JPS61199086A - 金属表面処理酸液の循環処理方法 - Google Patents
金属表面処理酸液の循環処理方法Info
- Publication number
- JPS61199086A JPS61199086A JP4088385A JP4088385A JPS61199086A JP S61199086 A JPS61199086 A JP S61199086A JP 4088385 A JP4088385 A JP 4088385A JP 4088385 A JP4088385 A JP 4088385A JP S61199086 A JPS61199086 A JP S61199086A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- chamber
- acid
- washing
- pickling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/36—Regeneration of waste pickling liquors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（殖条上の利用分野）
本錯明は、製鉄所等の酸坑液、メッキ工場等における酸
島敵、そのｉ各柿企−のエツチング心解偵廟等に几いら
れる金糾イオンを含む酸液ＩＦを対象として、 １４１
１！ｉｇ電解により酸液の連続再生と企画イオンの批＃
ｋを連続的に行う循環処理方法に関する。
島敵、そのｉ各柿企−のエツチング心解偵廟等に几いら
れる金糾イオンを含む酸液ＩＦを対象として、 １４１
１！ｉｇ電解により酸液の連続再生と企画イオンの批＃
ｋを連続的に行う循環処理方法に関する。
（従来の技術）
飼えばステンレス鋼等を硝弗酸によって酸洗する操兼ｔ
’ａａｃすると次第に敗洗歇の研摩能力が低下し遂には
寿命に達する。この廃液は、従来は、中和％＆ｌ集尤減
、濾過、脱水の各工程を組合わせて処理し、脱水ケーキ
と処理液とに分離して処分していた。しかしこの処理は
一方では、弗酸等の酸ｄ度が肯いため多くの薬品を貧し
増−した脱水ケーキの処分を要するのでこ九らの賞月が
嵩むことが同粗となり、他方では近＃−−宋奈化現象の
防止と総−規制のためこれまで処地水として放諌してい
た硝酸中の室巣分の除去が１ＩＡＩ題となって米ている
。従来ｖ１．ｖｆｉによるこルらの１！１題の対東は１
＃洸廃蔽からの飯の回収は転載透析にて行い、洗浄水の
処理は史す尋従来どお゛りの中和、凝集沈澱、１過、脱
水のプロセスを高度化して処理している。
’ａａｃすると次第に敗洗歇の研摩能力が低下し遂には
寿命に達する。この廃液は、従来は、中和％＆ｌ集尤減
、濾過、脱水の各工程を組合わせて処理し、脱水ケーキ
と処理液とに分離して処分していた。しかしこの処理は
一方では、弗酸等の酸ｄ度が肯いため多くの薬品を貧し
増−した脱水ケーキの処分を要するのでこ九らの賞月が
嵩むことが同粗となり、他方では近＃−−宋奈化現象の
防止と総−規制のためこれまで処地水として放諌してい
た硝酸中の室巣分の除去が１ＩＡＩ題となって米ている
。従来ｖ１．ｖｆｉによるこルらの１！１題の対東は１
＃洸廃蔽からの飯の回収は転載透析にて行い、洗浄水の
処理は史す尋従来どお゛りの中和、凝集沈澱、１過、脱
水のプロセスを高度化して処理している。
（発明力に解決しＬつとする問題点）
上記の従来技術では、拡飲透析に工り酸の回収ヤ行うが
、その回収＊Ｖ１７０〜８０％程度であるから、再利用
時には欠損分の綾の補充が必要となる。一方、訣榴液に
は２０〜６０９６の酸が伐協し余病イオンが濃縮されて
おり、この濃＆１液Ｖｉ＋＠法の中和、１鮎沈澱、−過
、脱水に工り処理しなければならず、この二つな処理を
しても桟招歇中の窒素分は除去式ｇ ／ｌいという問題
が伐る。ま７を元浄槽に持込まれ？Ｃ綾お工び金属イオ
ンについても同様の処理をする必要があり、同じ問題が
伐されている＠従って従来法は問題を根本的に解決する
には到っておらず。
、その回収＊Ｖ１７０〜８０％程度であるから、再利用
時には欠損分の綾の補充が必要となる。一方、訣榴液に
は２０〜６０９６の酸が伐協し余病イオンが濃縮されて
おり、この濃＆１液Ｖｉ＋＠法の中和、１鮎沈澱、−過
、脱水に工り処理しなければならず、この二つな処理を
しても桟招歇中の窒素分は除去式ｇ ／ｌいという問題
が伐る。ま７を元浄槽に持込まれ？Ｃ綾お工び金属イオ
ンについても同様の処理をする必要があり、同じ問題が
伐されている＠従って従来法は問題を根本的に解決する
には到っておらず。
そのうえ処理設面の広大な敷地面積と多くの処理薬品費
が必要である。
が必要である。
ｈ 公開５６−１５７９８ ｔｈ、は弗硝＊ｌＩｒ１ｍ
の／＜７チ処理方法が開示されているが、この方法は１
ＩＩｌ板室での酸の減少に伴ない電流が護れにくくなっ
て終点に埴する点、また廃酸中の金病イオンが脱水困殖
な水酸化物となりこれを含めて陰極室液の見本処理が必
要となる点に問題がある。
の／＜７チ処理方法が開示されているが、この方法は１
ＩＩｌ板室での酸の減少に伴ない電流が護れにくくなっ
て終点に埴する点、また廃酸中の金病イオンが脱水困殖
な水酸化物となりこれを含めて陰極室液の見本処理が必
要となる点に問題がある。
本発明は従来技術のこれら間ｈｉを解消する新規の有用
な金）１４表面処理駅液の循環処理力法を提供すること
を目的とする。
な金）１４表面処理駅液の循環処理力法を提供すること
を目的とする。
（問題点を解決するための手段、作用、実施例）前記目
的は５本発明にょう金１８表面処理のｔめの陵洗槽と表
向処理さｔ′Ｌ几金属の水洗による況浄橿とからなるプ
ロセスにおいて、ｔｔｓｉ膜で陽極室と陰極室とに仕り
られた重曹再生槽をもに１ｌＩ１１極室の酸洗液を所要
のＰＨｖ／４整の必要ｌを導入しながら電着再生槽の通
電を行い、かくして第１洗滲槽に持出さｎた酸洗液から
金属イオンを陰極室の捕集電極に電着させて回収し酸分
ｔ−陰偉Ｎから電解隔膜を通して陽極室へ移動させて再
生することを連続的に行なうことに工り達成される。
的は５本発明にょう金１８表面処理のｔめの陵洗槽と表
向処理さｔ′Ｌ几金属の水洗による況浄橿とからなるプ
ロセスにおいて、ｔｔｓｉ膜で陽極室と陰極室とに仕り
られた重曹再生槽をもに１ｌＩ１１極室の酸洗液を所要
のＰＨｖ／４整の必要ｌを導入しながら電着再生槽の通
電を行い、かくして第１洗滲槽に持出さｎた酸洗液から
金属イオンを陰極室の捕集電極に電着させて回収し酸分
ｔ−陰偉Ｎから電解隔膜を通して陽極室へ移動させて再
生することを連続的に行なうことに工り達成される。
以下１本発明を給付図の員−軸重を参照し具体的に説明
する。
する。
一曲処理しょうとする金属物品は敵洗権（υで表向処理
を終り、この金属υ品は第１洸浄糟（２）に＃４１ばれ
ここで付着液を水洗に工り除去され。
を終り、この金属υ品は第１洸浄糟（２）に＃４１ばれ
ここで付着液を水洗に工り除去され。
続いて粥２洸浄槓（３）に蝋ばｎて洗浄嘔れ、鎌続処理
工程に送られる。こｒＬりは金１１４表向処理のメイン
のプロセスである。
工程に送られる。こｒＬりは金１１４表向処理のメイン
のプロセスである。
本発明方法の実施のため、電解隔膜（４）でｌｉｉ極Ｎ
（５）と陰極室（６）とに仕切った重重再生槽（７）を
設ける。
（５）と陰極室（６）とに仕切った重重再生槽（７）を
設ける。
そして陽極室（５ンにＦｉｆｆ洗捕（１７の叡溶液をボ
ンデ（８）お工び＆ Ｍ １９） （９）を経てＤｉｔ
環させる。その運ざは酸ａ １１ （１）の酸の入滅を
陽極室（６）に得られる再生され７を鍍にエリ補給する
程度で工い。
ンデ（８）お工び＆ Ｍ １９） （９）を経てＤｉｔ
環させる。その運ざは酸ａ １１ （１）の酸の入滅を
陽極室（６）に得られる再生され７を鍍にエリ補給する
程度で工い。
−刀、陰極室（６）には第１洗浄檜（２）の液、すなわ
ち金属物品から洗浄除去された付看皺徹を含み金属イオ
ンを含む敵をポンプμｑお工び経路（２）（ロ）を経て
循環させる。これとともに陰極！ （６） ニは端極室
の循環敏、すなわち酸洗楢の液をボンデ（２）お工び経
路時を経て導入する。この４入１は陰極Ｎ（６）に設け
たＰ］ｉ コントローフ０４に１リボンプ（Ｊ４ｔ−！
１１御して陰極室のＰｆｌを通常２前後の一足値に維持
する工うにする。
ち金属物品から洗浄除去された付看皺徹を含み金属イオ
ンを含む敵をポンプμｑお工び経路（２）（ロ）を経て
循環させる。これとともに陰極！ （６） ニは端極室
の循環敏、すなわち酸洗楢の液をボンデ（２）お工び経
路時を経て導入する。この４入１は陰極Ｎ（６）に設け
たＰ］ｉ コントローフ０４に１リボンプ（Ｊ４ｔ−！
１１御して陰極室のＰｆｌを通常２前後の一足値に維持
する工うにする。
こうして液循環を維持しながら、ｌＩ＆Ｉ櫃塞（５）の
陽＆四と陰極室（６）の陰極（へ）との闇に直流電源（
ロ）から直ｒｌｌを供給する。電層再生４１Ｆ（７）内
の液お工び電解隔［（４，１を通しての１１護通電によ
り、陰極室（６）においてｒｉ、Ｐｊ（２の低ＰＨのも
とでは、第１洗浄槽（２）から持込まｎる液中の金属イ
オンは水酸化物となることなく＃に極Ａ上に金属として
析出し、Ｃつして陰極（ト）は電着金属の捕集電極とな
る。陰極室（６）に導入さｆＬｔ液中の酸分は直流通電
にエリ電解隔膜（４）を通しＩｌａ極室（５）に移動し
酸に再生され循環にエリｔＲ況槽（１）に戻る。
陽＆四と陰極室（６）の陰極（へ）との闇に直流電源（
ロ）から直ｒｌｌを供給する。電層再生４１Ｆ（７）内
の液お工び電解隔［（４，１を通しての１１護通電によ
り、陰極室（６）においてｒｉ、Ｐｊ（２の低ＰＨのも
とでは、第１洗浄槽（２）から持込まｎる液中の金属イ
オンは水酸化物となることなく＃に極Ａ上に金属として
析出し、Ｃつして陰極（ト）は電着金属の捕集電極とな
る。陰極室（６）に導入さｆＬｔ液中の酸分は直流通電
にエリ電解隔膜（４）を通しＩｌａ極室（５）に移動し
酸に再生され循環にエリｔＲ況槽（１）に戻る。
以上の工うにポンプにＬる欲１１環お工び通電に伴なう
物實移励のバランスを保ちながら上記のｉｔクロースト
システムとして運転することができ、不可ｊ！的にホ外
に逃れる酸おＬび蒸発水分のメイクア７グを行うだけで
工い。
物實移励のバランスを保ちながら上記のｉｔクロースト
システムとして運転することができ、不可ｊ！的にホ外
に逃れる酸おＬび蒸発水分のメイクア７グを行うだけで
工い。
第１洗浄槽（２）〃・ら第２洗浄債（３）に持込まれる
＃ Ｍｌの金属イオンおよび酸分は、第２洗浄槽（３）
内の陵をポンプ（ト）お工び経路（６）ｔ″縫てカチホ
ン樹ｊｌ＆ ＆よびアニオン樹脂を充填し７こイオン交
換樹脂混床塔−を通して伽環させ、イオン交換樹脂に二
り捕捉し除去する。その相果として得らｒした純水が第
２洗浄槽（３）の洗浄水となるので洗浄ｇＩＪ米が艮好
でわる。
＃ Ｍｌの金属イオンおよび酸分は、第２洗浄槽（３）
内の陵をポンプ（ト）お工び経路（６）ｔ″縫てカチホ
ン樹ｊｌ＆ ＆よびアニオン樹脂を充填し７こイオン交
換樹脂混床塔−を通して伽環させ、イオン交換樹脂に二
り捕捉し除去する。その相果として得らｒした純水が第
２洗浄槽（３）の洗浄水となるので洗浄ｇＩＪ米が艮好
でわる。
以上の工うに本石明方法においては１ｗ洗槽［ＩＪにお
いて射解した金属イオンは捕集電極にて金線固体として
回収さｎるｏ ｆａｌ ｔ−系外に出すことなく酸分を
再生し有効に再利用される。廃棄物は捕集−極（至）の
金属固体と混床堪四〇廃イオン交換樹脂だけとなる。
いて射解した金属イオンは捕集電極にて金線固体として
回収さｎるｏ ｆａｌ ｔ−系外に出すことなく酸分を
再生し有効に再利用される。廃棄物は捕集−極（至）の
金属固体と混床堪四〇廃イオン交換樹脂だけとなる。
（石調の幼３ｉ）
以上の＝うに本発明によると次のｍ効果が得られる。
（１）＃沈吟にだ解した金属μ最−表細した金属固体と
して回収できる。
して回収できる。
（ｊ） Ｍ＃ｉ完全１１：再生さｆＬ再利用でき糸外
に田ない。
に田ない。
（ｔ 峻を含む廃液の処理は不要となる。
ＱＶＩ 連続量処理に工り常に最適状態で高効率の運
転ができる。
転ができる。
ｍ 廃棄物−が極めて少いので処分が容易にできる。
（市 大炎りな設備、広い敷地面積を要しない。
（ｖＩＩ 桑品は−リノ不要である。
添付凶は本発明方法を実施する譲通腿図の１例を側面図
として示すものである。 、υ・・Ｎ１ｅＩｃ槽、（２フー・第１洗浄楢＆ （３
） ＠ ＊第２洗浄ｍ、ｔ４）”ｉ１解隔膜、 （！ｌ
） −＊ ｍ ｔｉｔ２ｊｌｂ （６）・・陰極室、（
７）・・電７＃再生榴、（８）αＱ（６）（至）・・ｄ
ｃ：／７”、（旬（９）（ロ）（ロ）ロー・・経路、−
・−ＰＨコントローラ、四・・ｌｉ＆１極、に）・−陰
極、（ロ）・・直流型＃、■・・イオン交換樹脂混床塔
。
として示すものである。 、υ・・Ｎ１ｅＩｃ槽、（２フー・第１洗浄楢＆ （３
） ＠ ＊第２洗浄ｍ、ｔ４）”ｉ１解隔膜、 （！ｌ
） −＊ ｍ ｔｉｔ２ｊｌｂ （６）・・陰極室、（
７）・・電７＃再生榴、（８）αＱ（６）（至）・・ｄ
ｃ：／７”、（旬（９）（ロ）（ロ）ロー・・経路、−
・−ＰＨコントローラ、四・・ｌｉ＆１極、に）・−陰
極、（ロ）・・直流型＃、■・・イオン交換樹脂混床塔
。
Claims (1)
- 金属表面処理のための酸洗槽と表面処理された金属の水
洗による洗浄槽とからなるプロセスにおいて、電界隔膜
で陽極室と陰極室とに仕切られた電着再生槽を設けて、
その陽極室に酸洗槽の酸浴液を循環させ、陰極室には第
１洗浄槽の洗浄液を循環させるとともに陽極室の酸洗液
を所要のＰＨ調整の必要量を導入しながら電着再生槽の
通電を行ない、かくして第１洗浄槽に持出された酸洗液
から金属イオンを陰極室り捕集電極に電着させて回収し
酸分を陰極室から電解隔膜を通して陽極室へ移動させて
再生することを連続的に行なうことを特徴とする金属表
面処理酸液の循環処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4088385A JPS61199086A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 金属表面処理酸液の循環処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4088385A JPS61199086A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 金属表面処理酸液の循環処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61199086A true JPS61199086A (ja) | 1986-09-03 |
Family
ID=12592909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4088385A Pending JPS61199086A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 金属表面処理酸液の循環処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61199086A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS541096A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-06 | Hitachi Ltd | Control system for constant flow rate of gas |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP4088385A patent/JPS61199086A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS541096A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-06 | Hitachi Ltd | Control system for constant flow rate of gas |
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