JPS61170087A - 無声放電式ガスレ−ザ装置 - Google Patents

無声放電式ガスレ−ザ装置

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JPS61170087A
JPS61170087A JP1018285A JP1018285A JPS61170087A JP S61170087 A JPS61170087 A JP S61170087A JP 1018285 A JP1018285 A JP 1018285A JP 1018285 A JP1018285 A JP 1018285A JP S61170087 A JPS61170087 A JP S61170087A
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JP
Japan
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discharge
dielectric
laser device
gas laser
electrode
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Pending
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JP1018285A
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English (en)
Inventor
Satoru Hayashi
悟 林
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、無声放電式ガスレーザ装置の改良に関する
ものである2 〔従来の技術〕 まず、従来のガスレー廿装置ケ横励起形002レーザー
を例として説明する2 第2因はその構成原理図であり、(1)は第1の電極、
例えは接地側金属電極、(2)はこの接地側金属*極(
1)に対向配設された第2の電極、例えは高電圧側金属
電極で、放電面は鉛含有ガラスまたはマイカ等の材料か
ら成る誘電体(3)で覆われている、そしてこの両電極
(1)(2)tズレ−ぜ媒質ガスを満たした容器内に設
けられている、(4)は放電空間、(5)は変圧器、(
6)は高周波電#  (73は全反射鏡、(8)はこの
全反射鏡(7)とレーザ光の光軸上に配設された出力側
反射[(一部透過)、(9)は冷却水循環ポンプ。
αGは冷却器、αυはイオン交換純水器である、上記の
構成において、高電圧側金属電極(2)に、高周波IE
源(6]と変圧器(5)より交流高電圧が印加されると
、放電空間(4)に無声放電と呼ばれる安定な放電が起
る、無声放電は両電極間(1)(2)に誘電体(3)を
介した交流放電であるため、アーク放電に移行すること
なく、電子温度のみが高く、分子温度の上昇しない非平
衡放電が安定に実現できる7放電空ldl<4>内で励
起された分子審とよる光誘導輻射過程の説明は省略する
が、放電空間(4)内で無声放電が起ると、全反射鏡(
7)と出力側反射鏡(8)により構成される共振器内で
レーぜ発振が起り、出力側反射鏡(8)よりレーザ光が
出力される、接地側金属電極(1)と高電圧側金属電極
(2)はともに電気伝導度の小さい冷却水で冷却されて
おり、冷却水は冷苅水循環ポンプ(9)で、冷却器Q(
1,イオン交換純水器Ql)を通して循環される、イオ
ン交換純水器αυは冷却水の電気伝導度を小さくして高
電圧側金網電極(2)からの電流漏洩ケ防ぐために必要
である、なお、図には示してないが放電空間のガスは電
極間をレーザ光と直角の方向に高速で流れている2第8
図は上記放IIc電極邪の拡大図で、接地側金属電極(
1)、高電圧側金属電極(2)ともに放電面は平行平板
であり、放電は図中に示すように両電極間で一様に起る
、 第8図に示す実施例では、誘電体を高l!!圧側金属電
極<2)に設けたが、接地側金属電極(1)に設けると
か、高電圧側金網電極(2)及び接地側金属電極(1)
の両方に設けることでも同一の効果があることは明らか
である、第6図は高電圧側金属電極(2)及び接地側金
属電極(1)の両方に誘電体(3)を設けた例である2 レーザー発振か起こるためCζは、全反射鏡(7)、出
力側反射鏡(8)の損失に打ち勝つtごけのレーザー利
得が放電空間(4)で必要であり、レーザー利得は放電
空間(4)の光軸方向の長さと放*1力割度(単位体積
当りに投入される放tIcwIL力)で決まるので、光
軸方向の長さを決めると放[1!力密#fをきよく値以
上1ζあげないと発振が起らない、放W1.viL力密
度の向上は印加電子を高くすること番ζより達成するこ
とかで無る、 〔発明が解決しよらとする問題点〕 ところで、誘電体電極の誘電体の厚さは、印加電圧によ
つて絶縁破壊しないような厚さに設定される、従来の誘
電体ガラスの絶縁破壊電圧はせいぜい20tv(Igg
厚)である、放電時に電極誘電体の負担電圧が5KV 
 であれば最低9.4 +u tの厚さが必要であり、
安全率を考慮すれは0.6IIjMt〜1、 Q m 
tの厚さが必要となる。従来、放電管上の誘電体は、金
属製パイプにガラス誘電体粉末を。
いわゆるほうろう技術で適用されている常法により塗布
し、焼成することによって形成している8しかし、1度
に塗布焼成できる厚さは限度がありせいぜい0.8層t
であるn 0.6 ” tの厚さの誘電体膜厚を得るに
は1回塗布焼成後さらに塗布し焼成することfζよりて
必要膜厚を得る、しかし、焼成工程は、塗布作業、焼成
作業などが必要のためコストが高い欠点があった。さら
に膜厚が厚くなると、誘電体表面が冷却時の熱収縮のた
め凹凸が生じやすくなる欠点があった、あるいは誘電体
の膜厚が厚いとパイプ内ケ流れる冷却水による冷却効果
が悪くなる欠点かあった、 仁の発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
め1mなさ才またもので誘電体電極回路に直列jvコン
テンサを結合すること憂でより #電体電極の負担電圧
を低減し、誘電体電極の誘電体厚さケうすくし、冷却水
による冷却効率の良好な、かつコストの低い、表面の凹
凸の少ない誘電体電極を備えた無声放電式ガスレーザ発
振装甑ケ提供するものである。
〔問題点ケ解決するための手段〕
この発明Cζ係る勲声放電式ガスレー4f装置1は、放
電空間を形成する電極と少なくとも一方に#!誘電体被
覆し、屏の電極に直列にコンデンサを取りつけt:もの
である、 〔作用〕 この発明Cζおいては、ガスレーザ装置の放電管誘電体
層極に直列にコンデンサを取りつけ、誘電体の膜厚をう
すくすること憂ζより、安価で高性能の無声放電式ガス
レーザ装置を得る。
〔発明の実施例〕 以下、この発明の一実施例を第1図にもとづき説明する
第1図はレーザ発振器放電部の等価回路図である8図に
おいてQ3は発振用電源、(2)はレーぜ発振器放電部
の放電ギヤー・プ以外の静電容量 α引ズ放電管の誘電
体層の非放電部の静電容量、(至)は非放電部の電極間
ギヤー・ブによる静電容量、α6は放電管誘電体層の放
電部分の静電容量、α力は放電部の電極間ギヤーIブに
よる静電容量、(至)は本命−・ブ、α引ズ放電管に直
列に結合されたコンデンサである、第1図で、電!la
2の電圧をギヤ・・ブ(ト)の放電開始電圧以上に上げ
ればギヤー・ブで放電する8通常、静電容量はOdzと
Cd3を入さくとり他のCo、Cdt。
Og+、Cgxはそれらに比べて小さく設計する、従−
・て放電時の電流はほとんど(3d3とCd2とGを結
ぶ回路を経て流れる、aSの印加電圧をVOとし、キヤ
・リブ間の負荷電圧ケVOとするとOdzと(3d3の
両端の電位差はVo−Vaとなる。ここでOdtのCd
3 負荷11EEEVdztt   、、   、  x(
Vo−Va)トなる。もしも、Cd3がない場合fζは
(Vo −VG )Cd3 の電圧が力)かつている乙と1どなる。鈷口〒廼目の値
は1よh小さいのでCdxの負担電圧は低くなる、 ところでCd3を直列に結合した場合のCdxと(3d
zOd 3〆(〕d1 の合成された静電容量Cd4はOd+=[有]ピコ1了
とな4ここで、放電管の誘電体層膜厚を小さくしてCd
xケ2倍の(3dzとし、Cd3を20dzの容jlI
ζ設Od3メ(jdz  20d2x2cct2=cd
2定すればC”=□  2 2+2 2−となるーすな
わちCd3ヶ回路に結合しない場合と同じ静電容量とな
f7.Cdzの負担電圧Vdtは /2となる。すなわ
ち膜厚を1/21ζして放電部の誘電体層の静電容量の
2倍の本セパジターCdxを回路に直列ζζ結合すれば
レーザ発振器の性能C;を変わ^ない、通常用いられる
発振器のCd2の値はせいぜいIMF程度であり、20
00〜40001’ F程度のものがよく使用される、
印加電圧はせいぜい1iV程度である、従って、Odx
としては市販の高電圧コンデンサを適用することが可能
である、例えばTDK社製のセラミ−lクコンテンサ[
]tlV−3などケ組み合わせて使用することかでとる
、なお、上記実施例では、放電部の誘電体w、&が1本
だけの場合について述べたが、2木の場合にも同様であ
り、平行平板状でも円筒状でも同様である、 さら蛋ζ上記実施例では、膜厚が1/2の場合を説明し
たが1/2に限定することなく1/3でも、1/4でも
、あるいけそれ以外で6それ#ζ応し、たコンデンサを
結合ずれは同様であることは明らかである、〔発明の効
果〕 以上のようにこの発明によれは、放電管のき電体層の膜
厚を薄くしてもレーザ発振機の性能は笈わらオ、放電管
の焼成回数を減らすことができるので発振機が安価にで
きる。又、誘電体層の膜厚がうすいので表面の凹凸がで
きにくく、誘電体の冷却も効果的となるなどレーザ発振
機の技術を著しく進歩させることができる、
【図面の簡単な説明】
第1図はCの発明の一実施例を示す図、第2図は従来の
レーザ装置の原理的な構造を示す構成原理図、第8図1
m4図は電極部の拡大図である2図(ζおいて、(1)
は接地側金属電極、(2)は高電圧側金属電極、(7)
は全反射鏡、(8)は出力側反射鏡、α旧オフンテン廿
テする。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す、

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザ媒質ガスを有する容器内に対向配設された第1及
    び第2の金属電極を具備するものにおいて、上記両電極
    上の少なくとも一方に誘電体を被覆し、上記誘電体電極
    の直列回路にコンデンサを取りつけたことを特徴とする
    無声放電式ガスレーザ装置。
JP1018285A 1985-01-23 1985-01-23 無声放電式ガスレ−ザ装置 Pending JPS61170087A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6636545B2 (en) * 1996-09-26 2003-10-21 Alexander V. Krasnov Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation
US7619948B2 (en) 2005-07-06 2009-11-17 Seiko Epson Corporation Timepiece dial and timepiece
US11095088B1 (en) 2018-02-21 2021-08-17 Zoyka Llc Multi-pass coaxial molecular gas laser

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5788789A (en) * 1980-09-22 1982-06-02 Kraftwerk Union Ag High energy laser
JPS59159582A (ja) * 1983-03-02 1984-09-10 Mitsubishi Electric Corp 無声放電ガスレ−ザ電極破壊検出装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5788789A (en) * 1980-09-22 1982-06-02 Kraftwerk Union Ag High energy laser
JPS59159582A (ja) * 1983-03-02 1984-09-10 Mitsubishi Electric Corp 無声放電ガスレ−ザ電極破壊検出装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6636545B2 (en) * 1996-09-26 2003-10-21 Alexander V. Krasnov Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation
US7619948B2 (en) 2005-07-06 2009-11-17 Seiko Epson Corporation Timepiece dial and timepiece
US11095088B1 (en) 2018-02-21 2021-08-17 Zoyka Llc Multi-pass coaxial molecular gas laser

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