JPS61172203A - Magnetic head - Google Patents
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- JPS61172203A JPS61172203A JP60013132A JP1313285A JPS61172203A JP S61172203 A JPS61172203 A JP S61172203A JP 60013132 A JP60013132 A JP 60013132A JP 1313285 A JP1313285 A JP 1313285A JP S61172203 A JPS61172203 A JP S61172203A
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気ヘッドに関するものであり、特に磁気ギャ
ップ近傍部が強磁性金属薄膜で形成されてなる、いわゆ
る複合型の磁気ヘッドに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a magnetic head, and particularly to a so-called composite magnetic head in which the vicinity of the magnetic gap is formed of a ferromagnetic metal thin film. .
例えばVTR(ビデオテープレコーダ)等の磁気記録再
生装置においては、記録信号の高密度化が進められてお
り、この高密度記録に対応して磁気記録媒体として磁性
粉にFe、Co −、N i等の強磁性金属の粉末を用
いた、いわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸着
によりベースフィルム上に被着した、いわゆる蒸着テー
プ等が使用されるようになっている。そして、この種の
磁気記録媒体は高い抗磁力Heを有するために、記録再
生に用いる磁気ヘッドのヘッド材料にも高い飽和磁束密
度Bsを有することが要求されている。例えば、従来磁
気ヘッド材料として多用されているフェライト材では飽
和磁束密度Bsが低く、またパーマロイでは耐摩耗性に
問題がある。For example, in magnetic recording and reproducing devices such as VTRs (video tape recorders), the recording signal density is increasing, and in response to this high density recording, magnetic powders such as Fe, Co -, and Ni are used as magnetic recording media. So-called metal tapes using powder of ferromagnetic metals such as ferromagnetic metal powders, and so-called vapor-deposited tapes in which ferromagnetic metal materials are deposited on a base film by vapor deposition have come to be used. Since this type of magnetic recording medium has a high coercive force He, the head material of the magnetic head used for recording and reproducing is also required to have a high saturation magnetic flux density Bs. For example, ferrite materials, which are conventionally widely used as magnetic head materials, have a low saturation magnetic flux density Bs, and permalloy has problems in wear resistance.
一方、上述の高密度記録化に伴って、磁気記録媒体に記
録される記録トラックの狭小化も進められており、これ
に対応して磁気ヘットのトラソク幅も極めて狭いものが
要求されている。On the other hand, with the above-mentioned high-density recording, the recording tracks recorded on magnetic recording media are becoming narrower, and accordingly, the track width of the magnetic head is also required to be extremely narrow.
そこで従来、例えばセラミックス等の非磁性基板上に飽
和磁束密度の高い強磁性金属薄膜を被着形成し、これを
トラック部分とした複合型磁気ヘット°が提案されてい
るが、この種の磁気ヘットでは磁路が膜厚の薄い強磁性
金属薄膜のみにより構成されるので、磁気抵抗が大きく
効率」二好ましくなく、また上記強磁性金属薄膜の膜形
成を膜成長速度の極めて遅い真空薄膜形成技術で行うた
め、磁気ヘッド作製に時間を要する等の問題があった。Therefore, a composite magnetic head has been proposed, in which a ferromagnetic metal thin film with high saturation magnetic flux density is deposited on a non-magnetic substrate such as ceramics, and this is used as a track part. Since the magnetic path is composed only of a thin ferromagnetic metal film, the magnetic resistance is large and the efficiency is undesirable.Furthermore, the film formation of the ferromagnetic metal thin film is performed using vacuum thin film formation technology, which has an extremely slow film growth rate. Therefore, there were problems such as the time required to manufacture the magnetic head.
あるいは、磁気コア部がフェライト等の強磁性酸化物か
らなり、これら各磁気コア部の磁気ギャップ形成面に強
磁性金属薄膜を被着した複合型磁気ヘッドも提案されて
いるが、この場合には磁路と上記金属薄膜とが直交する
方向に位置するため渦電流損失が発生し再生出力の低下
を招く虞れがあり、また上記磁気コア部と上記金属薄膜
間に擬似ギャップが形成され、充分な信頼性が得られな
い等の問題がある。Alternatively, a composite magnetic head has been proposed in which the magnetic core portion is made of a ferromagnetic oxide such as ferrite, and a ferromagnetic metal thin film is coated on the magnetic gap forming surface of each magnetic core portion. Since the magnetic path and the metal thin film are located in a direction perpendicular to each other, eddy current loss may occur, leading to a decrease in the reproduction output, and a pseudo gap may be formed between the magnetic core portion and the metal thin film, making it difficult to There are problems such as not being able to obtain sufficient reliability.
そこで本願出願人は、先に特願昭58−250988号
明細書において、例えばメタルテープ等の高い抗磁力を
有する磁気テープに高密度記録するのに適した複合型磁
気ヘットを提案した。この磁気ヘッドは、第36図に示
すように、M n −Z nフェライ1へ等の強磁性酸
化物により形成される一対の磁気コア半体(101)
、 (102)の突き合わせ面をそれぞれ斜めに切り欠
いて強磁性金属薄膜形成面(+03)。Therefore, the applicant of the present application previously proposed in Japanese Patent Application No. 58-250988 a composite magnetic head suitable for high-density recording on a magnetic tape having a high coercive force, such as a metal tape. As shown in FIG. 36, this magnetic head includes a pair of magnetic core halves (101) formed of a ferromagnetic oxide such as Mn-Zn ferrite 1.
, (102) are each diagonally cut out to form a ferromagnetic metal thin film forming surface (+03).
(104)を形成し、この強磁性金属薄膜形成面(10
3)、(104)上に真空薄膜形成技術によりFe−A
l4−3i系合金(いわゆるセンダスト)等の強磁性金
属薄膜(105) 、 (106)を被着形成し、これ
ら強磁性金属薄膜(105) 、 (106)を当接す
ることにより磁気ギャップ(107)を構成し、さらに
トラック幅規制溝内にテープ摺接面を確保し強磁性金属
薄膜(105) 、 (106)の摩耗を防止するため
に低融点ガラス(108) 、 (109)あるいは高
融点ガラス(110) 、 (Fll)を充填して構成
されるものであって、信頼性や磁気特性、耐摩耗性等の
点で優れた特性を有するものである。(104) is formed, and this ferromagnetic metal thin film forming surface (10
3), Fe-A was formed on (104) using vacuum thin film formation technology.
By depositing and forming ferromagnetic metal thin films (105) and (106) such as l4-3i alloy (so-called sendust), and bringing these ferromagnetic metal thin films (105) and (106) into contact, a magnetic gap (107) is formed. Furthermore, low melting point glass (108), (109) or high melting point glass is used to ensure a tape sliding contact surface within the track width regulating groove and to prevent wear of the ferromagnetic metal thin films (105), (106). (110), (Fll), and has excellent characteristics in terms of reliability, magnetic properties, wear resistance, etc.
しかしながら、このような複合型の磁気ヘッドにおいて
は、強磁性酸化物と強磁性金属薄膜、あるいは強磁性金
属薄膜と酸化物ガラスというように異種材料が接するた
めに、界面等において様々な問題が発生している。However, in such composite magnetic heads, various problems occur at interfaces because different materials such as ferromagnetic oxide and ferromagnetic metal thin film, or ferromagnetic metal thin film and oxide glass come into contact with each other. are doing.
例えば、強磁性金属薄膜がスパッタリング等の手法によ
り強磁性酸化物であるフェライト上に被着形成されると
、このフェライト界面は金属と接触した状態で300〜
700℃の高温にさらされるようになる。これにより、
強磁性金属薄膜と強磁性酸化物との界面で反応が生じ、
フェライトを構成する酸素原子が300〜500℃の平
衡状態に向けて拡散を始めるようになり、フェライト中
の酸素原子はAn、Si、Feと結び付くようになる。For example, when a ferromagnetic metal thin film is deposited on a ferrite, which is a ferromagnetic oxide, by a method such as sputtering, the ferrite interface is in contact with the metal and
It will be exposed to high temperatures of 700 degrees Celsius. This results in
A reaction occurs at the interface between the ferromagnetic metal thin film and the ferromagnetic oxide,
The oxygen atoms constituting the ferrite begin to diffuse toward an equilibrium state of 300 to 500° C., and the oxygen atoms in the ferrite begin to combine with An, Si, and Fe.
このため、フェライト表面部が還元ぎみとなり低酸素状
筋となることから、フェライトと強磁性金属薄膜との界
面に変質層が形成されるようになる。このような変質層
が界面に形成されると、界面部の磁気抵抗の増大でフェ
ライトの軟磁性特性が劣化するようになり、磁気ヘッド
の記録再生出力の低下をまねくようになる。また、Fe
−A12−3i系合金の熱膨張係数は130〜160×
10−”7℃であり、フェライトの熱膨張係数は90〜
110 X 1 o−77’cであるというように、強
磁性金属薄膜と強磁性酸化物の熱膨張率が異なる材料が
複合されるために、スパッタリングによる強磁性金属薄
膜形成後、例えばガラス融着等の工程において材料内に
応力が発生し、強磁性金属薄膜の破壊や剥離、特性の劣
化等が生じる虞れがある。For this reason, the ferrite surface portion becomes reduced and forms hypoxic streaks, resulting in the formation of an altered layer at the interface between the ferrite and the ferromagnetic metal thin film. When such a degraded layer is formed at the interface, the magnetic resistance at the interface increases, causing the soft magnetic properties of the ferrite to deteriorate, leading to a decrease in the recording and reproducing output of the magnetic head. Also, Fe
-The coefficient of thermal expansion of A12-3i alloy is 130 to 160×
10-"7℃, and the coefficient of thermal expansion of ferrite is 90~
110 X 1 o-77'c, since the ferromagnetic metal thin film and the ferromagnetic oxide are composite materials with different coefficients of thermal expansion, after forming the ferromagnetic metal thin film by sputtering, for example, glass fusion bonding is required. In these steps, stress is generated within the material, which may cause destruction or peeling of the ferromagnetic metal thin film, deterioration of characteristics, etc.
一方、Fe−Aρ−3i系合金等の強磁性金属薄膜を被
着形成した後、直接ガラスを熔融充填すると、ガラスに
よっては強磁性金属材料を大きく浸食することがあり、
この金属とガラスとが反応し、強磁性金属薄膜のエツジ
、表面を変形する等、材料特性や寸法精度に悪影響を与
える虞れがある。On the other hand, if glass is directly melted and filled after a ferromagnetic metal thin film such as Fe-Aρ-3i alloy is deposited, the ferromagnetic metal material may be severely eroded depending on the glass.
This metal and glass may react, deforming the edges and surface of the ferromagnetic metal thin film, and adversely affecting material properties and dimensional accuracy.
また、ガラスと接触する面を構成する材料によっては、
ガラス流れ悪化や泡発生等の問題も発生する。Also, depending on the material that makes up the surface that comes into contact with the glass,
Problems such as deterioration of glass flow and generation of bubbles also occur.
そこで本発明は、このような実情に鑑みて提案されたも
のであって、強磁性酸化物と強磁性金属薄膜からなる複
合型の磁気ヘッドにおいて、これら強磁性金属薄膜や強
磁性酸化物の変質を防止や内部応力の緩和、ガラス流れ
の改善、密着性の向上を目的とし、ヒビや剥離、浸食、
ガラス泡の発生等のない信頼性の高い磁気ヘッドを提供
することを目的とする。The present invention was proposed in view of the above circumstances, and is intended to solve the problem of deterioration of the ferromagnetic metal thin film or ferromagnetic oxide in a composite magnetic head consisting of a ferromagnetic oxide and a ferromagnetic metal thin film. The purpose is to prevent cracks, peeling, erosion, reduce internal stress, improve glass flow, and improve adhesion.
An object of the present invention is to provide a highly reliable magnetic head that does not generate glass bubbles.
本発明は上記の目的を達成するために、強磁性酸化物よ
りなる磁気コア半体の接合面を切り欠き強磁性N膜形成
面を形成し、この強磁性薄膜形成面上に真空薄膜形成技
術による強磁性金属薄膜を形成するとともに、前記強磁
性金属薄膜同士を突き合わせて磁気ギャップを構成して
なる磁気ヘッドにおいて、上記強磁性薄膜形成面と磁気
ギャップ形成面とが所要角度で傾斜しており、強磁性酸
化物と強磁性金属薄膜との間に非磁性高硬度膜が配され
、さらにテープ対接面において非磁性高硬度膜を介して
上記強磁性金属薄膜と酸化物ガラスとが配設されている
ことを特徴とするものである。In order to achieve the above object, the present invention involves notching the bonding surface of a magnetic core half made of ferromagnetic oxide to form a ferromagnetic N film formation surface, and using a vacuum thin film formation technique on this ferromagnetic thin film formation surface. In a magnetic head formed by forming a ferromagnetic metal thin film and forming a magnetic gap by abutting the ferromagnetic metal thin films, the ferromagnetic thin film forming surface and the magnetic gap forming surface are inclined at a predetermined angle. , a non-magnetic high-hardness film is disposed between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film, and the ferromagnetic metal thin film and oxide glass are further disposed on the tape-facing surface via the non-magnetic high-hardness film. It is characterized by the fact that
このように、強磁性酸化物と強磁性金属薄膜との間に非
磁性高硬度膜を設けることにより、これら強磁性酸化物
と強磁性金属薄膜の界面における反応が抑制され、変質
層の形成が防1にされる。In this way, by providing a non-magnetic high-hardness film between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film, the reaction at the interface between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film is suppressed, and the formation of an altered layer is prevented. Defense becomes 1.
また、強磁性金属薄膜と酸化物ガラスとの間に非磁性高
硬度膜を設けることにより、このガラスによる強磁性金
属薄膜の浸食が防止され、ガラスの流れも良好なものと
なる。Further, by providing a non-magnetic high hardness film between the ferromagnetic metal thin film and the oxide glass, erosion of the ferromagnetic metal thin film by the glass is prevented, and the flow of the glass is also improved.
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
先ず、ヘッドのテープ摺接面である前端部よりパックギ
ャップを構成する後端部まで連続して強磁性金属N膜を
形成した本発明の一実施例について説明する。First, an embodiment of the present invention will be described in which a ferromagnetic metal N film is formed continuously from the front end, which is the tape sliding surface of the head, to the rear end, which forms the pack gap.
第1図は本発明を適・用した複合型磁気ヘッドの一例を
示す外観斜視図であり、第2図はその磁気テープ摺接面
を示す要部平面図、第3図は上記磁気ヘッドをギャップ
形成面より分解して示す斜視図である。FIG. 1 is an external perspective view showing an example of a composite magnetic head to which the present invention is applied, FIG. 2 is a plan view of the main part showing the sliding contact surface of the magnetic tape, and FIG. It is a perspective view exploded and shown from a gap formation surface.
この磁気ヘッドにおいては、磁気コア半体(10)、
(11)が強磁性酸化物、たとえはM n−Z n系フ
ェライトで形成され、これら磁気コア半体(10) 、
(11)の接合面を斜めに切り欠いた強磁性薄膜形成
面(10a) 、 (11a)には、フロントギャップ
形成面からバンクギャップ形成面に至るまで連続して高
透磁率合金、たとえばFe−Al−3t系合金膜である
強磁性金属薄膜(13)がそれぞれ非磁性高硬度膜(1
2)を介して真空薄膜形成技術により被着形成されてい
る。そして、これら一対の磁気コア半体(10) 、
(11)をS i O2等のギャップ材を介して突き合
わせ、上記強磁性金属薄膜(13)の当接面がトラック
幅Twの磁気ギャップgとなるように構成されている。In this magnetic head, a magnetic core half (10),
(11) is formed of a ferromagnetic oxide, for example Mn-Zn ferrite, and these magnetic core halves (10),
The ferromagnetic thin film forming surfaces (10a) and (11a), which are formed by cutting out the bonding surface of (11) diagonally, are made of a high magnetic permeability alloy such as Fe- The ferromagnetic metal thin film (13), which is an Al-3t alloy film, is a non-magnetic high hardness film (1).
2) is deposited using vacuum thin film formation technology. And these pair of magnetic core halves (10),
(11) are butted together via a gap material such as S i O2, and the contact surface of the ferromagnetic metal thin film (13) forms a magnetic gap g having a track width Tw.
ここで、上記各磁気コア半体(10)、(11)に被着
形成される強磁性金属薄膜(13)は、磁気テープ摺接
面から見たときに、−直線状に連なっており、磁気コア
半体(10)、 (11)の突き合わせ面である接合面
、すなわち磁気ギャップ形成面(14)に対してθなる
角度で傾斜している。Here, the ferromagnetic metal thin film (13) deposited on each of the magnetic core halves (10) and (11) is continuous in a straight line when viewed from the magnetic tape sliding surface, The magnetic core halves (10) and (11) are inclined at an angle of θ with respect to the abutting surface, ie, the magnetic gap forming surface (14).
さらに、上記強磁性金属薄膜(13)上にも非磁性高硬
度膜(15)が形成されており、磁気ギヤツブgの形成
面近傍、すなわち磁気テープ対接面における磁気ギャッ
プgの両側部には、トラック幅を規制し融着する非磁性
材である酸化物ガラス(16)、(17)が溶融充填さ
れている。Furthermore, a non-magnetic high-hardness film (15) is also formed on the ferromagnetic metal thin film (13), and a non-magnetic high-hardness film (15) is formed on both sides of the magnetic gap g in the vicinity of the forming surface of the magnetic gear g, that is, on the surface facing the magnetic tape. , oxide glasses (16) and (17), which are non-magnetic materials that regulate the track width and are fused, are melt-filled.
上記強磁性薄膜形成面(10a)、 (lla)と磁気
ギヤツブ形成面(14)とがなす角θは、20°〜80
゜の範囲内に設定することが好ましい。ここで20゜以
下の角度であると隣接トラックからのクロストークが大
きくなり、望ましくは30’以上の角度を持たせるのが
よい。また、上記傾斜角度を90゜にした場合は、耐摩
耗性が劣ることから、80”程度以下とするのがよい。The angle θ between the ferromagnetic thin film forming surfaces (10a) and (lla) and the magnetic gear forming surface (14) is 20° to 80°.
It is preferable to set it within the range of °. Here, if the angle is less than 20 degrees, crosstalk from adjacent tracks will increase, so it is desirable to have an angle of 30' or more. Further, if the above-mentioned inclination angle is 90°, the wear resistance is poor, so it is preferable to set it to about 80” or less.
また、傾斜角度を90゜にすると、磁気ギャップgの近
傍部に形成される上述の強磁性金属薄膜(13)の膜厚
をトラック幅TWに等しく形成する必要があり、真空薄
膜形成技術を用いて薄膜を形成するにあたって、多くの
時間を要してしまうことや、膜構造が不均一化してしま
う点で好ましくない。Furthermore, when the inclination angle is 90°, the thickness of the above-mentioned ferromagnetic metal thin film (13) formed in the vicinity of the magnetic gap g needs to be formed equal to the track width TW, so vacuum thin film formation technology is used. This is undesirable because it takes a lot of time to form a thin film and the film structure becomes non-uniform.
すなわち、上記磁気コア半体(10)、(11)に被着
形成される強磁性金属薄膜(13)の膜厚tは、t =
Tws+n θ
でよいことから、トラック幅Twに相当する膜厚を膜付
けする必要がなく、ヘッド作製に要する時間を短縮する
ことができる。ここで、Twはトラック幅であり、θは
上記強磁性薄膜形成面(]Oa) 。That is, the film thickness t of the ferromagnetic metal thin film (13) deposited on the magnetic core halves (10) and (11) is t =
Since Tws+n θ is sufficient, there is no need to deposit a film with a thickness corresponding to the track width Tw, and the time required for manufacturing the head can be shortened. Here, Tw is the track width, and θ is the ferromagnetic thin film formation surface (]Oa).
(Ila) と磁気ギャップ形成面(14)とのなす角
度である。(Ila) and the magnetic gap forming surface (14).
また、上記強磁性金属薄膜(13)の材質としては、強
磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス合金(例え
ばFe、Ni、Coの1つ以上の元素とP、C,B、S
iの1つ以上の元素とからなる合金、またはこれを主成
分としAI、Ge、Be。The material of the ferromagnetic metal thin film (13) may be a ferromagnetic amorphous metal alloy, a so-called amorphous alloy (for example, one or more elements of Fe, Ni, Co and P, C, B, S
An alloy consisting of one or more elements of i, or an alloy containing this as a main component such as AI, Ge, Be.
Sn、I n、Mo、W、Ti、Mn、Cr、Zr。Sn, Inn, Mo, W, Ti, Mn, Cr, Zr.
Hf、Nb等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系ア
モルファス合金、あるいはCo、Hf、Zr等の遷移元
素や希土類元素を主成分とするメクルーメタル系アモル
ファス合金)、Fe−A1−3i系合金であるセンダス
ト合金、Fe−Al系合金、Fe−5i系合金、Fe−
3i−Co系合金、パーマロイ等が使用可能であり、そ
の成句は方法としても、フラッシュ蒸着、真空蒸着、イ
オンブレーティング、スパッタリング、クラスター・イ
オンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術が採用さ
れる。Metal-metalloid amorphous alloys such as alloys containing Hf, Nb, etc., or Meclume metal amorphous alloys whose main components are transition elements such as Co, Hf, Zr, and rare earth elements), Fe-A1-3i alloys Sendust alloy, Fe-Al alloy, Fe-5i alloy, Fe-
3i-Co alloy, permalloy, etc. can be used, and vacuum thin film forming techniques such as flash evaporation, vacuum evaporation, ion blating, sputtering, cluster ion beam method, etc. are used. Ru.
上記Fe−Al−3i系合金を使用する場合に、その主
成分であるFe、AI、Siの組成範囲としては、AI
の含有量が2〜10重量%、Siの含有量が4〜15%
、残部がFeであることが好ましい。すなわち、上記F
e−Al−3i系合金を
FeI2 Alb s+c
(a、b、cは各成分の重量比を表す。)で表したとき
に、その組成範囲が
70≦a〈95
2≦b≦10
4≦C≦15
であることが望ましい。上記AIやSiが少なすぎても
、また逆に多すぎてもFe−Al−3i系合金の磁気特
性が劣化してしまう。When using the above Fe-Al-3i alloy, the composition range of its main components Fe, AI, and Si is
The content of Si is 2 to 10% by weight, and the content of Si is 4 to 15%.
, the balance is preferably Fe. That is, the above F
When the e-Al-3i alloy is expressed as FeI2 Alb s+c (a, b, c represent the weight ratio of each component), its composition range is 70≦a〈95 2≦b≦10 4≦C It is desirable that ≦15. If the amount of AI or Si is too small or too large, the magnetic properties of the Fe-Al-3i alloy will deteriorate.
また、上記Feの一部をCOあるいはN+のうち少なく
とも1種と置換することも可能である。It is also possible to replace a part of the Fe with at least one of CO and N+.
上記Feの一部をCoと置換することにより飽和磁束密
度を上げることができる。特に、Feの40重量%をC
oで置換したもので最大の飽和磁束密度が得られる。こ
のCOの置換量としては、Feに対して0〜60重量%
の範囲内であることが好ましい。The saturation magnetic flux density can be increased by replacing a portion of Fe with Co. In particular, 40% by weight of Fe was replaced by C
The maximum saturation magnetic flux density can be obtained by replacing with o. The amount of CO replaced is 0 to 60% by weight relative to Fe.
It is preferable that it is within the range of .
一方、上記Feの一部をNiと置換することにより、飽
和磁束密度を減少することなく透磁率を高い状態の保つ
ことができる。このNiの置換量としては、Feに対し
て0〜40重量%の範囲内であることが好ましい。On the other hand, by replacing a portion of the Fe with Ni, the magnetic permeability can be maintained at a high level without reducing the saturation magnetic flux density. The amount of Ni substituted is preferably in the range of 0 to 40% by weight based on Fe.
さらに、上述のFe−Al−3i系合金には、耐蝕性や
耐摩耗性を改善するために各種元素を添加剤として加え
てもよい。上記添加剤として使用される元素としては、
3c、Y、La、Ce、Nd、C,d等のランク〉系列
を含むma族元素、Tt、Zr、Hf等の■a族元素、
V、Nb、Ta等のVa族元素、Cr、MO,W等のV
la族元素、Mn、Tc、Re等の■a族元素、Cu、
Ag。Furthermore, various elements may be added to the above-mentioned Fe-Al-3i alloy as additives in order to improve corrosion resistance and wear resistance. Elements used as the above additives include:
Ma group elements including rank> series such as 3c, Y, La, Ce, Nd, C, d, ■A group elements such as Tt, Zr, Hf, etc.
Va group elements such as V, Nb, and Ta; V such as Cr, MO, and W;
La group elements, ■A group elements such as Mn, Tc, Re, Cu,
Ag.
Au等のIb族元素、Ga、In、Ge、Sn。Group Ib elements such as Au, Ga, In, Ge, Sn.
sb等が挙げられる。sb etc.
ところで、上述のFe−Al−3i系合金を用いる場合
に、強磁性金属薄膜(13)は、その柱状構造の成長方
向が磁気コア半体(10)、(1])の強磁性薄膜形成
面(10a) 、 (11a)の法線方向に対して所定
の角度λ、すなわち5°〜45°の角度で傾斜するよう
に被着することが好ましい。By the way, when using the above-mentioned Fe-Al-3i alloy, the ferromagnetic metal thin film (13) has a columnar structure whose growth direction is aligned with the ferromagnetic thin film forming surface of the magnetic core halves (10), (1]). (10a) and (11a) are preferably applied so as to be inclined at a predetermined angle λ, that is, an angle of 5° to 45° with respect to the normal direction.
このように、強磁性金属薄膜(13)を強磁性薄膜形成
面(10a) 、 (Ila)の法線方向に対して所定
の角度をもって傾斜して成長させることにより、得られ
る強磁性金属薄1!1i(13)の磁気特性は安定かつ
優れたものとなり、したがって得られる磁気へ・ノドの
品質や性能も向上するのである。In this way, the ferromagnetic metal thin film 1 obtained by growing the ferromagnetic metal thin film (13) at a predetermined angle with respect to the normal direction of the ferromagnetic thin film formation surfaces (10a) and (Ila). The magnetic properties of !1i (13) are stable and excellent, and therefore the quality and performance of the resulting magnetic throat are improved.
ところで、上記強磁性金属薄膜(13)は、この例では
真空薄膜形成技術により単層として形成しているが、例
えばS i O,、T a、0.、 A I□03.
Z r O,。Incidentally, the ferromagnetic metal thin film (13) is formed as a single layer by vacuum thin film forming technology in this example, but may be made of, for example, S i O,, Ta, 0. , A I□03.
Z r O,.
S 13N9等の高耐摩耗性絶縁膜を介して複数層積層
形成してもよい。この場合、強磁性金属薄膜の積層数は
任意に設定することができる。A plurality of layers may be formed via a highly wear-resistant insulating film such as S13N9. In this case, the number of laminated ferromagnetic metal thin films can be set arbitrarily.
一方、上記磁気コア半体(10)、(11)と強磁性金
属薄膜(13)との間に介在される非磁性高硬度膜(1
2)としては、
A群: S i O2,T i 02 、T a205
.A 120. 、 Cr203゜高融点ガラス等の酸
化物単体もしくは混合物を50〜2000人の膜厚で形
成したもの。On the other hand, the nonmagnetic high hardness film (1) interposed between the magnetic core halves (10), (11) and the ferromagnetic metal thin film (13)
2) Group A: S i O2, T i 02 , T a205
.. A 120. , Cr203° A single oxide or a mixture of oxides such as high melting point glass is formed with a film thickness of 50 to 2000.
B群:Cr、Ti、Si等の非磁性金属単体もしくはそ
の合金を50〜2000人の膜厚で形成したもの。Group B: Non-magnetic metals such as Cr, Ti, Si, etc. or their alloys are formed with a film thickness of 50 to 2000 mm.
が有効であり、これらA群およびB群のものを単独もし
くは同時に用いる。この非磁性高硬度膜(12)の膜厚
としては、疑似ギャップの点から薄い方が有利であり、
またあまり厚くなると磁気抵抗が無視できなくなるので
上限が設定される。are effective, and those from Group A and Group B are used alone or at the same time. As for the thickness of this non-magnetic high hardness film (12), it is advantageous to have a thinner film from the viewpoint of pseudo-gap.
Moreover, if the thickness becomes too thick, the magnetic resistance cannot be ignored, so an upper limit is set.
また、上記強磁性金属薄膜(I3)上に非磁性高硬度膜
(15)を形成することにより、強磁性金属薄膜(13
)のガラス浸食、剥離9寸法精度不良が減少し、ガラス
流れや歩留りが向上するとともに、融着歪が分散され、
高出力の磁気ヘッドが得られるが、この非磁性高硬度膜
(15)としては、先の非磁性高硬度膜(12)と間様
にA群およびB群のものの他、W、Mo、Ta等の高融
点金属及びその酸化物を数μ厚以下で被着したものが適
している。これらを単独あるいは組み合わせて形成する
が、例えばCr+Ta205+Cr、 Cr+S
io2+Cr、 Ti+T i O2+1” i、
Crのみ2等が考えられる。In addition, by forming a non-magnetic high hardness film (15) on the ferromagnetic metal thin film (I3), the ferromagnetic metal thin film (13)
) Glass erosion and peeling 9 Dimensional accuracy defects are reduced, glass flow and yield are improved, and fusion strain is dispersed.
A high-output magnetic head is obtained, but this non-magnetic high-hardness film (15) includes those of groups A and B, as well as W, Mo, and Ta. Suitable materials are those coated with high melting point metals such as and their oxides to a thickness of several microns or less. These can be formed singly or in combination; for example, Cr+Ta205+Cr, Cr+S
io2+Cr, Ti+T i O2+1"i,
Only Cr can be considered as 2nd grade.
したがって、例えば第4図に示すように、磁気コア半体
(10) 、 (11)と強磁性金属薄膜(13)との
間にS i 0J(12a)とCr層(12b)とから
なる2層構造の非磁性高硬度膜(12)を設け、強磁性
金属薄膜(13)と酸化物ガラス(16)との間にCr
Jti (15a) 。Therefore, as shown in FIG. 4, for example, a two-layer structure consisting of SiOJ (12a) and Cr layer (12b) is formed between the magnetic core halves (10), (11) and the ferromagnetic metal thin film (13). A nonmagnetic high-hardness film (12) with a layered structure is provided, and Cr is provided between the ferromagnetic metal thin film (13) and the oxide glass (16).
Jti (15a).
T a20s層(15b) 、 Cr N (15c)
とからなる3層構造の非磁性高硬度膜(15)を設けれ
ばよい。Ta20s layer (15b), CrN (15c)
What is necessary is to provide a non-magnetic high-hardness film (15) having a three-layer structure consisting of the following.
このように構成される磁気ヘットでは、フェライトから
なる磁気コア半体(10) 、 (11)の強磁性薄膜
形成面(10a)、、 (lla)上に非磁性高硬度膜
(I2)を介して強磁性金属薄膜(13)が被着形成さ
れる。このため、スパッタリング時の高温にさらされて
も、上記非磁性高硬度膜(12)によってフェライト中
の酸素原子の強磁性金属薄膜(13)中への拡散が防止
されるようになり、変質層が形成されることがなくなる
。したがって、強磁性金属薄膜(]3)と磁気回路的に
結合する上記強磁性薄膜形成面(10a) 、 (11
a)近傍の軟磁性特性が劣化することばなく、磁気ヘッ
ドの記録再生出力の低下が防止されるようになる。また
、上記強磁性金属薄1!i!(13)が形成される強磁
性薄膜形成面(10a) 、 (11a)が磁気ギャッ
プ形成面(14)に対して所要角度で傾斜していること
から、上記非磁性高硬度膜(12)がある程度の膜厚で
あっても疑似ギャップが形成されることばない。ただし
、この膜厚が厚過ぎることは磁気回路上好ましくない。In the magnetic head constructed in this way, a non-magnetic high hardness film (I2) is placed on the ferromagnetic thin film forming surfaces (10a), (lla) of the magnetic core halves (10), (11) made of ferrite. A ferromagnetic metal thin film (13) is deposited thereon. Therefore, even when exposed to high temperatures during sputtering, the non-magnetic high hardness film (12) prevents oxygen atoms in the ferrite from diffusing into the ferromagnetic metal thin film (13), resulting in an altered layer. will no longer be formed. Therefore, the ferromagnetic thin film forming surface (10a), (11
a) Deterioration of the recording and reproducing output of the magnetic head is prevented without deterioration of the soft magnetic properties in the vicinity. In addition, the above ferromagnetic metal thin 1! i! Since the ferromagnetic thin film forming surfaces (10a) and (11a) on which (13) are formed are inclined at a required angle with respect to the magnetic gap forming surface (14), the nonmagnetic high hardness film (12) is Even if the film is thick to a certain extent, there is no possibility that a pseudo gap will be formed. However, it is not preferable for the magnetic circuit to be too thick.
上記磁気ヘッドの再生出力を従来の磁気ヘッドと比較す
ると、たとえば1〜7MHzの信号で、1〜3dBの出
力レベルの上昇が実験の結果判明した。When the reproduction output of the above magnetic head was compared with that of a conventional magnetic head, it was found through experiments that the output level increased by 1 to 3 dB for signals of, for example, 1 to 7 MHz.
また、スパッタリング時に上記変質層が形成されないこ
とから、スパッタリング温度やスパッタリング速度等に
対する制約を緩和することができ、製造しやすい磁気ヘ
ッドとなっている。Furthermore, since the above-mentioned altered layer is not formed during sputtering, restrictions on sputtering temperature, sputtering speed, etc. can be relaxed, making the magnetic head easy to manufacture.
さらに、フェライトからなる磁気コア半体(10)、
(11)と強磁性金属薄膜(13)との熱膨張係数の差
による熱応力は、上記非磁性高硬度膜(12)によって
分散されるようになるため、スパッタリング後の冷却時
や後工程でのガラス融着による加熱時におても、上記強
磁性金属薄膜(13)にひび割れが生じるようなことは
ない。これにより、さらに磁気特性の向上が図れる。Furthermore, a magnetic core half (10) made of ferrite,
Thermal stress due to the difference in thermal expansion coefficient between (11) and the ferromagnetic metal thin film (13) is dispersed by the non-magnetic high-hardness film (12), so it is not necessary to use it during cooling after sputtering or in subsequent processes. Even during heating by glass fusing, the ferromagnetic metal thin film (13) does not crack. Thereby, the magnetic properties can be further improved.
また、上記強磁性金属薄膜(13)と酸化物ガラス(1
6)との間に非磁性高硬度膜(15)を形成しておくこ
とにより磁気コア半体(10)、(11)と酸化物ガラ
ス(16)との間の歪を分散して、いわゆるショートレ
ンジ(短範囲)な状態の歪にしたり、強磁性金属薄膜(
13)の伸びを妨げることになり、強磁性金属薄膜(1
3)のひびや割れの発生を防止することができて磁気ヘ
ッドの信頼性を向上することができるとともに、磁気ヘ
ッド製造の歩留りを良好にすることができる。Further, the ferromagnetic metal thin film (13) and the oxide glass (1
By forming a non-magnetic high hardness film (15) between the magnetic core halves (10), (11) and the oxide glass (16), the strain between the magnetic core halves (10), (11) and the oxide glass (16) is dispersed. It is possible to create short-range strain, or to create a ferromagnetic metal thin film (
13), the elongation of the ferromagnetic metal thin film (1
It is possible to prevent the occurrence of cracks and cracks in 3), thereby improving the reliability of the magnetic head and improving the yield of manufacturing the magnetic head.
次に、上記実施例の磁気ヘッドの構成をより明確なもの
とするために、その製造方法について説明する。Next, in order to clarify the structure of the magnetic head of the above embodiment, a manufacturing method thereof will be described.
上記実施例の磁気ヘッドを作製するには、先ず、第5図
に示すように、例えばM n −Z n系フェライト等
の強磁性酸化物基板(20)の上面(20a) 、すな
わちこの強磁性酸化物基板(20)における磁気コア半
体突き合わせ時の接合面に、回転砥石等により断面路■
字状の第1の切溝(21)を全幅に亘って複数平行に形
成し、強磁性薄膜形成面(21a)を形成する。なお、
上記強磁性薄膜形成面(21a)は、上記強磁性酸化物
基板(20)の磁気ギャップ形成面に対応する上面(2
0a)と所定角度θで傾斜するように斜面として形成さ
れ、その角度θは、ここではおよそ45°に設定されて
いる。In order to manufacture the magnetic head of the above embodiment, first, as shown in FIG. When the magnetic core halves are brought together in the oxide substrate (20), a cross-sectional surface is cut with a rotary grindstone, etc.
A plurality of letter-shaped first kerfs (21) are formed in parallel over the entire width to form a ferromagnetic thin film forming surface (21a). In addition,
The ferromagnetic thin film forming surface (21a) is an upper surface (21a) corresponding to the magnetic gap forming surface of the ferromagnetic oxide substrate (20).
0a) and is formed as a slope so as to be inclined at a predetermined angle θ, and the angle θ is set to approximately 45° here.
次に、第6図に示すように、上記強磁性酸化物基板(2
0)の上面(20a)に、スパッタリング等の手法によ
り非磁性高硬度膜(22)を形成する。この非磁性高硬
度膜(22)は、例えばS i O,を300人の厚さ
に被着し一層目の非磁性高硬度膜を形成するとともに、
この一層目の非磁性高硬度股上にCrを300人の厚さ
に被着して二層目の非磁性高硬度膜を形成することによ
り作製される。Next, as shown in FIG. 6, the ferromagnetic oxide substrate (2
A non-magnetic high hardness film (22) is formed on the upper surface (20a) of 0) by a method such as sputtering. This non-magnetic high-hardness film (22) is formed by depositing SiO, for example, to a thickness of 300 mm to form a first layer of non-magnetic high-hardness film, and
It is manufactured by depositing Cr to a thickness of 300 mm on the first layer of nonmagnetic high hardness to form a second layer of nonmagnetic high hardness film.
続いて、第7図に示すように、上記非磁性高硬度膜(2
2)上に、Fe−Aff−3i系合金や非晶質合金等を
スパッタリング、イオンブレーティング、蒸着等の真空
薄膜形成技術を用いて被着し、強磁性金属薄膜(23)
を形成する。Next, as shown in FIG. 7, the non-magnetic high hardness film (2
2) A ferromagnetic metal thin film (23) is formed by depositing Fe-Aff-3i alloy, amorphous alloy, etc. on top using vacuum thin film forming techniques such as sputtering, ion blasting, and vapor deposition.
form.
そしてさらに、第8図に示すように、上記強磁性金属薄
膜(23)J−にも非磁性高硬度膜(24)を被着形成
する。この非磁性高硬度膜(24)は、例えばCr膜を
0.1μm程度の膜厚で被着し、続いてTa205膜を
1μm程度の膜厚で被着し、さらにCr膜を0.1μm
程度の膜厚で被着することにより形成される。この非磁
性高硬度膜(24)の材質としては、特にW、Mo、S
i、Ta等の高融点金属及びその酸化物や合金の数μ
m厚以下のものが適しており、さらにこの非磁性高硬度
膜(24)の強磁性金属薄膜(23)に対する被着にお
いてCr膜を介在することにより接着が良好に行える。Furthermore, as shown in FIG. 8, a non-magnetic high hardness film (24) is also deposited on the ferromagnetic metal thin film (23) J-. This non-magnetic high hardness film (24) is made by, for example, depositing a Cr film with a thickness of about 0.1 μm, followed by depositing a Ta205 film with a thickness of about 1 μm, and then depositing a Cr film with a thickness of about 0.1 μm.
It is formed by depositing a film with a certain thickness. The material of this nonmagnetic high hardness film (24) is particularly W, Mo, S.
i, the number μ of high melting point metals such as Ta and their oxides and alloys
A thickness of m or less is suitable, and good adhesion can be achieved by interposing a Cr film in adhering the nonmagnetic high hardness film (24) to the ferromagnetic metal thin film (23).
次いで、第9図に示すように、強磁性金属薄膜(23)
や非磁性高硬度膜(22) 、 (24)が被着形成さ
れた第1の切溝(21)内に、例えば低融点ガラス等の
酸化物ガラス(25)を充愼した後、上記基板(20)
の上面(20a)を平面研削し、平滑度良く面出しを行
い、上記基板(20)の上面(20a)に上記強磁性薄
膜形成面(21a)上に被着される強磁性金属薄膜(2
3)を露出させる。Next, as shown in FIG. 9, a ferromagnetic metal thin film (23)
After filling the first groove (21) in which the non-magnetic high hardness films (22) and (24) are filled with oxide glass (25) such as low melting point glass, (20)
The upper surface (20a) of the substrate (20) is surface-ground to provide good smoothness, and the ferromagnetic metal thin film (2) is deposited on the upper surface (20a) of the substrate (20) on the ferromagnetic thin film forming surface (21a).
3) Expose.
次に、第10図に示すように、上記強磁性金属薄膜(2
3)が被着形成された強磁性薄膜形成面(21a)に隣
接して、上記第1の切溝(21)の−側縁(21a)と
若干オーバーラツプするように第1の切溝(21)と平
行に第2の切溝(26)を切削加工し、上記基板(20
)の上面(20a)に対して鏡面加工を施す。この結果
、上記強磁性金属薄膜(23)のみにより磁気ギヤツブ
が構成されるようにトラック幅が規制される。Next, as shown in FIG. 10, the ferromagnetic metal thin film (2
A first kerf (21) is formed adjacent to the ferromagnetic thin film forming surface (21a) on which the ferromagnetic thin film 3) is deposited and slightly overlaps with the negative edge (21a) of the first kerf (21). ) and cut a second groove (26) parallel to the substrate (20
) A mirror finish is applied to the upper surface (20a). As a result, the track width is regulated so that the magnetic gear is formed only by the ferromagnetic metal thin film (23).
ところで、上記第2の切溝(26)の断面形状としては
、単なる7字状ではなく、例えば断面多角形状とし、こ
の切溝(26)の内壁面を2段階あるいはそれ以上に屈
曲した形状とし、磁気ヘッドのチープ摺接面から見た時
に、強磁性酸化物と強磁性金属薄膜との距離を確保する
ようにしてもよい。このような溝形状とすることにより
、強磁性酸化物と強磁性金属薄膜の接合面積を大きくし
たままで、長波長成分の信号を再生することによるクロ
ストーク成分を低減することができる。さらに、上記の
ような形状とすることにより、上記強磁性酸化物の端面
が磁気ギヤツブのアジマス角と異なる方向で傾斜され、
アジマス損失によって隣接又は隣々接トランクからの信
号のピンクアンプ量、すなわちクロストークを減少させ
ることができる。By the way, the cross-sectional shape of the second kerf (26) is not a simple 7-shaped shape, but a polygonal cross-section, for example, and the inner wall surface of this kerf (26) is curved in two or more steps. The distance between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film may be maintained when viewed from the cheap sliding contact surface of the magnetic head. With such a groove shape, it is possible to reduce the crosstalk component caused by reproducing a long wavelength component signal while keeping the bonding area between the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film large. Furthermore, by having the above shape, the end face of the ferromagnetic oxide is inclined in a direction different from the azimuth angle of the magnetic gear,
Azimuth loss can reduce the amount of pink amplification of signals from adjacent or adjacent trunks, ie, crosstalk.
また、上記強磁性薄膜形成面(21a)上に強磁性金属
薄膜(23)を被着形成した後、トラック幅を規制する
ための第2の切溝(26)を形成するという工程となっ
ているため、この第2の切溝(26)の切削位置を調節
することによりトラック幅を精度良く製造することが可
能となり、強磁性金属薄膜のみで構成された磁気ギャッ
プ部から最短距離を通って強磁性酸化物に磁束を通す形
状の磁気ヘッドを歩留り良く製造できるとともに、出力
も大きくなリ、生産性や信頼性、製造コストの点で有利
である。Further, after the ferromagnetic metal thin film (23) is deposited on the ferromagnetic thin film forming surface (21a), a second kerf (26) for regulating the track width is formed. Therefore, by adjusting the cutting position of this second groove (26), it is possible to manufacture the track width with high precision. A magnetic head having a shape that allows magnetic flux to pass through the ferromagnetic oxide can be manufactured with high yield, and the output is large, which is advantageous in terms of productivity, reliability, and manufacturing cost.
上述のような工程により作製される一対の強磁性酸化物
基板(20)のうち、一方の基板(20)に対して、第
11図に示すように、上記第1の切溝(21)及び第2
の切溝(26)と直交する方向に溝加工を施し、巻線1
(27)を形成し強磁性酸化物基板(30)を得る。As shown in FIG. 11, the first groove (21) and Second
A groove is formed in a direction perpendicular to the cut groove (26) of the winding 1.
(27) is formed to obtain a ferromagnetic oxide substrate (30).
続いて、上記基板(20)の上面(20a)か上記基板
(30)の上面(30a)上の少なくともいずれか一方
にギャップスペーサを被着し、第12図に示すように、
これら基板(20) 、 (30)を上記強磁性金属薄
膜(23)同士が突き合わされるように接合配置する。Subsequently, a gap spacer is attached to at least one of the upper surface (20a) of the substrate (20) and the upper surface (30a) of the substrate (30), as shown in FIG.
These substrates (20) and (30) are bonded and arranged so that the ferromagnetic metal thin films (23) are butted against each other.
そして、これら基板(20)及び(30)をガラスによ
り融着すると同時に、上記第2の切a(26)内に上記
ガラス(28)を充填する。なお、上記ギャップスペー
サとしては、Sin、、Zr○、、Ta、05.Cr等
が使用される。また、この製造工程において、上記第2
の切溝(26)へのガラス(28)の充填は、基板(2
0) 、 (30)の融着と同時でなく、例えば第11
図に示す工程であらかじめ第2の切溝(26)内にガラ
ス(28)を充填し、第12図に示す工程ではガラス融
着のみとしてもよい。Then, at the same time as these substrates (20) and (30) are fused together with glass, the second cut a (26) is filled with the glass (28). In addition, the above-mentioned gap spacers include Sin, Zr○, Ta, 05. Cr etc. are used. In addition, in this manufacturing process, the second
Filling of the glass (28) into the kerf (26) of the substrate (2
0) and (30), but for example, the 11th
In the step shown in the figure, the second kerf (26) may be filled with glass (28) in advance, and in the step shown in FIG. 12, only glass fusion may be performed.
そして、第12図中A−A線及びA’−A’線の位置で
スライシング加工し、複数個のへソトチソプを切り出し
た後、磁気テープ摺接面を円筒研磨して第1図に示す磁
気ヘットを完成する。なお、このとき基板(20)及び
(30)に対するスライシング方向を突き合わせ面に対
して傾斜させることにより、アジマス記録用の磁気ヘッ
ドを作製することができる。Then, slicing was performed at the positions of line A-A and line A'-A' in Figure 12 to cut out a plurality of umbilical cords, and the sliding contact surface of the magnetic tape was cylindrically polished and the magnetic tape shown in Figure 1 was cut out. Complete the head. Note that at this time, by making the slicing direction of the substrates (20) and (30) inclined with respect to the abutting surfaces, a magnetic head for azimuth recording can be manufactured.
ここで、この磁気ヘッドの一方の磁気コア半体(lO)
は強磁性酸化物基板(20)を母材としており、他方の
磁気コア半体(11)は強磁性酸化物基板(30)を母
材としている。また、強磁性金属薄膜(13)は強磁性
金属薄膜(23)に、非磁性高硬度膜(12)は非磁性
高硬度膜(22)に、非磁性高硬度膜(15)は非磁性
高硬度lI%(24)にそれぞれ対応している。さらに
酸化物ガラス(16)は酸化物ガラス(25)に対応し
ている。Here, one magnetic core half (lO) of this magnetic head
has a ferromagnetic oxide substrate (20) as a base material, and the other magnetic core half (11) has a ferromagnetic oxide substrate (30) as a base material. In addition, the ferromagnetic metal thin film (13) is replaced with the ferromagnetic metal thin film (23), the nonmagnetic high hardness film (12) is replaced with the nonmagnetic high hardness film (22), and the nonmagnetic high hardness film (15) is replaced with the nonmagnetic high hardness film (15). Each corresponds to hardness lI% (24). Furthermore, oxide glass (16) corresponds to oxide glass (25).
このような製造工程により製造される磁気ヘットにおい
ては、強磁性金属薄膜(23)の膜構造の不均一な部分
が第9図で説明した研磨工程、すなわちギャップ面研磨
加工時に削り取られてしまうため、第1の切溝(21)
の強磁性薄膜形成面(21a)には均一な膜構造を有す
る強磁性金属薄膜(23)が非磁性高硬度膜(22)及
び非磁性高硬度11’!!(24)にサンドイッチされ
た状態で残り、ガラス融着の際の昇温時にも変形したり
ひび割れが生じることなく、安定した状態に保持される
。このため、上記磁気ヘッドは一平面上に形成された強
磁性金属薄膜(23)が磁路に沿ってその各部が高透磁
率となることで安定した高出力が得られるようになる。In a magnetic head manufactured by such a manufacturing process, the non-uniform parts of the film structure of the ferromagnetic metal thin film (23) are scraped off during the polishing process explained in FIG. 9, that is, the gap surface polishing process. , first kerf (21)
On the ferromagnetic thin film formation surface (21a), a ferromagnetic metal thin film (23) having a uniform film structure is formed with a nonmagnetic high hardness film (22) and a nonmagnetic high hardness film 11'! ! It remains in a sandwiched state with (24), and is maintained in a stable state without deformation or cracking even when the temperature rises during glass fusing. Therefore, in the magnetic head, the ferromagnetic metal thin film (23) formed on one plane has high magnetic permeability at each part along the magnetic path, so that stable high output can be obtained.
次に、強磁性金属薄膜を磁気ギャップ近傍部のみに形成
した実施例にって説明する。Next, an example will be described in which a ferromagnetic metal thin film is formed only in the vicinity of the magnetic gap.
第13図は、磁気ギャップ近傍部にのみ強磁性金属薄膜
を形成した磁気ヘッドの一例を示すものである。この磁
気ヘッドにおいては、一対の磁気コア半体(40)、(
41)がM n −Z n系フェライト等の強磁性酸化
物で形成され、磁気ギヤツブg近傍のフロントデプス側
にのみ強磁性金属薄膜(42)が、例えばFe−Aj!
−St系合金等の高透磁率合金をスパッタリング等の真
空薄膜形成技術で被着することにより設けられている。FIG. 13 shows an example of a magnetic head in which a ferromagnetic metal thin film is formed only in the vicinity of the magnetic gap. In this magnetic head, a pair of magnetic core halves (40), (
41) is formed of a ferromagnetic oxide such as Mn-Zn-based ferrite, and a ferromagnetic metal thin film (42) is formed only on the front depth side near the magnetic gear g, for example, Fe-Aj!
- It is provided by depositing a high magnetic permeability alloy such as a St-based alloy using a vacuum thin film forming technique such as sputtering.
また、酸化物ガラス(43) 、 (44)が磁気ギャ
ップgの形成面近傍に溶融充填されている。ここで上記
強磁性金属薄膜(42)と強磁性酸化物からなる磁気コ
ア半体(40) 、 (41)との間には、先の実施例
と同様に、SjO□、T102 + T a205等の
酸化物やCr、Ti、St等の非磁性金属からなる非磁
性高硬度膜(45)が設けられている。また、上記強磁
性金属薄膜(42)と酸化物ガラス(43)との間にも
、T azosやCr、Tie、。Further, oxide glasses (43) and (44) are melted and filled near the surface where the magnetic gap g is formed. Here, between the ferromagnetic metal thin film (42) and the magnetic core halves (40) and (41) made of ferromagnetic oxide, as in the previous embodiment, SjO□, T102 + Ta205, etc. A nonmagnetic high hardness film (45) made of oxide of Cr, Ti, St, or other nonmagnetic metal is provided. Moreover, Tazos, Cr, Tie, etc. are also present between the ferromagnetic metal thin film (42) and the oxide glass (43).
S t O,等の高融点金属及びその酸化物等からなる
非磁性高硬度膜(46)が設けられている。なお、上記
強磁性金属薄膜(42)が磁気テープ形成面から見た時
に磁気ギヤツブ形成面に対して所定の角度θで傾斜して
いることは先の実施例と同様である。A non-magnetic high hardness film (46) made of a high melting point metal such as S t O and its oxide is provided. Note that, as in the previous embodiment, the ferromagnetic metal thin film (42) is inclined at a predetermined angle θ with respect to the magnetic gear forming surface when viewed from the magnetic tape forming surface.
このような磁気ヘッドは、例えば第14図ないし第22
図に示す工程を経て製造される。Such magnetic heads are shown in FIGS. 14 to 22, for example.
It is manufactured through the steps shown in the figure.
すなわち、先ず、第14図に示すように、例えばM n
−Z nフェライト等の強磁性酸化物基板(50)の
長平方向−稜部に断面多角形状の複数の切溝(51)を
、回転砥石または電解エツチング等により形成する。こ
こで上記基板(50)の上面(50a)は磁気ギャップ
形成面に対応し、上記切溝(51)は基板(50)の磁
気ギャップ形成位置近傍に相当する部分に形成される。That is, first, as shown in FIG. 14, for example, M n
- A plurality of kerfs (51) having a polygonal cross section are formed in the longitudinal direction of the ferromagnetic oxide substrate (50) such as Zn ferrite or the like using a rotating grindstone or electrolytic etching. Here, the upper surface (50a) of the substrate (50) corresponds to the magnetic gap forming surface, and the kerf (51) is formed in a portion of the substrate (50) corresponding to the vicinity of the magnetic gap forming position.
次に、第15図に示す。Lうに、上記切溝(51)に酸
化物ガラス(52)を溶融充填した後、上面(50a)
と前面(50b) とを平面研磨する。Next, it is shown in FIG. After melting and filling the kerf (51) with oxide glass (52), the upper surface (50a)
and the front surface (50b) are polished.
次いで、第16図に示すように、上記酸化物ガラス(5
2)を熔融充填した上記切溝(51)の−側縁若干オー
バーラツプするように上記−稜部に切溝(5I)と隣り
合う複数の切ts(53)を形成する。この時、形成さ
れる切溝(53)の内壁面(53a)には、上記ガラス
(52)の一部が露出している。また、この内壁面(5
3a)と上記上面(50a)との交線(54)は、」二
記載Fj、(50)の前面(50b)と直角をなしてい
る。また、この内壁面(53a)と上面(50a)との
なす角度は、所要角度、例えば45°となっている。Next, as shown in FIG. 16, the oxide glass (5
A plurality of cuts (53) adjacent to the kerf (5I) are formed at the ridge portion so as to slightly overlap the side edges of the kerf (51) filled with 2). At this time, a portion of the glass (52) is exposed on the inner wall surface (53a) of the cut groove (53) formed. Also, this inner wall surface (5
The intersection line (54) between 3a) and the upper surface (50a) is perpendicular to the front surface (50b) of ``2 Fj'' (50). Further, the angle between the inner wall surface (53a) and the upper surface (50a) is a required angle, for example, 45 degrees.
続いて、第17図に示すように、スパッタリング等の真
空薄膜形成技術を用いて、上記基板(50)の少なくと
も上記切溝(53)を覆うように例えばSi 02を3
00人の厚さに被着し、さらにCrを300人の厚さに
被着して非磁性高硬度膜(55)を形成する。Subsequently, as shown in FIG. 17, using a vacuum thin film forming technique such as sputtering, for example, 30% of Si 02 is deposited so as to cover at least the grooves (53) of the substrate (50).
Then, Cr is further deposited to a thickness of 300 mm to form a non-magnetic high hardness film (55).
次に、第18図に示すように、上記非磁性高硬度膜(5
5)J二の上記切/?1(53)近傍に、スパッタリン
グ等の真空薄膜形成技術を用いて高透磁率合金の例えば
Fe−A7!−3I系合金を被着し、強磁性金属薄膜(
56)を形成する。この強磁性金属薄膜(56)の形成
において、切溝(53)の一方の内壁面(53a)上に
強磁性金属が効率良く被着するように、上記基板(50
)をf頃斜させてスパッタリング装置内に配置するよう
にしてもよい。Next, as shown in FIG. 18, the non-magnetic high hardness film (5
5) J2's above cut/? 1 (53) using a vacuum thin film forming technique such as sputtering to form a high magnetic permeability alloy such as Fe-A7! -3I alloy is deposited and a ferromagnetic metal thin film (
56). In forming this ferromagnetic metal thin film (56), the substrate (50
) may be placed in the sputtering apparatus at an angle of about f.
そして、このように被着形成された強磁性金属薄11%
(56) J−に第19図に示すようにTa205や
T+02、SiO,等の非磁性高硬度l1iji(57
)をスパッタリング等により被着形成する。本例におい
ては、この非磁性高硬度膜(57)は強磁性金属薄膜(
56)の」ニア
にCr膜を0,1μm程度の膜厚で形成し、続いてその
上にTa205膜を1μm程度の膜厚でスパッタリング
等により形成している。このようにCr膜を強磁性金属
薄膜(56)上に形成することにより、この強磁性金属
薄膜(56)に対するTa205膜の被着が良好となる
。なお、本例では非磁性高硬度膜(57)をCr膜−T
a、O,膜により形成したが、その他Cr膜−8iO
2膜−T a、O,膜の順で形成したものであってもよ
く、さらにTi膜を0.1μm程度に、続いてT i
O,膜を1μm程度に積層被着したもの等も好適である
。Then, the 11% ferromagnetic metal thin film deposited in this way
(56) As shown in FIG.
) is deposited and formed by sputtering or the like. In this example, this nonmagnetic high hardness film (57) is a ferromagnetic metal thin film (
56), a Cr film is formed with a thickness of about 0.1 .mu.m, and then a Ta205 film is formed thereon with a thickness of about 1 .mu.m by sputtering or the like. By forming the Cr film on the ferromagnetic metal thin film (56) in this way, the Ta205 film can be well adhered to the ferromagnetic metal thin film (56). In this example, the non-magnetic high hardness film (57) is a Cr film-T.
a, O, film, but other Cr film-8iO
Two films may be formed in the order of T a, O, and then a Ti film of about 0.1 μm, followed by a Ti film of about 0.1 μm.
It is also preferable to use a layered film of about 1 μm thick.
そして、第20図に示すように、非磁性高硬度膜(55
)、強磁性金属薄膜(56)、非磁性高硬度膜(57)
が積層して被着された切溝(53)に、上記酸化物ガラ
ス(52)よりも低融点の酸化物ガラス(58)を溶融
充填した後、基板(50)の上面(50a)と前面(5
0b)とを平面研磨し鏡面仕上げを行う。このとき、上
記基板(50)の前面(50b)においては、前工程で
被着した非磁性高硬度膜(55)及び非磁性高硬度膜(
57)が上記切溝(53)の内壁面(53a)に被着さ
れた状態の強磁性金属薄膜(56)をザンドイソチする
ような状態になっている。Then, as shown in FIG. 20, a non-magnetic high hardness film (55
), ferromagnetic metal thin film (56), non-magnetic high hardness film (57)
After melting and filling the oxide glass (58) having a lower melting point than the oxide glass (52) into the groove (53) where the oxide glass (53) is laminated and adhered, the upper surface (50a) and front surface of the substrate (50) are filled. (5
0b) is polished to a mirror finish. At this time, on the front surface (50b) of the substrate (50), the nonmagnetic high hardness film (55) and the nonmagnetic high hardness film (55) deposited in the previous step are
The ferromagnetic metal thin film (56) adhered to the inner wall surface (53a) of the kerf (53) is in a state of being sandwiched.
また、巻線溝側の磁気コア半体を形成するために、第2
0図に示すような加工を施した強磁性酸化物基板(50
)に、巻線溝(59)を形成する溝加工を。In addition, in order to form the magnetic core half on the winding groove side, a second
A ferromagnetic oxide substrate (50
) to form a winding groove (59).
行い、第21図に示す強磁性酸化物基板(70)を得る
。As a result, a ferromagnetic oxide substrate (70) shown in FIG. 21 is obtained.
さらに、上記基i (50)の磁気ギャップ形成面とな
る上面(50a)と上記基板(60)の磁気ギャップ形
成面となる上面(60a) とを、これら上面(50a
) 、 (60a)の少なくともいずれか一方に膜付け
されたギャップスペーサを介して第22図に示すように
突き合わせ、ガラス融着を行う。その後、基板(50)
と基板(60)とを合体させたブロックを、第22図中
B−B線及びB’−B’線の位置でスライシング加工し
、複数のヘンドチソプを得る。このスライシング加工は
場合によってはアジマス角だけ傾けて行う。Further, the upper surface (50a) of the base i (50) which will be the magnetic gap forming surface and the upper surface (60a) which will be the magnetic gap forming surface of the substrate (60) are connected to each other.
) and (60a) through a gap spacer film attached thereto, as shown in FIG. 22, and glass fusion is performed. After that, the board (50)
The block obtained by combining the and the substrate (60) is subjected to slicing processing at the positions of line B-B and line B'-B' in FIG. 22 to obtain a plurality of hendochisop. This slicing process may be performed at an angle of azimuth.
最後に、切り出した各ヘンドチソプに対し、磁気テープ
摺接面の円筒研磨を施し、第13図に示す磁気ヘッドを
完成する。Finally, cylindrical polishing of the sliding contact surface of the magnetic tape is applied to each of the cut out magnetic tapes to complete the magnetic head shown in FIG. 13.
ここで、第13図に示す磁気ヘッドの一方の磁気コア半
体(旧)は上記一方の強磁性酸化物基板(51)を母材
としており、他方の磁気コア半体(40)は他方の強磁
性酸化物基Fj、(60)を母材としている。Here, one magnetic core half (old) of the magnetic head shown in FIG. 13 uses the one ferromagnetic oxide substrate (51) as a base material, and the other magnetic core half (40) uses the other ferromagnetic oxide substrate (51) as a base material. The base material is a ferromagnetic oxide group Fj, (60).
また、非磁性高硬度膜(45)は非磁性高硬度膜(55
)に、強磁性金属薄膜(42)は強磁性金属薄11!3
i(56)に、非磁性高硬度膜(46)は非磁性高硬度
膜(57)にそれぞれ対応している。さらに、酸化物ガ
ラス(43)は酸化物ガラス(58)に対応している。In addition, the nonmagnetic high hardness film (45) is the nonmagnetic high hardness film (55
), the ferromagnetic metal thin film (42) is ferromagnetic metal thin film 11!3
i (56), the nonmagnetic high hardness film (46) corresponds to the nonmagnetic high hardness film (57), respectively. Furthermore, oxide glass (43) corresponds to oxide glass (58).
このように構成される磁気ヘッドにおいては、先の実施
例と同様に、強磁性金属薄膜(42)の各部がヘッドの
磁路方向に沿って高い透磁率を示すようになり、安定に
高出力を得ることができ、1Vた、強磁性金属薄11i
iii(42)が非磁性高硬度膜(45) 、 (46
)に保護されて変形やひび、割れ、変質等が発生するこ
となく安定したものとなる。In the magnetic head configured in this manner, each part of the ferromagnetic metal thin film (42) exhibits high magnetic permeability along the magnetic path direction of the head, as in the previous embodiment, and stable high output is achieved. can be obtained, 1V, ferromagnetic metal thin 11i
iii (42) is a non-magnetic high hardness film (45), (46
), it becomes stable without deformation, cracking, cracking, deterioration, etc.
さらに加えて、この実施例の磁気ヘッドにおいては、ヘ
ットの後部側の接合面、すなわちハックギャップ面にお
いて強磁性酸化物同士が直接ガラス融着されていること
から、ヘン1ζチツプ耐破懐強度が大きく盟潰し易いヘ
ッドとなっており、強磁性金属薄膜の安定とあいまって
歩留りの向上を図ることができる。また、上記磁気ヘッ
ドでは、強磁性金属薄膜(42)は磁気ギャップgの近
傍部のみに形成されているため、この強磁性金属薄膜(
42)の形成面積が少なくてすみ、例えばスパッタリン
グ装置で一括処理可能な(U数を大幅に増やせることで
量産性の向上を図ることができる。In addition, in the magnetic head of this embodiment, the ferromagnetic oxides are directly glass-fused to each other at the bonding surface on the rear side of the head, that is, the hack gap surface, so that the fracture resistance of the Hen 1ζ chip is increased. The head is large and easy to crush, and combined with the stability of the ferromagnetic metal thin film, yield can be improved. Furthermore, in the above magnetic head, since the ferromagnetic metal thin film (42) is formed only in the vicinity of the magnetic gap g, this ferromagnetic metal thin film (42) is formed only in the vicinity of the magnetic gap g.
42) can be formed in a small area and can be processed all at once using a sputtering device, for example (by greatly increasing the number of U, mass productivity can be improved).
次に第23図ないし第32図に基づき他の製造工程によ
り作製される磁気ヘッドの例を説明する。Next, examples of magnetic heads manufactured by other manufacturing processes will be explained based on FIGS. 23 to 32.
この磁気ヘッドを作製するには、先ず、第23図に示す
ように、例えばM n −Z nフェライ1〜等の強磁
性酸化物基板(70)の磁気テープ対接面に対応する上
面(70a)に、この上面(70a)を斜めに横切るよ
うな断面略コ字状の溝(71)を複数形成する。To manufacture this magnetic head, first, as shown in FIG. ), a plurality of grooves (71) having a substantially U-shaped cross section are formed diagonally across the upper surface (70a).
ここで、この溝(71)の深さCオヘットの巻線孔に到
達する程度の深さである。Here, the depth of this groove (71) is deep enough to reach the winding hole of the hole C.
次に、第24図に示すように、上記溝(71)に高融点
ガラス(72)を溶融充填した後、上面(70a)と前
面(70b)とを平面研磨する。Next, as shown in FIG. 24, after melting and filling the groove (71) with high melting point glass (72), the top surface (70a) and front surface (70b) are polished.
そして、第25図に示すように高融点ガラス(72)を
充填した上記溝(7I)の一部とオーバーシップし、こ
の溝(7I)とは逆方向に斜めに上面(70a)を横切
る断面コ字状のa(73)を上記上面(70a)に複数
形成する。この溝(73)の深さは上記溝(71)と同
程度である。このときこの溝(73)の内側面(73a
)は、上記基板(70)の上面(70a)とは直交して
形成され、また、前面(70b)とは所要角度、例えば
45゜をなしている。さらに、この溝(73)の内側面
(73a)は、上記溝(71)と基板(70)の前面(
70b)近傍において交差し、上記高融点ガラス(72
)を若干切り欠くようになっている。As shown in FIG. 25, the cross section overlaps a part of the groove (7I) filled with high melting point glass (72) and crosses the upper surface (70a) obliquely in the opposite direction to this groove (7I). A plurality of U-shaped a (73) are formed on the upper surface (70a). The depth of this groove (73) is approximately the same as that of the groove (71). At this time, the inner surface (73a) of this groove (73)
) is formed perpendicularly to the upper surface (70a) of the substrate (70), and forms a required angle, for example 45 degrees, with the front surface (70b). Furthermore, the inner surface (73a) of this groove (73) is connected to the groove (71) and the front surface (70) of the substrate (70).
70b), and the high melting point glass (72
) is slightly cut out.
このように強磁性酸化物基板(7o)の上面(70a)
に溝(71)や溝(73)を形成した後、第26図に示
すように、上記基板(70)の溝(73)の近傍部にス
パッタリング等の真空薄膜形成技術を用いてSi○、や
Cr等の非磁性高硬度膜(74)を被着形成する。この
非磁性高硬度膜(74)の材質としては、先の各実施例
と同様のものが使用可能であることは言うまでもない。In this way, the top surface (70a) of the ferromagnetic oxide substrate (7o)
After forming grooves (71) and grooves (73) in the substrate (70), as shown in FIG. 26, Si○, A non-magnetic high hardness film (74) made of Cr or Cr is deposited. It goes without saying that the same material as in each of the previous embodiments can be used as the material for this nonmagnetic high hardness film (74).
次いで、第27図に示すように、上記非磁性高硬度膜(
74)の上に同様にスパッタリング等の真空薄膜形成技
術を用いて高透磁率合金の例えばFe−Aj!−3I系
合金等を被着積層し、強磁性金属薄膜(75)を形成す
る。このとき上記1Iij(73)の内側面(73a)
上に上記高透磁率合金が効率良く被着されるように上記
基板(70)を傾斜させてスパッタリング装置内に配置
するようにしてもよい。Next, as shown in FIG. 27, the non-magnetic high hardness film (
74), a high magnetic permeability alloy such as Fe-Aj! is formed using a vacuum thin film forming technique such as sputtering. A -3I alloy or the like is deposited and laminated to form a ferromagnetic metal thin film (75). At this time, the inner surface (73a) of the above 1Iij (73)
The substrate (70) may be placed in the sputtering apparatus at an angle so that the high magnetic permeability alloy can be efficiently deposited thereon.
さらに、第28図に示すように、この強磁性金属薄膜(
75)上に高硬度金属及びその酸化物や合金等をスパッ
タリング等の手法により被着し、非磁性高硬度膜(76
)を形成する。この非磁性高硬度膜(76)も先の実施
例と同様の材質の膜を単層もしくは2層以上積層して形
成される。Furthermore, as shown in FIG. 28, this ferromagnetic metal thin film (
75) A nonmagnetic high hardness film (76
) to form. This nonmagnetic high hardness film (76) is also formed by laminating a single layer or two or more layers of films made of the same material as in the previous embodiment.
続いて、このようにして非磁性高硬度膜(74)や強磁
性金属薄膜(75)、非磁性高硬度膜(76)が積層し
て被着形成された溝(73)内に、上記溝(71)内に
溶融充填される高融点ガラス(72)よりも融点の低い
酸化物ガラス(77)を溶融充填した後、上記基板(7
0)の上面(70a)と前面(70b)とを平面研磨し
鏡面′vr磨仕上仕上行う。この結果、上記溝(73)
の内側面(73a)には、強磁性金属薄膜(75)が非
磁性高硬度膜(74)及び非磁性高硬度膜(76)に挟
まれ保護された状態で被着された状態となる。なお、こ
の場合強磁性金属薄膜(75)や非磁性高硬度膜(74
L(76)は溝(73)の他方の内側面や底面にも残る
が、これは微小であるからこの部分の図示は省略する。Next, in the groove (73) in which the non-magnetic high-hardness film (74), the ferromagnetic metal thin film (75), and the non-magnetic high-hardness film (76) are laminated and deposited, After melting and filling the oxide glass (77) with a lower melting point than the high melting point glass (72) to be melted and filled into the substrate (71),
0) The top surface (70a) and front surface (70b) are polished to a mirror finish. As a result, the groove (73)
A ferromagnetic metal thin film (75) is sandwiched and protected by the nonmagnetic high hardness film (74) and the nonmagnetic high hardness film (76) and adhered to the inner surface (73a). In this case, a ferromagnetic metal thin film (75) or a non-magnetic high hardness film (74) is used.
L (76) remains on the other inner surface and bottom surface of the groove (73), but since this is minute, illustration of this portion is omitted.
次に、第30図に示すように、一方の強磁性酸化物基板
に巻線溝(78)を形成する溝加工を行い、強磁性酸化
物基板(80)を得る。Next, as shown in FIG. 30, one of the ferromagnetic oxide substrates is processed to form a winding groove (78) to obtain a ferromagnetic oxide substrate (80).
そして、第31図に示すように、この溝加工を施した強
磁性酸化物基板(80)と溝のない強磁性酸化物基板(
70)とを、それぞれ磁気ギャップ形成面となる前面(
70b) 、 (80b)の少なくともいずれか一方に
膜付けしたギャップスペーサを介して、強磁性金属薄膜
(75)同士が突き合わせられるように配置し、ガラス
融着により接合する。Then, as shown in FIG. 31, a ferromagnetic oxide substrate (80) with this groove and a ferromagnetic oxide substrate (80) without grooves are shown.
70) and the front surface (
The ferromagnetic metal thin films (75) are arranged so as to butt each other via a gap spacer film attached to at least one of (70b) and (80b), and are joined by glass fusion.
最後に、これら基板(70) 、 (80)が合体され
たブロックを、第31図中C−C線及びc’−c′線の
位置でスライシング加工し、複数個のヘットチップを得
、これらヘンドチソプの磁気テープ対接面を円筒rtl
F磨して第32図に示すような磁気ヘッドを完成する。Finally, the block in which these substrates (70) and (80) are combined is processed by slicing at the positions of line C-C and line c'-c' in FIG. 31 to obtain a plurality of head chips. The magnetic tape contact surface of the cylindrical RTL
After polishing, a magnetic head as shown in FIG. 32 is completed.
この第32図に示す磁気ヘッドにおいて、一方の磁気コ
ア半体(81)は強磁性酸化物基板(70)に、他方の
磁気コア半体(82)は強磁性酸化物基板(80)にそ
れぞれ対応している。また、強磁性金属薄膜(84)は
強磁性金属薄膜(75)に、非磁性高硬度膜(83)は
非磁性高硬度膜(74)に、非磁性高硬度膜(85)は
非磁性高硬度膜(76)に、酸化物ガラス(86)は酸
化物ガラス(77)にそれぞれ対応している。In the magnetic head shown in FIG. 32, one magnetic core half (81) is attached to a ferromagnetic oxide substrate (70), and the other magnetic core half (82) is attached to a ferromagnetic oxide substrate (80). Compatible. Further, the ferromagnetic metal thin film (84) is replaced with the ferromagnetic metal thin film (75), the nonmagnetic high hardness film (83) is replaced with the nonmagnetic high hardness film (74), and the nonmagnetic high hardness film (85) is replaced with the nonmagnetic high hardness film (74). The hard film (76) and the oxide glass (86) correspond to the oxide glass (77), respectively.
この第32図に示す磁気ヘッドにおいても先の各実施例
と同様に強磁性金属薄膜(84)が非磁性高硬度1!1
i(83)と非磁性高硬度11*(85)に挟まれ保護
されているので、変形やひび、割れ、強磁性酸化物との
界面の変質等が発生ずることはなく、第1図や第13図
に示す磁気ヘッドと同様に良好な効果を得ることができ
る。また、上記強磁性金属薄膜(84)は磁気ギャップ
gの形成面と所要角度で傾斜しており、一平面上に一直
線状に連なって形成されているので、磁路に沿ってその
各部が高透磁率となることで安定した高出力が得られる
ようになることも同様である。In the magnetic head shown in FIG. 32, the ferromagnetic metal thin film (84) has a non-magnetic high hardness of 1!1 as in the previous embodiments.
Since it is protected by being sandwiched between i(83) and non-magnetic high hardness 11*(85), there will be no deformation, cracking, cracking, or alteration of the interface with the ferromagnetic oxide, as shown in Figure 1. Good effects similar to the magnetic head shown in FIG. 13 can be obtained. Further, the ferromagnetic metal thin film (84) is inclined at a predetermined angle with the plane on which the magnetic gap g is formed, and is formed in a straight line on one plane, so that each part thereof is raised along the magnetic path. Similarly, stable high output can be obtained by increasing the magnetic permeability.
さらに、本発明はこれら実施例ばかりでなく、例えば磁
気テープ摺接面近傍部をセラミックス等の非磁性高硬度
材でガードした磁気ヘッド等にも通用可能である。Further, the present invention is applicable not only to these embodiments but also to, for example, a magnetic head in which the vicinity of the sliding contact surface of the magnetic tape is guarded with a non-magnetic high hardness material such as ceramics.
第33図ないし第35図はそれぞれ本発明を磁気テープ
摺接面近傍部をセラミックス等の非磁性高硬度材でガー
ドした磁気ヘッドに適用した実施例を示すものである。33 to 35 each show an embodiment in which the present invention is applied to a magnetic head in which the vicinity of the magnetic tape sliding contact surface is guarded with a non-magnetic high hardness material such as ceramics.
ここで第33図の磁気ヘッドは第1図に示す磁気ヘッド
に対応し、第1図に示す磁気ヘッドと同一の部材には同
一の符号を付しである。すなわち、この第33図に示す
磁気ヘッドは、第1図に示す磁気ヘッドの磁気テープ摺
接面近傍部に例えばチタン酸カルシウム(Ti−Ca系
セラミックス)。Here, the magnetic head in FIG. 33 corresponds to the magnetic head shown in FIG. 1, and the same members as in the magnetic head shown in FIG. 1 are given the same reference numerals. That is, the magnetic head shown in FIG. 33 includes, for example, calcium titanate (Ti--Ca ceramics) in the vicinity of the magnetic tape sliding surface of the magnetic head shown in FIG.
酸化物ガラス、チタニア(T i O2) 、アルミナ
(A 6203)等の高耐摩耗性非磁性材料からなるガ
−部材(91) 、 (92)を設けたものである。こ
の第33図に示す磁気ヘッドは、例えばM n −Z
nフェライト等の強磁性酸化物基板の一端面に例えばチ
タン酸カルシウム、酸化物ガラス、チタニア、アルミナ
等の高耐摩耗性非磁性基板を数十μの熔融ガラス板を挟
んで熱圧着した複合基板を用い、第5図ないし第12図
に示す製造工程と同様の工程により作製されるが、磁気
テープ摺接面にフェライト等の磁性材料が露出していな
いので、第10図に示す第2の切溝(26)の切削加工
工程は省略されている。また、第34図に示す磁気ヘッ
ドは第13図に示す磁気ヘッドと対応しており、第13
図に示す磁気ヘッドと同一の部材には同一の符号を付し
である。この第34図に示す磁気ヘッドは、第13図に
示す磁気ヘッドの磁気テープ摺接面近傍部に高耐摩耗性
非磁性材料からなるガード材(93) 、 (94)を
設けたもあである。そして、この第34図に示す磁気ヘ
ッドは、同様の複合基板を用いて第14図ないし第22
図に示す製造工程と同様の工程により作製されるが、こ
の場合にも第14図に示す切i’fi(51)の切削加
工工程と第15図に示す酸化物ガラス(52)の熔融充
填工程は省略される。Gar members (91) and (92) made of a highly wear-resistant nonmagnetic material such as oxide glass, titania (T i O2), alumina (A 6203), etc. are provided. The magnetic head shown in FIG. 33 is, for example, M n -Z
A composite substrate in which a highly wear-resistant non-magnetic substrate such as calcium titanate, oxide glass, titania, alumina, etc. is thermocompression bonded to one end surface of a ferromagnetic oxide substrate such as n-ferrite, with a molten glass plate of several tens of microns in between. The second method shown in FIG. 10 is manufactured using the same manufacturing process as shown in FIGS. The cutting process of the kerf (26) is omitted. Furthermore, the magnetic head shown in FIG. 34 corresponds to the magnetic head shown in FIG.
The same members as those of the magnetic head shown in the figure are given the same reference numerals. The magnetic head shown in FIG. 34 has guard materials (93) and (94) made of highly wear-resistant non-magnetic material provided in the vicinity of the magnetic tape sliding surface of the magnetic head shown in FIG. be. The magnetic head shown in FIG. 34 is manufactured using the same composite substrate as shown in FIGS.
Although it is produced by the same manufacturing process as shown in the figure, in this case also, the cutting process of the cut i'fi (51) shown in Fig. 14 and the melt filling of the oxide glass (52) shown in Fig. 15 are performed. The process is omitted.
さらに、第35図に示す磁気ヘッドは第32図に示す磁
気ヘッドと対応しており、第32図に示す磁気ヘッドと
同一の部材には同一の符号を付しである。この第35図
に示す磁気ヘッドは、第32図に示す磁気ヘッドの磁気
テープ摺接面近傍部に高耐摩耗性非磁性材料からなるガ
ード材(95) 、 (96)を設けたものである。そ
して、この第35図に示す磁気ヘッドは、先の各側と同
様の複合基板を用いて第23図ないし第31図に示す製
造工程と同様の工程により作製されるが、この場合にも
第23図に示す溝(71)の切削加工工程と第24図に
示す高融点ガラス(72)の熔融充填工程は省略される
。Furthermore, the magnetic head shown in FIG. 35 corresponds to the magnetic head shown in FIG. 32, and the same members as the magnetic head shown in FIG. 32 are given the same reference numerals. The magnetic head shown in FIG. 35 is the same as the magnetic head shown in FIG. 32, with guard materials (95) and (96) made of a highly wear-resistant nonmagnetic material provided near the magnetic tape sliding contact surface. . The magnetic head shown in FIG. 35 is manufactured using the same composite substrates as those for each side in the same manufacturing process as shown in FIGS. 23 to 31. The cutting process of the groove (71) shown in FIG. 23 and the melt filling process of the high melting point glass (72) shown in FIG. 24 are omitted.
上述したような第33図ないし第35図に示す各磁気ヘ
ッドにあっては、その作製に当たり予め強磁性酸化物ブ
ロックに耐摩耗性非磁性材を貼り付け、この耐摩耗性非
磁性材を研磨してテープ対接面を形成するため、ギヤツ
ブ面を含むテープ対接面は強磁性金属薄膜以外の部分が
非磁性材、すなわち耐摩耗性非磁性材と非磁性高硬度膜
により構成されて強磁性酸化物材が露出することのない
磁気ヘッドとなっている。したがって、強磁性金属薄膜
形成後のギャップ面1i1F磨時の終点位置にかかわら
ずトラック幅は強磁性金属薄膜の傾斜断面寸法のみで決
まるため、ブロックの加工においても寸法公差が広範囲
で行うことができるとともに強磁性金属薄膜は非磁性高
硬度膜により保護されるので、ガラス融着の際に変形し
たりひび割れ、界面の変質等を伴うことがなく、安定な
状態に保持され、歩留りもよく、安定した高出力の磁気
ヘッドが得られる。また、ビデオヘッドにおいてはテー
プ対接面との相対速度が大きいためテープ対接面に突出
するフェライトは単結晶が必要で材料価格は高くなるが
、これら各側ではバンクギャップ側のフェライトはテー
プとの接触に対する偏摩耗性の心配がないためHi−μ
多結晶、すなわち焼結タイプの多結晶フェライトを使用
することができるため低価格となる。In each of the magnetic heads shown in FIGS. 33 to 35 described above, a wear-resistant non-magnetic material is pasted on a ferromagnetic oxide block in advance, and this wear-resistant non-magnetic material is polished. In order to form a tape contacting surface, the tape contacting surface including the gear surface is made of a non-magnetic material other than the ferromagnetic metal thin film, that is, a wear-resistant non-magnetic material and a non-magnetic high hardness film. The magnetic head has no exposed magnetic oxide material. Therefore, regardless of the end point position during polishing of the gap surface 1i1F after forming the ferromagnetic metal thin film, the track width is determined only by the inclined cross-sectional dimensions of the ferromagnetic metal thin film, so it is possible to process blocks with a wide range of dimensional tolerances. At the same time, since the ferromagnetic metal thin film is protected by a non-magnetic high-hardness film, it is maintained in a stable state without deformation, cracking, or deterioration of the interface during glass fusing, resulting in a high yield and stable process. A high-output magnetic head with high output power can be obtained. In addition, in video heads, since the relative speed with the tape contact surface is high, the ferrite protruding on the tape contact surface must be made of single crystal, which increases the material cost. There is no need to worry about uneven wear due to contact with Hi-μ
Since polycrystalline ferrite, that is, sintered type polycrystalline ferrite, can be used, the cost is low.
j ソ
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ヘッド
においては、強磁性金属薄膜と強磁性酸化物の間に非磁
性高硬度膜が設けられているので、強磁性金属薄膜を被
着するためのスパッタリング時等に高温にさらされても
、上記非磁性高硬度膜によって強磁性酸化物中の酸素原
子の拡散が阻止されるため、強磁性酸化物界面部に低酸
素状態の変質層が形成されることはない。したがって、
強磁性酸化物の軟磁性特性が劣化することはなく、磁気
ヘッドの記録再生出力が低下することがなくなる。[Effects of the Invention] As is clear from the above explanation, in the magnetic head of the present invention, since the nonmagnetic high hardness film is provided between the ferromagnetic metal thin film and the ferromagnetic oxide, Even when exposed to high temperatures during sputtering to deposit a magnetic metal thin film, the non-magnetic high-hardness film prevents the oxygen atoms in the ferromagnetic oxide from diffusing. An altered layer with low oxygen conditions is not formed. therefore,
The soft magnetic properties of the ferromagnetic oxide do not deteriorate, and the recording/reproducing output of the magnetic head does not decrease.
また、このようにスパッタリング時に上記変質層が形成
されないことから、強磁性金属薄膜を被着するスパッタ
リング温度やスパッタリング速度に対する制約を緩和す
ることができ、生産性の点でもメリットは大きい。Furthermore, since the above-mentioned altered layer is not formed during sputtering, restrictions on the sputtering temperature and sputtering speed for depositing the ferromagnetic metal thin film can be relaxed, which is a great advantage in terms of productivity.
一方、強磁性金属薄膜と酸化物ガラスとの間に非磁性高
硬度膜を設けることにより、この強磁性金属薄膜が酸化
物ガラスに対して保護されガラス流れが良くなるととも
に、上記酸化物ガラスによる浸食や強磁性金属薄膜の変
形等が防止される。On the other hand, by providing a non-magnetic high-hardness film between the ferromagnetic metal thin film and the oxide glass, this ferromagnetic metal thin film is protected against the oxide glass, improving the flow of the glass. Erosion and deformation of the ferromagnetic metal thin film are prevented.
さらに、上述の各非磁性高硬度膜を設けることにより、
強磁性金属薄膜の密着性が向上するとともに、ガラス融
着時やガラス充填時、スパッタリング後の冷却時等の後
工程において、各材質間の熱膨張係数の差による熱応力
等の極部的な応力が緩和され、ひび割れの発生が防止さ
れる。Furthermore, by providing each of the above-mentioned nonmagnetic high hardness films,
In addition to improving the adhesion of the ferromagnetic metal thin film, it also reduces local thermal stress due to differences in thermal expansion coefficients between materials in subsequent processes such as glass fusing, glass filling, and cooling after sputtering. Stress is relieved and cracks are prevented from forming.
したがって、強磁性金属薄膜の安定化を図ることができ
、トラック幅精度を確保し安定した磁気特性を得ること
が可能となり、強度的にも信頼性が高く、高抗磁力な磁
気記録媒体に適用して好適な磁気ヘッドが得られる。Therefore, it is possible to stabilize the ferromagnetic metal thin film, ensure track width accuracy, and obtain stable magnetic properties.It is highly reliable in terms of strength and can be applied to magnetic recording media with high coercive force. As a result, a suitable magnetic head can be obtained.
第1図は本発明を適用した磁気ヘッドの一実施例を示す
外観斜視図であ・す、第2図はその磁気テープ摺接面を
示す平面図、第3図は第1図に示す磁気ヘッドの磁気ギ
ャップ面を分解して示す要部外観斜視図である。
第4図は非磁性高硬度膜の構成例を示す磁気テ−プ摺接
面の平面図である。
第5図ないし第12図は第1図の磁気ヘッドを作製する
だめの製造工程を示す概略的な斜視図であり、第5図は
第1の切溝加工工程、第6図は非磁性高硬度膜形成工程
、第7図は強磁性金属薄膜形成工程、第8図は非磁性高
硬度膜形成工程、第9図はガラス充填及び平面研磨工程
、第10図は第2の切溝加工工程、第11図は巻線溝加
工工程、第12図はガラス融着工程をそれぞれ示す。
第13図は本発明の他の実施例を示す外観斜視図である
。第14図ないし第22図はその製造工程を工程順に示
す概略斜視図であり、第14図は溝加工工程、第15図
は酸化物ガラス充填工程、第16図は溝加工工程、第1
7図は非磁性高硬度膜形成工程、第18図は強磁性金属
薄膜形成工程、第19図は非磁性高硬度膜形成工程、第
20図は酸化物ガラス充填及び平面研磨工程、第21図
は巻線溝加工工程、第22図はガラス融着工程をそれぞ
れ示す。第23図ないし第3】図は本発明の他の実施例
を製造するための製造工程を示す概略斜視図であり、第
23図は溝加工工程、第24図は高融点ガラス完膚工程
、第25図は溝加工工程、第26図は非磁性高硬度膜形
成工程、第27図は強磁性金属薄膜形成工程、第28図
は非磁性高硬度膜形成工程、第29図は酸化物ガラス充
填及び平面研磨工程、第30図は巻線溝加工工程、第3
1図はガラス融着工程をそれぞれ示す。第32図は上記
第23図ないし第31図の工程により作製される磁気ヘ
ッドを示す外観斜視図である。
第33図ないし第35図はそれぞれ本発明のさらに他の
実施例を示す外観斜視図である。
第36図は従来の磁気ヘッドの構成を示す外観斜視図で
ある。
10.11,40,41.81.82 ・・・磁気コ
ア半体13、42.84 ・・・・・・・強磁性金属
薄膜12.45.83 ・・・・・・・非磁性高硬度
膜+5.46.85 ・・・・・・・非磁性高硬度膜
+6.43.86 ・・・・・・・酸化物ガラス第9
図
第10図
第11図
第12図
A A’
、−: : 10
々 々
第15図
50a
第16図
第17図
第18図
50σ
・ 56
第19図
第20図
第23図
0G
第24図
第26図
第27図
第29図
第30図
第28図
第35図
Q6
第36図FIG. 1 is an external perspective view showing an embodiment of the magnetic head to which the present invention is applied, FIG. 2 is a plan view showing the magnetic tape sliding surface thereof, and FIG. 3 is a magnetic head shown in FIG. 1. FIG. 2 is an exploded perspective view of the main part showing the magnetic gap surface of the head. FIG. 4 is a plan view of the magnetic tape sliding surface showing an example of the structure of the non-magnetic high-hardness film. 5 to 12 are schematic perspective views showing the manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. Hard film forming process, Fig. 7 shows the ferromagnetic metal thin film forming process, Fig. 8 shows the non-magnetic high hardness film forming process, Fig. 9 shows the glass filling and surface polishing process, and Fig. 10 shows the second kerf processing process. , FIG. 11 shows the winding groove processing step, and FIG. 12 shows the glass fusing step. FIG. 13 is an external perspective view showing another embodiment of the present invention. 14 to 22 are schematic perspective views showing the manufacturing process in the order of steps, where FIG. 14 is the groove processing step, FIG. 15 is the oxide glass filling step, FIG. 16 is the groove processing step, and the first
Figure 7 shows the process of forming a non-magnetic hard film, Figure 18 shows the process of forming a ferromagnetic metal thin film, Figure 19 shows the process of forming a non-magnetic hard film, Figure 20 shows the oxide glass filling and surface polishing process, and Figure 21 shows the process of forming a non-magnetic hard film. 22 shows the winding groove processing step, and FIG. 22 shows the glass fusing step. 23 to 3 are schematic perspective views showing manufacturing steps for manufacturing other embodiments of the present invention, in which FIG. 23 shows the groove processing step, FIG. 24 shows the high melting point glass completion step, and FIG. Figure 25 shows the groove machining process, Figure 26 shows the non-magnetic hard film forming process, Figure 27 shows the ferromagnetic metal thin film forming process, Figure 28 shows the non-magnetic hard film forming process, and Figure 29 shows the oxide glass filling process. and the surface polishing process, FIG. 30 is the winding groove processing process, the third
Figure 1 shows the glass fusing process. FIG. 32 is an external perspective view showing the magnetic head manufactured by the steps shown in FIGS. 23 to 31 above. FIGS. 33 to 35 are external perspective views showing still other embodiments of the present invention. FIG. 36 is an external perspective view showing the structure of a conventional magnetic head. 10.11,40,41.81.82...Magnetic core half 13, 42.84...Ferromagnetic metal thin film 12.45.83...Nonmagnetic high hardness Film +5.46.85 ......Nonmagnetic high hardness film +6.43.86 ......Oxide glass No. 9
Fig. 10 Fig. 11 Fig. 12 A
Fig. 19 Fig. 20 Fig. 23 Fig. 0G Fig. 24 Fig. 26 Fig. 27 Fig. 29 Fig. 30 Fig. 28 Fig. 35 Fig. Q6 Fig. 36
Claims (1)
強磁性薄膜形成面を形成し、この強磁性薄膜形成面上に
真空薄膜形成技術による強磁性金属薄膜を形成するとと
もに、前記強磁性金属薄膜同士を突き合わせて磁気ギャ
ップを構成してなる磁気ヘッドにおいて、上記強磁性薄
膜形成面と磁気ギャップ形成面とが所要角度で傾斜して
おり、強磁性酸化物と強磁性金属薄膜との間に非磁性高
硬度膜が配され、さらにテープ対接面において非磁性高
硬度膜を介して上記強磁性金属薄膜と酸化物ガラスとが
配設されていることを特徴とする磁気ヘッド。A ferromagnetic thin film formation surface is formed by cutting out the joining surface of the magnetic core halves made of ferromagnetic oxide, and a ferromagnetic metal thin film is formed on this ferromagnetic thin film formation surface by vacuum thin film formation technology, and the ferromagnetic In a magnetic head formed by abutting metal thin films to form a magnetic gap, the ferromagnetic thin film forming surface and the magnetic gap forming surface are inclined at a predetermined angle, and the ferromagnetic oxide and the ferromagnetic metal thin film are A magnetic head characterized in that a non-magnetic high-hardness film is disposed on the tape-contacting surface, and the ferromagnetic metal thin film and oxide glass are further disposed on the tape-contacting surface with the non-magnetic high-hardness film interposed therebetween.
Priority Applications (9)
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