JPS61237340A - Assembling method for shadow-mask - Google Patents

Assembling method for shadow-mask

Info

Publication number
JPS61237340A
JPS61237340A JP7768885A JP7768885A JPS61237340A JP S61237340 A JPS61237340 A JP S61237340A JP 7768885 A JP7768885 A JP 7768885A JP 7768885 A JP7768885 A JP 7768885A JP S61237340 A JPS61237340 A JP S61237340A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
shadow
light
mask
main
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7768885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiro Oota
勝啓 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP7768885A priority Critical patent/JPS61237340A/en
Publication of JPS61237340A publication Critical patent/JPS61237340A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To position and adjust the shadow-masks simply and in a high accuracy, by positioning them through detecting the variation of light quantity passing through the main mask and the submask. CONSTITUTION:When the light 15 radiated from a light source 11 passes through the opening 70 of a subshadow-mask 30, then through the opening 7 of the main shadow-mask 3, and goes into a light detector 12, an output indicator 14 displays an index value proportional to the quantity of the incident light. The figure a shows the case when the centers of the openings 70 and 7 are not at the same point, and the passing light 20a through he opening 7 has a lack, making the light quantity 21 smaller than the maximum value. On the other hand, the figure b shows the case when the centers of the openings 70 and 7 are almost at the same point, and the passing light 20b through the open ing 7 has no lack, making its quantity 22 maximum. Therefore, if the main shadow-mask 3 is positioned to show a maximum value of the output indicator 14, the centers of openings 70 and 7 are almost coincide. Such a positioning is carried out one by one at the positions selected adequately, and the main shadow-mask 3 is fixed at the position to be the best position as the whole shadow-masks, and welded at the frame.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は主・副2つのシャドウマスクを有するシャド
ウマスクアッセンブリの組立方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for assembling a shadow mask assembly having two main and sub shadow masks.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図は従来の一般的なカラー陰極線管の構造を示す概
略断面図である。αQはガラスパルプで、その前面内側
には、赤、緑、青の各発光色を呈する3色蛍光体ドツト
またはストライプからなる蛍光面スクリーン(1)が塗
布されている。(3)は蛍光面スクリーン(1)と所定
間隔をおいて配置されにシャドウマスクであって、一定
の位置に、一定の形状に形成さnている多数の開孔(7
)を百し、フレーム(6)に溶接にて固定されている。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a conventional general color cathode ray tube. αQ is made of glass pulp, and the inside of its front surface is coated with a phosphor screen (1) consisting of three-color phosphor dots or stripes that emit red, green, and blue colors. (3) is a shadow mask placed at a predetermined distance from the phosphor screen (1), and has a large number of apertures (7) formed in a predetermined shape at a predetermined position.
) and is fixed to the frame (6) by welding.

(4)はガラスバルブαqの後方ネック部に収納され7
:ill子銃、(6R)、 (5G )。
(4) is stored in the rear neck of the glass bulb αq.
:ill subgun, (6R), (5G).

(5B)はそれぞれ電子銃(4)から放射される赤、緑
、青の電子ビーム、(2)は偏向ヨークで電子ビーム(
5R)、 (5G)、 (5B)はこの偏向ヨーク(2
)の磁界により偏向され、シャドウマスク(3)の開孔
(7)を通過して蛍光面スフリーラ(1)の各8色蛍光
体に射突し、蛍光面スクリーン(1)に画像を映出する
。図中、Lは軸!、0は電子ビームがこの点から放射さ
れているとみなせる偏向点である。
(5B) are red, green, and blue electron beams emitted from the electron gun (4), and (2) is the electron beam (
5R), (5G), and (5B) are this deflection yoke (2
) is deflected by the magnetic field of the shadow mask (3), passes through the aperture (7) of the shadow mask (3), and strikes each of the eight color phosphors of the phosphor screen free layer (1), projecting an image on the phosphor screen (1). do. In the diagram, L is the axis! , 0 is the deflection point from which the electron beam can be considered to be radiated.

第5図は蛍光面スクリーン(1)とシャドウマスク(3
]の部分拡大図である。第5図において、ガラスバルブ
αQの前面内側に赤色蛍光体ドツト(IR)、緑色蛍光
体ドツト(IG)、青色蛍光体ドラ)(IB)  が塗
布さ2”Lることにより蛍光面スクリーン(1)が形成
されている。蛍光面スクリーン(1)と所定の間隔D1
をおいて設けられているシャドウマスク(3)の開孔(
7)と、8色蛍光体ドツト(IR)、 (IG)、 (
IB)とは、所定の幾何学的関係で配置されており、た
とえば、赤色蛍光体ドツト(IR)に対応する電子ビー
ム(5R)はシャドウマスク(3)の開孔(7)を通過
して(51R)となって赤色螢光体ドツト(IR)のみ
に当り、これを励起、発光させる。
Figure 5 shows the phosphor screen (1) and shadow mask (3).
] is a partially enlarged view. In Fig. 5, red phosphor dots (IR), green phosphor dots (IG), and blue phosphor dots (IB) are coated on the inside front surface of the glass bulb αQ, and a phosphor screen (1 ) is formed.The fluorescent screen (1) and a predetermined distance D1 are formed.
The opening of the shadow mask (3) provided at
7) and 8-color phosphor dots (IR), (IG), (
IB) are arranged in a predetermined geometrical relationship; for example, the electron beam (5R) corresponding to the red phosphor dot (IR) passes through the aperture (7) of the shadow mask (3). (51R) and hits only the red phosphor dot (IR), which excites it and causes it to emit light.

従来のカラー陰極線管は以上のように構成されているが
、電子ビームがハイライト部のようにきわめてに流量が
多い場合、シャドウマスク(3)が電子ビームによって
加熱さnて熱変形をおこし、第5図に示すようにシャド
ウマスク(3)は破線で示す位置まで変位し、蛍光面ス
クリーン(1)とシャドウマスク(3)との間隔がD2
に変化する。したがって、8色蛍光体ドツト(IR)、
 (IG)、 (IB)とシャドウマスク(3)の開孔
(7)との幾何学的関係も変化し、その結果、シャドウ
マスク(3ンの開孔(7)を通過しり電子ビーム(6R
)は、シャドウマスク(3)の熱変形前の電子ビームの
軌道(51R)とは軌道が変わり、軌道(52R)で示
すように赤色蛍光体ドツト(IR)に正確に当たらず、
他の蛍光体ドツト、たとえば第5図の例では緑色蛍光体
ドツト(IG)にも当たり、色ずれを生じるという問題
があった。
Conventional color cathode ray tubes are constructed as described above, but when the flow rate of the electron beam is extremely large, such as in the highlight area, the shadow mask (3) is heated by the electron beam and causes thermal deformation. As shown in FIG. 5, the shadow mask (3) is displaced to the position shown by the broken line, and the distance between the phosphor screen (1) and the shadow mask (3) is D2.
Changes to Therefore, eight color phosphor dots (IR),
The geometric relationship between (IG), (IB) and the aperture (7) of the shadow mask (3) also changes, so that the electron beam (6R) passes through the aperture (7) of the shadow mask (3).
) has a different trajectory from the trajectory (51R) of the electron beam before the thermal deformation of the shadow mask (3), and does not accurately hit the red phosphor dot (IR) as shown by the trajectory (52R).
Other phosphor dots, such as green phosphor dots (IG) in the example shown in FIG. 5, also hit, causing a problem of color shift.

このような問題点を除去するために、副シャドウマスク
を設けたカラー陰極線管が考案されている0 第6図は副シャドウマスクを設けたカラー陰極線管の断
面図で、主シャドウマスク(3)にaえて、副シャドウ
マスク−が設けられている。この副シャドウマスク−は
主シャドウマスク(3)の電子銃(4)側に、所定の間
隔を保ってフレーム(6)に取付けられており、第7図
に示すように、8色蛍光体ドツト(IR)、 (IG)
、 (IB)と、主シャドウマスク(3ンの開孔(7)
および副シャドウマスク−の開孔(70)とは、所定の
幾何学的関係で配置されている。そして、副シャドウマ
スク−の開孔(70)の面積は、主シャドウマスク(3
)の開孔(7)の面積よりも所定量だけ大きく形成され
ている。
In order to eliminate such problems, a color cathode ray tube equipped with a sub shadow mask has been devised. Figure 6 is a cross-sectional view of a color cathode ray tube equipped with a sub shadow mask, showing the main shadow mask (3). In addition, a sub-shadow mask is provided. This sub-shadow mask is attached to the frame (6) on the electron gun (4) side of the main shadow mask (3) at a predetermined interval, and as shown in Figure 7, it has eight color phosphor dots. (IR), (IG)
, (IB) and the main shadow mask (3 holes (7)
and the aperture (70) of the sub-shadow mask are arranged in a predetermined geometrical relationship. The area of the aperture (70) of the sub shadow mask is the area of the main shadow mask (3
) is formed to be larger than the area of the opening (7) by a predetermined amount.

このように構成されているシャドウマスクは、画像のハ
イライト部分で、たとえば電子ビーム(5R)により副
シャドウマスク−が熱変形をおこしたとしても、電子ビ
ーム(5R)のエネルギの大部分が副シャドウマスク(
′:!Aによって吸収されるから、主シャドウマスク(
3)に当たる電子ビーム(58R)のエネルギはきわめ
て少なくなり、主シャドウマスク(3)が熱変形をおこ
すに至らないか、かりに熱変形をおこしたとしても、そ
の変位量がごくわずかである。したがって、色ずれを生
じない。
With a shadow mask configured in this way, even if the secondary shadow mask is thermally deformed by the electron beam (5R) in the highlight part of the image, for example, most of the energy of the electron beam (5R) is absorbed by the secondary shadow mask. Shadow mask (
′:! Since it is absorbed by A, the main shadow mask (
The energy of the electron beam (58R) hitting the main shadow mask (3) becomes extremely low, and the main shadow mask (3) does not undergo thermal deformation, or even if it does, the amount of displacement is extremely small. Therefore, no color shift occurs.

他方、熱変形した副シャドウマスク−は第7図中に破線
で示した位置まで変位し、その開孔(70)を通過した
電子ビーム(54R)は、熱変形前の軌道(58R) 
fζ比べて図示のように軌道が変化するけれども、開孔
(70)の面積が開孔(7)の面積よりも太きいので、
電子ビームは開孔(7)を欠けることなく通過し、軌道
(55R)で示したように、対応する赤色蛍光体ドツト
(IR)にのみ当たり、他の緑色蛍光体ドツト(IG)
、青色蛍光体ドツト(IB)には当たらないために、色
ずれが生じない。
On the other hand, the thermally deformed secondary shadow mask is displaced to the position shown by the broken line in FIG.
Although the trajectory changes as shown in the figure compared to fζ, the area of the aperture (70) is larger than the area of the aperture (7), so
The electron beam passes through the aperture (7) without chipping, hits only the corresponding red phosphor dot (IR), and hits the other green phosphor dot (IG), as shown by the trajectory (55R).
Since the light does not hit the blue phosphor dots (IB), no color shift occurs.

〔発明が解決しようとする問題点〕 上記のような副シャドウマスク−tHするカラー陰極細
管の製造においては、予め、フレーム(6)に主シャド
ウマスク(3)と副シャドウマスク(31jlとを、そ
れらの開孔(7)、(To)が全面にわたって精度良く
位置合わせをした状態で固着しておく必要がある。
[Problems to be Solved by the Invention] In manufacturing the color cathode thin tube that uses the sub-shadow mask-tH as described above, the main shadow mask (3) and the sub-shadow mask (31jl) are placed on the frame (6) in advance. The openings (7) and (To) must be aligned and fixed with high accuracy over the entire surface.

しかし、一般の機械的な位置決め方法では、上記のよう
な位置決めを所定の精度でもって行なうことはきわめて
困碓であるという問題点があった。
However, with general mechanical positioning methods, there is a problem in that it is extremely difficult to perform the above positioning with a predetermined accuracy.

この発明は上記のような問題点の解決を目的としてなさ
れたもので、主シャドウマスクと副シャドウマスクの組
立てを精度良く簡単に行なう方法を提供することを目的
とするものである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method for accurately and easily assembling a main shadow mask and a sub-shadow mask.

〔問題点を解決するための手段] この発明は、主・副いずれか一方のシャドゥマスフをフ
レームに固着し、他方のシャドウマスクが所定間隔で面
方向へ移動可能に該フレームに保持するととも沓こ、そ
の両シャドウマスクの両開孔を通過する電子ビームの予
想軌道上に、該両シャドウマスクを挾んで上記予想軌道
と同じ光路の光束を放射する光源と、当該両シャドウマ
スクを通過し1こ光m+検出する光検出器とを配設し、
該シャドウマスクの面上に予め設定した複数の位置にお
ける透過光量の和が最大、もしくは重みづけをした評価
値が最良となるように上記可動シャドウマスクの位置合
わせを行い、その後そのシャドウマスクを上記フレーム
に固着するようにした組立方法である。
[Means for Solving the Problems] The present invention is characterized in that one of the main and sub shadow masks is fixed to a frame, and the other shadow mask is held on the frame so as to be movable in the plane direction at predetermined intervals. , on the expected trajectory of the electron beam passing through both apertures of both shadow masks, a light source that sandwiches both shadow masks and emits a light beam along the same optical path as the predicted trajectory; A light m+detecting photodetector is arranged,
The movable shadow mask is positioned so that the sum of the amount of transmitted light at a plurality of preset positions on the surface of the shadow mask is maximum or the weighted evaluation value is the best, and then the shadow mask is This is an assembly method in which it is fixed to the frame.

〔作用〕[Effect]

この発明の組立方法は、主・副詞マスク8通過する光源
の変化を検出して位置合わせを行うので、きわめて簡単
に、かつ積置よく位置決め整合を行なうことができる。
The assembly method of the present invention detects changes in the light source passing through the main/adverbial mask 8 and performs positioning, so positioning and matching can be performed extremely easily and with good stacking.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、この発明の実施例を図面にしたがって説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図はこの発明を実施する1こめの装置の一構成例を
示す図である。図において副シャドウマスク−はあらか
じめフレーム(6)に溶接にて固定されており、主シャ
ドウマスク(3)は副シャドウマスク−と所定の間隔を
介して前面側に設置されているが、フレーム(6月ζは
まだ溶接固定されていないで、上下左右に自由に動かせ
る状態Eこある。光源(11)は、偏向点0に相当する
位置に設置されており、この光源(lりと反対側の主シ
ャドウマスク(3)の前面側に光検出器(+21が所定
の位置に設置されている。光検出器(!乃の出力は増巾
器α濁により所定量増巾さn。
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of a one-time apparatus for carrying out the present invention. In the figure, the secondary shadow mask is welded to the frame (6) in advance, and the main shadow mask (3) is installed on the front side with a predetermined distance from the secondary shadow mask. June ζ is not yet fixed by welding and can be moved freely up, down, left and right.The light source (11) is installed at the position corresponding to deflection point 0, and this light source (on the opposite side A photodetector (+21) is installed at a predetermined position on the front side of the main shadow mask (3).The output of the photodetector (!) is amplified by a predetermined amount by an amplifier (α).

出力表示計(14)によってその出力が表示される。The output is displayed by an output indicator (14).

つぎに、この装置を用いた位置決め方法を説明する。Next, a positioning method using this device will be explained.

光源(11)から放射された光(IQは、副シャドウマ
スク−の開孔(70)を通過し、ついで主シャドウマス
ク(3)の開孔(7)を通過して光検出器α匂に入射す
る。
The light (IQ) emitted from the light source (11) passes through the aperture (70) of the secondary shadow mask, and then passes through the aperture (7) of the main shadow mask (3) and reaches the photodetector α. incident.

出力表示計α荀は光検出器(121に入射する光量に比
例した指示値を表示する。第2図は開孔(7)、(TO
)の位置と通過光量との関係を説明するための因で、同
図(3)は開孔(70)と開孔(7)の中心がずれてい
る場合を示しており、開孔(7)の通過光(20a )
には欠けがあって、その光量圓は最大値より小となる。
The output display meter α displays an indication value proportional to the amount of light incident on the photodetector (121).
) to explain the relationship between the position of the aperture (70) and the amount of light passing through, Figure (3) shows the case where the centers of the aperture (70) and the aperture (7) are misaligned; ) passing light (20a)
There is a chip, and the luminous intensity circle is smaller than the maximum value.

ま7:同図(b)は開孔(70)と開孔(7)の中心が
ほぼ一致している場合を示しており、開孔(7)の通過
光(20b )には欠けがなく、その光重(四は最大値
となる。したがって、出力表示計α弔の表示値が最大と
なるように主シャドウマスク(3)の位置合わせを行う
と、開孔(70)と開孔(7)の中心がほぼ一致するこ
とになる。
7: The same figure (b) shows the case where the centers of the aperture (70) and the aperture (7) almost coincide, and there is no chipping in the light (20b) passing through the aperture (7). , its light weight (4 is the maximum value. Therefore, if the main shadow mask (3) is aligned so that the displayed value of the output display meter α becomes the maximum, the aperture (70) and the aperture ( 7) will almost coincide.

このような位置合わせ作業を、シャドウマスク面の中央
部分、中央部分と四隅のコーナ部との4つの中間部分の
ように、適当に選定した各部分について逐次施して行き
、シャドウマスク面全体トして最良と思われる位置に主
シャドウマスク(3)を固定してフレーム(6)に溶接
する。主・副詞シャドウマスク(3)、 G30)の各
開孔(7)、(70)の位置と形状とが設計通りに形成
されていれば、最小限2つの開孔(7)、 (7G)の
位置合わせを行えば、シャドウマスク全面の開孔の位置
もそれぞれ一致するはずである。しかし、実際のシャド
ウマスクに形成さnている開孔(7)、(70)の位置
とその形状にはばらつきがあるので、上記のように複数
個所で位置合わせを行い、位置による重みづけ評価をし
て最良と思われる位file選定する必要がある。この
ような作業を、1個の光検出器α′4を用いて行うこと
は長時間を要するばかりでなく、最良位置に位置合わせ
することもきわめて困難となる。
This alignment work is performed one after another on appropriately selected parts, such as the center of the shadow mask surface, and the four intermediate parts between the center and the four corners, until the entire shadow mask surface is aligned. The main shadow mask (3) is fixed at a position considered to be best and welded to the frame (6). If the position and shape of each hole (7), (70) of the main/adverbial shadow mask (3), G30) is formed as designed, there will be at least two holes (7), (7G). If the positions of the holes are aligned, the positions of the openings on the entire surface of the shadow mask should also match. However, since there are variations in the positions and shapes of the apertures (7) and (70) formed in the actual shadow mask, alignment is performed at multiple locations as described above, and the position-based weighting evaluation is performed. You need to select the file that you think is the best. Performing such work using one photodetector α'4 not only takes a long time, but also makes it extremely difficult to align it to the best position.

第8図(a)はこのような問題点を解消したこの発明を
実施するγこめの装置の他の構成例を示す図である。こ
の例は5個の光検出器(12a)〜(121りを第8図
(b)に示すようにシャドウマスク面の中央部分と、そ
の中央部分とコーナ部との中間の4つの周縁部分とに配
置し、これらの光検出器(12a)〜(12e)の検出
信号を増幅演算器(lla)において中央部分の光検出
器(12b)の検出値の重みづけを大きく、他の4個の
光検出器(12a)、 (12c)〜(12e)の検出
値の重みづけを小さくして増幅し、その加算値を出力表
示器(I4)に表示させるように構成し1;ものである
FIG. 8(a) is a diagram illustrating another example of the configuration of a γ-coupling device implementing the present invention, which solves the above-mentioned problems. In this example, five photodetectors (12a) to (121) are arranged at the center part of the shadow mask surface and four peripheral parts between the center part and the corner parts, as shown in FIG. 8(b). The detection signals of these photodetectors (12a) to (12e) are assigned a large weight to the detection value of the central photodetector (12b), and the other four The detection values of the photodetectors (12a), (12c) to (12e) are amplified by reducing the weighting, and the added value is displayed on the output display (I4).

この装置を用いると、出力表示器α弔の表示値が最大と
なるように主シャドウマスク(3) t 位置決めすれ
ば、シャドウマスク面の全面について最良の位tとなる
ので、主シャドウマスク(3) t ソの位置に固定し
てフレーム(6)に溶接すればよい。
When using this device, if the main shadow mask (3) t is positioned so that the display value of the output display α is maximized, the main shadow mask (3) t will be at the best position for the entire shadow mask surface. ) It is sufficient to fix it in the position of t and weld it to the frame (6).

このようにすると、迅速かつ正確に主シャドウマスクの
位置合わせを行うことができ、シタがって、主・副シャ
ドウマスクを葡するシャドウマスクの組立を迅速かつ正
確に行うことができる。
In this way, the main shadow mask can be quickly and accurately aligned, and the shadow masks that form the main and sub shadow masks can be assembled quickly and accurately.

以上説明し7:実施例は、副シャドウマスク端をフレー
ム(6)に固定しておき、主シャドウマスク(3)を動
かして位置合わせを行うようにしたが、逆でもよい。
As explained above, 7: In the embodiment, the end of the sub-shadow mask is fixed to the frame (6), and the main shadow mask (3) is moved to perform alignment, but the reverse may be used.

また光源(11)を電子ビームの偏向点に設置する例を
説明したが、開孔(7)、(70)を通過する庖子ビー
ムの予想軌道上であれば、シャドウマスクの前後いずれ
の側でも、ま几どの位置でもよく、その数も1個に限ら
れない。なお光検出器(l旧よ光源(lりとは反対の側
に設置することはいうまでもない。
In addition, although we have explained an example in which the light source (11) is installed at the deflection point of the electron beam, if the light source (11) is on the expected trajectory of the beam passing through the apertures (7) and (70), it can be placed on either side of the shadow mask. However, it can be placed in any position, and the number is not limited to one. It goes without saying that the photodetector should be installed on the opposite side from the light source.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、乙の発明によれば、主シャドウマスクと
副シャドウマスクの位置決め整合ヲ、両シャドウマスク
の前まrこは後に光源を置くとともにその反対側に光検
出器を設置し、その光検出器の検出値が最大値となる位
置でフレームに固着するようにし1こので、迅速に、か
つ精度よく主・副2つのシャドウマスクを有するシャド
ウマスクの組立を行なうことができる効果がある。
As described above, according to the invention of B, the positioning and matching of the main shadow mask and the sub shadow mask is carried out by placing a light source on the front and rear sides of both shadow masks, and installing a photodetector on the opposite side. The photodetector is fixed to the frame at the position where the detection value is maximum.1 This has the effect of quickly and accurately assembling a shadow mask having two main and sub shadow masks. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明を実施するための装置の一構成例を示
す、第2図は主・副詞シャドウマスクの開孔の位置関係
と通過光量との関係を示す図、第8図(a)はこの発明
を実施するための装置の他の構成例を示す図、第3図(
b)はその光検出器の配置位置を示す図、第4図は従来
のカラー陰極線管の概略断面図、第5図は第4図におけ
る蛍光面スクリーンとシャドウマスクの部分拡大図、第
6図は主シャドウマスクと副シャドウマスクtVするカ
ラー陰極線管の概略断面図、第7図は第6図における蛍
光面スクリーンと主・副詞シャドウマスクの部分拡大図
である。 (3)・・・主シャドウマスク、(6)・・・フレーム
、(7)・・・主シャドウマスクの開孔、(!叶・・光
源、(121,(12a)〜(12e)・・・光使出器
、H・・・出力表示計、(′!A・・・副シャドウマス
ク、(70)・・・副シャドウマスクの開孔。 なお、図中、同一符号はそれぞれ同一、または相当部分
を示す。
Fig. 1 shows an example of the configuration of an apparatus for carrying out the present invention, Fig. 2 shows the relationship between the positional relationship of the apertures of the main/adverbial shadow mask and the amount of light passing through it, and Fig. 8 (a) FIG.
b) is a diagram showing the arrangement position of the photodetector, FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a conventional color cathode ray tube, FIG. 5 is a partially enlarged view of the phosphor screen and shadow mask in FIG. 4, and FIG. 6 7 is a schematic sectional view of a color cathode ray tube with a main shadow mask and a sub shadow mask tV, and FIG. 7 is a partially enlarged view of the phosphor screen and the main/adverbial shadow mask in FIG. (3)...Main shadow mask, (6)...Frame, (7)...Aperture of main shadow mask, (! Leaf...Light source, (121, (12a) to (12e)...・Light emitter, H...Output indicator, ('!A...Sub shadow mask, (70)...Aperture of sub shadow mask. In addition, in the figures, the same symbols are the same or A considerable portion is shown.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)フレームに主・副シヤドウマスクの何れか一方を
固着し、他方を面方向へ移動可能に所定間隔で保持する
とともに、その両シヤドウマスクの前側または後側の当
該両シヤドウマスクを通過する電子ビームの予想軌道上
に配設されている光源と、この光源と反対側に配設され
当該両シヤドウマスクを通過した光量を検出する光検出
器とを設け、当該シヤドウマスク面の複数の部分の通過
光量の和が最大、もしくは位置による重みづけをした評
価値が最良となるように該可動シヤドウマスクの位置合
わせを行い、その後該シヤドウマスクを上記フレームに
固着するようにしたシヤドウ マスクの組立方法。
(1) Either one of the main and sub shadow masks is fixed to the frame, and the other is movable in the plane direction and held at a predetermined interval, and the electron beam passing through the front or rear shadow masks is A light source disposed on the predicted trajectory and a photodetector disposed on the opposite side of the light source to detect the amount of light passing through both of the shadow masks are provided, and the sum of the amounts of light passing through multiple parts of the shadow mask surface is provided. A method for assembling a shadow mask, in which the position of the movable shadow mask is adjusted so that the evaluation value is maximized or the evaluation value weighted by position is the best, and then the shadow mask is fixed to the frame.
JP7768885A 1985-04-10 1985-04-10 Assembling method for shadow-mask Pending JPS61237340A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7768885A JPS61237340A (en) 1985-04-10 1985-04-10 Assembling method for shadow-mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7768885A JPS61237340A (en) 1985-04-10 1985-04-10 Assembling method for shadow-mask

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61237340A true JPS61237340A (en) 1986-10-22

Family

ID=13640830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7768885A Pending JPS61237340A (en) 1985-04-10 1985-04-10 Assembling method for shadow-mask

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61237340A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4973280A (en) * 1988-07-22 1990-11-27 Zenith Electronics Corporation Method and apparatus for making flat tension mask color cathode ray tubes
US5059147A (en) * 1988-07-22 1991-10-22 Zenith Electronics Corporation Method and apparatus for making flat tension mask color cathode ray tubes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4973280A (en) * 1988-07-22 1990-11-27 Zenith Electronics Corporation Method and apparatus for making flat tension mask color cathode ray tubes
US5059147A (en) * 1988-07-22 1991-10-22 Zenith Electronics Corporation Method and apparatus for making flat tension mask color cathode ray tubes

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930000958Y1 (en) Electron gun pole
US2659026A (en) Cathode-ray tube of the masked target variety
US4339688A (en) Cathode-ray tube having a magnetic quadrupole shadow mask
JPS61237340A (en) Assembling method for shadow-mask
JPH07249383A (en) Electron gun and its assembly method
US5767616A (en) Electron gun system for a color cathode-ray tube
KR100265779B1 (en) Electron gun for crt
JPH07302550A (en) Color cathode-ray tube
KR100265778B1 (en) Electron gun for crt
JPS5935144B2 (en) Color cathode ray tube equipment
US20030001483A1 (en) Mask-frame assembly for cathode ray tube
GB922515A (en) Improvements in or relating to colour television
JP2574331Y2 (en) In-line type color CRT
KR100351864B1 (en) Shadow mask for color CRT
JPH0441455B2 (en)
KR100715110B1 (en) A shadowmask of crt
KR100395808B1 (en) Shadow mask for cathode ray tube
JPH0515713Y2 (en)
KR950003270Y1 (en) Frame spring for shadow mask
KR100189627B1 (en) Cathode-ray tube
JPH11329282A (en) Color cathode-ray tube
JPH09320494A (en) Color picture tube
KR930004102Y1 (en) Electron gun electrode
JPH07115656A (en) Cathode-ray tube
JPH03236140A (en) Fluorescent screen structure for color cathode-ray tube