂ図より、本発明方法を適用す
ることにより、ピツトの底面が平坦となることが
明確に判かる。また、第７図ａ図示のピツトより
も、第７図ｂ図示のピツトの方が側壁が垂直に近
くなつていることも判かる。

第８図は、前述した第６図中の数値を用いて、
結像レンズ１０によりデイスクの原盤Ｄ上に結像
された光像のα′―α′方向（第５図参照）におけ
る光の強度分布（ただし、第８図は光像における
α′―α′の方向における光像の一端部から光像の
中央部分までの光の強度分布である）を示した図
であり、この第８図からみても、結像のために結
像レンズ１０を通過させる回折光が高次のものま
で用いられるのに従つて、ピツトの側壁部分が次
第に垂直に近づくことが明らかである。

これまでの説明で明らかとなつたように、本発
明方法において、結像レンズ１０までの光路中に
設けられるべき減衰付与部材１１としては、結像
のために結像レンズ１０中に通過させるべき複数
の次数の異なる回折光の組合わせの態様がどのよ
うなものであるのかに従い、第６図示の曲線で示
されている各次数の回折光に必要とされる光強度
を各次数の回折光が有する状態で結像レンズ１０
からフオトレジストへ出射されるように、それの
孔の形状または濃度フイルタの構成態様が定めら
れるのである。なお、減衰付与部材１１が孔の穿
設された構成形態のものであつても、あるいは濃
度フイルタによるものであつても、各次数の回折
光のそれぞれのものに与えられるべき所望な光通
過率の減少、すなわち、第６図に示されているよ
うな各次数の回折光に対する通過率の減少は、結
像レンズ１０の開口が円形であるために、次数が
高い回折光に対してより多く生じる光通過率の減
少と、減衰付与部材１１における孔の形状、また
は濃度フイルタのパターンによつて通過光の回折
光に与えられる光通過率の減少との積によつて得
られるようになされるべきことは当然である。

なお、前記した減衰付与部材１１として濃度フ
イルタが使用される場合における濃度フイルタ
は、それの最大透過率の部分を結像レンズの中心
部分と対応する部分に設けて、そこを零次回折光
が通過するようにし、また、各次数の回折光が個
別に通過する各部分は、それらの各部分毎に、そ
れぞれの部分の全域についてそれぞれ異なる所定
の透過率を有するものとし、回折光の次数の高い
もの程透過率の低い部分を通るようになされてい
る。

第９図は減衰付与部材１１として孔が穿設され
た構成形態のものの場合における孔の形状の一例
を示したものであるが、この孔の形状は、結像レ
ンズ１０を通過させるべき回折光が、どのような
次数の回折光の組合わせのものであるのか、結像
レンズ１０や円筒状レンズ８ｅなどの開口数、反
射鏡９の大きさ、スリツトＳのスリツト巾Stなど
の諸要件に応じて、それぞれ異なつたものとなさ
れるのであり、要するに、結像レンズ１０を通過
する複数の異なる次数の回折光の相互間に、第６
図に示されているような特定な関係を持たせるこ
とのできる形状の孔が設けられるのである。

以上、詳細に説明したところから明らかなよう
に、本発明の光学的記録方法では、結像のために
結像レンズ１０を通過する複数の異なる次数の回
折光の組合わせ態様がどうであるのかに応じて、
それぞれの組合わせを構成する各次数の回折光が
結像レンズ１０を通過する量をそれぞれ特定する
ことによつて、現像処理後に得られるピツトの縦
断面形状における底面に凹凸の存在しないピツト
が容易に得られるようにしたものであり、この本
発明方法により従来の問題点は良好に解消される
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の光学的記録装置の概略構成を示
すブロツク図、第２図ａ図は第１図示の装置にお
ける光学系８以降の部分の平面図、第２図ｂ図は
向上側面図、第３図ａ図及び第４図ａ図は回折光
の光強度の変化の態様を示す曲線図、第３図ｂ図
及び第４図ｂ図ならびに第７図ａ，ｂ図はピツト
の縦断側面図、第３図ｃ図及び第４図ｃ図はフオ
トレジストに露光される光のスポツトの光強度分
布を示す図、第５図は本発明の光学的記録方法を
適用した光学的記録装置の一実施態様のブロツク
図、第６図はスリツトＳで生じた各次数の回折光
の所要な通過率を表わすための曲線図、第８図は
光学像における光強度分布を示す曲線図、第９図
は孔形状の一例図である。 １……ターンテーブル、２……光源、３，７，
９……反射鏡、４，５……光変調器、８……光学
系、８ａ……レンズ、８ｂ，８ｃ，８ｅ……円筒
状レンズ、８ｄ……遮光部材、１０……結像レン
ズ、１１……減衰付与部材、Ｓ……スリツト。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 情報記録媒体に対する情報信号の記録を、情
   報信号によつて変調され、かつ、その断面形状が
   略々長方形であるようなレーザ光ビームスポツト
   を結像レンズから情報記録媒体に投射して光学的
   に行なうようにするために、結像レンズの入射側
   までの光路中に設けられた光学系中に、レーザ光
   ビームの断面形状を規制するスリツトを介在させ
   ておき、前記したスリツトによつて生じた次数の
   異なる多くの回折光の内で、次数を異にする複数
   の回折光が結像のために使用される場合に、結像
   のために使用される次数を異にする複数の回折光
   の組合わせの態様が零次回折光と１次回折光との
   組合わせ、あるいは零次回折光と１次回折光と２
   次回折光との組合わせ、もしくは零次回折光と１
   次回折光と２次回折光と３次回折光との組合わ
   せ、または零次回折光と１次回折光と２次回折光
   と３次回折光と４次回折光との組合わせ、その他
   というように、複数の次数の異なる回折光の組合
   わせの態様がどうであるのかに応じて、組合わさ
   れている各次数の回折光がそれぞれ異なつた所定
   の減衰率での減衰が与えられて前記した結像レン
   ズに入射されるようにした手段が設けられてなる
   光学的記録方法。