JPS61191627A - スチレン類含有物の精製法 - Google Patents
スチレン類含有物の精製法Info
- Publication number
- JPS61191627A JPS61191627A JP3162485A JP3162485A JPS61191627A JP S61191627 A JPS61191627 A JP S61191627A JP 3162485 A JP3162485 A JP 3162485A JP 3162485 A JP3162485 A JP 3162485A JP S61191627 A JPS61191627 A JP S61191627A
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- JP
- Japan
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- styrene
- copper
- phenylacetylene
- hydrogenation
- catalyst
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、スチレン、粗スチレンま九はメチルスチレン
等のスチレン類含有物に含まれるフェニルアセチレンや
アル中ルフェニルアセチレン等のフェニルアセチレンａ
ｔ、選択的水素添加して除去し、同スチレン類（以下、
スチレン類を単Ｋ「スチレン」という）含有ｇ！Ｊを精
製する方法に関する。
等のスチレン類含有物に含まれるフェニルアセチレンや
アル中ルフェニルアセチレン等のフェニルアセチレンａ
ｔ、選択的水素添加して除去し、同スチレン類（以下、
スチレン類を単Ｋ「スチレン」という）含有ｇ！Ｊを精
製する方法に関する。
（従来の技術）
エチルベンゼンの脱水素反応によって得られるスチレン
または粗スチレン等のようなスチレン含有物には、少量
のフェニルアセチレンが含有されていることが多い。咳
スチレン含有物に含まれているフェニルアセチレンは、
これを選択的水素添加によって除去することができる。
または粗スチレン等のようなスチレン含有物には、少量
のフェニルアセチレンが含有されていることが多い。咳
スチレン含有物に含まれているフェニルアセチレンは、
これを選択的水素添加によって除去することができる。
しかし、この方法に′ｓ？いては、フェニルアセチレン
の含有ａＫが低いため、触媒の選択性が悪いと、スチレ
ンのビニル基の水素化反応などをひき起し、目的のスチ
レンの収車を低下させる。
の含有ａＫが低いため、触媒の選択性が悪いと、スチレ
ンのビニル基の水素化反応などをひき起し、目的のスチ
レンの収車を低下させる。
他方、フェニルアセチレンの選択的水素添加に関する方
法は、例えは、特開昭５９−２１６８５８号にｐｄ％Ｐ
ｔ 、 Ｉｒ％ＲｈおよびＲｕよシなる群から選ばれた
１椎または２種以上の金属と、Ｐｂ、Ｂｉ。
法は、例えは、特開昭５９−２１６８５８号にｐｄ％Ｐ
ｔ 、 Ｉｒ％ＲｈおよびＲｕよシなる群から選ばれた
１椎または２種以上の金属と、Ｐｂ、Ｂｉ。
２％８ｂ 、 Ａｓ％ＴｅシよびＳよ〕なる群から選ば
れた１橿または２１１［以上の元素とを含む触媒を用い
て、フェニルアセチレンを選択的に水素添加する方法が
記載されているが、フェニルアセチレンを経済的有利に
選択的水素化させるには充分とは云えない。
れた１橿または２１１［以上の元素とを含む触媒を用い
て、フェニルアセチレンを選択的に水素添加する方法が
記載されているが、フェニルアセチレンを経済的有利に
選択的水素化させるには充分とは云えない。
（発明が解決しようとする問題点）
前記のよう虻、スチレン含有物に含まれているフェニル
アセチレンを選択的水素添加によって除去する方法にシ
いては、フェニルアセチレンの含有濃度が低い友め、触
媒の選択性が悪いと、スチレンのビニル基の水素化反応
などｔひき起し、目的のスチレンの収率を低下させるこ
とになり、フェニルアセチレンを経済的有利に選択的水
素化させる方法の出現が望まれてい友。
アセチレンを選択的水素添加によって除去する方法にシ
いては、フェニルアセチレンの含有濃度が低い友め、触
媒の選択性が悪いと、スチレンのビニル基の水素化反応
などｔひき起し、目的のスチレンの収率を低下させるこ
とになり、フェニルアセチレンを経済的有利に選択的水
素化させる方法の出現が望まれてい友。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、かかる精製流について鋭意研究シ几結果
、フェニルアセチレンのみを選択的に水素化で８、しか
も、その触媒活性が高い触媒を見い出し、本発明を成す
るに至り九。すなわち、本発明は、担体に担持させた１
価および／ｌたは０価の銅を含む触媒を用いることｔ特
徴とする選択的水素添加によるスチレン類含有物の楕Ｍ
法である。
、フェニルアセチレンのみを選択的に水素化で８、しか
も、その触媒活性が高い触媒を見い出し、本発明を成す
るに至り九。すなわち、本発明は、担体に担持させた１
価および／ｌたは０価の銅を含む触媒を用いることｔ特
徴とする選択的水素添加によるスチレン類含有物の楕Ｍ
法である。
本発明に供することができる触媒は、銅、銅の無機酸塩
、有機酸塩ま九は酸化物の少なくとも１檻を担体に担持
させ、適当な還元剤を用いて１価および／または０価の
銅に還元し友ものである。
、有機酸塩ま九は酸化物の少なくとも１檻を担体に担持
させ、適当な還元剤を用いて１価および／または０価の
銅に還元し友ものである。
担体としては、各種金属酸化物、活性炭等を用いること
ができるが、特にアルミナ、シリカ、活性炭などが好ま
しい。組成として担体に対する銅の比は１〜４８重量％
、好ましくＦｉＳ〜５０重量慢の範囲を選ぶことができ
る。触媒の調製法さしては％に制限は４く、通常用いら
れる担持方法を適宜利用すればよい。１例を示すと、次
のよう表刃法で調製することができる。アルミナ担体に
塩化鋼、硝酸鋼、酢酸鋼、硫酸銅などの酸ｔ７ｔは水に
可溶な塩類の溶液を所定量含浸させた後、この銅塩を空
気中ま次は酸素を含有する不活性ガス中で高温加熱する
。次いで、この鋼酸化物を水素、ヒドラジン、ホルムア
ルデヒド、ギ酸ソーダなどの適当な還元剤を用いて、乾
式または湿式法で１価ま友は金属状鋼ＫＮ元する。
ができるが、特にアルミナ、シリカ、活性炭などが好ま
しい。組成として担体に対する銅の比は１〜４８重量％
、好ましくＦｉＳ〜５０重量慢の範囲を選ぶことができ
る。触媒の調製法さしては％に制限は４く、通常用いら
れる担持方法を適宜利用すればよい。１例を示すと、次
のよう表刃法で調製することができる。アルミナ担体に
塩化鋼、硝酸鋼、酢酸鋼、硫酸銅などの酸ｔ７ｔは水に
可溶な塩類の溶液を所定量含浸させた後、この銅塩を空
気中ま次は酸素を含有する不活性ガス中で高温加熱する
。次いで、この鋼酸化物を水素、ヒドラジン、ホルムア
ルデヒド、ギ酸ソーダなどの適当な還元剤を用いて、乾
式または湿式法で１価ま友は金属状鋼ＫＮ元する。
本発明の方法を実施する際の反応条件としては、必ずし
も厳密な制限はないが、一般に、次のような条件下で行
われる。
も厳密な制限はないが、一般に、次のような条件下で行
われる。
水素添加反応温度は２００Ｃ以下、好ましくは５〜１０
０Ｃである。反応温度が高くなりすぎると、スチレンの
水素死灰２１生起させるので好ましくない。反応圧力は
常圧〜加圧下、好ましくは１〜１０ゆ／ｃｄの範囲であ
る。
０Ｃである。反応温度が高くなりすぎると、スチレンの
水素死灰２１生起させるので好ましくない。反応圧力は
常圧〜加圧下、好ましくは１〜１０ゆ／ｃｄの範囲であ
る。
液Ｑ関連Ｋ（ＬＨ８Ｖ）は１〜５００ Ｈｒ″″ｌ、好
ましくは１〜２００ Ｈｒ””である。液空間速度が高
ずざると、７−ニルアセチレンの転化率が低下し、同速
度が低すぎると、スチレンの水素添加反応を起し、スチ
レン収量が低下する。
ましくは１〜２００ Ｈｒ””である。液空間速度が高
ずざると、７−ニルアセチレンの転化率が低下し、同速
度が低すぎると、スチレンの水素添加反応を起し、スチ
レン収量が低下する。
水素の供給量は、通常、フェニルアセチレンに対し１倍
量〜１００倍量が用いられる。水素量があまり多すぎる
と、スチレンの水素化によるスチレン収量の減少をまね
くので好ましくない。
量〜１００倍量が用いられる。水素量があまり多すぎる
と、スチレンの水素化によるスチレン収量の減少をまね
くので好ましくない。
（発明の効果）
本発明の摺装法は、下記のとおり優れ九効果を奏するこ
とができる。
とができる。
（１）フェニルアセチレンの水素添加反応の選択性が看
しく高く、スチレンの水素添加反応およびベンゼン核の
水素添加反応等の副反応ｔ−笑質上起さないので、高価
なスチレン等のロスが少ない。
しく高く、スチレンの水素添加反応およびベンゼン核の
水素添加反応等の副反応ｔ−笑質上起さないので、高価
なスチレン等のロスが少ない。
（２）炭素結合の分裂反応、ガム質生成反応、炭素質生
成反応等を実質上越さないので、貴重な資源のロスが少
なく、かつ触媒寿命が長い。
成反応等を実質上越さないので、貴重な資源のロスが少
なく、かつ触媒寿命が長い。
（３）本触媒系は、貴金属類を用いｔ水添触媒より安価
な触媒を提供するものであり、かつ、活性が高いため経
済性に優れている。
な触媒を提供するものであり、かつ、活性が高いため経
済性に優れている。
（実施例）
以下５本発明の実施例を示すが、本発明は、これに限定
されるものではない。
されるものではない。
（触媒の調製方法）
触媒Ａ
硝酸銅３水塩２９ Ｇ ｆｔ水３１ｓｔに溶解し、これ
Ｋｒ−アルミナ５１８ｆｔ−加え、水浴上で蒸発濃縮し
た。得られた銅塩担持物を空気中６００Ｃで３時間焼成
したのち、水素気流下２００Ｃで２時間還元処理を行い
、銅担持型アルミナ触媒Ａを得た。
Ｋｒ−アルミナ５１８ｆｔ−加え、水浴上で蒸発濃縮し
た。得られた銅塩担持物を空気中６００Ｃで３時間焼成
したのち、水素気流下２００Ｃで２時間還元処理を行い
、銅担持型アルミナ触媒Ａを得た。
実施例
直径２０１ｍ、長さ５０３のステンレス製管に調製し几
触媒Ａ１００ｆｉ充填し、これにメチレフ９９重ｉ％％
エチルベンゼン１重量係およびフェニルアセチレン１０
０重量ｐｐ１′ｔ−含有するスチレンおよび水素ガスを
、温度２０Ｃ１圧力１に９／ａｉ、Ｈ１／フェニルアセ
チレンモル比＝７／１．ＬＨ８Ｖ１１ ）ｉｉ−１の条
件で連続的に通過させた。その結果は図面に示すとおり
であり、非常に高い選択性を示し次。
触媒Ａ１００ｆｉ充填し、これにメチレフ９９重ｉ％％
エチルベンゼン１重量係およびフェニルアセチレン１０
０重量ｐｐ１′ｔ−含有するスチレンおよび水素ガスを
、温度２０Ｃ１圧力１に９／ａｉ、Ｈ１／フェニルアセ
チレンモル比＝７／１．ＬＨ８Ｖ１１ ）ｉｉ−１の条
件で連続的に通過させた。その結果は図面に示すとおり
であり、非常に高い選択性を示し次。
比較例
ｒ −ＡＴＯｓにＰｄ ｌｉ Ｏｊ重量％担持し７’ｊ
Ｐｄ −Ａ４０゜Ｋ、さらＫＰｂを０．１重量饅担持
させ几触媒を用い、そのはかは実施例にシけると同様の
条件全使用して、同一のスチレンを水素添加処理した。
Ｐｄ −Ａ４０゜Ｋ、さらＫＰｂを０．１重量饅担持
させ几触媒を用い、そのはかは実施例にシけると同様の
条件全使用して、同一のスチレンを水素添加処理した。
その結果は図面に示すとおプで６つ友。
図面は実施例および比較例の結果を示す図表である。
○ Ｇ Ｃ”／ｒ−柘ＯＪ
Claims (1)
- スチレン類含有物に含まれるフエニルアセチレン類を選
択的に水素添加して除去、精製する方法において、その
水素添加触媒として１価および／または０価の銅を含む
触媒を用いることを特徴とするスチレン類含有物の精製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3162485A JPH0645561B2 (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | スチレン類含有物の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3162485A JPH0645561B2 (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | スチレン類含有物の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61191627A true JPS61191627A (ja) | 1986-08-26 |
| JPH0645561B2 JPH0645561B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=12336369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3162485A Expired - Fee Related JPH0645561B2 (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | スチレン類含有物の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645561B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63277639A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-15 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スチレン類の精製方法 |
| JPS63280032A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-17 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スチレン類の精製方法 |
| US4822936A (en) * | 1987-08-25 | 1989-04-18 | The Dow Chemical Company | Selective hydrogenation of phenylacetylene in the presence of styrene |
| JP2012512188A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-31 | 中国石油化工股▲ふん▼有限公司 | スチレンの存在下でフェニルアセチレンに選択的に水素を付加する方法 |
| JP2012512189A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-31 | 中国石油化工股▲ふん▼有限公司 | スチレンの存在下で複合床を用いてフェニルアセチレンに選択的に水素を付加する方法 |
-
1985
- 1985-02-21 JP JP3162485A patent/JPH0645561B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63277639A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-15 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スチレン類の精製方法 |
| JPS63280032A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-17 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スチレン類の精製方法 |
| US4822936A (en) * | 1987-08-25 | 1989-04-18 | The Dow Chemical Company | Selective hydrogenation of phenylacetylene in the presence of styrene |
| JP2012512188A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-31 | 中国石油化工股▲ふん▼有限公司 | スチレンの存在下でフェニルアセチレンに選択的に水素を付加する方法 |
| JP2012512189A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-31 | 中国石油化工股▲ふん▼有限公司 | スチレンの存在下で複合床を用いてフェニルアセチレンに選択的に水素を付加する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0645561B2 (ja) | 1994-06-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |