JPS61217994A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPS61217994A
JPS61217994A JP60060305A JP6030585A JPS61217994A JP S61217994 A JPS61217994 A JP S61217994A JP 60060305 A JP60060305 A JP 60060305A JP 6030585 A JP6030585 A JP 6030585A JP S61217994 A JPS61217994 A JP S61217994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
memory cell
main bit
divided
bit lines
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60060305A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junzo Yamada
順三 山田
Tsuneo Mano
真野 恒夫
Tsuneo Matsumura
常夫 松村
Junichi Inoue
順一 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP60060305A priority Critical patent/JPS61217994A/en
Publication of JPS61217994A publication Critical patent/JPS61217994A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase a bit line signal voltage and to make possible fast reading by disposing a sense circuit at both sides of a cellarray at two times pitch as large as a pitch in the direction of the word line of a memory cell, multi- dividing the bit line and transmitting them to the sense circuit at both the sides by using a main bit line which is not directly connected to the memory cell. CONSTITUTION:When a certain word line of a left side in a sub-block 1-2 is selected, a memory cell information activated, by the word line is read on bit lines 2-1, 2-3. On bit lines 2-2, 2-4, a dummy cell information activated by a dummy word line 7 is read at the same time of the memory cell information. The memory cell information and the dummy cell information (reference signal) on the bit lines 2-1, 2-2 in the sub-block 1-2 are inputted to a sense circuit 9-1. The memory cell information and the dummy cell information (reference memory cell information and the dummy cell information (reference signal) on the bit lines 2-3, 2-4 in the sub-block 1-2 are inputted to a sense circuit 9-2. By both the sense circuits, the signals are amplified and two memory cell informations are externally read.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 本発明は、対称形ピッ)M形式のメモリセルアレイでの
センス回路ピッチを緩和するため、対称形ビット線形式
のメモリセルアレイをビット線方向C二番分割して複数
個のチップロックを形成し、ビット線とは別層で形成さ
れるメインビット線をビット線対応でビット線と並行(
二装置し、各チップロック内のビット線方向の中央部で
ビット線およびメインビット線を分割し、分割部にワー
ド線方向に隣接する2組のビット線信号および参照信号
をそれぞれ分割部の左右の2本のメインビット線に接続
させるスイッチ部を設け、メモリセルアレイの両側C2
2本のメインビット線が接続するセンス回路を配置した
半導体記憶装置で、センス回路なセルアレイの両側C二
、メモリセルのワード線方向のピッtの2倍のピッtで
配置できるので5〜10μがの極小メモリセルを対象と
したメモリセルアレイ構成を提供でき、さら(二ビット
線を多分割し、それぞれを、メモリセルとは直接接続さ
れないメインビット線を用いて両側のセンス回路1:伝
エテイるので、センス回路(二人力されるビット線信号
電圧を大きくとることができ、高速な読出し動作を可能
とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary of the Invention] The present invention provides a symmetrical bit line type memory cell array with a symmetrical bit line type memory cell array arranged in the C second direction in the bit line direction. Divide to form multiple chip locks, and connect the main bit line, which is formed in a separate layer from the bit line, in parallel with the bit line (
The bit line and main bit line are divided at the center in the bit line direction in each chip lock, and the two sets of bit line signals and reference signals adjacent to each other in the word line direction are sent to the left and right sides of the divided part, respectively. A switch section is provided to connect to the two main bit lines of C2 on both sides of the memory cell array.
This is a semiconductor memory device in which a sense circuit connected to two main bit lines is arranged, and the sense circuit can be arranged on both sides of the cell array with a pitch twice as large as the pitch in the word line direction of the memory cell, so it is 5 to 10μ. It is possible to provide a memory cell array configuration for extremely small memory cells, and furthermore, (the two bit lines are divided into multiple parts, and each is connected to the sense circuit 1 on both sides using a main bit line that is not directly connected to the memory cell. Therefore, the bit line signal voltage applied to the sense circuit can be increased, enabling high-speed read operation.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、高密度大容量ダイナミック形ランダムアクセ
スメモリ(DRAM)のメモリセルアレイ構成に関し、
とくに対称形ビットi形式、即ち1交点式のメモリセル
アレイ構成C二おいてセンス回路ピッチを大きくとるこ
とのできる構成をもつ半導体記憶装置C二関するもので
ある。
The present invention relates to a memory cell array configuration of a high-density, large-capacity, dynamic random access memory (DRAM).
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device C2 having a symmetrical bit i format, that is, a one-cross point type memory cell array configuration C2, in which the sense circuit pitch can be increased.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

大容量化の進むダイナミック形ランダムアクセスメモリ
(以下DRAMと記す。)では、メモリセル面積の縮小
が着実L:進められており、現在研究開発された1Mb
DRAMのメモリセル面積は約20μ−と小さい。第4
因はこのメモリセルのレイアワトの一例であり、2個の
メモリセルが描かれている。
In dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM), which has an increasingly large capacity, the memory cell area is steadily decreasing, and the currently researched and developed 1Mb
The memory cell area of DRAM is as small as about 20μ. Fourth
This is an example of a layout of memory cells, and two memory cells are depicted.

2−5.2−6はビット線対(BLとEL )、6はワ
ード線、16は拡散層領域、14はキャパシタ用電極(
セルプレート)、15は高密度化のため導入された溝で
あり、この溝15の側壁の薄い絶縁膜で形成されるMO
Sキャパシタ1: @荷を蓄積するか否かで情報の記憶
を司る。このメモリセルレイアワトは、現在よく用いら
れている折返し形ビット層形式(2交点式)のためのも
のである。この形式では、1個のメモリセル領域の中に
、スイッチトランジスタを形成する1本のワード線と通
過ワード線、計2本のワード線が必要となる。この2本
の配線領域は、更C二高密度化されたメモリセルを想定
した場合、メモリセル寸法の縮小を妨げる要因となる。
2-5.2-6 is a bit line pair (BL and EL), 6 is a word line, 16 is a diffusion layer region, and 14 is a capacitor electrode (
(cell plate), 15 is a groove introduced for high density, and the MO formed with a thin insulating film on the side wall of this groove 15
S capacitor 1: Controls the storage of information depending on whether it stores @load or not. This memory cell layout is for a folded bit layer format (two-intersection type) that is commonly used at present. In this format, a total of two word lines, one word line forming a switch transistor and a passing word line, are required in one memory cell area. These two wiring regions become a factor that hinders reduction in memory cell size when a memory cell with a higher density is assumed.

言い換えると、極小メモリセルにおいては、メモリセル
と信号をやりとりする1本のピッ)[と、メモリセルの
選択を行う1本のワード線のみで構成できるメモリセル
アレイ構成、即ち対称形(1交点式とも呼ぶ)ピッ)M
形式が望まれる。この対称形ビット線形式は従来から数
多く使用されている構成である。
In other words, in an extremely small memory cell, a memory cell array configuration that can be configured with only one pin for exchanging signals with the memory cell and one word line for selecting the memory cell, that is, a symmetrical (one-intersection type) Also called) Beep) M
Format is desired. This symmetrical bit line format is a configuration that has been widely used in the past.

@5図は、この構成の従来例であり、9で示すセンス回
路の両側(二、2−1.2−2で示すビットM対(BL
、Bl、)を配置し、6で示すワード線を選択すること
により、4で示すメモリセルから2−1なるビットa上
C二続出された微小信号を1.2−1なるビット線と反
対側の7で示すダミーワード線C二より5で示すダミー
セルから2−2なるピット線上C二同時(;続出された
参照信号?もとに、9のセンス回路で増幅するものであ
る。
Figure @5 shows a conventional example of this configuration, in which both sides of the sense circuit (2, 2-1.
, Bl, ) and select the word line indicated by 6, the minute signal which is successively outputted from the memory cell indicated by 4 on bit a of 2-1 is opposite to the bit line indicated by 1.2-1. From the dummy word line C2 indicated by 7 on the side, from the dummy cell indicated by 5 to the pit line C2 simultaneously indicated by 2-2 (; based on the successive reference signals, the sense circuit 9 amplifies them.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の対称形ビット線形式においては、センス回路のピ
ッy−をビット線ピッチ、即ちメモリセルの縦方向のピ
ッチと等しくする必要がある。センス回路は、少なくと
も1個のフリップフロップ回路を必要とするので、更C
二高密度化した1例えば5〜10μがの極小メモリセル
な用いる場合C二は、センス回路をそのピッチ内(二抑
えることは不可能C二近いと言える。
In conventional symmetrical bit line formats, the pitch of the sense circuitry must be equal to the bit line pitch, ie, the vertical pitch of the memory cells. Since the sense circuit requires at least one flip-flop circuit, additional C
When using extremely small memory cells, such as 5 to 10 microns, with high density, it is impossible to keep the sense circuit within its pitch (2), which is close to C2.

したがって、4Mbあるいは16Mb級の高密度・大容
量DRAIyfのメモリセルアレイを構成しようとした
場合、メモリセル自体の面積の縮小が図れても、配線ピ
ップあるいはセンス回路ピッチ等C二より制限を受け、
十分な高密度化が図れないといつ問題があった。
Therefore, when attempting to configure a 4Mb or 16Mb class high-density, large-capacity DRAIyf memory cell array, even if the area of the memory cell itself can be reduced, it is limited by C2 such as wiring pips or sense circuit pitch.
There was always a problem if sufficient density could not be achieved.

〔問題点を解決するだめの手段〕[Failure to solve the problem]

本発明は従来の問題点を解決するため、対称形ビット線
形式のメモリセルアレイをビット線方向に多分割して複
数個のチップロックを形成し、ビット線とは別層で形成
したメインビット線をビット線対応でビット線と並行シ
ュ配置し、チップロック内のビット線方向の中央部でビ
ット線およびメインビット線を分割し、分割部Cニワー
ド線方向C二隣aTる2gのビット線信号および参照信
号をそれぞれ分割部の左右の2本のメインビット線(二
接続させるスイッチ部を設け、かつメモリセルアレイの
両端C22本のメインビット線が接続Tるセンス回路を
配置した構成を特徴としている。
In order to solve the conventional problems, the present invention divides a symmetrical bit line type memory cell array into multiple parts in the bit line direction to form a plurality of chip locks, and the main bit line is formed in a separate layer from the bit line. The bit line and main bit line are arranged parallel to the bit line in correspondence with the bit line, and the bit line and main bit line are divided at the center in the bit line direction within the chip lock. The memory cell array is characterized by a switch section that connects the reference signal and the reference signal to the two main bit lines on the left and right sides of the dividing section, respectively, and a sense circuit that connects the two main bit lines at both ends of the memory cell array. .

〔作 用〕[For production]

本発明は1、センス回路をセルアレイの両側に、メモリ
セルのワード線方向のピッチの2倍のピッtで配置でき
るので、5〜10μ77L2の極小メモリセルを対象と
したメモリセルアレイ構成を提供でき、さら1ニピツト
線を多分割し、それぞれを、メモリセルとは直接接続さ
れないメインビット線を用いて両側のセンス回路::伝
えているので、センス回路C二人力されるビット線信号
電圧を大きくとることができ、高速な続出し動作が可能
となる。以下図面により説明する。
The present invention has the following features: 1. Since the sense circuits can be arranged on both sides of the cell array at a pitch that is twice the pitch of the memory cells in the word line direction, it is possible to provide a memory cell array configuration that targets extremely small memory cells of 5 to 10μ77L2. Furthermore, one bit line is divided into multiple parts, and each of them is transmitted to the sense circuits on both sides using a main bit line that is not directly connected to the memory cell, so the bit line signal voltage applied to the two sense circuits is increased. This enables high-speed successive output operations. This will be explained below with reference to the drawings.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の実施例であり、メモリセルアレイを4
分割した場合の図である。1−1.1−2゜1−5.1
−4はチップロック、2−1.2−2.2−5゜2−4
はビット線、3−1 、5−2 、5−5 、5−4は
メインビット線、4はメモリセル、5はダミーセル、6
はワード線、7はダミーワード線、8はスイッチ部、9
−1.9−2はセンス回路である。各サブブロック1−
1〜1−4円のメモリセルアレイは、対称形ビット線形
式(1交点式)での構成であり、各ワード線と各ビット
線の交点Cニメモリセルが配列されている。また、第2
図は第1図のスイッチ部8の一例であり、MOS )ラ
ンジスタを用いた場合の例である。Q1〜Q6はMOS
 )ランンスタであり、アドレス信号(;より制御され
る10および11で示す制御線により上記Q、 −Q、
のトランジスタの0N10FFを制御する。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, in which a memory cell array is
It is a diagram when divided. 1-1.1-2゜1-5.1
-4 is chip lock, 2-1.2-2.2-5゜2-4
are bit lines, 3-1, 5-2, 5-5, 5-4 are main bit lines, 4 is a memory cell, 5 is a dummy cell, 6
is a word line, 7 is a dummy word line, 8 is a switch section, 9
-1.9-2 is a sense circuit. Each subblock 1-
The memory cell array of 1 to 1-4 circles has a configuration in a symmetrical bit line format (one intersection type), and two memory cells are arranged at the intersections of each word line and each bit line. Also, the second
The figure shows an example of the switch section 8 in FIG. 1, and is an example in which a MOS (MOS) transistor is used. Q1 to Q6 are MOS
) is a run star, and the above Q, -Q,
controls the 0N10FF of the transistor.

次(二この構成での回路動作を説明する。今、第1図+
7)1−2.’Zるチップロック内の左側の成るワード
線が選択された場合を考えると、そのワード線により活
性化されたメモリセル情報が、2−1゜2−5で示すビ
ット線上に読出される。一方、2−2゜2−4で示すビ
ット線上C二は、7で示すダミーワード線により活性化
されたダミーセル情報が、メモリセル情報と同時(二続
出される。ところで、この時点での8で示すスイッチ部
の状態は、次のようC二設定されている。つまり、選択
ワード線が存在する1−2なるサブブロック内のスイッ
チ部では、第2図中の10なる制御線が高レベル状態、
11なる制御線が低レベル状態であり、その結果Q1と
Q2のトランジスタはOFF状態、Q、 、 Q、 、
 Q5 、 Q、のトランジスタはON状態となり、2
−1なるビット線は6−1なるメインビット線と、2−
2なるビット線は3−3かふメインビット線、I−’;
)−3かふビット線は5−2なるメインビット線と、2
−4なるビット線は!1−4なるメインビット線とそれ
ぞれ接続される。一方、1−1.1〜5.1−4なる非
選択サブブロック内のスイッチ部では、第2図中の10
なる制御線が低レベル状態、11なる制御線が高レベル
状態であり、その結果Q1とQ、のトランジスタはON
状態、Q3.Q4.Q!、Q6のトランジスタはOFF
状態となり、5−1なるメインビット線は3−2なるメ
インビット線と、3−3なるメインビット線は5−4な
るメインビット線とそれぞれ接続される。したがって、
1−2なるサブブロック内の2−1および2−2のビッ
ト線上のメモリセル情報およびダミーセル情報(参照信
号うは9−1なるセンス回路C二人力され、同ナプブロ
ック内の2−5および2−4のビット線上のメモリセル
情報およびダミーセル情報(参照信号)は9−2なるセ
ンス回路に入力され、両方のセンス回路(ユより信号が
増幅され、二つのメモリセル情報が外部【二続出される
Next (2) We will explain the circuit operation in this configuration. Now, Figure 1 +
7) 1-2. When the word line on the left side of the chip lock is selected, the memory cell information activated by that word line is read onto the bit lines 2-1 to 2-5. On the other hand, on the bit line C2 indicated by 2-2°2-4, the dummy cell information activated by the dummy word line indicated by 7 is output simultaneously (two times in succession) with the memory cell information. The state of the switch section indicated by is set to C2 as follows.In other words, in the switch section in the sub-block 1-2 in which the selected word line exists, the control line 10 in FIG. 2 is at a high level. situation,
The control line 11 is in a low level state, so that the transistors Q1 and Q2 are in the OFF state, Q, , Q, ,
Transistors Q5 and Q are in the ON state, and 2
The bit line -1 is connected to the main bit line 6-1 and the main bit line 2-
The bit line 2 is the 3-3 main bit line, I-';
)-3 bit line is connected to main bit line 5-2 and 2
The bit line is -4! They are connected to main bit lines 1-4, respectively. On the other hand, in the switch section in the non-selected sub-blocks 1-1.1 to 5.1-4, 10 in FIG.
The control line 11 is at a low level, and the control line 11 is at a high level, so that transistors Q1 and Q are turned on.
Condition, Q3. Q4. Q! , Q6 transistor is OFF
The main bit line 5-1 is connected to the main bit line 3-2, and the main bit line 3-3 is connected to the main bit line 5-4. therefore,
Memory cell information and dummy cell information (reference signal) on the bit lines 2-1 and 2-2 in the sub-block 1-2 and the sense circuit C 9-1 are input to the memory cells 2-5 and 2-2 in the same nap block. The memory cell information and dummy cell information (reference signal) on the bit line 2-4 are input to the sense circuit 9-2, the signals are amplified by both sense circuits (Y), and the two memory cell information are sent to the outside [two consecutive outputs]. be done.

このようなメモリセルアレイ構成においては−9−1.
9−2で示すセンス回路のピッチは、1交点式のメモリ
セルアレイC;もかかわらずメモリセルのワード線方向
のピッチの2倍とすることができる。tた、この実施例
では、ダミーセルを設けた構成としているが、ビット線
プリチャージレベルとのかねあいでダミーセルを省略し
た構成も可能であり、本発明の一態様である。
In such a memory cell array configuration, -9-1.
The pitch of the sense circuits indicated by 9-2 can be twice the pitch of the memory cells in the word line direction in the one-cross point type memory cell array C; In addition, although this embodiment uses a configuration in which dummy cells are provided, a configuration in which the dummy cells are omitted is also possible in consideration of the bit line precharge level, and is one aspect of the present invention.

ところで、第2図C二示すスイッチの例では、メモリセ
ル情報と9−1あるいは9−2のセンス回路との接続関
係が一意的に決まってしまうので、9−1および9−2
のセンス回路の両側にコラムデコーダC二より選択され
るマルチプレフナを配置し出力情報を選択しなければな
らない。
By the way, in the example of the switch shown in FIG. 2C2, the connection relationship between the memory cell information and the sense circuit 9-1 or 9-2 is uniquely determined.
Multi-preflexors selected by column decoder C2 must be placed on both sides of the sense circuit to select output information.

メモリセル情報と、9−1あるいは9−2のセンス回路
との接続関係を制御できる本発明のスイッチ部8の例を
第6図C二示す。第2図のメインを用トランジスタQ1
〜Q6の他C二、Q−r 、 Q、 、 Q* 、 Q
、。の4個のMOS トランジスタおよび12で示すも
う1本の制御Imヲ付加している。選択ナプブロック内
のメインを部で、10および11なる制御線を低レベル
状態シニ、12なる制御線を高レベル状態(二設定した
場合と、11オよび12なる制御R″lk:低レベル状
態に、10なる制御線を高レベル状態C二設定した場合
で、9−1および9−2のセンス回路とメモリセル情報
の接続関係が反転するので、10と12の制御線をコン
トロールすることにより、所望のメモリセル情報を、例
えば9−2のセンス回路ぽ二   ゛接続させることが
できる。したがって、この場合、9−2のセンス回a側
を二のみマルチプレクfを配置すればよい。
FIG. 6C-2 shows an example of the switch unit 8 of the present invention that can control the connection relationship between memory cell information and the sense circuit 9-1 or 9-2. Main transistor Q1 in Figure 2
~Q6 and other C2, Q-r, Q, , Q*, Q
,. 4 MOS transistors and another control Im shown at 12 are added. In the main part of the selected nap block, the control lines 10 and 11 are in a low level state, and the control line 12 is in a high level state (if set to 2, the control lines 11 and 12 are in a low level state) When the control line 10 is set to the high level state C2, the connection relationship between the sense circuits 9-1 and 9-2 and the memory cell information is reversed, so by controlling the control lines 10 and 12, For example, desired memory cell information can be connected to two sense circuits 9-2. Therefore, in this case, only two multiplexes f need to be placed on the sense circuit a side of 9-2.

上述した第2図の実施例により本発明の要旨を例示する
と次のとおりである。
The gist of the present invention is illustrated as follows using the embodiment shown in FIG. 2 described above.

対称形ビット線形式のメモリセルアレイをビット線方向
C;多分割して構成する複数個のチップロック(1−1
〜1−4)と、各ナプブロック内でさらC二2分割した
ビット線(2−1,2−2)、(2−3゜2−4)と、
各ナプブロック内をピット線方向C二並行して、ビット
線(二対窓して配置し、かつ各チプブロツク内のビット
線分割部で分割したメインビット線(3−1,5−2)
 、 (5−5,5−4)と、各ナブブロック内のビッ
ト線分割部(二設け、かつ2分割されたビット線のそれ
ぞれ(2−1)、(2−2)t’、同一行の分割した一
方のメインビット線C二接続しく2−1)・(3−1)
、またワード線方向に一方のメインピット線C二隣接す
るメインビット線(二接続しく2−2)・(5−5)、
隣接するメインビット線と同一行の2分割されたビット
線のそれぞれ(2−3)、(2−4)t’、分割した他
方のメインビット線C二接続しく2−5)・C5−2)
、またワード線方向に他方のメインビット線に隣接する
メインビット線(;接続(2−4)・(5−4)するか
、または2分割したメインビット線相互(5−1)・(
5−2L(5−5)・<5−4)Yfli続するかをア
ドレス信号により制御するスイッチ部(8)と、メモリ
セルアレイの両端(二装置した、メインビット線と、ワ
ード線方向(ニメインビット線C;隣接するメインビッ
ト線とC二接続するセンス回路(9−1)、(9−2)
とを備えた半導体記憶装置である。
A plurality of chip locks (1-1
~1-4), and bit lines (2-1, 2-2) and (2-3°2-4) further divided into C22 in each nap block,
Inside each chip block, bit lines (main bit lines (3-1, 5-2) are arranged in two pairs in parallel with the pit line direction C and are divided at the bit line dividing part in each chip block).
, (5-5, 5-4), and the bit line dividing section in each nub block (two divided bit lines (2-1) and (2-2) t' in the same row, respectively) Connect one of the divided main bit lines C to the other 2-1) (3-1)
, and one main pit line C and two adjacent main bit lines (two connected 2-2) (5-5) in the word line direction,
Each of the two divided bit lines (2-3) and (2-4) t' in the same row as the adjacent main bit line, and the other divided main bit line C are connected to each other (2-5) and C5-2. )
, or connect the main bit lines (2-4) and (5-4) adjacent to the other main bit line in the word line direction, or connect the main bit lines divided into two (5-1) and (
5-2L (5-5)・<5-4) A switch unit (8) that controls whether or not Yfli is connected by an address signal, and a main bit line and a word line direction (two devices) at both ends of the memory cell array. Main bit line C; sense circuit (9-1), (9-2) connecting C to the adjacent main bit line
A semiconductor memory device comprising:

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたようC二、本発明は高密度メモリセルアレイ
(二適した対称形ビット線形式(1交点式)のセルアレ
イ構成を用いて、かつセンス回路をセルアレイの両側C
二、メモリセルのワード線方向のピッチの2倍のピッチ
で配置できるので、5〜10戸2の極小メモリセルを対
象とした有力なメモリセルアレイ構成を提供する。更1
:、ビット線を多分割し、それぞれを、メモリセルとは
直接接続されないメインビット線を用いて両側のセンス
回路に伝えているので、センス回′#4Li二人力され
るビット線信号電圧を大きくとることかでき、高速な続
出し動作を可能とする。
As described above, the present invention uses a high-density memory cell array (two suitable symmetrical bit line type (one intersection type) cell array configuration, and sense circuits are connected to both sides of the cell array.
2. Since the memory cells can be arranged at a pitch twice as large as the pitch in the word line direction, it provides an effective memory cell array configuration for extremely small memory cells of 5 to 10 cells. Further 1
: The bit line is divided into multiple parts, and each is transmitted to the sense circuits on both sides using a main bit line that is not directly connected to the memory cell, so the bit line signal voltage applied to the two sense circuits can be increased. This enables high-speed continuous output operation.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のメモリセルアレイ構成の実施例、!2
図は本発明の一要部であるスイッチ部の実施例、第3図
は本発明の一要部であるスイッチ部の池の実#i例、第
4図は従来の折返し形ビット線形式のメモリセルレイア
ワト図、第5図は従来の対称形ビット線形式アレイ構成
図である。 1−1.1−2.1−3.1−4・・・メモリセルアレ
イサブブロック、2−L2−2.2−3.2−4.2−
5.2−6゜、。ビット線、3−1 、3−2.3−3
 、5−4・・・メインビット線、4・・・メモリセル
、5・・・ダミーセル、6・・・ワード線、7・・・ダ
ミーワード線、8.8−・・スイッチ部、9.9−1.
9−2・・・センス回路、10,11゜12・・・制a
線、13・・・拡散層領域、14・・・キャパシタ用電
極(セルプレート)、15・・・溝特許出願人  日本
電信電話公社 代理人 弁理士 玉蟲久五部(外2名)従来の折返し形
ビット線形式のメモリセルレアウト図第  4  図 従来の対称形ビ、・lト線形式のアレイ構成図第  5
  図
FIG. 1 shows an embodiment of the memory cell array configuration of the present invention. 2
The figure shows an example of a switch section which is a main part of the present invention, FIG. 3 shows an example of a switch part which is a main part of the present invention, and FIG. FIG. 5 is a diagram showing the configuration of a conventional symmetrical bit line format array. 1-1.1-2.1-3.1-4...Memory cell array sub-block, 2-L2-2.2-3.2-4.2-
5.2-6°,. Bit line, 3-1, 3-2.3-3
, 5-4... Main bit line, 4... Memory cell, 5... Dummy cell, 6... Word line, 7... Dummy word line, 8.8-... Switch section, 9. 9-1.
9-2...Sense circuit, 10,11°12...Control a
Line, 13... Diffusion layer region, 14... Capacitor electrode (cell plate), 15... Groove Patent applicant Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation agent Patent attorney Gobe Tamamushi (two others) Conventional folding Figure 4: Memory cell layout diagram for conventional symmetric bit line format Figure 5: Array configuration diagram for conventional symmetrical bit line format
figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 メモリセルと信号をやりとりする1本のビット線と、前
記メモリセルの選択を行う1本のワード線とにより構成
する対称形ビット線形式(1交点式)によるメモリセル
アレイ構成の半導体記憶装置において、 前記メモリセルアレイを前記ビット線方向に多分割して
構成する複数個のサブブロックと、前記各サブブロック
内でさらに2分割した前記ビット線と、 前記各サブブロック内を前記ビット線の方向に並行して
前記ビットに対応して配置し、かつ前記各サブブロック
内の前記ビット線分割部で分割したメインビット線と、 前記各サブブロック内のビット線分割部に設け、かつ前
記2分割されたビット線のそれぞれを、同一行の前記分
割した一方のメインビット線および前記ワード線方向に
前記一方のメインビット線に隣接するメインビット線の
それぞれに接続し、前記隣接するメインビット線と同一
行の前記2分割されたビット線のそれぞれを、前記分割
した他方のメインビット線および前記ワード線方向に前
記他方のメインビット線に隣接するメインビット線のそ
れぞれに接続するか、または 前記2分割したメインビット線相互を接続するかをアド
レス信号により制御するスイッチ部と、前記メモリセル
アレイの両端に配置し、かつ前記メインビット線と、前
記ワード線方向に前記メインビット線に隣接するメイン
ビット線とに接続するセンス回路と を備えてなる半導体記憶装置。
[Claims] A memory cell array configuration in a symmetrical bit line format (one intersection type) consisting of one bit line that exchanges signals with a memory cell and one word line that selects the memory cell. In the semiconductor memory device, the memory cell array is divided into a plurality of sub-blocks in the bit line direction, the bit lines are further divided into two in each of the sub-blocks, and the bit lines in each of the sub-blocks are divided into two. a main bit line arranged corresponding to the bit in parallel with the bit line direction and divided by the bit line dividing portion in each of the sub-blocks; and a main bit line provided at the bit line dividing portion in each of the sub-blocks; and each of the divided bit lines is connected to one of the divided main bit lines in the same row and to each of the main bit lines adjacent to the one main bit line in the word line direction, and Each of the two divided bit lines in the same row as the main bit line is connected to the other divided main bit line and each of the main bit lines adjacent to the other main bit line in the word line direction. , or a switch unit that controls whether or not the two divided main bit lines are connected to each other by an address signal, and a switch unit that is arranged at both ends of the memory cell array and that connects the main bit line and the main bit line in the word line direction. A semiconductor memory device comprising a sense circuit connected to an adjacent main bit line.
JP60060305A 1985-03-25 1985-03-25 Semiconductor memory device Pending JPS61217994A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60060305A JPS61217994A (en) 1985-03-25 1985-03-25 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60060305A JPS61217994A (en) 1985-03-25 1985-03-25 Semiconductor memory device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61217994A true JPS61217994A (en) 1986-09-27

Family

ID=13138313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60060305A Pending JPS61217994A (en) 1985-03-25 1985-03-25 Semiconductor memory device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61217994A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63127566A (en) * 1986-11-17 1988-05-31 Nec Corp Mis type semiconductor memory device
JPS63204590A (en) * 1987-02-19 1988-08-24 Nec Corp Semiconductor integrated memory
JPS63205897A (en) * 1987-02-20 1988-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor storage device
JPS63229693A (en) * 1987-03-18 1988-09-26 Nec Corp Semiconductor circuit integration memory
JPH05226612A (en) * 1991-12-02 1993-09-03 Nec Corp Semiconductor memory
JPH09171684A (en) * 1995-10-06 1997-06-30 Hyundai Electron Ind Co Ltd Semiconductor memory device
US8976563B2 (en) 2010-12-20 2015-03-10 Panasonic Corporation Semiconductor memory device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61110400A (en) * 1984-10-31 1986-05-28 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド Access system for return bit linear type dram array
JPS61229299A (en) * 1984-07-26 1986-10-13 テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド Semiconductor memory device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61229299A (en) * 1984-07-26 1986-10-13 テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド Semiconductor memory device
JPS61110400A (en) * 1984-10-31 1986-05-28 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド Access system for return bit linear type dram array

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63127566A (en) * 1986-11-17 1988-05-31 Nec Corp Mis type semiconductor memory device
JPS63204590A (en) * 1987-02-19 1988-08-24 Nec Corp Semiconductor integrated memory
JPS63205897A (en) * 1987-02-20 1988-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor storage device
JPS63229693A (en) * 1987-03-18 1988-09-26 Nec Corp Semiconductor circuit integration memory
JPH05226612A (en) * 1991-12-02 1993-09-03 Nec Corp Semiconductor memory
JPH09171684A (en) * 1995-10-06 1997-06-30 Hyundai Electron Ind Co Ltd Semiconductor memory device
US8976563B2 (en) 2010-12-20 2015-03-10 Panasonic Corporation Semiconductor memory device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6934214B2 (en) Semiconductor memory device having a hierarchical I/O structure
US4748591A (en) Semiconductor memory
US5499215A (en) Semiconductor memory
US5097440A (en) Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement
JP2953708B2 (en) Dynamic semiconductor memory device
US4581720A (en) Semiconductor memory device
JPS6216295A (en) Dynamic random access memory
US4590588A (en) Monolithic semiconductor memory
JPH1031887A (en) Semiconductor memory device
JP2001102464A (en) Static random access memory comprising global bit line
JPS61217994A (en) Semiconductor memory device
US8355270B2 (en) Semiconductor device having open bit line architecture
KR19980080620A (en) Dynamic RAM
KR960016426B1 (en) Semiconductor integrated circuit device
US5184321A (en) Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement
JPS63247992A (en) Integrated memory circuit
JP2000058785A (en) Dynamic type ram
JPH0245273B2 (en)
JPH02154462A (en) Semiconductor storage device
JP3715663B2 (en) Multi-port memory column decoder layout structure
JP2003007852A (en) Semiconductor memory device
JP2908095B2 (en) Semiconductor storage device
EP0496406B1 (en) Semiconductor memory apparatus
KR20020071181A (en) Semiconductor memory device having hierarchical bit line structure
JPH07296589A (en) Semiconductor storage