JPS612450U - フイルタ製造用マスク - Google Patents

フイルタ製造用マスク

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JPS612450U
JPS612450U JP1984085695U JP8569584U JPS612450U JP S612450 U JPS612450 U JP S612450U JP 1984085695 U JP1984085695 U JP 1984085695U JP 8569584 U JP8569584 U JP 8569584U JP S612450 U JPS612450 U JP S612450U
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JP
Japan
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mask
filter manufacturing
substrate
holes
evaporation material
Prior art date
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JP1984085695U
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JPH02440Y2 (ja
Inventor
豊 山岸
正彦 石田
Original Assignee
株式会社 堀場製作所
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】 −第１図は本考案の一実施例としてのフィルタ製〒“ 造用マスクの断面図、第２図は該マスクの平面図、第３
図は上記マスクを使ってフィ）ｋ９を製造する工程を示
す図、第４図はマスクの板厚が厚い場合の欠点を示す図
である。 ・１・・・・・・マスク、２・・晶孔、３・・・・・・
段差、４・曲・基板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 多数の孔を有し、真空蒸着時基板に固定して用いること
    によって、孔から露出した基板上のみ蒸着物質が蒸着し
    、基板の切断予定部分には蒸着物質がつかないようにす
    るためのマスクであって、前記孔の縁を段差をつけて薄
    く形成したことを特徴とするフィルタ製造用マスク。
JP1984085695U 1984-06-09 1984-06-09 フイルタ製造用マスク Granted JPS612450U (ja)

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JPS612450U true JPS612450U (ja) 1986-01-09
JPH02440Y2 JPH02440Y2 (ja) 1990-01-08

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (1)

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JPS5232270U (ja) * 1975-08-28 1977-03-07

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