JPS6117210A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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Publication number
JPS6117210A
JPS6117210A JP13869184A JP13869184A JPS6117210A JP S6117210 A JPS6117210 A JP S6117210A JP 13869184 A JP13869184 A JP 13869184A JP 13869184 A JP13869184 A JP 13869184A JP S6117210 A JPS6117210 A JP S6117210A
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JP
Japan
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magnetic head
gap
thin film
magnetic
glass
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Application number
JP13869184A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Ooya
大矢 一雄
Masao Kakizaki
柿崎 征夫
Sadao Iwatani
岩谷 貞夫
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6117210A publication Critical patent/JPS6117210A/en
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/187Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • G11B5/23Gap features
    • G11B5/232Manufacture of gap
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/187Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • G11B5/23Gap features
    • G11B5/235Selection of material for gap filler

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a magnetic head which has good resolving power, permits high-density recording and obviates the deterioration in electromagnetic conversion characteristics, particularly the resolving power, overwrite characteristic and erasing characteristic even after long-period use or preservation by specifying a material for a gap material. CONSTITUTION:The magnetic head has the gap consisting of the thin film consisting of at least >=1 kinds among Al2O3, ZrO2, MgO and Ba2TiO4 and a glass film. Since the gap having high magnetic resistance is thereby formed, the magnetic head has the good overwrite characteristic and high resolving power. The thin oxide film has the good adhesiveness to the core body and the thin glass film and is thermally and mechanically stable. The secure narrow gap is thus formed. The deterioration in the overwrite characteristic and resolving power which arises during use or upon lapse of time is consequently decreased considerably. The gap is highly resistant to a high temp. and high humidity and maintains the magnetic characteristics with least deterioration after the long- term preservation or use at and under the high temp. and high humidity. The running durability is good as well.

Description

【発明の詳細な説明】 工 技術分野 本発明は磁気ヘッド、特に非晶質磁性合金を用いたフロ
ッピーディスク等のデジタル記録に用いるナローギャッ
プ型の磁気ヘッドに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head, and particularly to a narrow-gap magnetic head that uses an amorphous magnetic alloy and is used for digital recording on floppy disks and the like.

■ 先行技術 近年、情報機器の性能の向上とOA化が進むなかで記録
媒体の1つであるフロッピーディスクの高性能化と小型
化が望まれている。
■ Prior Art In recent years, as the performance of information equipment has improved and the use of OA has progressed, there has been a desire for higher performance and smaller size of floppy disks, which are one of the recording media.

このような要求に応えて、8インチのフロッピーディス
クからさらに小型化された5、25インチのフロッピー
ディスクが開発されてきた。
In response to such demands, 5- and 25-inch floppy disks, which are smaller than the 8-inch floppy disk, have been developed.

また、最近さらに小型化し、記憶容量も8インチフロッ
ピーディスクと同容量の3.5インチのマイクロフロッ
ピーディスク(MFD)が実用化に向けて開発されてい
る。
Recently, a 3.5-inch microfloppy disk (MFD), which is even smaller and has the same storage capacity as an 8-inch floppy disk, has been developed for practical use.

このように小型化し、かつ大記憶容量をもったフロッピ
ーディスクを実現するには、高密度記録を実現しなけれ
ばならない。 高密度記録を実現するには、記録媒体と
磁気ヘッドとに関して新たな特性が要求される。
In order to realize such a compact floppy disk with a large storage capacity, it is necessary to realize high-density recording. In order to realize high-density recording, new characteristics are required for the recording medium and the magnetic head.

記録媒体では性能向上の1つとして高保磁力の磁性材料
の開発が必要になっている。
In order to improve the performance of recording media, it is necessary to develop magnetic materials with high coercive force.

磁気ヘッドにも新たに特性の向上が要求される。 従来
、フロッピーディスク用の磁気ヘッドは、フロッピーデ
ィスクの実用化の初期の段階では磁気ヘッド用コア材に
パーマロイが使用されていた。
Magnetic heads are also required to have improved characteristics. Conventionally, permalloy was used as the core material for magnetic heads for floppy disks in the early stages of practical use of floppy disks.

しかし、パーマロイでは種々の問題がある。However, permalloy has various problems.

例えば、フロッピーヘッドの使用周波数帯域(125K
Hz 〜250KHz)とオーディオヘッドの使用周波
数帯域(20KHz以下)を比較すると、フロッピーヘ
ッドの使用周波数帯域は高周波数の帯域である。
For example, the frequency band used by the floppy head (125K
Hz to 250 KHz) and the frequency band used by an audio head (20 KHz or less), the frequency band used by a floppy head is a high frequency band.

しかし、パーマロイは比抵抗が50〜150舊Ωcmと
小さいので、高周波帯域での実効透磁率は急激に減少し
、再生出力、S/N比、分解能等の磁気特性が悪くなる
However, since permalloy has a small resistivity of 50 to 150 Ωcm, its effective magnetic permeability in a high frequency band rapidly decreases, resulting in poor magnetic properties such as reproduction output, S/N ratio, and resolution.

他方、同じく多様されているフェライトは比抵抗IXI
(lルΩcmと大きく、しかも磁気ギャップもガラス溶
着法を用いるので、強固な狭磁気ギャップが製造できる
On the other hand, ferrite, which is also diverse, has a resistivity of IXI.
(The magnetic gap is as large as 1 Ωcm, and since the glass welding method is used for the magnetic gap, a strong narrow magnetic gap can be manufactured.

したがって、最近ではフロッピー用磁気ヘッドのコア材
は、フェライトが主に使用されている。 そして、高密
度記録は、磁気ヘッドのコア材にフェライトを用いるこ
とによって、ある水準までは達成することができる。
Therefore, recently, ferrite has been mainly used as the core material of magnetic heads for floppies. High-density recording can be achieved up to a certain level by using ferrite for the core material of the magnetic head.

ところで、さらに高密度記録を達成するためには、磁気
記録媒体であるフロッピーディスクの保磁力(Hc)は
初期の頃のHc=2700e (磁性体としてγ−Fe
2O3を使用)から、高保磁力の記録媒体(磁性体とし
てCoをドープしたCo−y−Fe203を使用)のH
c=6300eに移行している。
By the way, in order to achieve even higher density recording, the coercive force (Hc) of the floppy disk, which is a magnetic recording medium, was set at Hc=2700e in the early days (γ-Fe as the magnetic material).
2O3) to H
c=6300e.

そして、さらに合金粉を磁性体としだ高保磁力の記録媒
体ではHc=13000eに至っている。
Furthermore, in a recording medium with a high coercive force made of alloy powder as a magnetic material, Hc=13000e.

従って、磁気ヘッド用コア材はこのような高保磁力記録
媒体に記録するために、高飽和磁束密度をもち、かつ高
周波帯域において実効透磁率が減少しない材料の開発が
必要になってきた。
Therefore, in order to record on such a high coercive force recording medium, it has become necessary to develop a core material for a magnetic head that has a high saturation magnetic flux density and whose effective magnetic permeability does not decrease in a high frequency band.

このため、磁気ヘッド用コア材としてセンダストと非晶
質合金とが注目されている。
For this reason, sendust and amorphous alloys are attracting attention as core materials for magnetic heads.

これらの材料は、フェライトと比較すると飽和磁束密度
も大きいので、高保磁力記録媒体への記録も可能になる
Since these materials have a higher saturation magnetic flux density than ferrite, it is also possible to record on a high coercive force recording medium.

しかし、磁気ヘッドの問題は、コアの材質の磁気特性だ
けの問題でなく、信頼性の点から強固なナローギャップ
を有する磁気ヘッドのギャップ製造法の確立も必要であ
る。
However, the problem with magnetic heads is not only the magnetic properties of the core material, but also the establishment of a gap manufacturing method for magnetic heads having a strong narrow gap from the viewpoint of reliability.

センダストについては、銀ロウ溶接による接合が検討さ
れている。
As for sendust, joining by silver solder welding is being considered.

しかし、非晶質合金の場合には、結晶化温度が低いので
、一定温度以上の処理ができない。
However, in the case of an amorphous alloy, the crystallization temperature is low, so it cannot be processed at a temperature higher than a certain temperature.

特開昭55−110241号のように2.3の磁気ギャ
ップ製造方法に関する提案もあるが未だ十分な解決をみ
るには至っていない。
Although there are proposals for a method of manufacturing a magnetic gap of 2.3 as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-110241, no satisfactory solution has yet been found.

ナローギャップで高磁束密度の磁気ヘッドを実現する際
には、作製時の性能とともに、経時的な劣化が開−にな
る。
When realizing a magnetic head with a narrow gap and high magnetic flux density, not only the performance at the time of manufacture but also the deterioration over time become a problem.

すなわち、非晶質磁性合金コア材とギャップ材との相対
的な温度特性、接着性または固着性、残留応力、比抵抗
等によって電磁変換特性が、経時的に、あるいは多数回
の走行により劣化する。
In other words, the electromagnetic conversion characteristics deteriorate over time or due to repeated running due to relative temperature characteristics, adhesion or fixation, residual stress, specific resistance, etc. between the amorphous magnetic alloy core material and the gap material. .

例えば、特にギャップ長の安定度と関係のある、分解能
、オーバーライド特性、消去特性等に大きな問題があっ
た。
For example, there have been major problems with resolution, override characteristics, erasure characteristics, etc., which are particularly related to gap length stability.

■発明の具体的目的 本発明は、前記の問題を解決するためになされたもので
ある。
(2) Specific Purpose of the Invention The present invention has been made to solve the above-mentioned problems.

すなわち、非晶質合金を用いた磁気ヘッドにおいて、狭
ギャップ長の強固な磁気ギャップを有し、分解能がよく
、高密度記録が可能であり、しかも長時間使用ないし保
存しても電磁変換特性、特に分解能やオーバーライド特
性や消去特性等が劣化しない磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
In other words, a magnetic head using an amorphous alloy has a strong magnetic gap with a narrow gap length, has good resolution, is capable of high-density recording, and has excellent electromagnetic conversion characteristics even when used or stored for a long time. In particular, it is an object of the present invention to provide a magnetic head that does not deteriorate in resolution, override characteristics, erase characteristics, etc.

このような目的は、下記の本発明によって達成される。Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち本発明は、 非晶質磁性合金からなるコア半体を、ギャップ材を介し
てつきあわせ一体化してなる磁気ヘッドにおいて、 ギャップ材が、両コア半体の少なくともギャップ面に被
着された酸化アルミニルム、酸化ジルコニウム、酸化マ
グネシウムおよびチタン酸バリウムのうちの少なくとも
l、w以上からなる薄膜と、この薄膜間に介在するガラ
ス膜とからなることを特徴とする磁気ヘッドである。
That is, the present invention provides a magnetic head in which core halves made of an amorphous magnetic alloy are brought together and integrated with each other via a gap material, in which the gap material is an oxidized material adhered to at least the gap surfaces of both core halves. A magnetic head comprising a thin film made of at least l and w of aluminum, zirconium oxide, magnesium oxide, and barium titanate, and a glass film interposed between the thin films.

■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の磁気ヘッドにおけるコアは、通常、非晶質磁性
合金の薄板から形成される。
The core in the magnetic head of the present invention is usually formed from a thin plate of an amorphous magnetic alloy.

非晶質磁性合金をコア材として用いるときには、コアと
しての特性が良好で、またきわめて長期にわたる使用に
よってもヘッドの媒体摺接面の偏摩耗が少なく、周波数
特性や出力レベル変動が少ない点で、良4好な結果を得
る。
When an amorphous magnetic alloy is used as a core material, it has good properties as a core, and even after extremely long-term use, there is little uneven wear on the media sliding surface of the head, and there is little variation in frequency characteristics or output level. Good 4 Obtain good results.

コア材として、非晶質磁性合金薄板を用いる場合、その
組成としては、磁気ヘッド′のコア用のものとして知ら
れている種々の組成であってもよいが、特に飽和磁束密
度Bsが高く、高保磁力磁気記録媒体に好適であるとい
う点で、下記式CI)で示される組成であることが好ま
しい。
When an amorphous magnetic alloy thin plate is used as the core material, its composition may be of various compositions known for use in the core of a magnetic head', but in particular it has a high saturation magnetic flux density Bs, A composition represented by the following formula CI) is preferable because it is suitable for a high coercive force magnetic recording medium.

式CI)  ’r、ry 上記式中において、fは、FeおよびColまたはFe
およびCoと他の遷移金属元素のl種以上との組合せを
表わす。
Formula CI) 'r,ry In the above formula, f is Fe and Col or Fe
and represents a combination of Co and l or more types of other transition metal elements.

この場合、必要に応じFeおよびCoとともに組合せ添
加される他の添加元素は、FeおよびCo以外の他の遷
移金属元素(Sc−Zn;Y−Cd;La−Hg;Ac
以上)であり、例えば、Ni、Ti、Zr、、Hf、■
、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Ru、Rh、P
d、O5、Ir、Pt等(7)1種類以上をその具体例
として挙げることができる。
In this case, other additive elements added in combination with Fe and Co as necessary include transition metal elements other than Fe and Co (Sc-Zn; Y-Cd; La-Hg; Ac
For example, Ni, Ti, Zr, , Hf, ■
, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Ru, Rh, P
Specific examples include one or more of (7) such as d, O5, Ir, and Pt.

一方、Xは、B、SiおよびB、またはBもしくはSi
およびBと他のガラス化元素の1種類以上との組合せを
表わす。
On the other hand, X is B, Si and B, or B or Si
and represents a combination of B and one or more other vitrifying elements.

この場合、必要に応じ、B、またはSLおよびBととも
に組合せ添加される他のガラス化元素の例としては、P
、C,Ge、Sn、A5L等の1種類以上を挙げること
ができる。
In this case, examples of other vitrifying elements that may be added as necessary in combination with B or SL and B include P.
, C, Ge, Sn, A5L, and the like.

他方、上記式CI)#おいて、x+y= 100at%
であり、yは20〜27at%である。すなわち、Fe
およびCoを必須成分とする遷移金属元素性分量Xは7
3〜80at%であり、BまたはSiおよびBを必須成
分とするガラス化元素成分量yは20〜27at%であ
る。 yが20at%未満となると、非晶質化が困難と
なり、また、27at%を越えると残留磁束密度Bsが
減少してしまう。
On the other hand, in the above formula CI) #, x+y=100at%
and y is 20 to 27 at%. That is, Fe
and the transition metal elemental content X with Co as an essential component is 7
The vitrification element component amount y containing B or Si and B as essential components is 3 to 80 at%, and is 20 to 27 at%. When y is less than 20 at%, it becomes difficult to make it amorphous, and when it exceeds 27 at%, the residual magnetic flux density Bs decreases.

さらに、遷移金属元素成分中の必須成分FeおよびCo
の含有量は、それぞれFe; 1.5〜5.6at%お
よび、Co ; 45〜7B 、 5at%ある。
Furthermore, essential components Fe and Co in the transition metal element components
The content of Fe is 1.5 to 5.6 at%, and Co is 45 to 7B, 5 at%.

Fe含有量が1.5at%未満(Co含有量が78.5
at%より大)1.あるいは5.6at%を越えると、
磁歪が大きなものとなってしまい、また透磁率が減少す
る。
Fe content is less than 1.5 at% (Co content is 78.5 at%
at%) 1. Or if it exceeds 5.6 at%,
Magnetostriction becomes large and magnetic permeability decreases.

Coが45at%未満となるとBsが減少してしまう。When Co is less than 45 at%, Bs decreases.

この場合、上記式CI)において、Tは、上記含有量範
囲内にて、FeおよびCoのみからなっても、FeとC
oと上記した他の添加元素の1種以上からなってもよい
In this case, in the above formula CI), T may consist of only Fe and Co within the above content range;
o and one or more of the other additive elements listed above.

TがFeとCoのみからなる場合、Fe含有量は、1.
5〜5.6at%、より好ましくは2〜5.5at%、
Co含有量は、67.4〜78.5at%、より好まし
くは67.5A−78at%である。TがFeおよびC
oに加え、他の元素の1種以上を含む場合、他の遷移金
属元素の1種以上は、通常、総計で最大25at%まで
含有することができる。
When T consists only of Fe and Co, the Fe content is 1.
5 to 5.6 at%, more preferably 2 to 5.5 at%,
Co content is 67.4-78.5 at%, more preferably 67.5A-78 at%. T is Fe and C
When one or more other elements are included in addition to o, one or more of the other transition metal elements can usually be contained up to 25 at% in total.

これ以上の含有量となると、Bsが低下し、表面性が悪
くなる等の不都合が生じる。
If the content exceeds this range, problems such as decreased Bs and poor surface properties will occur.

このような元素の1例としてはNiがある゛。One example of such an element is Ni.

Ni添加は、Coを置換して、材料コストを低減する等
の効果があるが、Ni量が増大するとBsが減少するの
で、Ni含有量は、好ましくは8at%以下である。
Addition of Ni has the effect of replacing Co and reducing material costs, but as the amount of Ni increases, Bs decreases, so the Ni content is preferably 8 at % or less.

一方、他の元素の1種以上としては、鉄族(Fe、Co
、Ni)以外の遷移金属元素であってよいが、鉄族以外
の遷移金属元素の1種以上は、総計12at%以下であ
ることが好ましい。 このとき、Bsの低下は少なく、
各添加元素特有のすぐれた効果が実現する。
On the other hand, as one or more of the other elements, iron group (Fe, Co
, Ni), but the total amount of at least one transition metal element other than the iron group is preferably 12 at % or less. At this time, the decrease in Bs is small,
Excellent effects unique to each additive element are achieved.

このような元素としては、特に、Ru、Cr、Tiのう
ちの1種以上が好ましい。
As such an element, one or more of Ru, Cr, and Ti is particularly preferable.

特に、0.5〜8at%のRuを添加すると、耐摩耗性
が向上し、表面性や打抜加工性等が向上する。
In particular, when 0.5 to 8 at% of Ru is added, wear resistance is improved, and surface properties, punching workability, etc. are improved.

また、1〜8at%のCrを添加すると、耐食性が向上
する。
Moreover, when 1 to 8 at% Cr is added, corrosion resistance is improved.

そして、0.5〜8at%のRuと、1〜8at%、特
に2〜6at%のCrを併用添加すると、これらの効果
はさらに向上し、より好ましい結果を得る。
When Ru of 0.5 to 8 at% and Cr of 1 to 8 at%, especially 2 to 6 at% are added in combination, these effects are further improved and more favorable results are obtained.

また、0.05−’2at%のTiを、これらにかえ、
より好ましくはこれらに加えて添加するとより好ましい
結果をうる; さらに、これらRu、Cr、Ti、Ni等に加え、Ta
、W、Mo等の1種以上を含有させることも°できる。
In addition, 0.05-'2at% Ti was replaced with these,
More preferably, when added in addition to these, more favorable results can be obtained;
, W, Mo, etc., may also be included.

なお、このようにFe、Co以外の他の遷移金属元素を
含有させる場合、これらの総計は20at%以下となり
、Co含有量が47.4〜78.5at%、より好まし
くは47.5〜78at%、゛またFe含有量が1.5
〜5.6at%、より好ましくは、2〜5.5at%と
なることが好ましい。
In addition, when containing transition metal elements other than Fe and Co in this way, the total of these becomes 20 at% or less, and the Co content is 47.4 to 78.5 at%, more preferably 47.5 to 78 at%. %, ゛Also, the Fe content is 1.5
The content is preferably 5.6 at%, more preferably 2 to 5.5 at%.

これに対し、ガラス化元素成分又は、BあるいはSiお
よびBを必須成分とする。
On the other hand, the vitrification element component or B or Si and B are essential components.

コノ場合、B含有量が3.3〜27at%、Si含有量
が0−18.2at%となると、Bsが高くなり、薄板
の表面性が向上し、好ましい結果を得る。
In the case of Kono, when the B content is 3.3 to 27 at% and the Si content is 0 to 18.2 at%, Bs increases, the surface properties of the thin plate improve, and favorable results are obtained.

そして、B含有量が14.1〜26.9at%、s’を
含有量が0.1〜5.4at%となると、Bsがさらに
高くなり、表面性もさらに向上し、さらにRu、Cr等
の添加元素の添加効果も顕著となり、より好ましい結果
を得る。
When the B content is 14.1 to 26.9 at% and the s' content is 0.1 to 5.4 at%, Bs becomes even higher, the surface properties are further improved, and Ru, Cr, etc. The effect of addition of the additional element becomes significant, and more favorable results are obtained.

なお、ガラス化元素成分X中には、必要に応じ、Siお
よびB以外の他の元素の1種以上が含まれていてもよい
、ただ、その総計が0.5at%を越えると非晶質化し
にくくなるので、その含有量は0.5at%以下である
ことが好ましい6 以上詳述したような組成をもつ薄板
は、実質的に長範囲規則性をもたない非晶質体である。
Note that the vitrification element component Therefore, the content is preferably 0.5 at % or less. 6 The thin plate having the composition detailed above is an amorphous material having substantially no long-range regularity.

 また、板厚は、概ね、10〜200ILm程度である
。 このような非晶質磁性合金薄板は、公知の高速急冷
法に従い製造される。
Further, the plate thickness is approximately 10 to 200 ILm. Such an amorphous magnetic alloy thin plate is manufactured according to a known high-speed quenching method.

すなわち、対応する組成の合金を、気相または液相から
超急冷する。 この場合、通常は。
That is, an alloy of a corresponding composition is ultra-quenched from the gas phase or liquid phase. In this case, usually.

合金を融液となし、液相から104℃7 s e c以
上、通常104〜106℃/SeCの冷却速度で超急冷
し、固化させることによって非晶質磁性合金を得る。
An amorphous magnetic alloy is obtained by converting the alloy into a melt and ultra-quenching it from the liquid phase at a cooling rate of 104° C. 7 sec or more, usually at a cooling rate of 104 to 106° C./SeC, and solidifying it.

溶融状態の合金を超急冷するには、溶融合金をノズルか
ら噴射させ、双ロール法、片ロール法、遠心急冷法等公
知の種゛々の方式、なかでも片ロール法に従い急冷すれ
ばよい。
In order to super-quench a molten alloy, the molten alloy may be injected from a nozzle and quenched by various known methods such as a twin roll method, a single roll method, and a centrifugal quenching method, particularly the single roll method.

このような非晶質磁性合金薄板は、それを好ましくは絶
縁性接着剤層を介して積層して、所望の形状のコア半体
とされ、これを後述のように突き合わせて磁気ヘッド、
特にフロッピーディスク用、ビデオ映像用等の磁気ヘッ
ドとされる。
Such amorphous magnetic alloy thin plates are preferably laminated via an insulating adhesive layer to form core halves of a desired shape, and these are butted together as described below to form a magnetic head.
In particular, it is used as a magnetic head for floppy disks, video images, etc.

あるいは、薄板を積層せず、薄板自体を所望の形状のコ
ア半体となし、このコア半体を突き合わせて磁気ヘッド
、特にフロー2ピー用、ビデオ用等の磁気ヘッドとされ
る。
Alternatively, the thin plates are not laminated, but the thin plates themselves are used as core halves of a desired shape, and the core halves are butted together to form a magnetic head, particularly for flow 2P, video, etc. magnetic heads.

このような磁気ヘッド用コア半体は、通常以下のように
して、磁気ヘッドとされる。
Such a core half for a magnetic head is usually made into a magnetic head in the following manner.

まず、好ましくは、超急冷法によって得られた薄板に対
し、所定の熱処理を施す。
First, preferably, a predetermined heat treatment is performed on a thin plate obtained by an ultra-quenching method.

この熱処理としては、例えば、結晶化温度未満、キュリ
一点以上の温度で施す無磁場中での、特に内部歪取りを
目的とする焼鈍処理でもよく、また、結晶化温度および
キュリ一点未満の温度で行う、歪取りと磁気特性の改良
を目的とする磁場中での焼鈍処理であってもよい。
This heat treatment may be, for example, annealing in a non-magnetic field at a temperature below the crystallization temperature and above the Curie point, especially for the purpose of eliminating internal strain, or annealing at a temperature below the crystallization temperature and the Curie point or above. It may also be annealing treatment in a magnetic field for the purpose of removing strain and improving magnetic properties.

そして、この後者の磁場中での焼鈍処理としては、静磁
場、回転磁場等のいずれかを用いてもよい、 これら焼
鈍熱処理およびその条件は、非晶質磁性合金の組成と所
望の磁気特性とから、適宜選択して行えばよい。
As for this latter annealing treatment in a magnetic field, either a static magnetic field, a rotating magnetic field, etc. may be used. These annealing heat treatments and their conditions are determined depending on the composition of the amorphous magnetic alloy and the desired magnetic properties. You may select one from among them as appropriate.

次いで、通常は、このような非晶質磁性合金薄板を金型
により打抜き、所定の形状となし、一般に、その複数枚
を絶縁性接着剤により所定トラック巾となるよう積層し
て、コア半体を作製する。
Next, such an amorphous magnetic alloy thin plate is usually punched into a predetermined shape using a die, and a plurality of the sheets are generally laminated with an insulating adhesive so as to have a predetermined track width to form a core half. Create.

なお、コア半体11は、第1図、第2図に示されるよう
な工学状、C字状等公知の種々の形状とすればよい。
Note that the core half 11 may have various known shapes such as an engineered shape as shown in FIGS. 1 and 2, a C-shape, etc.

次いで、これらコア半体は、以下のようなギャップ材を
介してつきあわされる。
These core halves are then brought together via a gap material as described below.

すなわち、第1図、第2図に1例として示すようにコア
半体11上の少なくともギャップ端面には、A1203
 、Z r02 、MgO。
That is, as shown as an example in FIGS. 1 and 2, at least the gap end face on the core half body 11 has A1203.
, Z r02 , MgO.

Ba2TiO4のうちの少なくとも1種以上からなる薄
膜12を下地層として設層する。
A thin film 12 made of at least one type of Ba2TiO4 is provided as a base layer.

この下地層としての薄膜12は、対応する酸化物を用い
て、スパッタリングなどにより設層することができる。
The thin film 12 as the base layer can be formed by sputtering or the like using a corresponding oxide.

このような薄膜は、AlI303 、ZrO2。Such thin films include AlI303 and ZrO2.

Mg、O、B a2 T i 04単独でもよい。Mg, O, Ba2Ti04 may be used alone.

あるいは、これらの2種以上であってもよい。Alternatively, two or more of these may be used.

2種ないし4種であるときには、添加酸化物は、主たる
酸化物の20wt%以下、より好ましくは10wt%で
あることが好ましい。
When there are two to four kinds of oxides, it is preferable that the amount of the added oxide is 20 wt% or less, more preferably 10 wt% of the main oxide.

この場合、AIL203  、Z r02  、MgO
In this case, AIL203, Z r02, MgO
.

Ba2TiO4は、化学量論組成から多少偏倚したもの
をも含むものである。
Ba2TiO4 also includes those whose stoichiometric composition is slightly deviated.

このような下地層成分は、非晶質磁性合金の表面の酸化
膜、あるいは上層のガラス薄膜と相互拡散をして、高い
密着強度を得ることができる。
Such underlayer components can interdiffuse with the oxide film on the surface of the amorphous magnetic alloy or the upper glass thin film to obtain high adhesion strength.

なお、2種以上の酸化物を含むとき、添加分が20wt
%以上になると、非晶質磁性合金およびガラス薄膜との
相互拡散が阻害され、また、薄膜形成時に格子歪が生じ
・やすく、薄膜にクラックが入りやすいので、20wt
%以下とすることが好ましい。
In addition, when two or more types of oxides are included, the additive amount is 20wt.
% or more, interdiffusion with the amorphous magnetic alloy and glass thin film is inhibited, and lattice distortion is likely to occur during thin film formation, making the thin film prone to cracking.
% or less.

被着に際しては、薄膜とコア半体との密着強度をあげる
ために被着体(磁気へラドコア)の温度をあげるのが良
い、 温度は、被着体の結晶化温度以下である必要があ
り、好ましくは250℃以下である。
When adhering, it is best to raise the temperature of the adherend (magnetic helad core) in order to increase the adhesion strength between the thin film and the core half.The temperature must be below the crystallization temperature of the adherend. , preferably 250°C or lower.

なお、薄膜と磁気ヘッドを形成する非晶質磁性合金材料
の熱膨張係数に差異があると、薄膜に応力が残留し、薄
膜にクラックが入るか、さらにすすんでコア半体から薄
膜が剥離してしまう。
If there is a difference in thermal expansion coefficient between the thin film and the amorphous magnetic alloy material that forms the magnetic head, stress will remain in the thin film, causing cracks in the thin film or even further delamination of the thin film from the core half. It ends up.

しかし、上記の酸化物の少なくとも1種以上からなる薄
膜は、熱膨張係数120 X I O−?(’Cj)−
1であるので、このような不都合はない。
However, a thin film made of at least one of the above oxides has a coefficient of thermal expansion of 120 x IO-? ('Cj)-
1, there is no such inconvenience.

このような下地層薄膜の厚みとしては、0゜05〜2.
OILm、特に好ましくは00O1〜1.61Lmであ
ることが好ましい。
The thickness of such a base layer thin film is 0.05 to 2.0.
OILm, particularly preferably 00O1 to 1.61Lm.

膜厚が、2.0pmをこえると、十分な接着強度を得る
ための中間層の効果′が失われるためである。
This is because if the film thickness exceeds 2.0 pm, the effect of the intermediate layer for obtaining sufficient adhesive strength is lost.

また、膜厚が0.05pmより少ないと、十分な密着強
度が得られないからである。
Further, if the film thickness is less than 0.05 pm, sufficient adhesion strength cannot be obtained.

このような薄膜12上にはガラス薄膜13を積層する。A glass thin film 13 is laminated on such a thin film 12.

本発明では、ガラス薄膜13は例えば、低融点ガラス、
例えばPbO−B2 o3系のガラスを用いる。
In the present invention, the glass thin film 13 is, for example, a low melting point glass,
For example, PbO-B2 o3 glass is used.

この場合、Pb080〜90wt%、B20320〜1
0wt%程度が好ましい。
In this case, Pb080~90wt%, B20320~1
Approximately 0 wt% is preferable.

そして、必要な場合には融点を下げる元素としてBi2
O3や■205等を加えて、所望の融点の低融点ガラス
とする。
If necessary, Bi2 can be used as an element to lower the melting point.
By adding O3, 205, etc., a low melting point glass having a desired melting point is obtained.

′ガラス薄膜は、通常、スパッタリングにより、積層す
る。
'Glass thin films are usually laminated by sputtering.

ガラス薄膜13は、下地層薄膜と良好に接着し、充分強
固なギャップを形成する。 しかも薄膜上に設層する際
に、酸化物薄膜を損傷しない。
The glass thin film 13 adheres well to the base layer thin film and forms a sufficiently strong gap. Furthermore, the oxide thin film is not damaged when the layer is deposited on the thin film.

ガラス薄膜の軟化温度は500〜700℃であることが
好ましい。
The softening temperature of the glass thin film is preferably 500 to 700°C.

さらに、ガラス薄膜の厚みは、′所望の磁気ギャップ長
の0.05〜0.7゛程度であることが望ましい。
Further, the thickness of the glass thin film is preferably about 0.05 to 0.7 of the desired magnetic gap length.

ガラス薄膜層が薄い場合、ギャップ長の0゜05未満で
あると、強固な接着強度が得られない。
If the glass thin film layer is thin and the gap length is less than 0°05, strong adhesive strength cannot be obtained.

また、0.7より大であると、下地層−である酸化物の
薄膜により、ガラス薄膜層形成時の応力を吸収すること
ができず、小さなりラックが入ってしまう。
On the other hand, if it is larger than 0.7, the thin oxide film serving as the base layer will not be able to absorb the stress during the formation of the glass thin film layer, resulting in small racks.

この場合、ガラス薄膜の厚みは、ギャップ長の、好まし
くは、0.1〜0.6である。
In this case, the thickness of the glass thin film is preferably 0.1 to 0.6 of the gap length.

なお、ガラス薄膜の厚みは、0.1〜1.0gmである
ことが好ましい。
Note that the thickness of the glass thin film is preferably 0.1 to 1.0 gm.

このようにして、少なくとも前部および後部ギャップ突
き合わせ面に、薄膜12と、ガラス薄膜13とを′形成
したコア半体11はギャップ突き合わせ面を突き合わせ
てて一体化される。
In this way, the core halves 11, each having the thin film 12 and the glass thin film 13 formed on at least the front and rear gap abutting surfaces, are integrated by abutting the gap abutting surfaces.

この際、第3図に示されるようにガラス薄膜13.13
間にはガラス質14を配設する。
At this time, as shown in FIG.
A glass material 14 is placed between them.

そして、これを熱処理して磁気ヘッドを形成する。This is then heat treated to form a magnetic head.

この場合、ガラス質14は、前部および後部ギャップ1
5に配設する。
In this case, the vitreous 14 has a front and rear gap 1
5.

ここで用いるガラス質は、低融点ガラスを用いる。The glass used here is a low melting point glass.

この場合、その軟化温度は300〜500℃が好ましい
In this case, the softening temperature is preferably 300 to 500°C.

組成としては、特に、PbO−8203系のガラスが好
適である。 そして通常Pb080〜90wt%、B2
O310〜20wt%とし、他に添加物としてB i 
20’3またはv203などを添加して所望の軟化温度
に調整する。
As for the composition, PbO-8203 glass is particularly suitable. And usually Pb080-90wt%, B2
O3 is 10 to 20 wt%, and B i is added as an additive.
20'3 or v203 is added to adjust the desired softening temperature.

このような低融点ガラスからなる粒状のガラス質14を
、ガラス薄膜13を積層した両ギヤー2プ突合せ部近傍
に配設した後、磁気コア全体を300〜500℃で熱処
理する。 これにより、ガラス薄膜13を積層したギャ
ップ突合せ面を融着し、ガラス膜とする。
After granular glass material 14 made of such low-melting point glass is disposed near the abutting portion of both gears 2 on which glass thin film 13 is laminated, the entire magnetic core is heat-treated at 300 to 500°C. As a result, the gap abutting surfaces on which the glass thin films 13 are laminated are fused to form a glass film.

ガラス薄膜を、機械的に充分接着し、しかも他のコア本
体や下地層を損傷しないためには。
In order to bond the glass thin film sufficiently mechanically without damaging the other core bodies or underlying layers.

熱処理温度がガラス質の軟化温度から溶融温度であるこ
とが必要である。
It is necessary that the heat treatment temperature ranges from the softening temperature to the melting temperature of glass.

以上のようにして形成されたギャップは全体として4p
m以下であることが好ましく、より好ましくは0.5〜
2.0gmである。 このとき1本発明の効果はより顕
著に実現する。
The gap formed as above is 4p as a whole.
It is preferably less than m, more preferably 0.5 to
It is 2.0 gm. At this time, the effects of the present invention are more clearly realized.

なお薄1112と、ガラス薄M13との膜厚の総計は、
全体として、所望とする磁気ヘッドのギャップ長と等し
いか、または1.2倍以下とすることが必要である。
The total film thickness of Thin 1112 and Glass Thin M13 is:
Overall, it is necessary that the gap length be equal to or 1.2 times or less the desired gap length of the magnetic head.

このように作製される磁気ヘッドはフロッピーディスク
用の用途において、きわめて有用である。
The magnetic head manufactured in this way is extremely useful in applications for floppy disks.

なお、第4図には、第1図、第2図に示されるコア半体
を、第3図に示されるように突、き合わせてなる2つの
コアをスペーサー16を介して一体化して、3ギヤツプ
型のフロッピーヘッドとした例が示される。
In addition, FIG. 4 shows two cores formed by butting together the core halves shown in FIGS. 1 and 2 as shown in FIG. 3, and integrating them via a spacer 16. An example of a 3-gap type floppy head is shown.

■ 発明の具体的作用効果 本発明のAl2O3、Z r02 、MgO。■Specific effects of the invention Al2O3, Zr02, MgO of the present invention.

Ba2TiO4の少なくとも1種以上からなる薄膜と、
ガラス膜とからなるギャップを有する磁気ヘッドは、以
下のような効果を有する。
A thin film made of at least one type of Ba2TiO4,
A magnetic head having a gap formed from a glass film has the following effects.

すなわち、磁気抵抗の高いギャップが形成されるので、
オーバーライド特性が良好で分解能が高い。
In other words, a gap with high magnetoresistance is formed, so
Good override characteristics and high resolution.

また、酸化物薄膜は、コア本体およびガラス薄膜との密
着性も良好であり、しかも熱的機械的に安定であり、強
固なナローギャップが形成される。 従って、使用や経
時に従い発生するオーバーライド特性や分解能の劣化は
きわめて少ない。
Further, the oxide thin film has good adhesion to the core body and the glass thin film, is thermally and mechanically stable, and forms a strong narrow gap. Therefore, there is very little deterioration in override characteristics or resolution that occurs with use or over time.

そして、高温高温でのギャップの耐性がよく、磁気特性
が高温高湿下での長期保存や使用によっても劣化しにく
く、また走行耐久性も良好である。
In addition, the gap has good resistance to high temperatures, the magnetic properties do not easily deteriorate even after long-term storage or use under high temperature and high humidity, and the running durability is also good.

■ 発明の具体的実施例 以下に実施例をあげて、さらに本発明の効果を実証する
(2) Specific Examples of the Invention Examples are given below to further demonstrate the effects of the present invention.

実施例 70 (5,5Fe−94,5GO) −24(IO3
t−90B) −6Ru からなる合金を用い、片ロール法にて非晶質磁性合金薄
板を得た。 板厚は507zmとした。
Example 70 (5,5Fe-94,5GO) -24(IO3
t-90B) An amorphous magnetic alloy thin plate was obtained by a single roll method using an alloy consisting of -6Ru. The plate thickness was 507 zm.

この非晶質磁性合金薄板を焼鈍処理し、内部歪取りを行
った。
This amorphous magnetic alloy thin plate was annealed to remove internal strain.

この非晶質磁性合金薄板上に、スパッタリングにより、
下記表1に示される酸化物を被着し下地層とした。
By sputtering on this amorphous magnetic alloy thin plate,
The oxides shown in Table 1 below were deposited to form a base layer.

次に第2層として、コーニング社製(c−1416)を
設層した。 この軟化温度は580℃である。
Next, as a second layer, a layer manufactured by Corning Inc. (c-1416) was provided. This softening temperature is 580°C.

以上のコア半体の形状は、第1図、第2図のものとし、
これらをつきあわせた。
The shape of the above core half is as shown in Figures 1 and 2,
I put these together.

そして、ビーズ状のガラス質〔コーニング社製ガラス(
8463))を、第3図に示されるように、磁気ギャッ
プ近傍に設置し、温度4゜0℃にて熱処理して、第4図
に示されるようなスリーギャップの磁気ヘッドとした。
Then, bead-like glass [Corning glass (
8463)) was placed near the magnetic gap as shown in FIG. 3, and heat treated at a temperature of 4.degree. C. to form a three-gap magnetic head as shown in FIG. 4.

ギャップ長は1.51Lmである。The gap length is 1.51 Lm.

別に比較のために、ギャップ材として、1゜5gm厚の
Ti箔を用い、熱硬化性樹脂で固着して磁気ヘッドを作
製した。
Separately, for comparison, a magnetic head was fabricated using a 1.5 gm thick Ti foil as a gap material and fixing it with a thermosetting resin.

これら各サンプルについて以下の測定を行なった。The following measurements were performed on each of these samples.

1)分解能 内周を125KH2(この際の出力をIFとする)で書
き込みを行い、外周を25’0KHz(この際の出力を
2Fとする)で書き込み、録再の出力を測定して2F/
IFを百分率で示し、分解能とする。
1) Write the inner circumference at 125KH2 (the output at this time is IF), write the outer circumference at 25'0KHz (the output at this time is 2F), measure the recording and playback output, and set it to 2F/
The IF is expressed as a percentage and is defined as the resolution.

この分解能を初期のものと200パス後のもので測低す
る。
This resolution is measured initially and after 200 passes.

2)オーバーライド(0マer write)特性12
5KHz(出力=IF)で書き込みを行った後に、25
0KHz(出力=2F)で消去しながら書き込みを行い
(重ね書き)、2Fを書き込み後のIFの出力IF′を
測定する。
2) Override (0mer write) characteristic 12
After writing at 5KHz (output = IF), 25
Write (overwrite) while erasing at 0 KHz (output=2F), and measure the output IF' of the IF after writing 2F.

1F’/2Fをオーバーライド特性として表す。 単位
はdBである。 この消去率を初期のものと200バス
後のもので測定する。
1F'/2F is expressed as an override characteristic. The unit is dB. The erasure rate is measured at the initial stage and after 200 buses.

3)保存性 40℃、90%RHで、240時間後の上記のオーバー
ライド特性の変化率を測定する。
3) Storage property At 40° C. and 90% RH, measure the rate of change in the above override characteristics after 240 hours.

これらの結果を表1に示す。These results are shown in Table 1.

−ζ0 表1に示される結果により本発明の効果が明らかである
-ζ0 The results shown in Table 1 clearly demonstrate the effects of the present invention.

すなわち本発明の組成、膜厚からなるギャップ材からな
る磁気ヘッドは初期、多数回走行後、劣悪な条件下での
保存後とも、すぐれた分解能、オーバーライド特性を示
すことがわかる。
That is, it can be seen that the magnetic head made of the gap material having the composition and film thickness of the present invention exhibits excellent resolution and override characteristics even at the initial stage, after many runs, and even after storage under poor conditions.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のコア半体の1例を示す斜視図、第2図
は本発明のコア半体の別の例を示す斜視図である。 第3図は、第1図に示すコア半体と第2図に示すコア半
体を突き合わせたときの正面図、第4図は、第3図に示
すコアからなるスリーヘッド型の磁気ヘッドを示す斜視
図である。 11・・・コア本体 22・・・第1層 24・・・第2層 32・・・ガラス薄膜 。 34・・・ガラス質
FIG. 1 is a perspective view showing one example of the core half body of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing another example of the core half body of the present invention. FIG. 3 is a front view of the core half shown in FIG. 1 and the core half shown in FIG. FIG. 11... Core body 22... First layer 24... Second layer 32... Glass thin film. 34...vitreous

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)非晶質磁性合金からなるコア半体を、ギャップ材
を介してつきあわせ一体化してなる磁気ヘッドにおいて
、 ギャップ材が、両コア半体の少なくとも ギャップ面に被着された酸化アルミニルム、酸化ジルコ
ニウム、酸化マグネシウムおよびチタン酸バリウムのう
ちの少なくとも1種以上からなる薄膜と、この薄膜間に
介在するガラス膜とからなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
(1) In a magnetic head in which core halves made of an amorphous magnetic alloy are butted together and integrated through a gap material, the gap material is aluminum oxide coated on at least the gap surfaces of both core halves; A magnetic head comprising a thin film made of at least one of zirconium oxide, magnesium oxide, and barium titanate, and a glass film interposed between the thin films.
(2)薄膜の膜厚が0.05〜2μmである特許請求の
範囲第1項に記載の磁気ヘッド。
(2) The magnetic head according to claim 1, wherein the thin film has a thickness of 0.05 to 2 μm.
(3)ガラス膜が、ガラス薄膜を薄膜上に設層し、しか
もガラス薄膜間にガラス質を配設した後、熱処理して形
成される特許請求の範囲第1項または第2項に記載の磁
気ヘッド。
(3) The glass film according to claim 1 or 2, wherein the glass film is formed by depositing a glass thin film on the thin film, and disposing a vitreous substance between the glass thin films, and then heat-treating the film. magnetic head.
(4)ガラス薄膜が、軟化温度500〜700℃である
特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の
磁気ヘッド。
(4) The magnetic head according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass thin film has a softening temperature of 500 to 700°C.
(5)ガラス質が、軟化温度300〜500℃である特
許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の磁
気ヘッド。
(5) The magnetic head according to any one of claims 1 to 4, wherein the glassy material has a softening temperature of 300 to 500°C.
(6)ガラス薄膜の厚みが0.1〜1μmである特許請
求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の磁気ヘ
ッド。
(6) The magnetic head according to any one of claims 1 to 5, wherein the glass thin film has a thickness of 0.1 to 1 μm.
(7)熱処理温度がガラス質の軟化温度から溶融温度で
ある特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記
載の磁気ヘッド。
(7) The magnetic head according to any one of claims 1 to 6, wherein the heat treatment temperature is from the softening temperature to the melting temperature of glass.
(8)磁気ヘッドのギャップ長が4μm以下である特許
請求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の磁気
ヘッド。
(8) The magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein the magnetic head has a gap length of 4 μm or less.
(9)薄膜およびガラス薄膜の膜厚の総計が所望とする
磁気ヘッドのギャップ長と等しいか、または1.2倍以
下となるように設層する特許請求の範囲第1項ないし第
8項のいずれかに記載の磁気ヘッド。
(9) The layers are arranged so that the total thickness of the thin film and the glass thin film is equal to or 1.2 times or less than the desired gap length of the magnetic head. The magnetic head described in any of the above.
(10)非晶質磁性合金がFeとCoとBまたはBおよ
びSiとを主体とし、Ru、CrおよびTiの1種以上
を含む組成からなる特許請求の範囲第1項ないし第9項
のいずれかに記載の磁気ヘッド。
(10) Any one of claims 1 to 9, wherein the amorphous magnetic alloy has a composition mainly composed of Fe, Co, B, or B and Si, and containing one or more of Ru, Cr, and Ti. A magnetic head described in .
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