JPS61211899A - Dynamic type ram - Google Patents

Dynamic type ram

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JPS61211899A
JPS61211899A JP60052228A JP5222885A JPS61211899A JP S61211899 A JPS61211899 A JP S61211899A JP 60052228 A JP60052228 A JP 60052228A JP 5222885 A JP5222885 A JP 5222885A JP S61211899 A JPS61211899 A JP S61211899A
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JP
Japan
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data line
data lines
memory
circuit
signal
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JP60052228A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazumasa Yanagisawa
一正 柳沢
Kunio Ono
小野 邦夫
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • G11C11/4099Dummy cell treatment; Reference voltage generators
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Abstract

PURPOSE:To duplicate the floating capacity value of a connected data lines and enlarge a memory capacity value of a connected data lines and enlarge a memory capacity and stabilize an operation by shortcircuiting between the data lines to which a dummy cell to be selected out is connected of the data lines corresponding to a pair of memory arrays. CONSTITUTION:A dynamic type RAM has four memory arrays MIL, MIR, M2L and M2R. The memory arrays MIL to M2R are constituted by a folding back bit line system. Respective data lines of the pair of memory arrays have substantially equal data line capacity. Between the pair of memory arrays MIL and MIR, a sense amplifier SA1 and SA 2 are controlled by timing signal generated from a timing generating circuit.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野) この発明は、ダイリ・ミンク型RA Mに関するもの′
乙例えば、フルーリ′イズのタスーセルによって読み出
し用の基t$雷電圧形成するダイナミック型RAMに有
効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a Dairi-mink type RAM.
For example, the present invention relates to a technique effective for a dynamic RAM in which a base voltage for reading is generated by a Fleurize charge cell.

〔背景技術〕[Background technology]

ダイナミック型RA MにおけるIヒツトのメモリセル
は、例えば情報記憶キャパシタとアlζレス選択用絶縁
ケート型電毘効果I・ランジスタ(以下M OS ト’
 1式′1゛と称する)とからなり、論理″1″。
I-hit memory cells in a dynamic RAM include, for example, an information storage capacitor and an insulated gate-type battery-effect I transistor (hereinafter referred to as MOS transistor) for selecting an array.
1 (referred to as ``1''), which has logic ``1''.

”0゛の情報はそのキャパシタに電荷が肖るか無いかの
形で記憶される。情報の読み出しは、アドレス選択用M
 OS ト” l吃′1゛をオン状態にさゼるごとによ
って情報保持用キャパシタをピッI・線もしくはデータ
線に結合さゼ、かかるデータ線の電位かキャパシタに蓄
積さt+、 1.:電荷量に応し′ζどのよ・うな変化
が起きるかをセンスすることによっ”6行われる。
"0" information is stored in the form of whether or not there is a charge on the capacitor.Reading the information is done using the M for address selection.
Each time the OS is turned on, the information storage capacitor is connected to the data line or the data line, and the potential of the data line is accumulated in the capacitor t+, 1.: Charge. This is done by sensing what kind of change occurs in ′ζ depending on the amount.

近年のように高集積変人容量が必要とされているR A
 Mにおいては、各メモリセルが小さいサイスにされ、
また各データ線に非常に多くのメモリセルが結合される
ようになる。これに応して上記ギヤバッタの容量Csと
、データ線のf$遊容量(データ線容量)Coとの関係
、Jなわち、比Cs/COが非常に小さな値になり、メ
モリセルからデータ線に与えられるデータ信号、言い換
えると」二記4−ヤパンタCsに蓄積されいた電荷Uに
応してアーク線にうえられる電位変化は、非常に微少な
値となる。
In recent years, highly integrated eccentric capacity has been required for RA.
In M, each memory cell is sized small;
Also, a large number of memory cells are coupled to each data line. Correspondingly, the relationship between the capacitance Cs of the gear batter and the f$ free capacitance (data line capacitance) Co of the data line, J, that is, the ratio Cs/CO, becomes a very small value, and the data line from the memory cell to In other words, the potential change applied to the arc line in response to the charge U stored in the data signal, ``2ki 4-yapanta Cs,'' has a very small value.

ごのような微少なデータ信号の検出を可能とするために
、例えば、米国特許第4.061.954号明細書(R
ef 1) 、雑誌アイイーイーイー ジャー′ソ ナル オフ ソリノF−ステート サーキッ−1−(I
  E  E  E   JORNAし OF  5O
LI+)−5′rATE  CIRCUITS)   
VoI 5C−77、Na51972年10月、第33
6頁〜340頁(Ref2)、アイエスエスンーシー8
4、タイジェストオフ テクニカル ペーパースcts
scc84、DIGIST OF TEC)INICA
L PAPliR3)誌第276頁〜277頁(R,e
f 3 )に示されたような差動センス技術もしくは平
衡センス技術が利用される。
In order to enable the detection of minute data signals such as
ef 1), Magazine IEEE JA'SONAL OFF SORINO F-STATE CIRCUIT-1-(I
E E E JORNAshi OF 5O
LI+)-5'rATE CIRCUITS)
VoI 5C-77, Na5 October 1972, No. 33
Pages 6-340 (Ref2), ISSC 8
4. Tigest off technical papers cts
scc84, DIGIST OF TEC) INICA
L PAPliR3) magazine, pages 276-277 (R,e
A differential sensing technique or a balanced sensing technique as shown in f 3 ) is used.

これらの技術に従うと、互いに対応される2つのデータ
線もしくはヒント線もしくはディジット線が対とされ、
その対のデータ線(以下、相補データ線とも言う)に対
称型ラッチ回路から成るような実質的に差動増幅動作も
しくは平衡増幅動作を行うセンスアンプが結合される。
According to these techniques, two data lines or hint lines or digit lines that correspond to each other are paired;
A sense amplifier that substantially performs a differential amplification operation or a balanced amplification operation is coupled to the paired data lines (hereinafter also referred to as complementary data lines).

一対のデータ線の一方にはメモリセルからのデータ信号
が与えられ、他方にはかかるデータ信号のハイレベルと
ロウレベルとの中間のレベルを持つ基準電位が与えられ
る。基準電位はメモリセルのキャパシタに対して半分の
キャパシタを持つようにされたダミーセル(以下、ハー
フサイズダミーセルと称する)を利用する方法(Ref
l)、メモリセルのキャパシタと実質的に等しいキャパ
シタを持ちそのキャパシタにメモリセルの電荷の半分の
電荷が予め与えられるダミーセル(以下、フルサイズダ
ミーセルと称する)を利用する方法(Ref2)、各デ
ータ線間の予めショートによるプリチャージ方法(以下
、ハーフプリチャージ方式もしくはダミーセルレス方式
と称する)(Ref3) 、等によって形成される。こ
のような基準電位に基づいて一対のデータ線間に与えら
れた微少な相対レベル差は、センスアンプが動作される
ことによって、増幅される。
A data signal from a memory cell is applied to one of the pair of data lines, and a reference potential having a level intermediate between the high level and the low level of the data signal is applied to the other. The reference potential is determined by a method (Ref
l) A method of using a dummy cell (hereinafter referred to as a full-size dummy cell) having a capacitor substantially equal to the capacitor of the memory cell and having the capacitor charged in advance with half the charge of the memory cell (Ref 2), each data It is formed by a precharge method (hereinafter referred to as a half precharge method or dummy cellless method) (Ref 3) using a short circuit between lines. A minute relative level difference given between a pair of data lines based on such a reference potential is amplified by operating a sense amplifier.

基準電位は、望ましいセンス動作を可能とするために、
望ましいレベルにされることが必要とされる。
The reference potential is
required to be brought to the desired level.

ここで、ハーフサイズダミーセルを使用する場合、セン
ス動作のマージンは、ダミーセルとメモリセルのキャパ
シタの相対精度によって大きく影響される。一般に、ダ
ミーセルは、それにおけるキャパシタとメモリセルのキ
ャパシタとの相対精度が高くなるようにするため、その
キャパシタの容量値がメモリセルのキャパシタのは一゛
半分にされることを除き、メモリセルと同し製造条件、
同じ設計定数で作られる。
Here, when using a half-size dummy cell, the margin of the sensing operation is greatly influenced by the relative accuracy of the dummy cell and the capacitor of the memory cell. In general, a dummy cell is different from the memory cell except that the capacitance value of the dummy cell is half that of the memory cell capacitor in order to increase the relative accuracy between the capacitor in the dummy cell and the capacitor in the memory cell. Same manufacturing conditions,
made with the same design constants.

しかし、例えばLM(メガ)ビットのような大記憶容量
を持つ妻与毒ダイナi−tり型RAMにあっては、情報
記憶用キャパシタのサイズの微細化がよりいっそう図ら
れるため、1/2サイズのダミーセルを作ることが非常
に因数となる。すなわち、素子パターンの加工精度の限
界及びばらつきによってメモリセルのキャパシタのは一
゛半分の容量値をもつキャパシタを形成することは困難
となる。
However, for example, in the case of dynamo-type RAM with a large storage capacity such as LM (mega) bit, the size of the information storage capacitor is further miniaturized, so 1/2 Creating dummy cells of size is very much a factor. That is, it is difficult to form a capacitor with a capacitance value that is half that of a memory cell capacitor due to limits and variations in the processing accuracy of device patterns.

従って、ハーフサイズダミーセルを使用する場合、望ま
しいレベルの基準電位を得ることが困難となる。
Therefore, when using half-size dummy cells, it is difficult to obtain a reference potential at a desired level.

これに対し、フルサイズダミーセルを使用する方式の場
合、及びハーフプリチャージ方式の場合、比較的良好な
レベルの基準を得ることができる。
On the other hand, in the case of the method using full-size dummy cells and in the case of the half precharge method, a comparatively good level of reference can be obtained.

ずわなち、フルサイズダミーセルを使用する場合、ダミ
ーセルとメモリセルのキャパシタを互いに同じサイズに
できるので、、加工精度及びばらつきにかかわらずにこ
れらキャパシタの相対精度を充分に高くすることができ
る。ダミーセルレス方式の場合、ダミーセルが無いので
キャパシタの相対精度は直接に問題とならない。
In other words, when full-size dummy cells are used, the capacitors of the dummy cell and memory cell can be made to have the same size, so that the relative precision of these capacitors can be made sufficiently high regardless of processing precision and variations. In the case of the dummy cell-less method, there is no dummy cell, so the relative accuracy of the capacitor does not directly matter.

しかしながら、本発明者等は、フルサイズダミーセル方
式のようなダミーセルの相対精度が問題とならない方式
のダイナミック型RAMにおいても、応々にして動作マ
ージンの低下が生ずることを見い出した。本願発明者等
は、またかがる動作マージンの低下が、α線によるデー
タ線電位の不所望な変化によってもたらされるものであ
ることを見い出した。
However, the present inventors have found that even in a dynamic RAM of a type in which the relative accuracy of dummy cells is not a problem, such as a full-size dummy cell type, the operating margin is reduced accordingly. The inventors of the present invention have discovered that the decrease in the operating margin is caused by an undesirable change in the data line potential due to the α rays.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明1つの目的は、大記憶容量化と動作の安定化を
図ったダイナミック型RAMを提供することにある。
One object of the present invention is to provide a dynamic RAM with a large storage capacity and stable operation.

この発明の他の目的は、α線による動作マージンの減少
が小さいダイナミック型RAMを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a dynamic RAM whose operating margin is less reduced by α rays.

この発明の他の目的は、シェアードセンス方式に適する
ダイナミック型RAMを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a dynamic RAM suitable for the shared sense method.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される実施例のうち代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、
メモリアレイの複数のデータ線のうちの基準電位が与え
られるデータ線の浮遊容量を、データ信号が与えられる
データ線のそれに対してはソ゛2倍にするように、デー
タ線間にスイッチM OS F E Tが設けられる。
A brief overview of typical embodiments disclosed in this application is as follows. That is,
A switch MOSFET is installed between the data lines so that the stray capacitance of the data line to which a reference potential is applied among the plurality of data lines of the memory array is twice that of the data line to which a data signal is applied. ET will be provided.

これによって、α線の影響を受けにくい基準電位を形成
することができる。
This makes it possible to form a reference potential that is less susceptible to alpha rays.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明の一実施例のダイナミック型RA
 Mのブロック図が示されている。同図の主要な各回路
ブロックは、実際の幾何学的な配置には一゛合わせζ描
かれ”ζおり、半導体築積回路技術によって、特に制限
されないが、1個の単結晶シリコンから成るような半導
体基板上に形成される。
FIG. 1 shows a dynamic RA according to an embodiment of the present invention.
A block diagram of M is shown. Each of the main circuit blocks in the figure is drawn in the same way in the actual geometric arrangement, and is made of a single piece of single-crystal silicon due to semiconductor integrated circuit technology, although this is not particularly limited. It is formed on a semiconductor substrate.

特に制限されないが、この実施例は、シェアードセンス
方式のダイナミック型RAMに向けられている。
Although not particularly limited, this embodiment is directed to a shared sense type dynamic RAM.

RAMを構成する種々の回路は、後の説明から明らかと
なるように、タイミング発生回路TGから発生される種
々のタイミング信号によってそれぞれの動作が制御され
る。しかしながら、第1図においては、図面が複雑にな
ることを防ぐためにタイミング発生回路TGと種々の回
路との間に設けられるべき信号線は省略されている。
As will become clear from the description below, the operations of the various circuits constituting the RAM are controlled by various timing signals generated from the timing generation circuit TG. However, in FIG. 1, signal lines that should be provided between the timing generation circuit TG and various circuits are omitted to prevent the drawing from becoming complicated.

この実施例のダイナミック型RAMは、特に制限されな
いが、4つのメモリアレイMIL、MlR,M2L及び
M2Rを持つ。メモリアレイMILないしM2Rのそれ
ぞれは、後の第2A図及び第2B図に基づく説明から明
らかとなるように、折り返しビット線(データ線)方式
をもって構成される。それ故に、各メモリアレイは、そ
れぞれ対とされるべき複数のデータ線すなわち複数の相
補データ線と、それぞれのデータ入出力端子がそれぞれ
に対応されたデータ線に結合される複数のダイナミック
型メモリセルと、それぞれダイナミック型メモリセルの
選択端子が結合される複数の和とを持つ。データ線は、
第1図において図示されていないけれども、同図の横方
向に延長される。
The dynamic RAM of this embodiment has four memory arrays MIL, MIR, M2L, and M2R, although this is not particularly limited. Each of memory arrays MIL to M2R is configured with a folded bit line (data line) system, as will become clear from the explanation based on FIGS. 2A and 2B later. Therefore, each memory array includes a plurality of data lines to be paired, that is, a plurality of complementary data lines, and a plurality of dynamic memory cells whose respective data input/output terminals are coupled to the corresponding data lines. , and a plurality of sums to which selection terminals of dynamic memory cells are respectively connected. The data line is
Although not shown in FIG. 1, it extends in the lateral direction of the figure.

ワード線は、同図の縦方向に延長される。The word line extends in the vertical direction of the figure.

メモリアレイMILとMIRの相互、及びM2LとM2
Rの相互は、それぞれ対とされている。
Memory arrays MIL and MIR each other, and M2L and M2
The R's are paired with each other.

この実施例に従うと、対のメモリアレイのそれぞれのデ
ータ線は、互いに実質的に等しいデータ線容量を持つよ
うにされる。データ線容量を互いに実質的に等しくさせ
るため、特に制限されないが、メモリアレイMILない
しMIRの相互は、互いに同じ構成、すなわち、互いに
等しい数のデータ線、メモリセル及びワード線を持つよ
うにされる。
According to this embodiment, the data lines of each pair of memory arrays are made to have data line capacitances that are substantially equal to each other. In order to make the data line capacitances substantially equal to each other, memory arrays MIL to MIR are configured to have the same configuration, that is, to have the same number of data lines, memory cells, and word lines, although this is not particularly limited. .

対のメモリアレイMILとMIRとの間には、これらの
メモリアレイによって選択的に利用されるセンスアンプ
SAIが設けられている。メモリアレイMILとセンス
アンプSAIとの間には、それらの相互を選択的に結合
させるためのスイッチ回路5WILが設けられ、同様に
、メモリアレイMIRとセンスアンプSAIとの間には
、それらの相互を選択的に結合させるためのスイッチ回
路5WIRが設けられている。
A sense amplifier SAI is provided between the pair of memory arrays MIL and MIR, which is selectively used by these memory arrays. A switch circuit 5WIL is provided between the memory array MIL and the sense amplifier SAI for selectively coupling them to each other. A switch circuit 5WIR for selectively coupling is provided.

対のメモリアレイM2LとM 2 Rとの間にも、同様
なセンスアンプS A 2及びスイッチ回路5W21、
及び5W2Rが設けられている。
A similar sense amplifier S A 2 and a switch circuit 5W21 are also provided between the paired memory arrays M2L and M2R.
and 5W2R are provided.

スイッチ回路5WILないしS W 2 Rは、それぞ
れの動作がタイミング発生回路TGから出力されるタイ
ミング信号によって制御される。
The operation of each of the switch circuits 5WIL to S W 2 R is controlled by a timing signal output from the timing generation circuit TG.

1つのセンスアンプ、例えばSAIに対応された2つの
スイッチ回路5WII、と5WIRは、基本的には、メ
モリのアクセスの開始において、その一方がオフ状態に
される。これによって、一対のメモリアレイMILとM
IRのうちの一方がセンスアンプSAIから切り離され
、他方がセンスアンプSAIと結合されたままとされる
。言い換えると、一方のメモリアレイにおける各対のデ
ータ線がセンスアンプSAIから切り離され、他方のメ
モリアレイにおける各対のデータ線がセンスアンプSA
Iに結合されたままとされる。しかしながら、この実施
例に従うと、後で第3図等を利用して詳細に説明するよ
うに、一方のメモリアレイにおける対のデータ線の一方
がセンスアンプSA1から切り離されるタイミングは、
他方のそれに対して異なるようにされる。
Basically, one of the two switch circuits 5WII and 5WIR corresponding to one sense amplifier, eg, SAI, is turned off at the start of memory access. As a result, a pair of memory arrays MIL and M
One of the IRs is disconnected from the sense amplifier SAI, and the other remains coupled to the sense amplifier SAI. In other words, each pair of data lines in one memory array is disconnected from sense amplifier SAI, and each pair of data lines in the other memory array is disconnected from sense amplifier SA1.
It remains connected to I. However, according to this embodiment, as will be explained in detail later with reference to FIG. 3, the timing at which one of the paired data lines in one memory array is disconnected from the sense amplifier SA1 is as follows.
made to be different from that of the other.

上記センスアンプSAI及びSA2は、タイミング発生
回路TGから出力されるタイミング信号によってそれぞ
れの動作が制御される。なお、第1図の回路ブロックと
してのセンスアンプSAIとSA2には、後で第2A図
及び第2B図によって詳細に説明するようなプリチャー
ジ回路、フルサイズダミーセル及びアクティブリストア
回路等が含まれていると理解されたい。
The operations of the sense amplifiers SAI and SA2 are controlled by timing signals output from the timing generation circuit TG. Note that the sense amplifiers SAI and SA2 as circuit blocks in FIG. 1 include a precharge circuit, a full-size dummy cell, an active restore circuit, etc., which will be explained in detail later in FIGS. 2A and 2B. I want to be understood as being there.

図示のRAMは、各メモリアレイにおける複数のメモリ
セルの゛うちの所望のメモリセル及び複数のダミーセル
のうちの所望のダミーセル選択するめのアドレス回路を
持つ。アドレス回路は、アドレスバッファADB、  
ロウアドレスデコーダR−DCRI L〜2R,カラム
アドレスデコーダC−DCR1〜2.カラムスイッチ回
路CWIL〜2R等から構成される。
The illustrated RAM has an address circuit for selecting a desired memory cell from among a plurality of memory cells in each memory array and a desired dummy cell from among a plurality of dummy cells. The address circuit includes an address buffer ADB,
Row address decoders R-DCRI L-2R, column address decoders C-DCR1-2. It is composed of column switch circuits CWIL to 2R, etc.

アドレス回路を構成する各回路は、それぞれの動作が、
タイミング発生回路TGから発生されるタイミング信号
によって制御される。
Each circuit that makes up the address circuit operates as follows.
It is controlled by a timing signal generated from a timing generation circuit TG.

アドレスバッファADBの入力端子が結合されたRAM
の外部端子には、アドレスマルチプレクス方式に従って
外部ロウアドレス信号及びカラムアドレス信号が時分割
的に供給される。
RAM to which the input terminal of address buffer ADB is connected
External row address signals and column address signals are supplied in a time-division manner to external terminals of , according to an address multiplex method.

アドレスバッファADBは、ロウアドレスストローブ信
号RASの発生に同期してアドレス信号取り込み制御の
ためのタイミング信号がタイミング発生回路TGから発
生されると、それに応答して外部ロウアドレス信号を取
り込む。その結果として、ロウアドレスデコーダR−D
CRI LないしR−DCR2Hに供給されるべきロウ
系の内部相補アドレス信号がアドレスバッファADBか
ら出力される。アドレスバッファADBは、またカラム
アドレスストローブ信号CASの発生に同期して同様な
タイミング信号が発生されると、それに応答して外部カ
ラムアドレス信号を取り込み、カラムアドレスデコーダ
C−DCR1に供給されるべきカラム系の内部相補アド
レス信号を出力する。
Address buffer ADB captures an external row address signal in response to a timing signal for address signal capture control being generated from timing generation circuit TG in synchronization with the generation of row address strobe signal RAS. As a result, row address decoder R-D
A row-related internal complementary address signal to be supplied to CRI L to R-DCR2H is output from address buffer ADB. When a similar timing signal is generated in synchronization with the generation of the column address strobe signal CAS, the address buffer ADB also takes in an external column address signal in response to the column address strobe signal CAS, and receives the column address signal for the column to be supplied to the column address decoder C-DCR1. Outputs the internal complementary address signal of the system.

ロウアドレスデコーダR−DCRI LないしR−DC
R2Rは、第1図においてメモリアレイMILないしM
2Rの下側に配置され、それぞれの出力端子が対応する
メモリアレイのワード線に結合されている。これらロウ
アドレスデコーダR−DCRI LないしR−DCR2
Rは、それぞれの動作が、タイミング発生回路TGから
発生されるワード線選択ター「ミング信号によって制御
され、そのタイミング信号に同期してワード線選択信号
及びダミーワード線選択信号を出力する。
Row address decoder R-DCRI L or R-DC
R2R is memory array MIL to M in FIG.
2R, each output terminal being coupled to the word line of the corresponding memory array. These row address decoders R-DCRI L to R-DCR2
Each operation of R is controlled by a word line selection timing signal generated from a timing generation circuit TG, and outputs a word line selection signal and a dummy word line selection signal in synchronization with the timing signal.

従って、各メモリアレイMIL、MIR,M2L及びM
2Rのワード線は、ロウアドレスデコーダR−DCRI
L、R−DCRIR,R−DCR2L及びR−DCR2
Rによって形成されたワード線選択信号がそれぞれ供給
されることによって選択される。この場合、ロウアドレ
スデコーダR−DCRILと1−DCRI Rとが適当
な構成にされることによって、対とされるメモリアレイ
MILlIl:MIRのうちのメモリアレイMILの1
本のワード線が選択される時にはメモリアレイMIRの
ワード線は全て非選択状態にされ、逆にメモリアレイM
IRの1本のワード線が選択される時にはメモリアレイ
MALのワード線は全て非選択状態にされる。同様にロ
ウアドレスデコーダR−DCR2LとR−D CR2R
が適当な構成にされるごとによって、他の対とされるメ
モリアレイM2LとM2Rのワード線も択一的に選択さ
れる。
Therefore, each memory array MIL, MIR, M2L and M
The 2R word line is a row address decoder R-DCRI.
L, R-DCRIR, R-DCR2L and R-DCR2
The word line selection signals formed by R are respectively supplied to select the word line selection signals. In this case, by appropriately configuring the row address decoders R-DCRIL and 1-DCRIR, one of the memory arrays MIL of the paired memory arrays MILlIl:MIR
When a word line of the memory array MIR is selected, all the word lines of the memory array MIR are made unselected, and conversely, the word lines of the memory array MIR are
When one word line of IR is selected, all word lines of memory array MAL are rendered unselected. Similarly, row address decoders R-DCR2L and R-D CR2R
The word lines of the other paired memory arrays M2L and M2R are also alternatively selected depending on the appropriate configuration.

カラムアドレスデコーダC−DCR1は、タイミング発
生回路TGから出力されるデータ線選択タイミング信号
もしくはカラム選択タイミング信号によってその動作が
制御され、そのタイミング信号に同期してデータ線選択
信号もしくはカラム選択信号を出力する。特に制限され
ないが、カラムアドレスデコーダC−DCR1は、図示
のようにメモリアレイの右側に配置されている。カラム
アドレスデコーダC−DCRIの図示しない出力線すな
わちデータ線選択線は、メモリアレイ上に延長されてカ
ラムスイッチ回路CWIL及びCWIRに結合されてい
る。カラムアドレスデコーダC−DCR1は、それ自体
本発明に直接関係が無いのでその詳細を図示しないが、
各データ線選択線にそれぞれ出力を与える複数の単位回
路から成る。
The operation of the column address decoder C-DCR1 is controlled by the data line selection timing signal or column selection timing signal output from the timing generation circuit TG, and outputs the data line selection signal or column selection signal in synchronization with the timing signal. do. Although not particularly limited, the column address decoder C-DCR1 is arranged on the right side of the memory array as shown. An output line (not shown) of column address decoder C-DCRI, that is, a data line selection line, is extended over the memory array and coupled to column switch circuits CWIL and CWIR. The details of the column address decoder C-DCR1 are not shown because they are not directly related to the present invention, but
It consists of a plurality of unit circuits that respectively provide outputs to each data line selection line.

カラムスイッチ回路CWIL及びCW I Rは、メモ
リアレイMIL及びMIRに対応されて設けられた共通
データ線とセンスアンプSAIの入出力端子との間、及
びメモリアレイM2L及びM2Rに対応されて設けられ
た共通データ線と、センスアンプSA2の入出力端子と
の間にそれぞれ設けられ、それぞれカラムアドレスデコ
ーダC−1)CRIによって形成されたデータ線選択信
号が共通に供給される。すなわち、上記カラムスイッチ
回路CWILとCWIRは、上記カラムアドレスデコー
ダC−DCRIによって形成された選択信号を受’rJ
て上記センスアンプSAIとSA2の入出力端子と図示
しないが縦方向に走る共通データ線とをそれぞれ結合さ
せる。
The column switch circuits CWIL and CW I R are provided between the common data line provided corresponding to the memory arrays MIL and MIR and the input/output terminal of the sense amplifier SAI, and also provided corresponding to the memory arrays M2L and M2R. A data line selection signal formed by a column address decoder C-1) CRI is provided between the common data line and the input/output terminal of the sense amplifier SA2, respectively, and is commonly supplied thereto. That is, the column switch circuits CWIL and CWIR receive the selection signal formed by the column address decoder C-DCRI.
The input/output terminals of the sense amplifiers SAI and SA2 are respectively coupled to a common data line (not shown) running in the vertical direction.

ここで、カラムアドレスデコーダC−DCR1を構成す
る単位回路は、それが半導体簗積回路技術に従って半導
体基板上に形成されたとき、比較的大きいピッチを持つ
ようになる。この実施例に従うと、カラムスイッチ回路
CWIL、、CWIRのそれぞれは、後で第2B図によ
って明らかとなるように、特に制限されないが、上記カ
ラムアドレスデコーダ回路C−DCR1を構成する単位
回路の実現可能なピンチを考慮し7ζ1つのデータ線選
択信号に応じて互いに隣接する2対の相補データ線を2
対の相補共通データ線にそれぞれ同時に結合させるよう
に構成される。これにより、カラムアドレスデコーダC
−DCR1の各単位回路は、そのピッチが合計4本のデ
ータ線からなるピッチと一致させられる。この構成の場
合、合計で4ビツトの信号、すなわち、メモリアレイM
IL又はMIRの2ビット信号とM2L又はM2Rの2
ビット信号が、カラムアドレスデコーダC−DCR1と
カラムスイッチ回路CWIL及びCWIRからなるカラ
ム選択回路によって同時に選択される。
Here, the unit circuits constituting the column address decoder C-DCR1 have a relatively large pitch when they are formed on a semiconductor substrate according to semiconductor layered circuit technology. According to this embodiment, each of the column switch circuits CWIL, CWIR can be realized as a unit circuit constituting the column address decoder circuit C-DCR1, although not particularly limited, as will become clear later in FIG. 2B. Considering the pinch, two pairs of complementary data lines adjacent to each other are
They are configured to be coupled simultaneously to a pair of complementary common data lines, respectively. As a result, the column address decoder C
- The pitch of each unit circuit of DCR1 is made to match the pitch of a total of four data lines. In this configuration, a total of 4-bit signals, i.e., memory array M
2-bit signal of IL or MIR and 2 of M2L or M2R
Bit signals are simultaneously selected by a column selection circuit including a column address decoder C-DCR1 and column switch circuits CWIL and CWIR.

特に制限されないが、この実施例に従うと、合計4ビツ
トの信号の中から1ビツトの信号の選択を行うため、メ
モリアレイMIL及びMIRに対応された2対の共通デ
ータ線及びメモリアレイM2L及びM2Rに対応された
2対の共通データ線と、データ入カバソファDIBの出
力端子及びデータ出カバソファDOBの入力端子との間
に第2のカラムスイッチ回路CW2L及びCW2Rが設
けられている。これらの第2のカラムスイッチ回路CW
2LとCW2Rは、それぞれの動作が第2のカラムアド
レスデコーダ回路DCR2によって形成される選択信号
によって制御される。なお、上記のように4ビットの単
位でメモリアレイからの読み出し、書き込みを行う構成
にすると、4ヒソ1一単位のデータアクセス又はニブル
モー1でのデータの入出力を行うような機能への変更は
、主に第2のカラムスイッチ回路と上記入出力回路部分
の構成の変更によって比較的簡単に可能になる。
Although not particularly limited, according to this embodiment, in order to select a 1-bit signal from a total of 4-bit signals, two pairs of common data lines corresponding to memory arrays MIL and MIR and memory arrays M2L and M2R are connected. Second column switch circuits CW2L and CW2R are provided between the two pairs of common data lines corresponding to the data in and the output terminal of the data input buffer sofa DIB and the input terminal of the data output sofa DOB. These second column switch circuits CW
The operations of 2L and CW2R are controlled by selection signals formed by the second column address decoder circuit DCR2. Note that if the configuration is such that reading and writing from the memory array is performed in units of 4 bits as described above, it is not possible to change the function to access data in units of 4 bits or input/output data in nibble mode 1. This can be achieved relatively easily, mainly by changing the configurations of the second column switch circuit and the input/output circuit section.

上記データ人カバソファDIBは、その動作がタイミン
グ発止回路′1”Gから発生されるタイミング信号によ
って制御され、外部端子Dinから供給された署き込み
信号に対応された書き込み信号を形成して、それを上記
第2のカラムスイッチ回路CW 2 L又はCW 2 
Rに供給する。データ人カバソファDIBは、それが非
動作状態に置かれているとき、高出力1゛ンビーダンス
特性を示す。
The operation of the data cover sofa DIB is controlled by the timing signal generated from the timing start circuit '1''G, and forms a write signal corresponding to the signature signal supplied from the external terminal Din. It is connected to the second column switch circuit CW 2 L or CW 2
Supply to R. The data driver sofa DIB exhibits high power 1-beadance characteristics when it is placed in a non-operating state.

データ出カバソファl) OBは、同様にその動作がタ
イ之ング発生回路′1゛Gから発生されるタイミング信
号によって制御され、」二記第20カラムスイッチ回I
I!8CW21.、又はCW2Rを通して出力された読
め出し信号を受けて、これを増幅して外部端子Dout
へ送出する。
Similarly, the operation of the data output buffer OB is controlled by the timing signal generated from the timing generation circuit '1'G,
I! 8CW21. , or receive the read signal output through CW2R, amplify it, and send it to the external terminal Dout.
Send to.

情報の読み出し/′書き込み動作を制御するためのタイ
ミング回路TGは、外部端子から供給されるロウアI゛
レスストローブ信号RAS、カラムアドレスストローブ
信号CAS及びライトイネーブル信号WEを受けること
によって種々のタイミング信号を形成する。
A timing circuit TG for controlling information read/write operations receives a row I address strobe signal RAS, a column address strobe signal CAS, and a write enable signal WE supplied from external terminals, thereby generating various timing signals. Form.

この実施例に従うと、後の第2A図、第2B図ないし第
4図を利用する詳細な説明からも明らかとなるように、
■ロウ系アドレス信号に応し)で、スイッチ回路5WI
Lないし5WIRの動作タイミングを変化させることが
4・要とされる。それ故にタイミング発生回路TGは、
アトレスバッファADHから出力されるロウ系の内部相
補アドレス信号の一部を受けるようにされる。
According to this embodiment, as will become clear from the detailed description using FIGS. 2A, 2B to 4 later,
■In response to the row address signal), the switch circuit 5WI
4. It is necessary to change the operation timing of L to 5WIR. Therefore, the timing generation circuit TG is
A portion of the row-related internal complementary address signal output from the address buffer ADH is received.

スイッチ回路5WIL、及びS W I Rの動作概略
は、次のようにされる。なお、メモリアレイM2L及び
M 2 Rに対応されたスイッチ回路5W2L及び5W
2Rの動作は、スイッチ回路5WIL及びS W I 
Rと実質的に同じにされる。以下の説明において、便宜
上、メモリアレイMILの各相補データ線のうちの一方
を第1のデータ線と称し、残りの一方を第2のデータ線
と称することとする。
The operation outline of the switch circuits 5WIL and SWIR is as follows. Note that switch circuits 5W2L and 5W corresponding to memory arrays M2L and M2R
The operation of 2R is performed by switch circuits 5WIL and SWI
is made substantially the same as R. In the following description, for convenience, one of the complementary data lines of the memory array MIL will be referred to as a first data line, and the remaining one will be referred to as a second data line.

また、メモリアレイMIRの各相補データ線のうちの、
第1のデータ線に対応されるべきデータ線を第3のデー
タ線と称し、残りのデータ線を第4のデータ線と称する
こととする。
Also, of each complementary data line of the memory array MIR,
The data line that should correspond to the first data line will be referred to as a third data line, and the remaining data lines will be referred to as fourth data lines.

スイッチ回路S W I L及び5WIRは、RAMの
アクセスの開始前において、言い換えるとロウアlSレ
スストローブ信号RAS <以下、]−J A S信号
と記す)がハ・fレベルにされているときにおいて、両
方ともオン状態にされている。従って、第1のデータ線
と第3のデータ線の相互、及び第2のデータ線と第4の
データ線の相互は、それぞれスイッチ回路SWI L、
センスアンプSAIの入出力端子及びスイッチ回路5W
iRを介し“Cそれぞれ結合されている。このときの各
データ線は、プリチャージレ・\ルにされている。
The switch circuits SWIL and 5WIR are configured such that before the start of accessing the RAM, in other words, when the lower IS rest strobe signal RAS (hereinafter referred to as the ]-JAS signal) is set to the H/F level, Both are turned on. Therefore, the first data line and the third data line are connected to each other, and the second data line and the fourth data line are connected to each other by the switch circuits SWI L,
Sense amplifier SAI input/output terminals and switch circuit 5W
The data lines are connected to each other through iR. At this time, each data line is set to a precharge level.

RAS信号がロウレベルに立ぢ下げられることによって
RAMのアクセスが開始される。ここで、ロウ系アドレ
ス信号が、対のメモリアレイM 11−及びMIRのう
ちの1つ、例えばMILにおける1つのワード線を選択
させる状態にされ”ζいるなら、名のメモリアレイMI
Lに対応されたスイッチ回路5WILは、オン状態に維
持される。この場合、スイッチ回路5WIRの動作は、
次のようにされる。
Access to the RAM is started by lowering the RAS signal to a low level. Here, if the row-related address signal is brought into a state that selects one word line in the pair of memory arrays M11- and MIR, for example, one word line in MIL, then the memory array MI
The switch circuit 5WIL corresponding to L is maintained in the on state. In this case, the operation of the switch circuit 5WIR is as follows:
It is done as follows.

すなわち、ロウ系のアドレス信号が、メモリアレイMI
Lにおける複数のメモリセルのうちの第1のデータ線に
結合されているメモリセルを指示しているなら、スイッ
チ回路5WIRは、まず、メモリアレイMILのワード
線の選択が開始される前に、メモリアレイMIRの第3
のデータ線をセンスアンプSAIの入出力端子から切り
Mさせるようにスイッチ制御され、次に、ワード線の選
択が開始されかつセンスアンプSAIの動作が開始され
た後に、メモリアレイMIRの第4のデータ線をセンス
アンプSAIの入出力端子から切り離させるようにスイ
ッチ制御される。これによって、メモリアレイMIRに
おける第3のデータ線は、メモリセルの選択が開始され
る前に第1のデータ線から切り離され、第4のデータ線
は、メモリセルの選択が開始され、かつセンスアンプS
A1の動作が開始された後に第2のデータ線から切り離
される。
In other words, the row-related address signal is
If the memory cell coupled to the first data line of the plurality of memory cells in L is specified, the switch circuit 5WIR first selects the word line of the memory array MIL by 3rd memory array MIR
The fourth data line of the memory array MIR is controlled to be disconnected from the input/output terminal of the sense amplifier SAI, and then, after word line selection is started and the operation of the sense amplifier SAI is started, the fourth data line of the memory array MIR is switched off. The switch is controlled to disconnect the data line from the input/output terminal of the sense amplifier SAI. As a result, the third data line in the memory array MIR is disconnected from the first data line before memory cell selection is started, and the fourth data line is disconnected from the first data line before memory cell selection is started and Amplifier S
After the operation of A1 is started, it is disconnected from the second data line.

センスアンプSAIにおける複数のフルサイズダミーセ
ルのうちの第2のデータ紳U=結合されたダミーセルは
、上記ワード線の選択の開始と同期し′ζ選択されW+
 、フルサイズタミーセルが選択されたときにおいて、
第2のテーク線は、それが第4のデータ線に結合ざh、
ているので、各データ線容量に対して実質的に2倍の値
のデータ線容量を持つことになる3、それ故に、フルサ
イズタミーセルによって第2のデータ線に与えられる基
準電位は、ハーフサイズダミーセルによってデータ線に
与えられる基準電位と等価になる。
Of the plurality of full-sized dummy cells in the sense amplifier SAI, the dummy cell connected to the second data line U= is selected ′ζ W+ in synchronization with the start of word line selection.
, when full size tummy cell is selected,
The second take line is connected to the fourth data line when it is coupled to the fourth data line.
Therefore, the reference potential applied to the second data line by the full-size tummy cell is half the value of the data line capacitance. This is equivalent to the reference potential applied to the data line by the size dummy cell.

第2ないL7第4のデータ線に結合されたメモリセルが
選択される場合も、上述と同様な動作が行われる。
When a memory cell coupled to the second L7 fourth data line is selected, the same operation as described above is performed.

上述から明らかなように、スイッチ回路S W 1L、
5WIRのそれぞれは、それぞれ2種類のタイミング信
号を必要とする。これらちのスイッチ回路のためのタイ
ミング信号は、次のような構成によって得ることができ
る。
As is clear from the above, the switch circuit SW 1L,
Each of the 5WIRs requires two types of timing signals. Timing signals for these switch circuits can be obtained by the following configuration.

すなわち、各メモリアレイにおいて、複数のメモリセル
及びワード線は、規則性を持って配列される。また、ロ
ウアドレスデコーダは、通常、ロウアドレス信号を規則
的にデコードするように構成される。すなわち、例えば
、第1のデータ線に結合された複数のメモリセルは、規
則的なとびとびの11116 位のワード線にそれぞれ
結合され、同様に、第2のデータ線に結合された複数の
メモリセルは、規則的なとびとびの順位のワード線にそ
れぞれ結合される。各ワード線は、ロウアドレス信号の
組み合わせによる順位と対応された順位とされる。
That is, in each memory array, a plurality of memory cells and word lines are arranged with regularity. Further, the row address decoder is usually configured to regularly decode the row address signal. That is, for example, a plurality of memory cells coupled to a first data line are respectively coupled to regularly spaced 11116th word lines, and similarly, a plurality of memory cells coupled to a second data line are each coupled to a regular discrete order of word lines. Each word line is assigned a rank corresponding to the rank determined by the combination of row address signals.

それ故に、1つのデータ線に結合された複数のメご モリセルのうらの1つが選択キれるか否かはロウアドレ
ス信号の1ヒツトもしくは2ビツト、例えば最下位ビッ
トもしくはその最下位ビットとその上のピントによって
決定される。以下、このようなIヒントもしくは2ビツ
トのアドレス信号を、タミーアドレス信号と称する。
Therefore, whether one of the plurality of memory cells connected to one data line can be selected or not depends on one or two bits of the row address signal, for example, the least significant bit or the least significant bit and the upper bit. Determined by the focus. Hereinafter, such an I hint or 2-bit address signal will be referred to as a tummy address signal.

−41のメモリアレイMIL及びMIRのうちのいずれ
かが選択されるかは、ロウアドレス信号の1ヒント、例
えば最上位の1ヒツトのレベルによって決定される。収
下、このようなlビy+のアドレス信号をアレイ選択ア
ドレス信号と称する。
Which one of the -41 memory arrays MIL and MIR is selected is determined by the level of one hint of the row address signal, for example, the most significant one. In this case, such an address signal of lbyy+ is called an array selection address signal.

それ故に、スイッチ回路5WIL及び5WIRのための
タイミング信号は、ロウアドレススI−ローブ信号RA
Sに基づいて形成されるいくつかの遅延信号(タイミン
グ信号)と、上記ダミーアドレス信号及びアレイ選択ア
ドレス信号とを受ける、  図示しない論理回路によっ
て発生させることができる。但し、これらのタイミング
信号を形成する回路の内部の詳細な構成それ自体は、本
発明に直接関係が無いので、その説明を省略する。′タ
ミーセルに結合されたダミーワード線に供給されるべき
ダミーワード線選択信号は、ダミーアドレス信号とワー
ド線選択タイミング信号とに基づいて形成することがで
きる。
Therefore, the timing signals for switch circuits 5WIL and 5WIR are row address I-lobe signals RA
It can be generated by a logic circuit (not shown) that receives several delay signals (timing signals) formed based on S, the dummy address signal and the array selection address signal. However, since the detailed internal configuration of the circuit that forms these timing signals is not directly related to the present invention, a description thereof will be omitted. 'The dummy word line selection signal to be supplied to the dummy word line coupled to the tummy cell can be formed based on the dummy address signal and the word line selection timing signal.

この実施例に従うと、選択のメモリセルによって第1の
データ線に与えられるデータ信号レベルは、第1のデー
タ線が予め第3のデータ線から切り離されているので、
比較的大きくなる。第2のデータ線に与えられる基準電
位は、フルサイズタミーセルの使用によって正確となる
。α線等による第2のデータ線の不所望なレベル変化は
、この第2のデータ線が実質的に2倍のデータ線容量を
持つごとになるので、充分に小ざくなる。その結果、良
好な読み出し動作が可能となる。
According to this embodiment, the data signal level applied to the first data line by the selected memory cell is such that the first data line is previously separated from the third data line.
Becomes relatively large. The reference potential applied to the second data line becomes accurate through the use of full-size tummy cells. Undesired level changes in the second data line due to alpha radiation etc. are sufficiently reduced since the second data line has substantially twice the data line capacity. As a result, a good read operation is possible.

第2A図及び第2)3図には、上記メモリアレ・fMI
LとMIR及びセンスアンプSAIの具体的−実施例の
回路図が示されている。
Figures 2A and 2)3 show the memory array/fMI
A circuit diagram of a specific embodiment of L, MIR, and sense amplifier SAI is shown.

同図に示した実施例回路半、NナヤンネルMOされてい
る。
Half of the embodiment circuit shown in the same figure is N-channel MO.

メモリアレイM 1 f、は、複数の相補データ線DL
OL、DLOLないしDL 3 L、  DL 31−
2複数のソー1ζ線WLO,Wl、■及び複数のグイナ
ミツク型メモリセルから成る。メモリアレイMILは、
前述のように折り返しヒソI−線方式とされる。
The memory array M 1 f has a plurality of complementary data lines DL.
OL, DLOL or DL 3 L, DL 31-
2. It consists of a plurality of saw 1ζ lines WLO, Wl, 2 and a plurality of Guinamick type memory cells. The memory array MIL is
As mentioned above, the folded histo I-line system is used.

それ故に、メモリセルは、1つの相補データ線と1つの
ワード線とによって構成される2つの交点のうちの一力
に配置される。
Therefore, a memory cell is placed at one of the two intersections formed by one complementary data line and one word line.

メモリアレーIMil々は、メモリー7レイM I L
と同様な#f成にされる。
The memory array IMi is a memory 7-ray M I L
The same #f configuration is used.

lピッ1−のメモリセルMCは、図示されているように
、情報記憶キャパシタC5とアドレスiM択用M OS
 F E i’ (,1mとからなり、論理“1″′、
“0′のIN報はキャパシタC8に電荷がaるか無いか
の形で記憶される。
As shown in the figure, the memory cell MC of l-p1- has an information storage capacitor C5 and an address iM selection MOS.
F E i' (,1m, logical "1"',
An IN signal of "0" is stored in the form of whether the capacitor C8 has a charge a or no charge.

情報の読み出しは、1ψOS FE T Q rnをオ
ン状6にしてキャパシタ05を相補データ線の一方にに
結合させ、そのデータ線の?1位がキャパシタC8に蓄
積された′I′Ii荷門に応しζどのような変化が起き
るかをセンスすることによっ゛(行われる。
To read information, 1ψOS FET Q rn is turned on and capacitor 05 is coupled to one of the complementary data lines, and the ? This is done by sensing what changes in ζ occur in response to the 'I'Ii load stored in the capacitor C8.

メモリー7レイM 11−、 M I Hのそれぞれに
おいl1iJ述のようにメモリセル八1Cは小さく形成
さイも、また平行に配置された相補データ線に多くのメ
モリセルが結合される。それ故に、キャパシタC3と、
データ線DLの浮遊容量Co(図示せず)との比は非晶
に小ざな値になる。したかつで、上記キャパシタCsに
蓄積された電荷量によるデータ線DLの電位変化は、非
常に微少な信号となってし・る。
Although the memory cells 81C in each of the memory 7 rays M11- and MIH are formed small as described above, many memory cells are coupled to complementary data lines arranged in parallel. Therefore, capacitor C3 and
The ratio of the data line DL to the stray capacitance Co (not shown) is amorphous and has a small value. Therefore, the change in the potential of the data line DL due to the amount of charge accumulated in the capacitor Cs becomes a very small signal.

このような微少な信号を検出するセンスアンプSAIの
センス動作のための基準電位を形成する回路として、ダ
ミーセルDCが設けられている。
A dummy cell DC is provided as a circuit that forms a reference potential for the sensing operation of the sense amplifier SAI that detects such a minute signal.

このダミーセルDCは、メモリセルMCと同じ製造条件
、同じ設計定数で作られたスイッチMO3FETQdと
キャパシタCdとにより構成される。
This dummy cell DC is composed of a switch MO3FETQd and a capacitor Cd, which are manufactured under the same manufacturing conditions and the same design constants as the memory cell MC.

このダミーセルDCのキャパシタCdはスタンバイ時に
リセット用ム40SFETQd’ により回路の接地電
位がストアされる。
The ground potential of the circuit is stored in the capacitor Cd of this dummy cell DC by the reset transistor 40SFETQd' during standby.

ヒ/ス′7ンプSAIは、それぞれランチ形態にされた
増幅MO5FETQI、Q2から構成された複数の単位
回路から構成されている。このセンスアンプSAIは、
アドレッシングにおいて各相補データ線に与えられる微
少な電位変化の差を、タイミング信号(センスアンプ制
御信号)φpal。
Hy/samp SAI is composed of a plurality of unit circuits each composed of amplifying MO5FETs QI and Q2 in a launch configuration. This sense amplifier SAI is
A timing signal (sense amplifier control signal) φpal detects the difference in minute potential changes applied to each complementary data line during addressing.

φpa2で決まるセンス期間に拡大させる(その動作は
後述する)。センスアンプSAIの1つの単位回路は、
図示のようにその入出力端子が、メモリアレイM I 
L、側の1対の平行に配置された相補データ線D L 
OL 、  111.、 OL +、、:それぞれスイ
ッチMO3FEIQ3.Q4を介し結合され、またメモ
リアレイMIR側の1対の平行に配置された相補デーク
線1−目、OR,I)LORにそれぞれス1′ソチMO
3FFCTQ19.Q20を介して結合されている。前
述から明らかなように十記相袖データ線1) L (l
 LないしI−) 1.、 ORのそれぞれに結合され
るメモリセルの数は、検出精度をヒげるため互いに等し
、くされる。センスアンプSAIの単位回路の一対の入
出カッ−Fには、それぞれに1個ずつのタミーセルDC
が結合されている。
The sensing period is expanded to be determined by φpa2 (the operation will be described later). One unit circuit of sense amplifier SAI is
As shown in the figure, its input/output terminals are memory array M I
L, a pair of parallelly arranged complementary data lines D L
OL, 111. , OL +, , : respectively switch MO3FEIQ3. Q4 and a pair of complementary data lines 1-th, OR, I)LOR arranged in parallel on the memory array MIR side, respectively.
3FFCTQ19. They are coupled via Q20. As is clear from the above, the data line 1) L (l
L to I-) 1. , OR are made equal to each other in order to increase detection accuracy. A pair of input/output capacitors of the unit circuit of sense amplifier SAI have one tummy cell DC in each.
are combined.

上記アドレッシングにおいて、メモリアレイMIL又は
MIRの相補データ線対の一方に結合されたメモリセル
MCが選択される場合、センスアンプSAIの単位回路
の一対の入出力ノードのうろ 与の、一方のデータ線にスイッチMO5FETをたダミ
ーセルDCが選択されるように一対のダミーワード線D
WL、DWLのうちの一方が選択される。
In the above addressing, when the memory cell MC coupled to one of the pair of complementary data lines of the memory array MIL or MIR is selected, one data line of the pair of input/output nodes of the unit circuit of the sense amplifier SAI is selected. A pair of dummy word lines D are connected so that a dummy cell DC with a switch MO5FET is selected.
One of WL and DWL is selected.

上記センスアンプSAIは、その単位回路が上記のよう
に一対の交差結線されたMO3FETQ1、Q2により
構成され、これらの正帰還作用により、相補データ線間
に現れた微少な信号を差動的に増幅する。この正帰還動
作は、タイミング信号φpalによりMO3FETQ2
7がオン状態になったとき開始される。このMO5FE
TQ27は、それが導通状態にされたとき、比較的小さ
いコンダクタンスを示すようにされている。上記タイミ
ング信号φpalによってセンスアンプSAIの動作が
開始されると、アドレッシングによって予め相補データ
線間に与えられていた電位差が増幅される。すなわち、
高い方のデータ線電位は遅い速度をもって下降され、ま
た低い方のそれは速い速度をもって下降される。そして
、上記電圧差がある程度人きくなったタイミングにおい
て発生されるター1−ング信号φpa2によって、M 
OS FE’rQ2Bが導通状態ニされる。M OS 
I−” E TQ28は、それが導通さイI、たとき比
較的大きなコンダクタンスを持つようにされている。M
 OS Fl−。
The unit circuit of the sense amplifier SAI is composed of a pair of cross-connected MO3FETs Q1 and Q2 as described above, and their positive feedback action differentially amplifies minute signals appearing between complementary data lines. do. This positive feedback operation is performed by the MO3FETQ2 by the timing signal φpal.
7 is turned on. This MO5FE
TQ27 is adapted to exhibit a relatively small conductance when it is made conductive. When the operation of the sense amplifier SAI is started by the timing signal φpal, the potential difference previously applied between the complementary data lines is amplified by addressing. That is,
The higher data line potential is lowered at a slower rate, and the lower one is lowered at a faster rate. Then, M
OS FE'rQ2B is rendered conductive. MOS
I-"E TQ28 is made to have a relatively large conductance when it is conducting.
OS Fl-.

’I゛Q211(/、l導通開始によって、上記低い方
のデータ線電イv、がzU速に低ドされる。このように
2段階にわりてセンスアンプSAIの動作を行わセ”る
ことによって、上記高い万の電位の大幅な落ら込みが防
止される。こ・うして低い方の電位が交差結合M OS
 F’ E Tのしきい値市圧以−トに低下したとき正
帰還動作か終了し、高い方の電位のト降は電源電圧Vc
cより低くかつ上記しきい値電圧より高い電位に留まる
とともに、低い力の電位は最終日9に接地IJ1位(O
V)に到達する。
'I゛Q211(/,l) With the start of conduction, the lower data line voltage v is lowered at the speed zU.In this way, the sense amplifier SAI operates in two stages. This prevents the above-mentioned high potential from dropping significantly.In this way, the lower potential becomes cross-coupled MOS
When the voltage drops below the threshold voltage of F' ET, the positive feedback operation ends, and the drop of the higher potential is equal to the power supply voltage Vc.
c and stays at a potential lower than the above threshold voltage, and the low force potential is grounded IJ1 (O
V).

なお、各メモリアレイにおいて、各アーク線と各ソー 
1・線との間に無視Cきない結合容量が形成されてしま
う。でれ故に、1つのり−1線のレベルが変化され・乙
と、実質的に雑自とみなされる不yすi望な電位変動が
各データ線に与えられてしまう。
In each memory array, each arc line and each source
1. A non-negligible coupling capacitance is formed between the line and the line. As a result, the level of one line is changed, and undesirable potential fluctuations, which can be considered as essentially random, are applied to each data line.

しかしながら、折り返しビット線方式のメモリアレイに
おいて、各ワー]−線WLは、相補データ線の双方と交
差されている。それ故に、ワード線WI、のレベル変化
に応して相補データ紗に与えられてしまう雑音は、コモ
ンモード雑音とみなされる。
However, in a folded bit line memory array, each word line WL crosses both complementary data lines. Therefore, the noise applied to the complementary data gauze in response to a change in the level of the word line WI is considered to be common mode noise.

差動型のセンスアンプSAIは、このようなコモンモー
l−”雑音に対し7て実質的に7:−感である。
The differential sense amplifier SAI has a substantially 7:- sensitivity to such common mole noise.

上記のアトレッシングの際、一旦破壊されかかったメモ
リセルM Cの記憶情報は、このセンス動作によって得
られたハイレベル若しくはロウレベルの電位をぞのま才
受は取ることによって回復される。しかし心から、前述
のようにハイレベルが電源電圧Vcc、に対U7て一定
以上落ち込むと、伺回かの読み出し、再書込めを繰り返
しているうちに論理“0”点して読み歳られるとごろの
誤動作が生しる。そこで、この誤動作を防ぐためにアク
ティブリストア回路A Rが設けられる。このアクティ
ブリストア回iARは、ロウレベルの信号に対して何ら
影響を与えずハイレベルの信号にのみ選択的に電源電圧
Vccの電位にブートストする働きがある。
During the above-mentioned addressing, the stored information in the memory cell MC, which is once about to be destroyed, is recovered by taking the high level or low level potential obtained by this sensing operation. However, as mentioned above, if the high level drops more than a certain level with respect to the power supply voltage Vcc, U7, it will become a logic "0" point and become old as the reading and rewriting are repeated. malfunction occurs. Therefore, an active restore circuit AR is provided to prevent this malfunction. This active restore circuit iAR has the function of selectively boosting only high level signals to the potential of power supply voltage Vcc without having any effect on low level signals.

アクティブリストア回路ARは、各単位センスアンプの
一対の入出力ノードに結合された単位回路[J A R
OないしU A R3から成る。単位回路、例えばUA
ROは、第3図に示されているように、各データ線DL
O,1)LOと回路の電源端子Vccとの間に設けられ
たMO3FETQ100.ulol、データ線L)LO
とMOSFETQI 00のブー1との間、及びデータ
線DLOとMO3FET’QIOIとの間にそれぞ11
設GJられた伝送ブー1M05FETQl 02.Ql
 03、及びブートストラップ容閂CBI及びCB2か
ら成る。ブートス1−ラップ容量CBI及びCB2は、
MO3容量から成り、実質的に可変容量素子として動作
する。伝送ブー1〜10SFE′rQ102及びQIO
3は、タイ(ンク信号φarOによって、センスアンプ
SAIの増幅動作が実行されてからブートスl−シップ
用のタイミング信号φarl が発生される前まで導通
状態にされる。タイミング信号φarlば、予めロウレ
ベルにされ、その後ハイレベルにされる。
The active restore circuit AR is a unit circuit [J A R
It consists of O to U A R3. Unit circuit, e.g. UA
RO is connected to each data line DL as shown in FIG.
O, 1) MO3FET Q100. ulol, data line L) LO
and Boo 1 of MOSFET QI 00, and between data line DLO and MO3FET'QIOI, respectively.
Transmission boolean installed GJ 1M05FETQl 02. Ql
03, and bootstrap bolts CBI and CB2. Boots 1-wrap capacitances CBI and CB2 are:
It consists of an MO3 capacitor and essentially operates as a variable capacitance element. Transmission boo 1~10SFE'rQ102 and QIO
3 is made conductive by the tie signal φarO after the amplification operation of the sense amplifier SAI is executed until before the timing signal φarl for bootstrap shipping is generated.The timing signal φarl is set to a low level in advance. and then raised to a high level.

プリチャージ回路PCは、センスアンプSAIの各入出
力ノードにそれぞれ結合された単位回路からなる。プリ
チャージ回路を構成する単位回路は、特に制限されない
が、第2A図に示されζいるように、相補データ線のそ
れぞれと回路の電源端子VCCとの間に設けられたプリ
チャージMO3FE’l”QPl及びQP2から成る。
Precharge circuit PC is composed of unit circuits each coupled to each input/output node of sense amplifier SAI. The unit circuits constituting the precharge circuit are not particularly limited, but as shown in FIG. Consists of QPl and QP2.

プリチャージMO5FETQP 1及びQP2の導通制
御のためのタイミング信号φpCは、RAMの非アクセ
ス期間、すなわち、RAS信号がハイレベルにされてい
るとき、それに応してハイレベルにされる。これによっ
て、各相補データ線は、電源電圧Vccのレベルに近い
ようなハイレベルにプリチャージされる。プリチャージ
用のタイミング信号φpcは、RA Mのアクセス、が
開始されることに応じてロウレベルにされる。なお、単
位回路は、プリチャージ用のタイミング信号φpcに応
答して相補データ線の相互を短絡するイコライズ用MO
3FETを含んでもよい。
The timing signal φpC for controlling the conduction of the precharge MO5FETs QP1 and QP2 is set to a high level during the non-access period of the RAM, that is, when the RAS signal is set to a high level. As a result, each complementary data line is precharged to a high level close to the level of power supply voltage Vcc. The precharge timing signal φpc is set to a low level in response to the start of RAM access. Note that the unit circuit includes an equalization MO that shorts complementary data lines together in response to a precharge timing signal φpc.
It may also include a 3FET.

同図において、センスアンプSAIを構成する1つの1
1位回路の人出力ノートば、カラムスイッチ回路CWj
l、を構成するMO5I;”ETQI 9゜Q20を介
して共通相補データ線対CDI、τ下1に接続され、こ
れと隣接する他の単位回路の人出力ノードは、MO3F
I己1”Q21.Q22を介して共通相補データ線CI
)2.CD2に接続される。他の単位回路のそれぞれも
同様なMO3FE’T’Q23.(ゴ24及びQ25.
Q26を介してそれぞれの共通相補データ線対CDI、
CI)l及びCL) 2 、  CI) 2に接続され
る。
In the same figure, one of the elements constituting the sense amplifier SAI
1st place circuit human output note, column switch circuit CWj
MO5I;"ETQI 9° is connected to the common complementary data line pair CDI, τ lower 1 through Q20, and the human output nodes of other unit circuits adjacent to this are
Common complementary data line CI via Q21.Q22
)2. Connected to CD2. Each of the other unit circuits is a similar MO3FE'T'Q23. (Go24 and Q25.
Q26 to each common complementary data line pair CDI,
CI)l and CL)2, connected to CI)2.

このように2組の共通相補データ線CDI、CDI及び
CI)2.CI)2を設けるごとにより、カラムスイッ
チMO3FETQ19〜Q22のゲー1−は、共通化さ
れる。この共通ゲートは、前記カラムアドレスデコーダ
C−1’) CR]を構成する単位回路により形成され
たデータ線選択信号Y1が供給される。これにより、前
述のように、合計で4本分からなるデータ線のピンチに
、カラムアドレスデコーダC−DCR+を構成する単位
回路をレイアウトすることができ、両者のピンチを合わ
せることによって、半導体基板上に無駄な空間が佳しな
くできる。
In this way, two sets of common complementary data lines CDI, CDI and CI)2. By providing CI)2, the gate 1- of the column switches MO3FETQ19 to Q22 is made common. This common gate is supplied with a data line selection signal Y1 formed by a unit circuit forming the column address decoder C-1'). As a result, as mentioned above, it is possible to lay out the unit circuit constituting the column address decoder C-DCR+ in the pinch of the data lines consisting of a total of four lines, and by aligning the pinches of both, it is possible to lay out the unit circuit that constitutes the column address decoder C-DCR+. You can make unnecessary space look good.

スイッチ回路5WILは、第2A図に示されたように、
同図の左側に配置されたメモリアレイMILの各テ゛−
タ線1) L OLないしD L31−とセンスアンプ
S A 1の1対の入出力ノードとの間に設けられたス
イッチM OS F IZ−1−03〜1,110から
なる。MOSドETQ3ないしQI 0(7)うち、−
力のデータHM I) l、I) L、 D L +−
1−ないし丁) L J L側に設りられたM OS 
FE T Q 3 、 Q5 、 Q7及びQ 9のケ
ー F番よ、互いに共通化されてタイミング(g旬5I
tLIが供給され、他方データ線D I−OL、  D
 L ] Lr(イしI) L 31−側に設けられた
MO5l”1fflTQ4.、Q6.QB及びQl、0
のゲー1−は、互いに共通化さ4シCク一イミング信号
S HL 2が(Jj給される。
The switch circuit 5WIL, as shown in FIG. 2A,
Each stage of the memory array MIL arranged on the left side of the figure
It consists of switches MOSFIZ-1-03 to 1,110 provided between the input/output nodes of the sense amplifier SA1 and the input/output nodes of the sense amplifier SA1. MOS de ET Q3 to QI 0 (7), -
Force data HM I) l, I) L, D L +-
1 to 1) L J MOS installed on the L side
Cases of FET Q3, Q5, Q7 and Q9.
tLI is supplied, and the other data lines DI-OL, D
L ] Lr (Ishi I) L MO5l"1ffl provided on the 31- side TQ4., Q6.QB and Ql, 0
The game 1- is supplied with a common 4-channel timing signal SHL2 (Jj).

スイッチ回路5WIRは、第2B図に示されているよっ
に、同図の右側に配置されたメモリアレイM 、11<
 ノデータ((11:、11− ORなイシI) 7.
3 Hのそれぞ°)LとセンスアンプSAIの1対の入
出カッ−1−との間に設けられたスイッチMO3FET
Q11、−Ql8からなる。MO5FETQI 1−Q
l8のうぢ、−力のデータ線DI、OR,DLIRない
しD L J R側に設番ノられたMO5FIETQI
I。
As shown in FIG. 2B, the switch circuit 5WIR connects the memory array M, 11<
No data ((11:, 11-OR Ishi I) 7.
A switch MO3FET is provided between each of the 3H°)L and a pair of input/output ports of the sense amplifier SAI.
It consists of Q11 and -Ql8. MO5FETQI 1-Q
MO5FIETQI numbered on the power data line DI, OR, DLIR or DLJR side of l8
I.

Ql3.Ql5及びQl7のケー(−は 互いに共通1
1′、されてタイミンク信号S HR1か供給され、側
に設けられたMO3FETQI 2.Ql 4.Ql6
及びQl8のケー1は、互いに共通化されてタイミング
信@SHR2か供給される。このようなスイッチM O
S FE ′FQ 3〜Q、 I O及びQll〜Q1
8のゲートに(Ju給J゛るタイミング信号S 1−1
1、l、5HL2及び5HR1,5HR2の絹み合わゼ
により、次に説明するよ・)に選択されたメモリアレイ
からの読み出し信号の増幅動作とそれに必要な基準電圧
V refが形成される。
Ql3. Case of Ql5 and Ql7 (- is common to each other 1
1', and the timing signal SHR1 is supplied to the MO3FETQI provided on the side.2. Ql 4. Ql6
and Q1 of Ql8 are shared with each other and supplied with timing signal @SHR2. Such a switch M O
S FE 'FQ 3~Q, IO and Qll~Q1
The timing signal S1-1 is supplied to the gate of
By combining 1, 1, 5HL2 and 5HR1, 5HR2, a reference voltage V ref necessary for amplifying the read signal from the memory array selected as described below is formed.

第4図には、上記実施例回路の読み出し7対作の一例瘉
説明するだめのタイミング図が示されている。
FIG. 4 shows a timing diagram for explaining an example of the operation of the seven readout pairs of the circuit of the above embodiment.

カラムアドレススI・ローブ信号RAS及びカラチムア
ドレスストローブ信号CASがそれぞれ第4図A及びH
に示されたようなハイレベルにされているスタンバイ状
態においては、タイミング信号5HLI、5HL2及び
5HRI、5HR2は、第4図E及びFに示されている
ように全てハイレベルにされる。これにより上記スイッ
チMO3FETQ3〜Q18は全てオン状態にされる。
The column address I/lobe signal RAS and the column address strobe signal CAS are shown in FIG. 4A and H, respectively.
In the standby state where the timing signals 5HLI, 5HL2 and 5HRI, 5HR2 are set to high level as shown in FIG. 4, all are set to high level as shown in FIGS. 4E and 4F. As a result, all of the switches MO3FETQ3 to Q18 are turned on.

この間、プリチャージ回路PCにより各メモリアレイに
おける全てのデータ線は、はソ゛電源電圧Vccの。
During this time, all data lines in each memory array are set to the power supply voltage Vcc by the precharge circuit PC.

ようなハイレベルにプリチャージされる。このスタンバ
イ状態において、図示しないワード線選択タイミング信
号はロウレベルのりセントレベルに維持され、各メモリ
アレイの各ワード線はロウレベルの非選択レベルに維持
される。各ダミーセルにおけるキャパシタは、MO3F
ETQdがタイミング信号ψdによってオン状態にされ
ていることによって放電状態、すなわちリセント状態に
維持される。
It is precharged to a high level like that. In this standby state, a word line selection timing signal (not shown) is maintained at a low rising level, and each word line of each memory array is maintained at a low non-selection level. The capacitor in each dummy cell is MO3F
Since ETQd is turned on by the timing signal ψd, it is maintained in a discharged state, that is, a recent state.

ロウアドレスストローブ信号RASが第4図Aに示され
たようにロウレベルへ立ち下げられることによってRA
Mのアクセスが開始される。RAMのアクセスの開始に
同期して、プリチャージ用のタイミング信号φpcがロ
ウレベルにされ、プリチャージ回路PCが非動作状態に
される。
When the row address strobe signal RAS falls to the low level as shown in FIG. 4A, the RA
M's access is started. In synchronization with the start of RAM access, the precharge timing signal φpc is set to low level, and the precharge circuit PC is rendered inactive.

第1図の71゛レスハソフアADBは、タイミング発注
回路1゛Gから発生されるタイミング信号に応答して外
部端子から供給されたアドレス信号をロウアドレス信号
X1として取り込む。RAMのスタンバイ期間において
予めロウレベルのりセソトレベルにされていた図示しな
いワード線選択タイミング信号は、アドレスバッフyA
DBの動作の後にハイレベルにされる。ロウアドレスデ
コーダR−1)CRILないしR−DCR2Rは、それ
ぞれワード線選択タイミング信号がハイレベルにされる
ことによって動作され、上記ロウアドレス信号X1を解
読する。ごれによって、第4図Cに示されたように、1
本のワード線とこれに対応したダミーワード線の選択信
号が形成される。
The 71'' address software ADB in FIG. 1 takes in an address signal supplied from an external terminal as a row address signal X1 in response to a timing signal generated from a timing ordering circuit 1''G. During the standby period of the RAM, a word line selection timing signal (not shown), which has been set to low level or low level in advance, is applied to the address buffer yA.
Set to high level after DB operation. The row address decoders R-1)CRIL to R-DCR2R are each operated when the word line selection timing signal is set to high level, and decode the row address signal X1. Due to the dirt, as shown in Figure 4C, 1
Selection signals for a real word line and a corresponding dummy word line are formed.

この選択動作において、例えば左側のメモリアレイMI
Lのデータ線DLOL、DLIL、DL2L等(以下、
上側データ線と称する。また、データ線DLOL、DL
ILのようなデータ線を下側データ線と称する)に結合
されたメモリセルMCが選択される時には、メモリアレ
イMILとセンスアンプSAIとの間のスイッチ回路5
WILを制御するためのタイミング信号SHL I及び
5HL2は、第4図已に示されているようにハイレベル
に維持される。このときには、また、そのワード線とダ
ミーワード線DWLがハイレベルされる前に、タイミン
グ信号S HR1が第4図Fに示されたようにますロウ
レベルにされる。これによって、右側のメモリアレイM
IRにおける各相補データ線の一方DLOR,DLIR
ないしDL3R1すなわち上側データ線とセンスアンプ
SAIの各入出力ノードとの間に設けられているスイッ
チMO5FETQI 1.Ql 3’、Ql 5及びQ
l7等がオフ状態にされる。このように、左側のメモリ
アレイMILの1本のワード線WLとダミーワード線D
WLがハイレベルの選択レベルにされる時には、左側の
メモリアレイMILにおりる選択されるべきメモリセル
が結合された各データ線は、メモリセルの選択が開始さ
れる前に、メモリアレイMIHの対応されたデータ線か
ら切り離される。言い換えると選択されるべきメモリセ
ルが結合された各データ線は、それぞれにおけるデータ
線容量が実質的に小さくされる。これによって、選択さ
れた各メモリセルMCによって各データ線に与えられる
電位変化すなわちデータ信号は、比較的大きいレベルに
される。これに対して、メモリアレイMILにおける相
補データ線のうちの残りのデータ線(下側データ線)は
、スイッチMO5FET4.Q12がオン状態にされて
いるので、右側のメモリアレイMIRの対応するデータ
線に結合されたままとされる。これにより、選択される
べきダミーセルDCに対するデータ線浮遊容量は左右の
メモリアレイMIL、MIRのデータ線に存在するそれ
ぞれの浮遊容量が加算された値と実質的に等しいような
値、すなわち、Co + C。
In this selection operation, for example, the left memory array MI
L data lines DLOL, DLIL, DL2L, etc. (hereinafter referred to as
It is called the upper data line. In addition, data lines DLOL, DL
When a memory cell MC coupled to a data line (such as IL is referred to as a lower data line) is selected, a switch circuit 5 between the memory array MIL and the sense amplifier SAI is selected.
Timing signals SHL I and 5HL2 for controlling WIL are maintained at a high level as shown in FIG. 4. At this time, before the word line and the dummy word line DWL are brought to a high level, the timing signal SHR1 is brought to a low level as shown in FIG. 4F. As a result, the right memory array M
One of the complementary data lines in IR, DLOR and DLIR
or DL3R1, that is, a switch MO5FETQI provided between the upper data line and each input/output node of the sense amplifier SAI.1. Ql 3', Ql 5 and Q
l7 etc. are turned off. In this way, one word line WL of the left memory array MIL and the dummy word line D
When WL is set to a high selection level, each data line to which a memory cell to be selected falling in the left memory array MIL is coupled is connected to the memory array MIH before selection of the memory cell starts. It is disconnected from the corresponding data line. In other words, the data line capacitance of each data line to which a memory cell to be selected is coupled is substantially reduced. As a result, a potential change, that is, a data signal, applied to each data line by each selected memory cell MC is brought to a relatively large level. On the other hand, the remaining data lines (lower data lines) among the complementary data lines in the memory array MIL are connected to the switches MO5FET4. Since Q12 is turned on, it remains coupled to the corresponding data line of the right memory array MIR. As a result, the data line stray capacitance for the dummy cell DC to be selected is set to a value that is substantially equal to the sum of the respective stray capacitances existing in the data lines of the left and right memory arrays MIL and MIR, that is, Co + C.

(2Co)のように約2倍の容量値にされる。したがっ
て、キャパシタCsとCdの容量値を等しくしても、電
荷結合される浮遊容量の比が172になるので、読み出
しハイレベルとロウレベルのは一゛中間にされた基準電
圧V refが形成される。
The capacitance value is approximately doubled, such as (2Co). Therefore, even if the capacitance values of capacitors Cs and Cd are equal, the ratio of the stray capacitances that are charge-coupled is 172, so a reference voltage V ref is formed that is halfway between the read high level and low level. .

このようにして基準電位Vrefが得られることは、フ
ルサイズダミーセルの容量と2つのデータ線のデータ線
容量の和との比がデータ線の浮遊容量の容量値とハーフ
サイズダミーセル側のキャパシタCdの容量値と比を等
しくなることから容易に理解されよう。
The fact that the reference potential Vref is obtained in this way means that the ratio of the capacitance of the full-size dummy cell to the sum of the data line capacitances of the two data lines is the ratio of the capacitance value of the stray capacitance of the data line and the capacitor Cd on the half-size dummy cell side. This can be easily understood from the fact that the capacitance value and ratio are equal.

タイミング信号φpalは、第4図りに示されたように
、ワード線及びダミーワード線が選択レベルにされた後
にハイレベルにされる。これによって、センスアンプS
AI及びSA2の増幅動作が開始される。メモリアレイ
MILの各相補デ−タ線容量間め与えられたレベル差は
、センスアンプSAIによって、第4図Gに示されたよ
うに増幅される。
As shown in Figure 4, the timing signal φpal is set to high level after the word line and dummy word line are set to the selection level. As a result, the sense amplifier S
Amplification operations of AI and SA2 are started. The level difference given between the capacitances of each complementary data line of memory array MIL is amplified by sense amplifier SAI as shown in FIG. 4G.

特に制限されないが、タイミング信号SHR2は、第4
図Fに示されたように、タイミング信号φpalがハイ
レベルにされるとは一同期してロウレベルにされる。こ
れにより、非選択とされたメモリアレイM I Hのデ
ータ線をセンスアンプSAIに結合させるスイッチMQ
SFETQ12.Q14、Q10及びQlB等がオフ状
態にされる。
Although not particularly limited, the timing signal SHR2 may be the fourth
As shown in FIG. F, when the timing signal φpal is set to high level, it is set to low level synchronously. As a result, the switch MQ connects the data line of the unselected memory array M I H to the sense amplifier SAI.
SFETQ12. Q14, Q10, QlB, etc. are turned off.

これによって、センスアンプSAIの増幅動作において
は、センスアンプSAIの各単位回路のそれぞれ対の入
出力ノードに結合される負荷容量のバランスがとれると
ともに、ハイレベルのデータ信号の読み出しの時に基準
電圧Vrefを早くロウレベルに引き抜くことができる
から、上述したような正帰還増幅動作を高速に行うこと
ができる。
As a result, in the amplification operation of the sense amplifier SAI, the load capacitances coupled to each pair of input/output nodes of each unit circuit of the sense amplifier SAI are balanced, and when reading a high-level data signal, the reference voltage Vref can be pulled to a low level quickly, so the positive feedback amplification operation as described above can be performed at high speed.

左側のメモリアレイMILの下側データ線に結合された
メモリセルの読み出しを行う場合、タイミング信号5H
R2が先にロウレベルにされ、続いてセンスアンプSA
Iの動作タイミングに同期してタイミング信号SHR1
がロウレベルにされる。また、右側のメモリアレイMI
Rが選択され、そのメモリアレイMIRからのデータの
読み出しが行われる場合、タイミング信号5HRI、S
HR2ハ、ハイレベルに留まり、タイミング信号5)(
Llと5)IL2がその選択状態に従った、上記同様に
時間差をもってそれぞれロウレベルにされる。このこと
は、第1図の右側に配置された]対のメモリアレイM2
LとM2Rの選択動作においても同様である。
When reading the memory cells coupled to the lower data line of the left memory array MIL, the timing signal 5H
R2 is brought to low level first, then sense amplifier SA
The timing signal SHR1 is synchronized with the operation timing of I.
is set to low level. Also, the memory array MI on the right
When R is selected and data is read from the memory array MIR, timing signals 5HRI, S
HR2 remains at high level, timing signal 5) (
L1 and 5) IL2 are respectively brought to the low level with a time difference according to their selection states, as described above. This means that the pair of memory arrays M2 located on the right side of FIG.
The same applies to the selection operation of L and M2R.

次に、カラムアドレスストローブ信号CASが第4図H
に示されたようにロウレベルの選択レベルにされると、
タイミング発生回路TGは、まずアドレスバッファAD
Bのためのタイミング信号をQ住する。これによって、
アドレスバッファADHは、外部端子から供給されたア
ドレス信号をカラムアドレス信号Y1として取り込み、
そのアドレス信号に対応された内部相補アドレス信号を
出力する。次に、図示しないデータ線選択タイミング信
号がタイミング発生回路TOから出力される。カラムア
ドレスデコーダC−DCR1及ヒDCR2は、データ線
選択タイミング信号によって動作され、内部相補アドレ
ス信号を解読することによってデータ線選択信号を形成
する。カラムアトレスデコーダC−DCRIから出力さ
れるデータ線選択信号によって、メモリアレイMILな
いしM2Rから合計で4対の相補データ線が選択され、
それぞれ力< Y11応された共通相補データ線に接続
される。また、カラムアドレスデコーダC−DCR2か
ら出力されるデータ線選択信号によって、4対の共通相
補データ線の中から1対の共通相補データ線が選択され
る。
Next, the column address strobe signal CAS is
When the selection level is set to low level as shown in
The timing generation circuit TG first uses the address buffer AD.
The timing signal for B is sent to Q. by this,
Address buffer ADH takes in the address signal supplied from the external terminal as column address signal Y1,
An internal complementary address signal corresponding to the address signal is output. Next, a data line selection timing signal (not shown) is output from the timing generation circuit TO. Column address decoders C-DCR1 and DCR2 are operated by a data line selection timing signal and form a data line selection signal by decoding an internal complementary address signal. A total of four pairs of complementary data lines are selected from memory arrays MIL to M2R by a data line selection signal output from column address decoder C-DCRI,
Each is connected to a common complementary data line with a voltage < Y11. Furthermore, one pair of common complementary data lines is selected from the four pairs of common complementary data lines by a data line selection signal output from column address decoder C-DCR2.

ライl−イネーブル信号WEが第4図1に示されたよう
にハイレベルの読み出しレベルにされているなら、デー
タ出力回路D OBを動作状態にさせるための図示しな
いタイミング信号が、データ線選択タイミング信号の後
にタイミング発生回路1゛Gから出力される。これによ
って、デコーダC−1) CR2の出力にもとづいて選
択された共通相補データ線の信号が増幅されて外部端子
Doutへ送出される。
If the line enable signal WE is set to a high read level as shown in FIG. After the signal is output from the timing generation circuit 1'G. As a result, the signal on the common complementary data line selected based on the output of the decoder C-1) CR2 is amplified and sent to the external terminal Dout.

ライI−イネーブル信号WEがロウレベルの書き込みレ
ベルにされると、それに応じてデータ入力回路D I 
Bを動作させるためのタイミング信号がタイミング発生
回路TGから発生される。この場合、外部端子Dinの
書き込みデータ信号がデータ入力回路DIB、及びカラ
ムスイッチ回路CW2L、CW2RSCWIL、CWI
R,スイッチ回路5WILないし5W2Rのいずれかを
介して4つのメモリアレイのうちの1つのメモリアレイ
の相補データ線に供給される。
When the write I-enable signal WE is set to a low write level, the data input circuit D I
A timing signal for operating B is generated from a timing generation circuit TG. In this case, the write data signal of the external terminal Din is transmitted to the data input circuit DIB and the column switch circuits CW2L, CW2RSCWIL, CWI.
R is supplied to the complementary data line of one of the four memory arrays via any one of switch circuits 5WIL to 5W2R.

上記のような構成によって、ダミーセルとしては、いわ
ゆるフルサイズのセルを用いることができるものとなる
。この実施例の場合、フルサイズのダミーセルには、分
圧回路等で形成された電圧のような電源電圧の変動によ
る影響を受けやすい基準電圧そのものがストアされるの
ではなく、回路の接地電位がストアされる。それ故に、
電源電圧の変動に対しても安定した読み出し基準電圧を
形成することができる。また、フルサイズのダミーセル
を用いることができるから、微細パターンの加工精度の
限界や、溝堀キャパシタを利用した場合でも精度の高い
基準電圧を形成することができる。1Mビットのような
大記憶容量のダイナミツク型RAMも実現可能になる。
With the above configuration, a so-called full-size cell can be used as a dummy cell. In the case of this embodiment, the full-sized dummy cell does not store the reference voltage itself, which is susceptible to fluctuations in the power supply voltage, such as a voltage formed by a voltage divider circuit, but stores the circuit's ground potential. Stored. Therefore,
A stable read reference voltage can be formed even when the power supply voltage fluctuates. Further, since a full-sized dummy cell can be used, a highly accurate reference voltage can be formed even when the processing accuracy of fine patterns is limited or when a Mizohori capacitor is used. A dynamic RAM with a large storage capacity such as 1M bits can also be realized.

また、この実施例では、センスアンプSAIを中心にし
てそれの左右に配置された相補データ線を相互に短絡す
るものであるので、α線によるソフトエラーに強いRA
Mを得ることができる。
In addition, in this embodiment, the complementary data lines arranged on the left and right sides of the sense amplifier SAI are short-circuited to each other, so that the RA is resistant to soft errors caused by alpha rays.
You can get M.

すなわち、相補データ線は、RAMのアクセスが開始さ
れるごとによってプリチャージ回路PCが非動作状態に
されると、それに応じてフローティング状態にされる。
That is, when the precharge circuit PC is rendered inactive each time access to the RAM is started, the complementary data line is rendered floating in response.

この状態の相補データ線は、それぞれのレベルが、実質
的にそれぞれの容量に保持された電荷のみによって決定
されているので、α線による影響を受けやすくなる。1
つのデータ線にα線が照射されてしまった場合、そのデ
ータ、’tJ 線は、α線によってもたりせるリーク電流によってその
レベルが低下されてしま・う。1つのデータ線のレベル
が変化されると、これに応じて相補データ線間のレベル
差が不所望に変化されることになる。α線による影響は
、データ信号のセンス動作の開始時のように、相補デー
タ線間のレベルが充分に大きくされていないときにおい
て、特に犬きい。
The complementary data lines in this state are susceptible to the effects of α rays because their respective levels are substantially determined only by the charges held in their respective capacitors. 1
If one data line is irradiated with α rays, the level of that data, 'tJ ray, will be lowered by the leakage current caused by the α rays. If the level of one data line is changed, the level difference between complementary data lines will be undesirably changed accordingly. The influence of alpha rays is particularly severe when the level between complementary data lines is not sufficiently increased, such as at the beginning of a data signal sensing operation.

第5A図は、基準電位がα線によって変化されてしまう
ときの、相補データ線の電圧波形を示している。相補デ
ータ線のうちの一方のメモリセルからの読み出しデータ
信号が与えられるべきデータIII (以下、読め出し
データ線と称する)は、メモリセルの選択が開始される
と、第5A図に実線によって示されたように、ハイレベ
ルH又はロウレベルLにされる。相補データ線のうちの
基準電位が与えられるべき他方のデータ線(以下、基準
データ線と称する)は、ダミーセルが選択されることに
よって、基準電位Vrefにされる。この場合、基準デ
ータ線の電位は、α線による影響によって、第5A図に
おいて破線で示されたように低下される。その結果、ダ
ミーセルが選択されたときに基準データ線に与えられる
基準電位V refば、α線による影響の無い場合に対
して低下されてしまう。基準電位Vrefの低下によっ
て、読み出しデータ線のロウレベルLと基準電位Vre
fとのレベル差が不所望に減少される。しかしながら、
この実施例に従うと、基準データ線は、それが前述のよ
・うに非選択のメモリア[・イの対応するデータ線に結
合され′Cいるごとによって、実質的に2倍のデータ線
容量を持つ。それ故に、α線によってリーク電流が発生
されても、基準電位V refの変動は小さく抑えられ
る。基準電位V refの小さい変動によって、口うレ
ベルの読み出しにおける相補データ線間のレベル差の減
少は、少なくされる。
FIG. 5A shows the voltage waveform of the complementary data line when the reference potential is changed by alpha radiation. Data III (hereinafter referred to as read data line) to which a read data signal from one memory cell of the complementary data lines is to be applied is indicated by a solid line in FIG. 5A when memory cell selection is started. The signal is set to high level H or low level L as shown in FIG. The other data line (hereinafter referred to as a reference data line) to which a reference potential is applied among the complementary data lines is set to the reference potential Vref by selecting a dummy cell. In this case, the potential of the reference data line is lowered as indicated by the broken line in FIG. 5A due to the influence of the alpha rays. As a result, the reference potential V ref applied to the reference data line when the dummy cell is selected is lower than that in the case where there is no influence from α rays. Due to the decrease in the reference potential Vref, the low level L of the read data line and the reference potential Vre
The level difference with f is undesirably reduced. however,
According to this embodiment, the reference data line has substantially twice the data line capacitance by virtue of the fact that it is coupled to the corresponding data line of the unselected memoriar as described above. . Therefore, even if leakage current is generated by α rays, fluctuations in the reference potential V ref can be suppressed to a small level. Due to the small variation in the reference potential V ref, the decrease in the level difference between complementary data lines in reading out the level is reduced.

第5B図は、ハイレベルの読み出しデータが与えられる
べきデータ線のレベルがα線によって影響される場合の
電圧波形を示している。
FIG. 5B shows a voltage waveform when the level of the data line to which high-level read data is to be applied is influenced by alpha rays.

すなわち、読み出しデータ線は、それにα線が照射され
ることによっ”ζ、それにおける容量COに蓄積されて
いた電荷が減少される。これによって読み出しデータ線
のレベルは、第5B図の実線曲線から破線曲線に変化さ
れる。すなわち読み出しデータ線のこのように低下させ
られた読み出しデータ線のレベルは、は−そのまま読み
出しハイレー・ルにされる。
That is, by irradiating the read data line with α rays, the charge accumulated in the capacitance CO therein is reduced. As a result, the level of the read data line changes to the solid line curve in FIG. 5B. In other words, the level of the read data line lowered in this way remains at the read high level.

なお、ダミーセルを構成するキャパシタCdの容量値は
、次の点を考慮してメモリセルのキャパシタCsのそれ
に対し若干大きくされた方が望ましい。すなわち、ロウ
レベルLの読み出しを行う場合であって読み出しデータ
線のレベルがα線によって影響される場合、その読み出
しデータ線のレベルの低下分はそのまま基準電圧V r
efに対する読み出しレベルマージンを大きくさせるこ
とになる。このことに着目して、基準電圧V refは
、α線によって低下される読み出しデータ線のハイレベ
ルH° とα線による影響がない場合の読み出しデータ
線のロウレベルLとのは一中間に設定されることが望ま
しい。言い換えるならば、ダミーセルのキャパシタCd
は、α線によるワーストケース、すなわち、各データ線
がフローティング状態にされてからセンスアンプが動作
状態にされるまでの短い時間に、α線によってもたらさ
れる相補データ線間のレベル差のワーストケースを想定
して、基準電圧Vrefに適当なオフセントを与えるよ
うな値にされることが望ましい。
Note that it is preferable that the capacitance value of the capacitor Cd constituting the dummy cell is made slightly larger than that of the capacitor Cs of the memory cell, considering the following points. In other words, when reading low level L and the level of the read data line is affected by α rays, the drop in the level of the read data line remains unchanged as the reference voltage V r
This increases the read level margin for ef. Focusing on this, the reference voltage V ref is set to be halfway between the high level H° of the read data line that is lowered by α rays and the low level L of the read data line when there is no influence from α rays. It is desirable that In other words, the dummy cell capacitor Cd
is the worst case of the level difference between complementary data lines caused by α rays in the short time from when each data line is placed in a floating state until the sense amplifier is activated. It is desirable to set a value that gives an appropriate offset to the reference voltage Vref.

なお、α線は、それが実質的にランダムに半導体基板上
に照射されるので、当然にメモリセルのキャパシタ又は
ダミーセルのキャパシタにも照射され得る。この場合、
ダミーセルの数は少ないので、そのキャパシタにα線が
照射される確率は、無視できる程度のものとなる。これ
に対して、メモリセルのキャパシタについては、その容
量値が極めて小さいのでα線が照射されると記憶電荷の
多くが減少させられてしまう。その場合回路的な対策は
、例えばパリティビットとエラー訂正回路とを使用する
公知のエラー訂正構成の採用によって可能とされる。
Note that since the α rays are irradiated onto the semiconductor substrate substantially randomly, it is natural that the capacitors of the memory cells or the capacitors of the dummy cells can also be irradiated with the α rays. in this case,
Since the number of dummy cells is small, the probability that the capacitor will be irradiated with alpha rays is negligible. On the other hand, since the capacitance value of the capacitor of a memory cell is extremely small, when it is irradiated with alpha rays, much of the stored charge is reduced. In this case, a circuit countermeasure is possible, for example, by employing a known error correction structure using a parity bit and an error correction circuit.

第6図には、この発明の他の一実施例を示す回路図が示
されている。
FIG. 6 shows a circuit diagram showing another embodiment of the present invention.

この実施例回路は、上記シエアードセンスアンプ方式に
代え、それぞれにセンスアンプSAが設けられた2つの
メモリアレイMLとMRの対応するデータ線間にスイッ
チMO3FETが設けられる。なお、第6図において、
プリチャージ回路は、以下説明する要点と直接関係が無
いので、図示されていない。
In this embodiment circuit, instead of the shared sense amplifier method described above, a switch MO3FET is provided between corresponding data lines of two memory arrays ML and MR, each of which is provided with a sense amplifier SA. In addition, in Fig. 6,
The precharge circuit is not shown because it is not directly related to the main points described below.

同図の左側に配置されたメモリアレイMLについて説明
すると、一対の平行に配置された相補データ線DL、D
Lは、上記実施例と類似のMO5FETQI、Q2によ
り構成されたセンスアンプSAの入出力ノードに直接結
合されている。また、この相補データ線D1..DLに
は、アクティブリストア回路ARが設けられている。こ
のような相補データ1jlD+7.DLに結合されるメ
モリセルMCの構成は、前記第2A図及び第2B図に示
したメモリセルMCと同様であるのでその説明を省略す
る。
To explain the memory array ML arranged on the left side of the figure, a pair of complementary data lines DL and D are arranged in parallel.
L is directly coupled to the input/output node of a sense amplifier SA configured by MO5FETs QI and Q2 similar to those in the above embodiment. Moreover, this complementary data line D1. .. The DL is provided with an active restore circuit AR. Such complementary data 1jlD+7. The structure of the memory cell MC coupled to DL is the same as that of the memory cell MC shown in FIGS. 2A and 2B, so its explanation will be omitted.

上記センスアンプSAを動作状態にさせるMO3FET
Q27.Q10のゲートには、このメモリアレイMLが
選択状態にされた時に前記同様に発生させられるタイミ
ング信号φ1、Pl とφLP2が供給される。メモリ
アレイMLの各データ線と共通データ線CD了、CDI
との間には、それぞれカラムスイッチ回路CWLを構成
するスイッチMO5FETQ30〜Q33が設りられて
いる。これによって、カラムアドレスデコーダにより形
成された選択信号Y1..I、YLnに対応された一対
の相補データ線が共通相補データ線CDI、CDIに結
合される。
MO3FET that puts the above sense amplifier SA into operation state
Q27. The gate of Q10 is supplied with timing signals φ1, Pl, and φLP2, which are generated in the same manner as described above when this memory array ML is brought into the selected state. Each data line of memory array ML and common data line CD end, CDI
Switches MO5FETQ30 to Q33, each of which constitutes a column switch circuit CWL, are provided between them. This causes the selection signal Y1. generated by the column address decoder. .. A pair of complementary data lines corresponding to I and YLn are coupled to common complementary data lines CDI and CDI.

第6図の右側のメモリアレ、i’MRば、メモリアレイ
MLの各データ線と一対一対応されたデータ線を持つ。
The memory array i'MR on the right side of FIG. 6 has data lines in one-to-one correspondence with each data line of the memory array ML.

このメモリアレイMRは、上記左側のメモリアレイML
と類似のセンスアンプSA及びカラムスイッチ回路CW
Rが設けられる。ヒンスアンプSAの動作タイミング信
号φRPI とφI?P2は、このメモリアレイMRが
選択状態にさせられた時に発生させられる。
This memory array MR is the memory array ML on the left side above.
Sense amplifier SA and column switch circuit CW similar to
R is provided. Operation timing signals of Hince amplifier SA φRPI and φI? P2 is generated when this memory array MR is brought into a selected state.

フルサイズダミーセルDCは、メモリアレイML、!:
!IJRの互いに対応されたデータ線の一方にのみ設け
られている。特に制限されないが、各メモリアレイにお
いて、ダミーセルは、相補データ線の一方のみに設けら
れている。すなわち、図示のように、左側のメモリアレ
イMLの相補データ線DL、DLのうちの上側データ線
DLにダミーセルDCが設けられていることに応じて、
右側のメモリアレイMRの下側データVMDLにダミー
セルDCが設けられている。これらのダミーセルは、上
記第2図に示したものと同様であるので、その詳細な説
明を省略する。
The full-size dummy cell DC is the memory array ML,! :
! It is provided only on one of the mutually corresponding data lines of IJR. Although not particularly limited, in each memory array, dummy cells are provided only on one of the complementary data lines. That is, as shown in the figure, in response to the fact that the upper data line DL of the complementary data lines DL and DL of the left memory array ML is provided with the dummy cell DC,
A dummy cell DC is provided in the lower data VMDL of the right memory array MR. Since these dummy cells are similar to those shown in FIG. 2 above, detailed explanation thereof will be omitted.

そして、上記左右のメモリアレイMLとMRの対応する
データ線間にそれぞれスイッチMO3FETQ34〜Q
37が設けられる。メモリアレイMLとMRの各上側デ
ータ線DL間に設けられたスイッチMO3FETQ34
.Q36等のゲートは、共通化されてタイミング信号φ
1が供給される。また、下側データ線DL間に設けられ
たスイッチMO3FETQ35.Q37のゲートは、共
通化されてタイミング信号φ2が供給される。
Switches MO3FETQ34 to Q are connected between the corresponding data lines of the left and right memory arrays ML and MR, respectively.
37 are provided. Switch MO3FETQ34 provided between each upper data line DL of memory arrays ML and MR
.. Gates such as Q36 are shared and receive timing signal φ
1 is supplied. In addition, a switch MO3FETQ35. is provided between the lower data lines DL. The gate of Q37 is shared and supplied with timing signal φ2.

この実施例の回路は、図示しないタイミング発生回路か
ら発生されるタイミング信号φ1.φ2、φLPI、φ
LP2 、φl?P1.φRP2のタイミングが次の説
明から明らかとなるように適当に変更されること、及び
メモリアレイMLとMRのそれぞれに対応された図示し
ないロウアドレスデコーダが適当に変更されることに応
して、2つの構成を採り得る。
The circuit of this embodiment uses timing signals φ1. φ2, φLPI, φ
LP2,φl? P1. 2 as the timing of φRP2 is appropriately changed as will become clear from the following explanation, and row address decoders (not shown) corresponding to each of memory arrays ML and MR are appropriately changed. Two configurations are possible.

第1の構成において、左側メモリアレイMLと右側メモ
リアレイMRとは、択一的に選択されるようにされる。
In the first configuration, left memory array ML and right memory array MR are selectively selected.

すなわち、2つのメモリアレイML及びMHに対応され
るべき図示しないロウアドレスデコーダは、ロウアドレ
ス信号に基づいて2つのメモリアレイML及びMRの複
数のワード線のうりの1つを選択するように構成される
。共通データ線CI)1及びCI)lと、共通データ線
C1)丁及びCI) 2は、前記実施例と同様な図示し
ない第2のカラムスイッチ回路によって選択される。
That is, a row address decoder (not shown) that should correspond to the two memory arrays ML and MH is configured to select one of the plurality of word lines of the two memory arrays ML and MR based on the row address signal. be done. The common data lines CI)1 and CI)l and the common data lines C1) and CI)2 are selected by a second column switch circuit (not shown) similar to the previous embodiment.

この第1の構成にされた場合の回路の動作は、は−」二
記@2A図及び第2B図の実施例回路と同様にされる。
The operation of the circuit in this first configuration is similar to the circuit of the embodiment shown in Figures 2A and 2B.

ただ、それぞれのメモリアレイMLとM F?のそれぞ
れに設けてられたセンスアンプSAやアクティブリス(
・子回路A Rは、選択されたメモリアレイに対応され
るもののみが動作状態にされることが異なっている。
However, each memory array ML and MF? The sense amplifier SA and active squirrel (
- The child circuit A is different in that only the one corresponding to the selected memory array is activated.

すなわち、例えは、左側のメモリアレ・i Ivi L
の上側データ線1) I、に結合されたメモリセルか選
択される場合、メモリアレイM Lの1つのワード線が
選択状態にされる前に、タイミング信号φ1が第7図り
に示されたようにロウレベルにされてスイッチ)JO3
FETQ34.Q36等が先にオフ状態にされる。
In other words, for example, the memory area on the left i Ivi L
When the memory cell coupled to the upper data line 1) I of the memory array M L is selected, the timing signal φ1 is activated as shown in FIG. switch to low level) JO3
FETQ34. Q36 etc. are turned off first.

これにより、左側のメモリアレイMLのうちの上側デー
タ線DLに結合されたメモリセルが選択される時、その
データ線D Lは、右側メモリアレイMRの対応された
上側データ線から切り離されている。、二の場合、上側
データ線に結合されたメモリセルが選択されることに応
してダミーワード線DWLはハイレベルの選択レベルに
される。これに応じて右側のメモリアレイMRの下側デ
ータ線に結合されているダミーセルが選択される。タイ
ミング信号φ2は、第7図りのようにダミーセルが選択
されても、まだハイレベルのままにされる。これによっ
て左右のメモリアレイML、MRの下側データ線DL、
DLは、それらが前記実施例と同様に互いに結合された
ままであるので、フルサイスのダミーセルによって、ト
記同様な基準電圧Vrefにされる。タイミング信号φ
2は、前記実施例と同様に、センスアンプのための夕(
<ング信号ψLPiが第7図Cに示されたようにハイレ
ベルにされるタイミングに同期して第7図りに示された
ようにロウレベルにされる。これによってスイン(−M
O5FE’T’Q35.Q37等がオフ状態にされ、左
右のメモリアレイのデータ綿量は分離される。
As a result, when a memory cell coupled to the upper data line DL of the left memory array ML is selected, the data line DL is separated from the corresponding upper data line of the right memory array MR. . , 2, the dummy word line DWL is set to a high selection level in response to the selection of the memory cell coupled to the upper data line. In response, the dummy cell coupled to the lower data line of the right memory array MR is selected. The timing signal φ2 is still kept at a high level even if the dummy cell is selected as shown in the seventh diagram. As a result, the lower data line DL of the left and right memory arrays ML, MR,
DL are brought to the same reference voltage Vref by full-sized dummy cells, since they remain coupled together as in the previous embodiment. timing signal φ
2 is an input (
The signal ψLPi is set to a low level as shown in FIG. 7 in synchronization with the timing at which it is set to a high level as shown in FIG. 7C. This allows Suin (-M
O5FE'T'Q35. Q37 etc. are turned off, and the amount of data in the left and right memory arrays is separated.

上記夕’(ミニ’グ信号φLPI とその後に発生され
るφ1.P2に従って左側のメモリアレイM Lのセン
スアンプSAが一斉に動作され、選択されたメモリセル
からの読み出し信号が増幅される。センスアンプSAが
動作された後の適当なタイミングにおいて、データ線選
択信号YLIないしY L rrが発生され、メモリア
レイMLにおける一対の相補データ線が選択される。
The sense amplifiers SA of the left memory array M L are operated all at once according to the above-mentioned miniaturization signal φLPI and the subsequent generated φ1.P2, and the read signal from the selected memory cell is amplified. At an appropriate timing after amplifier SA is operated, data line selection signals YLI to Y L rr are generated to select a pair of complementary data lines in memory array ML.

第2の構成に従うと、2つのメモリアレイML及びMR
は、図示しないロウアドレスデコーダが適当な構成にさ
れることによって、同時に選択される。メモリアレイM
Lの各ワード線は、メモリアレーiMRの各ワード線に
一対一対応にされる。
According to the second configuration, two memory arrays ML and MR
are simultaneously selected by appropriately configuring a row address decoder (not shown). Memory array M
Each word line of L is in one-to-one correspondence with each word line of memory array iMR.

メモリアレイMLとMRの互いに対応されたワード線は
、それぞれのメモリアレイMLとMRの互いに対応され
たデータ線に結合されているところのメモリセルに結合
されどいる。メモリアレイML及びMRにそれぞれ結合
されたセンスアンプの動作を制御するためのタイミング
信号φLPI、とφLP2及びφPR1とφPR2とば
、前述の第1の構成と異なり、互いに同じにされる。メ
モリアレイMLとMRとの間に設けられたスイッチ回路
(Q3  4〜Q37)を制御するだめのタイミング信
号φ1及びφ2ば、以下の説明から明らかとなるように
、そのタイミングが前記第1の構成に対して変更される
The mutually corresponding word lines of memory arrays ML and MR are coupled back to the memory cells that are coupled to the mutually corresponding data lines of the respective memory arrays ML and MR. Timing signals φLPI, φLP2, φPR1, and φPR2 for controlling the operations of the sense amplifiers coupled to memory arrays ML and MR, respectively, are made the same, unlike the first configuration described above. As will be clear from the following explanation, the timing signals φ1 and φ2 for controlling the switch circuits (Q34 to Q37) provided between the memory arrays ML and MR are different from those in the first configuration. changed to .

この第2の構成にされた回路の動作は、次のようになる
The operation of the circuit having the second configuration is as follows.

タイミング信号φ1及びφ2は、RAS信号が第8図A
のようにハイレベルにされているなら、それに応じて第
8図りのようにハイレベルにされている。これによって
スイッチ回路は、オン状態にされ、メモリアレイML及
びMRのそれぞれに対応されたデータ線は、互いに短絡
されている。
The timing signals φ1 and φ2 are the RAS signal as shown in FIG. 8A.
If it is set to a high level as shown in Figure 8, it is set to a high level as shown in the 8th diagram. As a result, the switch circuit is turned on, and the data lines corresponding to each of memory arrays ML and MR are short-circuited to each other.

この時の各データ線は、は5回路の處〜電圧Vccに等
しいようなブリヂャージレベルにされてむ・る。
At this time, each data line is set to a bridge level equal to the voltage Vcc of the five circuits.

RA S IFJ 号が1コウレヘルにされることによ
って、RA Mのアクセスが開始される。
Access to the RAM is started by setting the RA S IFJ number to 1 value.

タイミング信号φl及びφ2のうちの読め出しデータ線
とされるべきデータ線に結合されたM O3F E T
を制御するためのタイミンク信号は、ワード線の選択が
開始される前に「】つし・ヘルにされる。例えば、メモ
リアレイML及びMRのそれぞれの相補データ線のうち
の上側データ線DLが読み山しデータ線とされるなら、
タイミンク信号φ17!l<第8図りのようにロウ【ノ
ベル番こさ狛る。これによって、メモリアレイML及び
MRのそれぞれの上側データ線が互いに電気的に分離さ
れる。
M O3F E T coupled to the data line to be used as the read data line of the timing signals φl and φ2
The timing signal for controlling the word line is set to ``] before the word line selection starts.For example, the upper data line DL of each complementary data line of the memory arrays ML and MR is If it is considered as a reading data line,
Timing signal φ17! l<Low like the 8th plan [Novel number Kosamaru. This electrically isolates the upper data lines of memory arrays ML and MR from each other.

タイミング信号φ1もしくはφ2の1つがロウレベルに
された後に、メモリアレイML及びM Rの互いに対応
された1つずつのワーI′線か選択され乙。ワード線選
択と同期して、タミーワード線DWI及びDWl、の1
つが選択される。これによって、メモリアレイML及び
MRの各読め出し、データ線にそれぞれメモリセルから
のデータ信号が与えられるとともに、各基準データ線に
基準電位が与えられる。
After one of the timing signals φ1 or φ2 is set to low level, one word I' line corresponding to each other in memory arrays ML and MR is selected. In synchronization with the word line selection, one of the tammy word lines DWI and DWl.
is selected. As a result, data signals from the memory cells are applied to each read and data line of memory arrays ML and MR, and a reference potential is applied to each reference data line.

タイミンク信号φl及びφ2のうちの基準データ線に結
合されたM OS F E Tを制御するためのタイミ
ング信号に、ダミーワード線が選択された後であってセ
ンスアンプの制御のためのタイミング信号が発生される
までの間に、ロウレベルにされる。これによって、メモ
リアレイMLとMRの基準データ線の相互は、互いに電
気的に分離される。
After the dummy word line is selected, the timing signal for controlling the sense amplifier is used as the timing signal for controlling the MOS FET coupled to the reference data line among the timing signals φl and φ2. It is set to low level until it is generated. Thereby, the reference data lines of memory arrays ML and MR are electrically isolated from each other.

その後、タイミング信号φLPI 、ψRPI 、φL
P2、及びφl?P2が第8図Cのよ・うに発生される
ことによって、メモリアレイML及びMRのそれぞれに
結合されていセンスアンプSAが動作される。
After that, the timing signals φLPI, ψRPI, φL
P2, and φl? By generating P2 as shown in FIG. 8C, sense amplifier SA coupled to each of memory arrays ML and MR is operated.

センスアンプSAの動作の後、データ線選択信号が図示
しないカラムアドレスデコーダから発生され、メモリア
レイML及びMRのそれぞれ1つずつの相補データ線が
それぞれ共通データ線CD1、CI)1、CD2及びC
D2に結合される。
After the operation of the sense amplifier SA, a data line selection signal is generated from a column address decoder (not shown), and one complementary data line of each of the memory arrays ML and MR is connected to the common data lines CD1, CI)1, CD2 and C, respectively.
It is coupled to D2.

この実施例では、センスアンプSAとデータ線と力く直
i;古されこいるので、センスアンプSAの高速動作(
u4i:図るごとがごきるものである。
In this embodiment, since the sense amplifier SA and the data line are closely connected, the high-speed operation of the sense amplifier SA (
u4i: Every plan is worth it.

この実施例においても、フルザイズのダミーセルによっ
(読み出し基準電圧を形成)ることができる。また、デ
ータ線のf!!、遊客量は、一時的に大きくで八・Sか
ら、前記同様にα線による耐ソフトエラーの強化を図る
ことができる。
In this embodiment as well, full-size dummy cells can be used (to form the read reference voltage). Also, the data line f! ! Since the number of visitors is temporarily large, from 8.S, it is possible to strengthen the resistance to soft errors caused by alpha rays as described above.

第9図は、他の実施例のダイナミック型RA Mの回路
図である。
FIG. 9 is a circuit diagram of a dynamic RAM according to another embodiment.

この実hfh例に従うと、1つのメモリアレイM−AR
Yにおける相補データ線DLO,DLOとをそれぞれ隣
接する相補データ線1)1.1.DLlとの間に、ぞれ
ぞれタイミンク信号φ1.φ2によってスーfンチ制御
さイ′LるMO3FE′「Qi ] 0ないしQ113
が設けられている。特に制限されないが、MOS F 
E’rQ 110とQlllとを直列接続さU”るため
の配線5HLOは、各データ線相互の容量バランスをよ
り良好にさせるために、ゾロ〇 一タ線DLO及びDl、1にも交差される。同様に配線
S HL OもDLO及びDLIにも交差される。
Following this practical hfh example, one memory array M-AR
Complementary data lines DLO and DLO in Y are connected to adjacent complementary data lines 1) 1.1. Timing signals φ1.DL1 and DL1, respectively. φ2 controls the speed control 'L MO3FE''Qi] 0 to Q113
is provided. Although not particularly limited, MOS F
The wiring 5HLO for connecting E'rQ 110 and Qllll in series is also crossed by the data lines DLO and Dl, 1 in order to better balance the capacitance between the data lines. Similarly, the wiring S HLO also intersects with DLO and DLI.

なお、MO3FE’l’Q110とQlll、Ql12
とQ113は、それぞれ互いに直列接続されること、同
時にオンオフされることから、それぞれ1個のM OS
 F E Tに置き換えられても良い。フルサイズダミ
ー廿ルは、それぞれデータ線DLO。
In addition, MO3FE'l'Q110, Qllll, Ql12
and Q113 are connected in series with each other and turned on and off at the same time, so each of them is one MOS
It may be replaced with FET. Each full-size dummy line has a data line DLO.

π7丁に結合されている。各データ線と、共通データ線
CD及びCDとの間には、カラムスイッチ回路を構成す
るMO3F’ETQ114ないしQlllが設けらてい
る。なお、第9図において、相補データ線のそれぞれに
結合されるべきアクティブリストア回路及びプリチャー
ジ回路は、図面が複雑になることを避りるために省略さ
れている。
It is connected to π7. MO3F'ETQ114 to Qllll forming a column switch circuit are provided between each data line and the common data lines CD and CD. Note that in FIG. 9, the active restore circuit and precharge circuit to be coupled to each of the complementary data lines are omitted to avoid complicating the drawing.

この実施例の回路動作は、前記第6図の実施例のそれと
ほとんど同じにされる。
The circuit operation of this embodiment is made almost the same as that of the embodiment of FIG. 6 above.

すなわち、タイミング信号φI及びφ2は、その一方が
ワード線の選択開始に先立つ′(予めロウレベルにされ
、その他方が、ワード線の選択の開始の後であってセン
スアンプSAの動作の開始前にロウレベルにされる。こ
れによって、読み出しデータ線とされるべき2つのデー
タ線間に設けられている直列接続の2つのMOSFET
は、ワード線の選択開始前にオフ状態にされ、基準デー
タ線とされるべき2つのデータ線間に設けられている直
列接続の2つのM OS F E′rは、ダミーセルに
よって基準電位が形成された後にオフ状態にされる。
That is, one of the timing signals φI and φ2 is set to low level before the start of word line selection (in advance), and the other one is set to low level after the start of word line selection and before the start of the operation of the sense amplifier SA. The two MOSFETs connected in series between the two data lines to be read data lines are set to low level.
is turned off before the start of word line selection, and the two series-connected MOS F E'r provided between the two data lines to be used as reference data lines have a reference potential formed by a dummy cell. is then turned off.

α線による基準電位の変動は、2つの基準データ線が、
センスアンプSAの動作開始の直前まで互いに短絡され
ているので、小さくなる。
The fluctuation of the reference potential due to α rays is caused by the two reference data lines being
Since they are short-circuited to each other until just before the sense amplifier SA starts operating, it becomes small.

第10図は、更に他の実施例のダイナミック型RAMの
回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram of a dynamic RAM according to yet another embodiment.

この実施例のRAMは、ハーフプリチャージ方式を取る
ようにされ、ダミーセルを持たない。
The RAM of this embodiment uses a half precharge method and does not have dummy cells.

この実施例のRAMは、第6図の実施例のそれと同様に
、メモリアレイMLとMRとのそれぞれに対応されたデ
ータ線間に、MO3FETQ34゜Q35からなるスイ
ッチ回路SWを持つ。
Like the embodiment shown in FIG. 6, the RAM of this embodiment has a switch circuit SW consisting of MO3FETQ34°Q35 between the data lines corresponding to each of memory arrays ML and MR.

メモリアレイM L及びMRのそれぞれの相補データ線
DL、DLには、それぞれセンスアンプSA、プリチャ
ージ回路PC及び図示しないメモリセルが結合される。
A sense amplifier SA, a precharge circuit PC, and a memory cell (not shown) are coupled to complementary data lines DL and DL of memory arrays ML and MR, respectively.

各データ線には、また第6図に示されたようなカラムス
イッチ回路が結合される。
Each data line is also coupled to a column switch circuit as shown in FIG.

プリチャージ回路PCは、図示されたよ・うに、相補デ
ーク線り1..DL間に設けられたNチャンネルMO3
FETQ12Bから構成され”(いる。
The precharge circuit PC is connected to the complementary data lines 1. as shown. .. N-channel MO3 installed between DL
It is composed of FETQ12B.

センスアンプSAは、CMOSラッチ回路を構成すると
ころのNチャンネルMO3FETQI 20、Q121
、及びPチャンネルMO3FE’l’Q122、Q12
3を含む。センスアンプSAは、更に、MO3FETQ
120及びQ121の共通ソースと回路の接地点との間
に設けられたパワースイッチ用のNチャンネルMO3F
ETQ124゜Q125及びMO3FETQI 22及
びQ123の共通ソースと回路の電源電圧Vccとの間
に設番テられたパワースイッチ用のPチャンネルM O
S FETQ126.Q127を含む。MOS F E
TQ124及びQ126は、互いに逆相にされたタイミ
ング信号φpaLφpalによって同時にオンオフされ
、同様に、MO3FETQI 25及びQ127は、タ
イミング信号φpa2.φpa2によって同時にオンオ
フされる。
Sense amplifier SA consists of N-channel MO3FETQI20, Q121, which constitutes a CMOS latch circuit.
, and P channel MO3FE'l'Q122, Q12
Contains 3. The sense amplifier SA further includes a MO3FETQ
N-channel MO3F for power switch provided between the common source of 120 and Q121 and the ground point of the circuit
ETQ124゜Q125 and MO3 P-channel MO for the power switch connected between the common source of FETQI 22 and Q123 and the circuit power supply voltage Vcc
S FETQ126. Including Q127. MOS F E
TQ124 and Q126 are turned on and off at the same time by timing signals φpaLφpal having mutually opposite phases, and similarly, MO3FETs QI 25 and Q127 are turned on and off by timing signals φpa2. It is turned on and off simultaneously by φpa2.

この実施例に従うと、メモリアレイML及びMRの各相
補データ線DL、DLのプリチャージレベルは、次のよ
うにされる。
According to this embodiment, the precharge levels of complementary data lines DL and DL of memory arrays ML and MR are set as follows.

すなわち、RAMがアクセス状態から非アクセス状態に
されると、それに応じてメモリアレイML及びMRにお
ける図示しない1つずつのワード線がロウレベルの非選
択レベルにされ、また、パワースイッチMO3FBTQ
I 24ないしQ127をオフ状態にさせるようにタイ
ミング信号φpa1、φpa2 、及びφpaLφpa
2がそれぞれロウレベル及びハイレベルにされる。更に
、プリチャージ用のタイミング信号φpcがハイレベル
にされる。
That is, when the RAM is changed from an access state to a non-access state, each word line (not shown) in memory arrays ML and MR is set to a low non-selection level, and the power switch MO3FBTQ is set to a low non-select level.
The timing signals φpa1, φpa2, and φpaLφpa are set to turn off I24 to Q127.
2 are set to low level and high level, respectively. Further, the precharge timing signal φpc is set to high level.

タイミング信号φpcがハイレベルにされることによっ
て、プリチャージ回路PCが動作状態にされる。プリチ
ャージ回路PCは、それが結合された相補データ線DL
及びDLの相互の電荷を再分配させる。その結果、以前
のセンスアンプSAの増幅動作に応じてそれぞれは一電
源電圧Vccに等しいハイレベル及びは−接地電位に等
しいロウレベルにされていた相補データ線DL及びDL
は、はVVcc/2に等しいプリチャージレベルにされ
る。相補データ線DL及びDLのこのプリチャージレベ
ルは、メモリセルからのデータ信号読み出しの場合の基
準電位とみなされる。
By setting the timing signal φpc to a high level, the precharge circuit PC is activated. The precharge circuit PC is connected to the complementary data line DL to which it is coupled.
and DL to redistribute their mutual charges. As a result, complementary data lines DL and DL, which had been set to a high level equal to one power supply voltage Vcc and a low level equal to -ground potential, respectively, according to the previous amplification operation of the sense amplifier SA.
is brought to a precharge level equal to VVcc/2. This precharge level of complementary data lines DL and DL is regarded as a reference potential in the case of reading data signals from memory cells.

この実施例の回路の動作は、そのプリチャージレベルの
違いを除いて、前記第6図の実施例のそれと実質的に同
じにされる。それ故に、プリチャージ動作後の回路動作
の説明は省略する。
The operation of the circuit of this embodiment is substantially the same as that of the embodiment of FIG. 6, except for the difference in precharge level. Therefore, a description of the circuit operation after the precharge operation will be omitted.

〔効 果〕〔effect〕

(11一対のメモリアレイの対応するデータ線のうち、
選択されるべきダミーセルが結合された方のデータ線間
を短絡することによりその浮遊容量値を選択されるべき
メモリセルが結合されたデータ線の浮遊容量値の2倍に
することができる。これにより、フルサイズのダミーセ
ルによりデータ線の読み出しハイレベルとロウレベルの
はソ゛中間レベルの基準電圧を形成することができると
いう効果が得られる。
(Of the 11 pairs of corresponding data lines of the memory array,
By short-circuiting the data line to which the dummy cell to be selected is coupled, its stray capacitance value can be made twice the stray capacitance value of the data line to which the memory cell to be selected is coupled. This provides the effect that a full-sized dummy cell can form a reference voltage at an intermediate level between the read high level and low level of the data line.

(2)上記フルサイズのダミーセルに、予め回路の接地
電位かストアされるので、電源電圧の変動に対しても安
定した読み出し基準電圧を形成することができるという
効果が得られる。
(2) Since the circuit ground potential is stored in advance in the full-sized dummy cell, it is possible to form a read reference voltage that is stable even with fluctuations in the power supply voltage.

(3)上記(])により、フルサイズのダミーセルを用
いることができるから、微細パターンの加工精度の限界
又は溝堀キャパシタの採用に対しても回路の動作マージ
ンを大きくできるという効果が得られる。これによって
、IMピッI・のような大記憶容量のダイナミック型R
AMも実現可能になる。
(3) Since full-sized dummy cells can be used due to the above (]), it is possible to obtain the effect that the operating margin of the circuit can be increased even when the processing precision of fine patterns is limited or the Mizohori capacitor is adopted. This allows dynamic type R with large storage capacity such as IM Pi I.
AM will also become possible.

(4)データ線を短絡状態にしてプリチャージレベルを
保持させることによって、その浮遊容量値を大きくでき
る。これによって、α線によるデータ線のレベル低下を
軽減できるから、耐ソフ1−エラーの強化を図ることが
できるという効果が得られる。
(4) By short-circuiting the data line and holding the precharge level, the stray capacitance value can be increased. This makes it possible to reduce the drop in the level of the data line due to α rays, thereby achieving the effect that the software 1-error resistance can be strengthened.

(5)基準電圧をα線の影響によるワーストケースを想
定して、ロウレベル側にオフセットを持たせることによ
って、ハイレベル側の落ち込みに対するレベルマージン
を確保できるから、上記(4)の効果と相俟っていっそ
うの耐ソフトエラーの強化を図ることができるという効
果が得られる。
(5) Assuming the worst case of the reference voltage being affected by alpha rays, by providing an offset on the low level side, it is possible to secure a level margin against a drop on the high level side, which works in conjunction with the effect of (4) above. The effect is that the resistance to soft errors can be further strengthened.

(6)上記+11ないしく5)の相乗的な作用によって
、メモリセルやダミーセルの微細化が実現できるから、
ダイナミック型RAMのアンプサイズの小型化ないし大
記憶容量化を実現できるという効果が得られる。
(6) Due to the synergistic effects of +11 to 5) above, miniaturization of memory cells and dummy cells can be realized.
It is possible to achieve the effect of reducing the size of the amplifier of the dynamic RAM or increasing the storage capacity.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。ダイナミック型RAM
を構成する具体的なメモリアレイの構成やその周辺回路
の構成は、種々の実施形態をとることができるものであ
る。例えば、読み出し基準電圧は、前記のようなフルサ
イズのダミーセルを用いるものの他、予めは一゛電源電
圧の半分の電圧にプリチャージされるフルサイズのダミ
ーセルによって形成されてもよい。すなわち、この場合
、1つのメモリアレイにおける各データ線のそれぞれに
フルサイズダミーセルが結合される。また、相補データ
線のうちの1つ置きのデータ線DL、DL・・ (DL
、DI−・・)間にそれぞれ第9図の実施例のようなス
イッチMO5FETが設けられる。それぞれフルサイズ
ダミーセルによって基準電位が与えられるべきデータ線
の相互は、センスアンプが動作を開始するまでの間、短
絡される。この場合には、各データ線がフローティング
状態にされてからワード線及びダミーワード線が選択さ
れるまでの各データ線のプリチャージレベル、及びダミ
ーワード線が選択されてからセンスアンプが動作開始さ
れるまでの各基準データ線におLJる基準電位は、それ
ぞれデータ線の相互接続により大きくされた浮遊容量に
よって保持される。その結果として、前記同様に耐ソフ
トエラーの強化を図るとこができる。なお、このような
ハーフプリチャージのフルサイズダミーセルが使用され
た場合、相補データ線のうちの、スイッチ回路によって
同時に互いに短絡される1つ置きのデータ線は、必ずし
もその2つずつが1組とされるなくてもよい。1つ置き
のデータ線の同時に互いに短絡される数は、適当に設定
できる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. Dynamic RAM
The specific configuration of the memory array and the configuration of its peripheral circuits can take various embodiments. For example, the read reference voltage may be formed not only by using a full-sized dummy cell as described above but also by a full-sized dummy cell that is precharged to a voltage that is half the power supply voltage. That is, in this case, a full-size dummy cell is coupled to each data line in one memory array. Also, every other data line DL, DL... (DL
, DI-...) are provided with switches MO5FET as in the embodiment of FIG. 9, respectively. Data lines to which a reference potential is applied by each full-size dummy cell are short-circuited until the sense amplifier starts operating. In this case, the precharge level of each data line after each data line is set to a floating state until the word line and dummy word line are selected, and the sense amplifier starts operating after the dummy word line is selected. The reference potential LJ applied to each reference data line up to LJ is held by the stray capacitance increased by the interconnection of the data lines. As a result, the resistance to soft errors can be enhanced in the same manner as described above. Note that when such half-precharged full-size dummy cells are used, every other data line among the complementary data lines that are simultaneously shorted to each other by the switch circuit does not necessarily constitute a set. It doesn't have to be done. The number of alternate data lines that are simultaneously shorted together can be set appropriately.

この場合のハーフプリチャージのダミーセルは、ハーフ
サイズダミーセルに変更することも可能である。
The half-precharge dummy cell in this case can also be changed to a half-size dummy cell.

第9図の実施例は、第10図の実施例のようなダミーセ
ルレス方式に変更可能である。この場合、第9図のセン
スアンプ及び図示しないプリチャージ回路は、例えば第
10図のそれに変更され、ダミーセルは省略される。こ
の場合は、また、タイミング信号φ1.φ2に応じて互
いに短絡されるデータ線の数は、2つずつでなくても良
い。各データ線のプリチャージレベルは、Vcc/2で
なくてもよい。プリチャージ回路は、相補データ線の相
互を単純に短絡する構成に代えて、各データ線を分圧回
路から成るような適当な電位源に結合させる構成にされ
て良い。
The embodiment of FIG. 9 can be changed to a dummy cell-less system like the embodiment of FIG. 10. In this case, the sense amplifier and precharge circuit (not shown) in FIG. 9 are changed to those in FIG. 10, for example, and the dummy cells are omitted. In this case, the timing signal φ1. The number of data lines that are short-circuited to each other according to φ2 does not have to be two. The precharge level of each data line may not be Vcc/2. Instead of simply shorting the complementary data lines together, the precharge circuit may be configured to couple each data line to a suitable potential source, such as a voltage divider circuit.

〔利用分野〕[Application field]

この発明は、読み出し基準電圧を利用するダイナミック
型RAMのようなメモリに広く利用できるものである。
The present invention can be widely used in memories such as dynamic RAMs that utilize read reference voltages.

ダイナミック型RAMは、必ずしも1111ilの独立
したデバイスを意味するものではない。例えば、RAM
はマイクロコンピュータシステムを構成する種々の回路
とともに1つの半導体基板上に形成されるRAMであっ
ても良い。
Dynamic RAM does not necessarily mean an 1111il independent device. For example, RAM
may be a RAM formed on one semiconductor substrate together with various circuits constituting a microcomputer system.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明に係るダイナミック型RAMの要部
一実施例を示すブロック図、 第2A図及び第2B図は、そのメモリアレイ、センスア
ンプ等の具体的一実施例を示す回路図、第3図は、第2
A図のブロックUAROの具体的な回路図、 第4図は、その動作の一例を示すタイミング図、第5A
図及び第5B図は、メモリセルの読み出し動作の一例を
示す波形図、 第6図は、この発明の他の一実施例を示す回路図、 第7図及び第8図は、第6図の実施例の動作波形図、 第9図及び第10図は、それぞれ他の実施例の回路図で
ある。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the main part of a dynamic RAM according to the present invention, FIGS. 2A and 2B are circuit diagrams showing a specific embodiment of the memory array, sense amplifier, etc. Figure 3 shows the second
A specific circuit diagram of block UARO in Figure A, Figure 4 is a timing diagram showing an example of its operation, and Figure 5A is a timing diagram showing an example of its operation.
6 and 5B are waveform diagrams showing an example of a read operation of a memory cell, FIG. 6 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention, and FIGS. The operation waveform diagram of the embodiment, FIGS. 9 and 10 are circuit diagrams of other embodiments, respectively.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、アドレス選択用MOSFETと情報記憶用キャパシ
タとからなる複数のメモリセルが結合された複数のデー
タ線と、メモリセルからのデータの読み出しのときに基
準電位が与えられるデータ線を非選択のデータ線に結合
させてその実質的な寄生容量値を増大させるスイッチM
OSFETとを含むことを特徴とするダイナミック型R
AM。 2、上記スイッチMOSFETは、センスアンプに対し
て左右に配置されたメモリアレイのデータ線をそれぞれ
選択的に結合させるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のダイナミック型RAM。 3、上記読み出し基準電位は、上記メモリセルとほゞ同
じ設計条件で形成されたアドレス選択用MOSFETと
情報記憶用キャパシタからなるダミーセルにより形成さ
れ、選択されたダミーセルが結合された方のデータ線の
スイッチMOSFETがオン状態にされるとともに、こ
のスイッチMOSFETをセンスアンプが動作状態にな
るタイミングでオフ状態にされるものであることを特徴
とする特許請求の範囲第1又は第2項記載のダイナミッ
ク型RAM。 4、上記基準電圧は、読み出しハイレベルとロウレベル
の中間電位に対してロウレベル側にオフセットを持つよ
うに設定されるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1、第2又は第3項記載のダイナミック型RAM
[Claims] 1. A plurality of data lines to which a plurality of memory cells each consisting of an address selection MOSFET and an information storage capacitor are coupled, and data to which a reference potential is applied when reading data from the memory cell. a switch M that couples the line to an unselected data line to increase its effective parasitic capacitance value;
A dynamic type R characterized by including an OSFET.
A.M. 2. The dynamic RAM according to claim 1, wherein the switch MOSFET selectively couples data lines of memory arrays arranged on the left and right sides of the sense amplifier. 3. The read reference potential is formed by a dummy cell consisting of an address selection MOSFET and an information storage capacitor, which are formed under almost the same design conditions as the memory cell, and the data line to which the selected dummy cell is connected. Dynamic type according to claim 1 or 2, characterized in that the switch MOSFET is turned on and the switch MOSFET is turned off at the timing when the sense amplifier becomes operational. RAM. 4. The reference voltage is set to have an offset on the low level side with respect to an intermediate potential between a read high level and a low level. Dynamic RAM described
.
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US06/729,859 US4961166A (en) 1984-05-07 1985-05-02 Dynamic RAM having a full size dummy cell
EP85105413A EP0163951B1 (en) 1984-05-07 1985-05-03 Dynamic ram
DE19853586514 DE3586514T2 (en) 1984-05-07 1985-05-03 DYNAMIC DIRECT ACCESS MEMORY.
SG157894A SG157894G (en) 1984-05-07 1994-10-27 Dynamic ram
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63293790A (en) * 1987-05-18 1988-11-30 インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン Memory array device

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