JPS61193454U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS61193454U JPS61193454U JP1985076986U JP7698685U JPS61193454U JP S61193454 U JPS61193454 U JP S61193454U JP 1985076986 U JP1985076986 U JP 1985076986U JP 7698685 U JP7698685 U JP 7698685U JP S61193454 U JPS61193454 U JP S61193454U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- view
- mask
- photomask substrate
- resist
- sectional
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
Description
第１図は本考案に係るフオトマスク基板を示す
図であり、同図１は平面図、同図２は側面図であ
る。第２図は従来のマスクブランクの断面図であ
る。第３図は従来のレジスト付マスクブランクを
示す図であり、同図１は平面図、同図２は側面図
である。第４図は従来のワーキングマスク作製に
於ける密着露光時の状態を示す断面図である。第
５図は本考案に係るマスクブランクの断面図であ
る。第６図は本考案に係るフオトマスク基板の平
面図である。第７図は本考案に係るワーキングマ
スク作製に於ける密着露光時の状態を示す断面図
である。 符号の説明、１：平板ガラス、２：クロム、３
：レジスト、４：マスタマスク、５：レジスト付
マスクブランク、６：隙間、１１：フオトマスク
基板（ガラス）、１２：ＬＳＩ，ＩＣパターン配
列部、１３：斜め研磨面領域、１４：クロム、１
５：ウエハー円内領域、１６：斜め研磨面領域、
１７：マスタマスク、１８：レジスト付マスクブ
ランク。
図であり、同図１は平面図、同図２は側面図であ
る。第２図は従来のマスクブランクの断面図であ
る。第３図は従来のレジスト付マスクブランクを
示す図であり、同図１は平面図、同図２は側面図
である。第４図は従来のワーキングマスク作製に
於ける密着露光時の状態を示す断面図である。第
５図は本考案に係るマスクブランクの断面図であ
る。第６図は本考案に係るフオトマスク基板の平
面図である。第７図は本考案に係るワーキングマ
スク作製に於ける密着露光時の状態を示す断面図
である。 符号の説明、１：平板ガラス、２：クロム、３
：レジスト、４：マスタマスク、５：レジスト付
マスクブランク、６：隙間、１１：フオトマスク
基板（ガラス）、１２：ＬＳＩ，ＩＣパターン配
列部、１３：斜め研磨面領域、１４：クロム、１
５：ウエハー円内領域、１６：斜め研磨面領域、
１７：マスタマスク、１８：レジスト付マスクブ
ランク。
Claims (1)
- 周辺領域に斜め研磨面を設けたことを特徴とす
るフオトマスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985076986U JPS61193454U (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985076986U JPS61193454U (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61193454U true JPS61193454U (ja) | 1986-12-02 |
Family
ID=30619632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985076986U Pending JPS61193454U (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61193454U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011209344A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP1985076986U patent/JPS61193454U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011209344A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク |
| US8582077B2 (en) | 2010-03-29 | 2013-11-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle, mounting method therefor, pellicle-equipped mask, and mask |