JPS61203605A - 高均一磁場マグネツト - Google Patents
高均一磁場マグネツトInfo
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- JPS61203605A JPS61203605A JP60045033A JP4503385A JPS61203605A JP S61203605 A JPS61203605 A JP S61203605A JP 60045033 A JP60045033 A JP 60045033A JP 4503385 A JP4503385 A JP 4503385A JP S61203605 A JPS61203605 A JP S61203605A
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- magnetic
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/02—Permanent magnets [PM]
- H01F7/0273—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation
- H01F7/0278—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation for generating uniform fields, focusing, deflecting electrically charged particles
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/383—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field using permanent magnets
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は１人体組織の画像化や化学分析等に用いられる
核磁気共鳴コンビエータ断層像撮像装置（以下ＮＭＲ−
ＣＴと略称する）用高均−磁場マグネットの構造に関す
る。
核磁気共鳴コンビエータ断層像撮像装置（以下ＮＭＲ−
ＣＴと略称する）用高均−磁場マグネットの構造に関す
る。
この種のマグネットにおいては、たとえば人体組織を識
別し得る鮮明な断層像を得るために、人体等の被検体を
収容する空間部に磁束密度が１０００Ｇを超え数ｉ ｏ
ｏ ｐｐｍ以下の高い均一性を有する高均一磁場マグ
ネットが求められる。
別し得る鮮明な断層像を得るために、人体等の被検体を
収容する空間部に磁束密度が１０００Ｇを超え数ｉ ｏ
ｏ ｐｐｍ以下の高い均一性を有する高均一磁場マグ
ネットが求められる。
第９図は従来の均一磁場マグネットの一例を示す斜視図
であり、永久磁石形均−磁場マグネットを示したもので
ある。図において、１は方形の筒状に形成された強磁性
体からなる継鉄であり、２および６は継鉄１の互いに平
行な内壁面に突設されたそれぞれＮ極およびＳ極からな
る磁極であり、図の場合磁極２および３はそれぞれ永久
磁石ブロック４の集合組立体として形成されておシ、二
つの磁極２および３が対向する空間のほぼ中央部に均一
磁場空間５が形成されるよう構成されていもところで、
磁極２および３を形成する個々の永久磁石ブロック４に
は相互に幾分の磁力の差があシ、これが原因で均一磁場
空間５における磁場の均一 ・性が損われるという欠点
があった。
であり、永久磁石形均−磁場マグネットを示したもので
ある。図において、１は方形の筒状に形成された強磁性
体からなる継鉄であり、２および６は継鉄１の互いに平
行な内壁面に突設されたそれぞれＮ極およびＳ極からな
る磁極であり、図の場合磁極２および３はそれぞれ永久
磁石ブロック４の集合組立体として形成されておシ、二
つの磁極２および３が対向する空間のほぼ中央部に均一
磁場空間５が形成されるよう構成されていもところで、
磁極２および３を形成する個々の永久磁石ブロック４に
は相互に幾分の磁力の差があシ、これが原因で均一磁場
空間５における磁場の均一 ・性が損われるという欠点
があった。
また均一磁場マグネットの磁極２および３の近傍には均
一磁場空間５の磁路方向の磁場の強度に瞬間的な勾配を
持たせるための図示しない勾配磁場コイルが設けられ、
このコイルにパルス幅数ｍ８の矩形波パルス電流を流す
よう構成されるが、このパルス電流による磁束が磁極に
流れ込むことによシ、磁極が永久磁石ブロック４で構成
されている場合にはブロック間の磁力の差が瞬間的に増
大して均一磁場空間５の磁場の均一性が阻害される。ま
た磁極２および３が励磁巻線を備えた電磁石からなる場
合には、普通炭素鋼板からなる磁極中に渦電流が発生し
てヒステリシス損Ｗｈ、過電流損Ｗｅが生じ、この渦電
流による反抗磁界によ〕勾配磁場コイルの有効磁化力が
減少するばかシでなく、磁極内に磁場の乱れを生じて均
一磁場空間５の磁場の均一性に悪影響を及ぼすという欠
点がある。
一磁場空間５の磁路方向の磁場の強度に瞬間的な勾配を
持たせるための図示しない勾配磁場コイルが設けられ、
このコイルにパルス幅数ｍ８の矩形波パルス電流を流す
よう構成されるが、このパルス電流による磁束が磁極に
流れ込むことによシ、磁極が永久磁石ブロック４で構成
されている場合にはブロック間の磁力の差が瞬間的に増
大して均一磁場空間５の磁場の均一性が阻害される。ま
た磁極２および３が励磁巻線を備えた電磁石からなる場
合には、普通炭素鋼板からなる磁極中に渦電流が発生し
てヒステリシス損Ｗｈ、過電流損Ｗｅが生じ、この渦電
流による反抗磁界によ〕勾配磁場コイルの有効磁化力が
減少するばかシでなく、磁極内に磁場の乱れを生じて均
一磁場空間５の磁場の均一性に悪影響を及ぼすという欠
点がある。
本発明は前述の状況に鑑みて力されたもので、高均一磁
場空間の磁場の均一性が向上し、かつ必要に応じて勾配
磁場コイルの悪影響を排除できる高均一磁場マグネット
を提供することを目的とする。
場空間の磁場の均一性が向上し、かつ必要に応じて勾配
磁場コイルの悪影響を排除できる高均一磁場マグネット
を提供することを目的とする。
本発明は、方形筒状の継鉄の互いに平行な内壁面それぞ
れに突設された永久磁石あるいは電磁石からなるＮ極、
Ｓ極一対の磁極の表面に密接して高透磁率かつ高均一磁
化特性を有する軟質磁性材料の板状体あるいは板状の積
層組立体からなる磁束分布の均等化手段を設けるよう構
成することによシ、磁極で発生した磁束の不均一性を均
等化手段内部で均等化し、一対の均等化手段が対向する
高均一磁場空間における磁場の均一性を向上するととも
Ｋ、勾配磁場コイルで発生する矩形波パルス状の磁束が
磁極と鎖交することを防ぎ、かつ均等化手段内部に渦電
流やヒステリシスループが発生するのを阻止して高均一
磁場空間に高均一磁場と立上シ、立下シ特性のよい勾配
磁場を形成できるようＫしたものである。
れに突設された永久磁石あるいは電磁石からなるＮ極、
Ｓ極一対の磁極の表面に密接して高透磁率かつ高均一磁
化特性を有する軟質磁性材料の板状体あるいは板状の積
層組立体からなる磁束分布の均等化手段を設けるよう構
成することによシ、磁極で発生した磁束の不均一性を均
等化手段内部で均等化し、一対の均等化手段が対向する
高均一磁場空間における磁場の均一性を向上するととも
Ｋ、勾配磁場コイルで発生する矩形波パルス状の磁束が
磁極と鎖交することを防ぎ、かつ均等化手段内部に渦電
流やヒステリシスループが発生するのを阻止して高均一
磁場空間に高均一磁場と立上シ、立下シ特性のよい勾配
磁場を形成できるようＫしたものである。
以下本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図は本発明の高均一磁場マグネットの実施例を示す
斜視図であり、永久磁石からなる磁化を例にして示した
ものである０図において、１は方形の筒状に形成された
普通炭素鋼板などの強磁性体からなる継鉄、２および３
は継鉄１の互いに平行な内壁面それぞれに突設されたＮ
極、Ｓ極１対の磁極であり、磁極２および３はそれぞれ
正６面体状の永久磁石ブロック４の集合体として形成さ
れている。１０は磁極２および５それぞれの表面を覆う
よう密接して設けられた磁場の強さの均等化手段であり
、図の場合均等化手段は極低炭素鋼。
斜視図であり、永久磁石からなる磁化を例にして示した
ものである０図において、１は方形の筒状に形成された
普通炭素鋼板などの強磁性体からなる継鉄、２および３
は継鉄１の互いに平行な内壁面それぞれに突設されたＮ
極、Ｓ極１対の磁極であり、磁極２および３はそれぞれ
正６面体状の永久磁石ブロック４の集合体として形成さ
れている。１０は磁極２および５それぞれの表面を覆う
よう密接して設けられた磁場の強さの均等化手段であり
、図の場合均等化手段は極低炭素鋼。
純鉄などの均一磁化特性を有する板状の軟質磁性材で構
成されている。上述のように構成された高均一磁場マグ
ネッ）において、一対の磁極２および３で発生した磁束
は継鉄１によシマグネット外部への漏れが阻止され、均
等化手段１０による磁場の均等化作用によシ高均−磁場
空間５内の磁場の強さの均一性を高度に保持することが
できる。
成されている。上述のように構成された高均一磁場マグ
ネッ）において、一対の磁極２および３で発生した磁束
は継鉄１によシマグネット外部への漏れが阻止され、均
等化手段１０による磁場の均等化作用によシ高均−磁場
空間５内の磁場の強さの均一性を高度に保持することが
できる。
第２図は第１図の実施例における磁束分布の説切回であ
り、磁極３は互いに等しい磁力を保持するよう磁化され
た保磁力が大きい硬質磁性材よりなる永久磁石ブロック
４Ａ 、４Ｂ 、４Ｃの集合体として形成されているが
、磁力を完全に等しく保持することは困難であり、相互
に幾分の磁力の差を有している。しかしながら、永久磁
石ブロック４Ａ、４Ｂ、４０で発生した磁束１１は、均
等化手段１０および高均一磁場空間５を通過する際、透
磁率が大きく保磁力が低くしたがって均一に磁化されや
すい軟質磁性材よりなる板状の均等化手段１０内におい
てブロック間の磁力の差を緩和するよう図に矢印１１Ａ
で示すような磁束の横方向の移動を生じ、均等化手段１
０内において磁束分布が均等化されるので、高均一磁場
空間５における磁束１１の分布を均等化することができ
、磁場の強さの均一性に及ぼす永久磁石ブロック相互間
の磁力の差の影響を排除して高均一磁場空間５における
磁場の均一性を向上することができる。
り、磁極３は互いに等しい磁力を保持するよう磁化され
た保磁力が大きい硬質磁性材よりなる永久磁石ブロック
４Ａ 、４Ｂ 、４Ｃの集合体として形成されているが
、磁力を完全に等しく保持することは困難であり、相互
に幾分の磁力の差を有している。しかしながら、永久磁
石ブロック４Ａ、４Ｂ、４０で発生した磁束１１は、均
等化手段１０および高均一磁場空間５を通過する際、透
磁率が大きく保磁力が低くしたがって均一に磁化されや
すい軟質磁性材よりなる板状の均等化手段１０内におい
てブロック間の磁力の差を緩和するよう図に矢印１１Ａ
で示すような磁束の横方向の移動を生じ、均等化手段１
０内において磁束分布が均等化されるので、高均一磁場
空間５における磁束１１の分布を均等化することができ
、磁場の強さの均一性に及ぼす永久磁石ブロック相互間
の磁力の差の影響を排除して高均一磁場空間５における
磁場の均一性を向上することができる。
第３図は本発明の異なる実施例を示す斜視図であり、複
数の永久磁石ブロック４からなる磁極２および３の表面
に密接して、透磁率が高く、保持力が低く、シたがって
ヒステリシスループの面積の小さい軟質磁性材の帯状薄
板を一方向に積み重ねてなる板状の均等化手段２０を、
積層面が磁極２および３の表面に対してほぼ垂直になる
よう配置した点が前述の実施例と異なっている。高均一
磁場マグネットを上述のように構成することＫよシ、永
久磁石ブロック４相互の磁力の差は均等化手段２０にお
いて積層面に平行な方向に均等化され、高均一磁場空間
５における磁場の強さの均一性を向上するととができる
。また均等化手段２０を積層構造とするととＫよシ、均
等化手段２０内における渦電流の発生を阻止できるので
、後述するように勾配磁場；イルに流れる矩形波パルス
電流によって発生するパルス状磁界によシ均等化手段２
０内に渦電流が流れるのを阻止することができる。
数の永久磁石ブロック４からなる磁極２および３の表面
に密接して、透磁率が高く、保持力が低く、シたがって
ヒステリシスループの面積の小さい軟質磁性材の帯状薄
板を一方向に積み重ねてなる板状の均等化手段２０を、
積層面が磁極２および３の表面に対してほぼ垂直になる
よう配置した点が前述の実施例と異なっている。高均一
磁場マグネットを上述のように構成することＫよシ、永
久磁石ブロック４相互の磁力の差は均等化手段２０にお
いて積層面に平行な方向に均等化され、高均一磁場空間
５における磁場の強さの均一性を向上するととができる
。また均等化手段２０を積層構造とするととＫよシ、均
等化手段２０内における渦電流の発生を阻止できるので
、後述するように勾配磁場；イルに流れる矩形波パルス
電流によって発生するパルス状磁界によシ均等化手段２
０内に渦電流が流れるのを阻止することができる。
第４図は本発明のさらに異なる実施例を示す斜視図であ
り、軟質磁性材の積層組立体からなる均等化手段３０を
積層方向が互いに異なる２層の板状の積層体６１および
３２で構成した点が第３図で示される実施例と異なりて
いる。高均一磁場マグネットを上述のように構成するこ
とによシ、磁極２および３を構成する永久磁石ブロック
４の磁力の差に基づく磁束分布の不均一性は２層の積層
体３１および３２を通過する過程で図の前後左右（平面
方向）に均等化され、高均一磁場室間５内の磁場の強さ
の均一性をよシー膚均等化することができる。また勾配
磁場コイルに流れる矩形波パルス電流による高周波磁界
によシ均等化手段２０内に渦電流が流れるのを第３図で
示される実施例におけると同様に阻止することができる
。
り、軟質磁性材の積層組立体からなる均等化手段３０を
積層方向が互いに異なる２層の板状の積層体６１および
３２で構成した点が第３図で示される実施例と異なりて
いる。高均一磁場マグネットを上述のように構成するこ
とによシ、磁極２および３を構成する永久磁石ブロック
４の磁力の差に基づく磁束分布の不均一性は２層の積層
体３１および３２を通過する過程で図の前後左右（平面
方向）に均等化され、高均一磁場室間５内の磁場の強さ
の均一性をよシー膚均等化することができる。また勾配
磁場コイルに流れる矩形波パルス電流による高周波磁界
によシ均等化手段２０内に渦電流が流れるのを第３図で
示される実施例におけると同様に阻止することができる
。
第５図は本発明の他の実施例を示す斜視図であり、第３
図および第４図について詳しい説明を省略した勾配磁場
コイルの影響を含めて説明を行おうとするものである０
図において、方形の筒状に形成された継鉄１の互いに平
行外内壁面に突設された磁極２および３は前述の実施例
と同様に永久磁石ブロック４の集合体として形成されて
もよく。
図および第４図について詳しい説明を省略した勾配磁場
コイルの影響を含めて説明を行おうとするものである０
図において、方形の筒状に形成された継鉄１の互いに平
行外内壁面に突設された磁極２および３は前述の実施例
と同様に永久磁石ブロック４の集合体として形成されて
もよく。
また図示しない励磁コイルを備えた継鉄と同質の普通炭
素鋼板等からなる平板状の磁極であってもよい、４０は
テープ状の軟質磁性材を巻回して平円板状あるいは平た
い長円板状に形成された均等化手段である。また８は勾
配磁場コイルであり、たとえば均等化手段４０に近接し
て配された方形リング状の一対のコイル６および７とし
て形成され、高均一磁場空間５内の均一磁場の磁路方向
の強さに瞬間的な勾配を持たせるために、一対のコイル
６および７に互いに逆向きの矩形波パルス電流を流すよ
う構成されている。
素鋼板等からなる平板状の磁極であってもよい、４０は
テープ状の軟質磁性材を巻回して平円板状あるいは平た
い長円板状に形成された均等化手段である。また８は勾
配磁場コイルであり、たとえば均等化手段４０に近接し
て配された方形リング状の一対のコイル６および７とし
て形成され、高均一磁場空間５内の均一磁場の磁路方向
の強さに瞬間的な勾配を持たせるために、一対のコイル
６および７に互いに逆向きの矩形波パルス電流を流すよ
う構成されている。
第３図は第５図で示される実施例における磁束の状態を
示す説明図である。図において、破線４８は磁極２およ
び３で発生した直流磁束線であり、勾配コイル６および
７に互いに逆向きに矩形波パルス電流を流した瞬間たと
えば磁＆２側では磁束線４８が側方に広がって高均一磁
場空間の磁場め強度が低下し、磁極６側の空間において
は磁束線４８が中心に集まって磁場の強度が高まシ、い
わゆる勾配磁場が形成される。この際勾配磁場コイル６
および７の周囲には矩形波パルス状の立上シ立下少時間
の短かいパルス状磁束４６および４７が発生し、このパ
ルス状磁束４６および４７の一部は勾配磁場コイル６お
よび７に近接した均等化手段４０と局部的に鎖交する。
示す説明図である。図において、破線４８は磁極２およ
び３で発生した直流磁束線であり、勾配コイル６および
７に互いに逆向きに矩形波パルス電流を流した瞬間たと
えば磁＆２側では磁束線４８が側方に広がって高均一磁
場空間の磁場め強度が低下し、磁極６側の空間において
は磁束線４８が中心に集まって磁場の強度が高まシ、い
わゆる勾配磁場が形成される。この際勾配磁場コイル６
および７の周囲には矩形波パルス状の立上シ立下少時間
の短かいパルス状磁束４６および４７が発生し、このパ
ルス状磁束４６および４７の一部は勾配磁場コイル６お
よび７に近接した均等化手段４０と局部的に鎖交する。
したがって、均等化手段４０を普通炭素鋼板などに比べ
て遥かに透磁率が高くすぐれたＢＥ特性を有するテープ
状の軟質磁性材たとえばパーマロイ、アモルファス銅帯
等を均等に巻回してなる巻鉄心とすることによシ、パル
ス状磁束４６と均等化手段４０とが鎖交した場合におい
ても渦電流および渦電流損、ならびにヒステリシス損の
発生を阻止することができ、かつ渦電流による反抗磁界
によシ勾配コイル６および７の有効磁化力が低下すると
いう問題を排除することができる。その結果、均一磁場
空間５における勾配磁場４８の立上シ、立下シ特性を勾
配コイル６および７に流れるパルス電流に比例して急速
に変化させることができる。また均等化手段４０をヒス
テリシス特性のすぐれた軟質磁性材の積層体としたこと
によシ、勾配コイル６および７のパルス電流が流れ終り
た後にまで均等化手段４Ｏ内にパルス状磁束４６および
４７による残留磁化の影響が残ることを阻止することが
でき、均一磁場空間５の均一磁場の強さの均一性を高度
に保持できる。
て遥かに透磁率が高くすぐれたＢＥ特性を有するテープ
状の軟質磁性材たとえばパーマロイ、アモルファス銅帯
等を均等に巻回してなる巻鉄心とすることによシ、パル
ス状磁束４６と均等化手段４０とが鎖交した場合におい
ても渦電流および渦電流損、ならびにヒステリシス損の
発生を阻止することができ、かつ渦電流による反抗磁界
によシ勾配コイル６および７の有効磁化力が低下すると
いう問題を排除することができる。その結果、均一磁場
空間５における勾配磁場４８の立上シ、立下シ特性を勾
配コイル６および７に流れるパルス電流に比例して急速
に変化させることができる。また均等化手段４０をヒス
テリシス特性のすぐれた軟質磁性材の積層体としたこと
によシ、勾配コイル６および７のパルス電流が流れ終り
た後にまで均等化手段４Ｏ内にパルス状磁束４６および
４７による残留磁化の影響が残ることを阻止することが
でき、均一磁場空間５の均一磁場の強さの均一性を高度
に保持できる。
なお、磁極２および３が永久磁石ブロック４の集合体と
して形成された場合には、前述の実施例と同様にブロッ
ク相互の磁力の差に基づく磁束分布の不均一性を吸収し
て高均一磁場空間における磁場の均一性を向上させると
ともに、パルス状磁束４６による均等化手段４０内にお
ける渦電流および損失の発生を阻止することができる。
して形成された場合には、前述の実施例と同様にブロッ
ク相互の磁力の差に基づく磁束分布の不均一性を吸収し
て高均一磁場空間における磁場の均一性を向上させると
ともに、パルス状磁束４６による均等化手段４０内にお
ける渦電流および損失の発生を阻止することができる。
また第３図および第４図で示される実施例においても、
同様の機能が得られることは上述の説明から容易に類推
することができる。
同様の機能が得られることは上述の説明から容易に類推
することができる。
第７図および第８図は軟質磁性材のＢＨ特性線図であり
、第７図は純鉄、低炭素鋼の特性を、第８図はパーマロ
イ、アモルファス薄板の特性をそれぞれ代表例を用いて
示したものである。図において、曲線５０および６０は
直流磁場に対するＢＨ曲線であり、５１および６１は勾
配磁束が重畳した場合のヒステリシスループを示したも
のである。図から明らかなように、第８図で示される透
磁率（Ｂ／Ｈ’）が大きく保磁力（ヒステリシスループ
の囲む面積）が小さい軟質磁性材の積層組立体からなる
均等化手段を用いることによシ、高周波応答性にすぐれ
、低損失で、かつ残留磁気による直流磁場の乱れの少々
い均等化手段を形成することができる。
、第７図は純鉄、低炭素鋼の特性を、第８図はパーマロ
イ、アモルファス薄板の特性をそれぞれ代表例を用いて
示したものである。図において、曲線５０および６０は
直流磁場に対するＢＨ曲線であり、５１および６１は勾
配磁束が重畳した場合のヒステリシスループを示したも
のである。図から明らかなように、第８図で示される透
磁率（Ｂ／Ｈ’）が大きく保磁力（ヒステリシスループ
の囲む面積）が小さい軟質磁性材の積層組立体からなる
均等化手段を用いることによシ、高周波応答性にすぐれ
、低損失で、かつ残留磁気による直流磁場の乱れの少々
い均等化手段を形成することができる。
本発明は前述のように、方形筒状の継鉄の互いに平行な
内壁面に突設されたＮ、Ｓ一対の磁極の表面に密接して
、透磁率が大きく保持力が小さい軟質磁性材からなる板
状の磁場の均等化手段を設けるよう構成した。その結果
、磁極を形成する永久磁石ブロック相互の磁力の差に基
づく磁束分布の不均一性を均等化手段内部で均等化する
ことができ、一対の均等化手段間に形成された均一磁場
空間における磁場の強さの均一性を高度に保持し丸高均
−磁場マグネットを提供することができもまた均等化手
段を高透磁率、低保磁力を有する軟質磁性材の積層体・
とじて形成することによ）、勾配磁場コイルによシ発生
する矩形波状のパルス状磁束と鎖交することＫよって均
等化手段内に生ずる渦電流および残留磁化の影響が排除
され、勾配磁場コイルの有効磁化力の低下および均等化
手段の磁束分布の均等化機能の低下を阻止できるので、
磁極を電磁石とした場合従来問題となった上記問題点な
らびに勾配磁場の立上シ、立下シ特性の低下や直流磁場
の不均一性の増大などを排除することができ、したがっ
て高均一磁場空間に高度の均一性を有する直流磁場と立
上シ、立下シ特性のよい勾配磁場とを発生しうる高均一
磁場マグネットを提供することができる。
内壁面に突設されたＮ、Ｓ一対の磁極の表面に密接して
、透磁率が大きく保持力が小さい軟質磁性材からなる板
状の磁場の均等化手段を設けるよう構成した。その結果
、磁極を形成する永久磁石ブロック相互の磁力の差に基
づく磁束分布の不均一性を均等化手段内部で均等化する
ことができ、一対の均等化手段間に形成された均一磁場
空間における磁場の強さの均一性を高度に保持し丸高均
−磁場マグネットを提供することができもまた均等化手
段を高透磁率、低保磁力を有する軟質磁性材の積層体・
とじて形成することによ）、勾配磁場コイルによシ発生
する矩形波状のパルス状磁束と鎖交することＫよって均
等化手段内に生ずる渦電流および残留磁化の影響が排除
され、勾配磁場コイルの有効磁化力の低下および均等化
手段の磁束分布の均等化機能の低下を阻止できるので、
磁極を電磁石とした場合従来問題となった上記問題点な
らびに勾配磁場の立上シ、立下シ特性の低下や直流磁場
の不均一性の増大などを排除することができ、したがっ
て高均一磁場空間に高度の均一性を有する直流磁場と立
上シ、立下シ特性のよい勾配磁場とを発生しうる高均一
磁場マグネットを提供することができる。
第１図は本発明の実施例を示す斜視図、第２図は第１図
の実施例における磁束分布を示す説明は第３図は異なる
実施例を示す斜視図、第４図はさらに異なる実施例を示
す斜視図、第５図は本発明の他の実施例を示す斜視図、
第３図は第５図の実施例における磁束分布の説明図、第
７図および第８図は第５図の実施例における軟質磁性材
料のＢＨ特性線図、第９図は従来の均一磁場マグネット
の斜視図である。 １・・・継鉄、２，６・・・磁極、４・・・永久磁石ブ
ロック、５・・・均一磁場空間、６，７．８・・・勾配
磁場コイル、１０ 、２０ 、５０ 、４０・・・均等
化手段、４８・・・直流磁束、４６．４７・・・パルス
状磁束。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第３図 第７図 第８図 第９図
の実施例における磁束分布を示す説明は第３図は異なる
実施例を示す斜視図、第４図はさらに異なる実施例を示
す斜視図、第５図は本発明の他の実施例を示す斜視図、
第３図は第５図の実施例における磁束分布の説明図、第
７図および第８図は第５図の実施例における軟質磁性材
料のＢＨ特性線図、第９図は従来の均一磁場マグネット
の斜視図である。 １・・・継鉄、２，６・・・磁極、４・・・永久磁石ブ
ロック、５・・・均一磁場空間、６，７．８・・・勾配
磁場コイル、１０ 、２０ 、５０ 、４０・・・均等
化手段、４８・・・直流磁束、４６．４７・・・パルス
状磁束。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第３図 第７図 第８図 第９図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）方形の筒状に形成された継鉄の互いに平行な内壁面
にそれぞれ突設されたＮ極、Ｓ極からなる一対の磁極間
に高均一磁場空間が形成されるものにおいて、高透磁率
低保磁力の軟質磁性材よりなる磁場の強度の均等化手段
を前記一対の磁極それぞれの前記高均一磁場空間に対向
する面側に密接して設けたことを特徴とする高均一磁場
マグネット。 ２）特許請求の範囲第１項記載のものにおいて、均等化
手段が軟質磁性材よりなる板状体であることを特徴とす
る高均一磁場マグネット。 ３）特許請求の範囲第１項記載のものにおいて、均等化
手段が軟質磁性薄板を一方向に積層してなる平板状の積
層体からなり、積層面が磁極面にほぼ垂直になるよう配
設されたことを特徴とする高均一磁場マグネット。 ４）特許請求の範囲第１項記載のものにおいて、均等化
手段の積層方向が互いにほぼ９０度異なる二層の平板状
の積層体からなり、この積層体を磁極面に重層配置した
ことを特徴とする高均一磁場マグネット。 ５）特許請求の範囲第１項記載のものにおいて、均等化
手段がテープ状の軟質磁性材からなる巻鉄心であり、テ
ープの幅方向端面の一方が磁極面に固着されたことを特
徴とする高均一磁場マグネット。 ６）特許請求の範囲第３項から第５項のいずれかに記載
のものにおいて、均等化手段がテープ状のパーマロイ鋼
板もしくはアモルファス鋼板の層状体からなることを特
徴とする高均一磁場マグネット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60045033A JPS61203605A (ja) | 1985-03-07 | 1985-03-07 | 高均一磁場マグネツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60045033A JPS61203605A (ja) | 1985-03-07 | 1985-03-07 | 高均一磁場マグネツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61203605A true JPS61203605A (ja) | 1986-09-09 |
Family
ID=12708027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60045033A Pending JPS61203605A (ja) | 1985-03-07 | 1985-03-07 | 高均一磁場マグネツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61203605A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6325907A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Toshiba Corp | Ｍｒｉ磁場発生装置 |
| US4818966A (en) * | 1987-03-27 | 1989-04-04 | Sumitomo Special Metal Co., Ltd. | Magnetic field generating device |
| EP0479514A1 (en) | 1990-09-29 | 1992-04-08 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Magnetic field generating device used for MRI |
| EP0616230A1 (de) * | 1993-03-15 | 1994-09-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Homogenfeldmagnet mit über Korrekturluftspalte beabstandeten Polplatteneinrichtungen seiner Polschuhe |
| US5706575A (en) * | 1994-09-22 | 1998-01-13 | The Regents Of The University Of California | Method of making eddy current-less pole tips for MRI magnets |
| CN102110511A (zh) * | 2010-12-27 | 2011-06-29 | 诸暨意创磁性技术有限公司 | 产生平行均匀磁场的磁盒 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52109192A (en) * | 1976-03-10 | 1977-09-13 | Hitachi Ltd | Permanent magnet unit |
| JPS5433553A (en) * | 1977-08-04 | 1979-03-12 | Tokuyama Soda Co Ltd | Polyolefin composition |
| JPS5625613A (en) * | 1979-08-09 | 1981-03-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Refuse feeder |
-
1985
- 1985-03-07 JP JP60045033A patent/JPS61203605A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52109192A (en) * | 1976-03-10 | 1977-09-13 | Hitachi Ltd | Permanent magnet unit |
| JPS5433553A (en) * | 1977-08-04 | 1979-03-12 | Tokuyama Soda Co Ltd | Polyolefin composition |
| JPS5625613A (en) * | 1979-08-09 | 1981-03-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Refuse feeder |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6325907A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Toshiba Corp | Ｍｒｉ磁場発生装置 |
| US4818966A (en) * | 1987-03-27 | 1989-04-04 | Sumitomo Special Metal Co., Ltd. | Magnetic field generating device |
| EP0284439B1 (en) * | 1987-03-27 | 1993-02-03 | Sumitomo Special Metals Co. Ltd. | Magnetic field generating device |
| EP0479514A1 (en) | 1990-09-29 | 1992-04-08 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Magnetic field generating device used for MRI |
| EP0479514B1 (en) * | 1990-09-29 | 1998-07-01 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Magnetic field generating device used for MRI |
| EP0616230A1 (de) * | 1993-03-15 | 1994-09-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Homogenfeldmagnet mit über Korrekturluftspalte beabstandeten Polplatteneinrichtungen seiner Polschuhe |
| US5363078A (en) * | 1993-03-15 | 1994-11-08 | Siemens Aktiengesellschaft | Homogeneous field magnet having pole shoes with pole piece means which are spaced over a correction air gap |
| US5706575A (en) * | 1994-09-22 | 1998-01-13 | The Regents Of The University Of California | Method of making eddy current-less pole tips for MRI magnets |
| CN102110511A (zh) * | 2010-12-27 | 2011-06-29 | 诸暨意创磁性技术有限公司 | 产生平行均匀磁场的磁盒 |
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