JPS61168947A - Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device

Info

Publication number
JPS61168947A
JPS61168947A JP901085A JP901085A JPS61168947A JP S61168947 A JPS61168947 A JP S61168947A JP 901085 A JP901085 A JP 901085A JP 901085 A JP901085 A JP 901085A JP S61168947 A JPS61168947 A JP S61168947A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
lead frame
pattern
chip
leads
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP901085A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomio Yamada
富男 山田
Senji Shoji
庄司 仙治
Akiro Hoshi
星 彰郎
Seishiro Owaki
征四郎 大脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP901085A priority Critical patent/JPS61168947A/en
Publication of JPS61168947A publication Critical patent/JPS61168947A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49544Deformation absorbing parts in the lead frame plane, e.g. meanderline shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent deformation of the inner end parts of leads, by performing patterning of parts other than the inner end regions of the leads and a chip arranging area at first, and performing the patterning of the inner end regions of the leads and the chip arranging region immediately before chip bonding. CONSTITUTION:The unit lead pattern of a leadframe 1 becomes a conveying pattern 2 by the first lead-pattern forming process. A bonding pattern 3 is obtained by the second lead-pattern forming process. A tab 4 and leads 5 are linked to the conveying pattern 2. The central part of the leadframe 1 is hard to be deformed in handling such as conveying. In the second lead-pattern forming process, precision press molding of the central part of the leadframe is carried out and the tab 4 and the inner end parts of the leads 5 are molded. Thus, the bonding pattern 3 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は半導体装置の製造方法およびその製造において
用いられるリードフレームに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device and a lead frame used in the manufacturing.

〔背景技術〕[Background technology]

レジンパッケージ型等の半導体装置は その製造におい
てリードフレームと呼称されている部材が用いられてい
る。このリードフレームは、たとえば、株式会社プレス
ジャーナル発行「月刊Se−m1conductor 
 WorldJ1984年5月号、昭和59年7月15
日発行、pH1〜P115に記載されているように、銅
や鉄−ニッケル系合金等の薄い金属板をエツチングある
いはプレスの打ち抜きによって形成され、チップを取付
けるタブおよびワイヤを接続するリード等のリードフレ
ームパターンを構成するパターンメンバーを有している
。また、チップやワイヤを取付ける前記タブやリードの
ボンディング部分は、接続の信軌性向上等を図るために
、金、銀等がメッキされている。
A member called a lead frame is used in the manufacture of resin package type semiconductor devices. This lead frame can be found, for example, in "Monthly Se-m1conductor" published by Press Journal Co., Ltd.
WorldJ May 1984 issue, July 15, 1984
As described in the Japanese publication, pH1 to P115, lead frames are formed by etching or punching thin metal plates such as copper or iron-nickel alloys, and include tabs for attaching chips and leads for connecting wires. It has pattern members that make up the pattern. Further, the bonding portions of the tabs and leads to which chips and wires are attached are plated with gold, silver, etc. in order to improve the reliability of the connection.

一方、前記文献にも記載されているように、金属板から
なるリードフレームの厚さは100〜250μmと薄く
、また半導体装置の高集積度化からリード数8 (ピン
数は、たとえば、60〜80本)も多くなり、かつ半導
体装置の小型化からリード先端(内端)の幅およびピッ
チも狭くなってきている。また、リードフレームはその
製造において、反りや換れが生じないように平坦性に注
意が払われている。
On the other hand, as described in the above-mentioned literature, the thickness of the lead frame made of a metal plate is as thin as 100 to 250 μm, and the number of leads is 8 (the number of pins is, for example, 60 to 250 μm) due to the high integration of semiconductor devices. 80), and the width and pitch of the lead tips (inner ends) are also becoming narrower due to the miniaturization of semiconductor devices. Further, in manufacturing the lead frame, attention is paid to flatness so as to prevent warping or deformation.

ところで、これら従来のリードフレームは、リードの先
端が相互に分離された状態となって取り扱われかつ販売
されている。
Incidentally, these conventional lead frames are handled and sold with the tips of the leads separated from each other.

しかし、このようなリードフレームはその取扱い時に、
リード内部やチップを固定するタブ部分が変形し易く、
変形したものはチップボンディング、ワイヤボンディン
グが正確確実に行ない難く、ボンディングの信頼度が低
くなったり、不良品が発生したりするおそれがあること
が本発明者によってあきらかとされた。すなわち、前述
のように、リードは薄くかつ細いため、たとえば、リー
ドフレーム製造後にリールに巻いたりした際の重なり、
あるいはリードフレーム形成後のメブキ作業におけるマ
スキング等において、リードやタブは接触される機会が
多くなり、時として片寄り、傾き、捩れ、浮き等の変形
が生じることがわかった。
However, when handling such lead frames,
The inside of the lead and the tab part that fixes the chip are easily deformed.
The inventors have found that it is difficult to accurately and reliably perform chip bonding and wire bonding on deformed products, leading to lower bonding reliability and the possibility of producing defective products. That is, as mentioned above, since the lead is thin and thin, for example, when the lead frame is manufactured and wound onto a reel, overlaps occur.
Furthermore, it has been found that leads and tabs are often contacted during masking and the like during the meshing work after lead frame formation, and deformations such as deviation, inclination, twisting, and floating occur at times.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は品質の優れた半導体装置の製造方法を提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device of excellent quality.

本発明の他の目的は組立歩留りの向上が達成できる半導
体装置の製造方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device that can improve assembly yield.

本発明の他の目的はチップボンディング寸前までリード
内端部分が変形し難いリードフレームを提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide a lead frame in which the inner end portions of the leads are not easily deformed until just before chip bonding.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、本発明は、リードフレームは第1リードパタ
ーン形成時にリードの内端NkRおよびチップ配置領域
を除く部分のパターニングが行われ、その後、部分メッ
キが施され、かつ、チップボンディングの寸前で第21
7−ドパターン形成が施されてリードフレームの中央の
リードの内端領域およびチップ配置領域部分のパターニ
ングが行われ、その後チップボンディングおよびワイヤ
ボンディングが行われるため、チップボンディング時に
リードおよびタブの片寄り、捩れ、浮き沈み等の変形が
起き難くなり、チンプボンディング、ワイヤボンディン
グが正確かつ確実に行われ、ボンディングの信頼性向上
および組立歩留りの向上が達成できる。
That is, in the present invention, when forming the first lead pattern, the lead frame is patterned except for the inner end NkR of the lead and the chip placement area, and then partial plating is applied, and the 21st lead frame is patterned just before chip bonding.
7-Card patterning is performed to pattern the inner end area of the leads and the chip placement area in the center of the lead frame, and then chip bonding and wire bonding are performed, so that the leads and tabs may become uneven during chip bonding. , deformations such as twisting, ups and downs are less likely to occur, chimp bonding and wire bonding can be performed accurately and reliably, and improvements in bonding reliability and assembly yield can be achieved.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例によるリードフレームの平面
図、第2図は同じ(本発明の半導体装置の製造方法を示
すフローチャート、第3図は同じく本発明の半導体装置
の製造に用いられるリードフレームの平面図、第4図は
同じくリードフレームのタブ部分を示す断面図、第5図
は同じくチップボンディング、ワイヤボンディング、封
止等の各作業が終了した状態のリードフレームの平面図
、第6図は完成品状態のレジンパッケージ構造の半導体
装置の斜視図である。
FIG. 1 is a plan view of a lead frame according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a flowchart showing the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, and FIG. 3 is a plan view of a lead frame according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view of the lead frame; FIG. 4 is a sectional view showing the tab portion of the lead frame; FIG. 5 is a plan view of the lead frame after chip bonding, wire bonding, sealing, etc. FIG. 6 is a perspective view of a semiconductor device having a resin package structure in a completed state.

この実施例ではレジンパッケージ型の半導体装置(fc
)の製造方法について説明する。
In this embodiment, a resin package type semiconductor device (FC
) manufacturing method will be explained.

このICは、外観が第6図のようになり、第2図のフロ
ーチャートで示されるように、リードフレーム素材を用
意する工程、第117−ドパターン形成工程5メッキ処
理工程、第2リードパターン形成工程、チンプボンディ
ング工程、ワイヤボンディング工程、封止処理工程、切
断成形処理工程を経て製造される。
This IC has an external appearance as shown in FIG. 6, and as shown in the flowchart of FIG. It is manufactured through a chimp bonding process, a wire bonding process, a sealing process, and a cutting and molding process.

このICの製造に際して、最初に厚さ0.2μm程度の
鉄−ニッケル系金属板からなるリードフレーム素材が用
意される。このリードフレーム素材は第1リードパター
ン形成処理および第21J−ドパターン形成処理が施さ
れ、最終的な単位リードパターンが形成される。すなわ
ち、リードフレーム1はリードフレーム素材に対して太
き(わけて、2回の成形処理(精密プレス成形処理)を
施すことによって形成され、リードフレーム1の単位リ
ードパターンは第1リードパターン形成処理によって、
第1図に示すような、搬送用パターン2となり、第2リ
ードパターン形成処理によって、第3図に示すような、
ボンディング用パターン3となる。前記搬送用パターン
2は、後述するタブ4およびリード5部分が連結し、運
搬等の取扱い時に、リードフレーム1の中央部が変形し
難くなっている。また前記ボンディング用パターン3は
第1リードパターン形成処理によってリードフレーム1
の中央部の精密プレス成形によって、タブ4およびリー
ド5の内端部分が成形される。
When manufacturing this IC, first a lead frame material made of an iron-nickel metal plate with a thickness of about 0.2 μm is prepared. This lead frame material is subjected to a first lead pattern forming process and a 21st J-do pattern forming process to form a final unit lead pattern. That is, the lead frame 1 is formed by performing two thick molding processes (precision press molding process) on the lead frame material, and the unit lead pattern of the lead frame 1 is formed by performing the first lead pattern forming process. By,
The conveyance pattern 2 as shown in FIG. 1 is formed, and by the second lead pattern forming process, as shown in FIG.
This becomes bonding pattern 3. In the conveyance pattern 2, tabs 4 and leads 5, which will be described later, are connected, and the central portion of the lead frame 1 is difficult to deform during handling such as transportation. Further, the bonding pattern 3 is formed on the lead frame 1 by the first lead pattern forming process.
The inner end portions of the tab 4 and the lead 5 are formed by precision press molding of the center portion.

つぎに、第1図に示される搬送用パターン2となるリー
ドフレーム1について説明する。リードフレーム1は一
対の外枠6と、これら外枠6を定間隔に連結するタイバ
ー7を有している。そして、それぞれ対応する一対の外
枠6およびタイバー7からなる矩形部分で第1リードパ
ターン形成パターンを形作っている。この単位リードパ
ターンは中央部分に略矩形の幅広部8を有している。ま
たこのリードフレーム1は従来のリードフレームと同様
に、外枠6の中央内側からそれぞれ細いタブリード9を
延在させている。これらタブリード9は熱歪吸収のため
に途中で屈曲した形状となり、先端(内端)は前記幅広
部8に連なっている。また前記タイバー7の内側から定
間隔にリード5が突出している。これらリード5は外枠
6に平行となって延在しているが、その多くはリードフ
レームlの中央に位置する前記幅広部8と連なるために
、途中で複雑に屈曲している。また前記単位リードパタ
ーンは、対面する外枠6間を結ぶ線上に位置し、隣り合
うリード5同志およびリード5と外枠6を結ぶ細いダム
10を有している。このダムlOは後述するレジンバフ
ケージ11 (第5図参照)を形成する際のレジンモー
ルド時に、溶融状態にあるレジンの流出を阻止するため
のダムとして働く。
Next, the lead frame 1 that becomes the conveyance pattern 2 shown in FIG. 1 will be explained. The lead frame 1 has a pair of outer frames 6 and tie bars 7 that connect the outer frames 6 at regular intervals. A first lead pattern forming pattern is formed by a pair of corresponding outer frames 6 and tie bars 7 in a rectangular shape. This unit lead pattern has a substantially rectangular wide portion 8 in the central portion. Further, this lead frame 1 has thin tab leads 9 extending from the inside center of the outer frame 6, as in the conventional lead frame. These tab leads 9 are bent in the middle to absorb thermal strain, and their tips (inner ends) are connected to the wide portion 8 . Also, leads 5 protrude from the inside of the tie bar 7 at regular intervals. These leads 5 extend parallel to the outer frame 6, but most of them are complicatedly bent in the middle because they are connected to the wide portion 8 located at the center of the lead frame 1. Further, the unit lead pattern has a thin dam 10 located on a line connecting the outer frames 6 facing each other and connecting the adjacent leads 5 and the leads 5 and the outer frame 6. This dam IO functions as a dam to prevent the molten resin from flowing out during resin molding to form a resin buff cage 11 (see FIG. 5), which will be described later.

一方、リード5は前記ダム10からタイバー7に延在す
る部分が前記レジンパフケージ11から突出するため、
アウターリード12と呼ばれ、前記ダム10の内側の部
分は前記レジンパッケージ11内に入るためインナーリ
ード13と呼ばれている。前記インナーリード13の先
端(内端)は、前述のように、幅広部8に連結されてい
る。また、このインナーリード13には、孔14および
張り出し15 (あるいは欠は込み)等が設けられ、リ
ード5が前記レジンパッケージ11のレジン部分と食い
込み合って、レジンパッケージ11から抜けないように
配慮されている。また、前記外枠6には、リードフレー
ム1の移送作業あるいは位置決め作業等にあって、ガイ
ドとして用いられるガイド孔16〜18が設けられてい
る。
On the other hand, since the portion of the lead 5 extending from the dam 10 to the tie bar 7 protrudes from the resin puff cage 11,
This is called an outer lead 12, and the inner part of the dam 10 is called an inner lead 13 because it enters the resin package 11. The tip (inner end) of the inner lead 13 is connected to the wide portion 8 as described above. Further, this inner lead 13 is provided with a hole 14 and an overhang 15 (or a notch), etc., so that the lead 5 does not bite into the resin part of the resin package 11 and come out from the resin package 11. ing. Further, the outer frame 6 is provided with guide holes 16 to 18, which are used as guides in transporting or positioning the lead frame 1.

つぎに、このような搬送用パターン2を有するリードフ
レーム1は、チップ搭載領域、ワイヤボンディング領域
等が部分的にメッキされる(たとえば、メッキは第1図
の点々が施された領域に施される。)。
Next, the lead frame 1 having such a transfer pattern 2 is partially plated in the chip mounting area, wire bonding area, etc. (for example, plating is applied to the dotted areas in FIG. 1). ).

つぎに、第3図に示されるように、リードフレームlは
第217−ドパターン形成処理(精密プレス処理)が施
され、単一リードパターンの中央のタブ4は、部分的に
切断除去されタブリード9が連なる矩形のタブ4が形成
されるとともに、各リード5は分離される。また、この
処理時、第4図で示されるように、タブ4は一段低く形
成される。
Next, as shown in FIG. 3, the lead frame l is subjected to a 217th pattern forming process (precision press process), and the central tab 4 of the single lead pattern is partially cut and removed to form a tab lead. A rectangular tab 4 with a series of 9 is formed, and each lead 5 is separated. Further, during this process, the tab 4 is formed one step lower, as shown in FIG.

これは、タブ4上に固定されたチップ(半導体素子)1
9の電極と、リード5の内端とを結ぶワイヤ20が、仮
に垂れ下がるようなことがあっても、ワイヤ20がチッ
プ19の周縁に接触して、ショート不良が生じないよう
にするための配慮である。
This is a chip (semiconductor element) 1 fixed on tab 4.
Even if the wire 20 connecting the electrode 9 and the inner end of the lead 5 were to hang down, consideration should be given to prevent the wire 20 from coming into contact with the periphery of the chip 19 and causing a short circuit. It is.

つぎに、このようなリードフレーム1は、第5図で示さ
れるように、タブ4上にチップ19がボンディングされ
るとともに、このチップ19の図示しない電極と両側の
り一ド5の内端とはワイヤ20で接続される。その後、
このリードフレーム1は、レジンモールドが施され、リ
ード5の先端部分(インナーリード13の殆どの部分)
は絶縁性のレジンからなるレジンパッケージ11で被わ
れる。
Next, in such a lead frame 1, as shown in FIG. 5, a chip 19 is bonded onto the tab 4, and the electrodes (not shown) of this chip 19 are connected to the inner ends of the adhesives 5 on both sides. Connected by wire 20. after that,
This lead frame 1 is resin molded, and the tip portion of the lead 5 (most portion of the inner lead 13)
is covered with a resin package 11 made of insulating resin.

つぎに、このリードフレーム1は、第6図で示されるよ
うに、各リード5問およびリード5とタイバー7とを連
結するダム10が切断除去され、かつレジンパッケージ
11から突出するり一ド5(アウターリード12)が、
同一側に折り曲げられ、デュアルインライン型のレジン
パッケージ型半導体装置21が製造される。
Next, as shown in FIG. (Outer lead 12) is
By folding it to the same side, a dual in-line resin packaged semiconductor device 21 is manufactured.

〔効果〕〔effect〕

(1)本発明によれば、チップボンディング工程前の輸
送・保管時あるいは前処理時には、リード5の内端はタ
ブ4部分をも含める幅広部8によって相互に繋がってい
て、チップボンディング寸前に始めて切断されてタブ4
.リード5の内端部が形成されるため、チップボンディ
ング寸前の第2リードパターン形成処理前は、リードフ
レームIの中央部分に外力が加わっても、変形し難い、
このため、チップボンディング時のタブ4.リード5等
の片寄り、捩れ、浮き沈み等の変形の頻度あるいは度合
は従来のリードフレームに比較して極めて少なくかつ小
さいという効果が得られる。
(1) According to the present invention, during transportation, storage, or pretreatment before the chip bonding process, the inner ends of the leads 5 are connected to each other by the wide part 8 including the tab 4 portion, and the inner ends of the leads 5 are connected to each other by the wide part 8 including the tab 4 portion, and the inner ends of the leads 5 are connected to each other by the wide part 8 including the tab 4 portion. Cut off tab 4
.. Since the inner end portion of the lead 5 is formed, it is difficult to deform even if an external force is applied to the center portion of the lead frame I before the second lead pattern formation process just before chip bonding.
For this reason, tab 4. The effect is that the frequency or degree of deformation of the leads 5, etc., such as deviation, twisting, ups and downs, etc., is extremely less and smaller than in conventional lead frames.

(2)上記(1)により、本発明によれば、チップボン
ディングあるいはワイヤボンディング時にタブ4やリー
ド5の変形が殆どないことにより、正確確実なチップボ
ンディングおよびワイヤボンディングが行え、半導体装
置のボンディング特性の向上が達成できるという効果が
得られる。
(2) According to the above (1), according to the present invention, there is almost no deformation of the tab 4 or lead 5 during chip bonding or wire bonding, so that accurate and reliable chip bonding and wire bonding can be performed, and the bonding characteristics of the semiconductor device This has the effect of achieving an improvement in .

(3)上記(11により、本発明によれば、チップボン
ディングあるいはワイヤボンディング時にタブ4やリー
ド5の変形が殆どないことにより、リードフレーム1の
変形部分による装置への接触。
(3) According to the above (11), according to the present invention, there is almost no deformation of the tab 4 or lead 5 during chip bonding or wire bonding, so that the deformed portion of the lead frame 1 does not come into contact with the device.

引っ掛かり等が起き難いことから、装置の稼働率が向上
し、作業の標準時間(ST)の低減が達成できるという
効果が得られる。
Since it is difficult for the device to get stuck, the operating rate of the device is improved and the standard time (ST) of the work can be reduced.

(4)上記(2)により、本発明によれば、ワイヤボン
ディングが正確確実となることから、張られたワイヤル
ープの形状も良好となって、ショート等のおそれも無く
なるため、半導体装置の品質(特性)の向上が達成でき
るという効果が得られる。
(4) According to the above (2), according to the present invention, wire bonding becomes accurate and reliable, the shape of the stretched wire loop becomes good, and there is no risk of short circuits, etc., so the quality of the semiconductor device is improved. (characteristics) can be improved.

(5)上記(2)〜(4)により、本発明によれば、チ
ップボンディングあるいはワイヤボンディングが正i確
実となることから、歩留りの向上が達成できるという効
果が得られる。
(5) According to the above (2) to (4), according to the present invention, since chip bonding or wire bonding becomes positive and reliable, it is possible to achieve the effect of improving the yield.

(6)上記(1)〜(5)により、本発明によれば、半
導体装置の製造において、タブ4やリード5の変形が生
じ難く、不良品の発生頻度が低くできるため、半導体装
置の製造コストの低減が達成できるという相乗効果が得
られる。
(6) According to the above (1) to (5), according to the present invention, deformation of the tab 4 and lead 5 is less likely to occur in the manufacturing of semiconductor devices, and the frequency of occurrence of defective products can be reduced. A synergistic effect can be obtained in that cost reduction can be achieved.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、前記リードフ
レームにおける各リードの内端の繋がり方は部分的であ
っても前記実施例同様な効果が得られる。また、前記実
施例におけるメッキ処理は第1リードパターン形成処理
前でも同等支障はない。また、前記リードフレームにお
ける第1リードパターン形成および第2リードパターン
形成の単位リードパターンの形成はエツチング法であっ
ても前記実施例同様な効果が得られる。特に、リード数
が増大しかつパターンの微細化が図られる程、エツチン
グによるリードパターン形成は効果がある。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. For example, even if the inner ends of the leads in the lead frame are only partially connected, the same effect as in the embodiment described above can be obtained. In addition, the plating process in the above embodiment is performed without any problems even before the first lead pattern forming process. Further, even if the unit lead patterns of the first lead pattern and the second lead pattern in the lead frame are formed by an etching method, the same effects as in the above embodiment can be obtained. In particular, lead pattern formation by etching becomes more effective as the number of leads increases and the pattern becomes finer.

また、本発明は、第7図〜第9図で示されるように、ガ
ラスパッケージ製品の製造においても、前記実施例同様
に適用でき、前記実施例同様な効果が得られる。この場
合、第7図で示されるように、リードフレーム1は第1
リードパターン形成処理後に、リード5の折り曲げが行
われる。その後、第8図で示されるように、す−ドフレ
ーム1は第2リードパターン形成処理が行われる。この
結果、各リード5の内端は相互に独立する。この際、ガ
ラスパッケージ用のリードフレーム1は、タブおよびタ
ブリードは設けられず、単一リードパターンの中央には
、チップよりも僅かに大きい空間(チップが配置される
空間)が形成される。このような第2リードパターン形
成処理後のリードフレーム1は、第8図で示されるよう
に、セラミックからなるベース22に固定される。前記
ベース22はその上面にあらかじめ図示しないガラスが
被着されていることから、ベース22上にリードフレー
ム1を重ね合わせ、この状態で前記ガラス部分を一時的
に加熱することによって、リードフレーム1のリード5
の内端部が接着される。また、このガラスの溶融時にベ
ース22の中央にチップ19が載置され、ガラスによっ
て接着固定される。その後、チップ19の図示しない電
極と各リード5の内端とは、ワイヤ20によって接続さ
れる。さらに、このベース22上にはセラミンクからな
るキャンプ23が気密的に取付られるとともに、リード
5が外枠6から切断され、第9図で示されるようなガラ
スパッケージ型半導体装置24が製造される。
Further, as shown in FIGS. 7 to 9, the present invention can be applied to the production of glass package products in the same manner as in the embodiment described above, and the same effects as in the embodiment described above can be obtained. In this case, as shown in FIG.
After the lead pattern forming process, the leads 5 are bent. Thereafter, as shown in FIG. 8, the soft frame 1 is subjected to a second lead pattern forming process. As a result, the inner ends of each lead 5 are independent from each other. At this time, the lead frame 1 for the glass package is not provided with a tab or a tab lead, and a space slightly larger than the chip (a space where the chip is placed) is formed in the center of the single lead pattern. The lead frame 1 after the second lead pattern forming process is fixed to a base 22 made of ceramic, as shown in FIG. Since the base 22 is coated with glass (not shown) on its upper surface in advance, the lead frame 1 can be heated by overlapping the lead frame 1 on the base 22 and temporarily heating the glass portion in this state. lead 5
The inner edges of the are glued together. Further, when the glass is melted, the chip 19 is placed in the center of the base 22 and is adhesively fixed by the glass. Thereafter, an unillustrated electrode of the chip 19 and the inner end of each lead 5 are connected by a wire 20. Further, a camp 23 made of ceramic is airtightly mounted on the base 22, and the leads 5 are cut from the outer frame 6 to produce a glass package type semiconductor device 24 as shown in FIG. 9.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるデュアルインライン
型の半導体装置の製造技術に適用した場合について説明
したが、それに限定されるものではなく、たとえば、フ
ラット型半導体装置の製造技術などに適用できる。
The above description has mainly been about the case where the invention made by the present inventor is applied to the manufacturing technology of a dual in-line type semiconductor device, which is the background field of application, but the invention is not limited to this, for example, It can be applied to manufacturing technology for flat semiconductor devices.

本発明は少なくともプレス成形等の技術には適用できる
The present invention can be applied at least to techniques such as press molding.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例によるリードフレームの平面
図、 第2図は同じく本発明の半導体装置の製造方法を示すフ
ローチャート、 第3図は同じく本発明の半導体装置の製造に用いられる
リードフレームの平面図、 第4図は同じくリードフレームのタブ部分を示す断面図
、 第5図は同じくチンプボンディング、ワイヤボンディン
グ、封止等の各作業が終了した状態のリードフレームの
平面図、 第6図は完成品状態のレジンパッケージ構造の半導体装
置の斜視図、 第7図は本発明の他の実施例によるリードフレームの斜
視図、 第8図は同じ(前記リードフレームによるチップボンデ
ィング状態を示す斜視図、 第9図は同じく前記リードフレームを用いて製造された
ガラス封止型の半導体装置を示す斜視図である。 1・・・リードフレーム、2・・・搬送用パターン、3
・・・ボンデインク用パターン、4・・・タブ、5・・
・リード、6・・・外枠、7・・・タイバー、8・・・
幅広部、9・・・タブリード、10・・・ダム、11・
・・レジンパッケージ、12・・・アウターリード、1
3・・・インナーリード、14・・・孔、15・・・張
り出し、16〜18・・・ガイド孔、19・・・チップ
(半導体素子)、20・・・ワイヤ、21・・・レジン
パッケージ型半導体装置、22・・・ベース、23・・
・キャップ、24・・・ガラスバッケー第  1  図 第  2  図 第  6  図 第  7  図
FIG. 1 is a plan view of a lead frame according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a flowchart showing a method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, and FIG. 3 is a lead used in manufacturing a semiconductor device according to the present invention. A plan view of the frame; FIG. 4 is a sectional view showing the tab portion of the lead frame; FIG. 5 is a plan view of the lead frame after chimp bonding, wire bonding, sealing, etc. have been completed; 7 is a perspective view of a lead frame according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is the same (a perspective view showing a state of chip bonding using the lead frame). 9 is a perspective view showing a glass-sealed semiconductor device manufactured using the lead frame. 1. Lead frame, 2. Conveyance pattern, 3.
... bonde ink pattern, 4... tab, 5...
・Lead, 6... Outer frame, 7... Tie bar, 8...
Wide part, 9...Tab lead, 10...Dam, 11.
...Resin package, 12...Outer lead, 1
3... Inner lead, 14... Hole, 15... Overhang, 16-18... Guide hole, 19... Chip (semiconductor element), 20... Wire, 21... Resin package type semiconductor device, 22... base, 23...
・Cap, 24...Glass bag Figure 1 Figure 2 Figure 6 Figure 7

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、リードフレーム素材をパターニングする工程と、パ
ターニングされたリードフレームにチップボンディグお
よびワイヤボンディングを施す工程と、チップ、ワイヤ
、リード内端を封止する工程と、を有する半導体装置の
製造方法であって、前記リードフレーム素材を用意する
工程と、前記リードフレーム素材にパターニング処理を
施してリードの内端領域およびチップ配置領域を除く部
分のパターニングをする第1リードパターン形成工程と
、前記チップボンディング作業の直前に、前記リードフ
レーム素材に再度パターニング処理を施してリードの内
端領域およびチップ配置領域部分のパターニングをする
第2リードフレームパターン形成工程と、を有すること
をことを特徴とする半導体装置の製造方法。 2、前記第2リードパターン形成処理時チップを搭載す
るタブが形成されるとともに、このタブ部分は一段低く
形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体装置の製造方法。 3、チップ配置領域に対応するリードフレーム部分には
リードフレーム素材からなる板状の幅広部が設けられる
とともに、この幅広部には各リードの内端が連なってい
ることを特徴とするリードフレーム。
[Claims] 1. The method includes the steps of patterning a lead frame material, performing chip bonding and wire bonding on the patterned lead frame, and sealing the inner ends of the chip, wire, and lead. A method for manufacturing a semiconductor device, which includes the steps of preparing the lead frame material, and forming a first lead pattern in which a patterning process is performed on the lead frame material to pattern a portion excluding an inner end region of the lead and a chip placement region. and a second lead frame pattern forming step of subjecting the lead frame material to patterning again to pattern the inner end region of the lead and the chip placement region immediately before the chip bonding operation. A method for manufacturing a semiconductor device, characterized by: 2. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a tab for mounting a chip is formed during the second lead pattern forming process, and this tab portion is formed one step lower. . 3. A lead frame characterized in that a plate-shaped wide portion made of a lead frame material is provided in the lead frame portion corresponding to the chip placement area, and the inner ends of each lead are connected to this wide portion.
JP901085A 1985-01-23 1985-01-23 Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device Pending JPS61168947A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP901085A JPS61168947A (en) 1985-01-23 1985-01-23 Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP901085A JPS61168947A (en) 1985-01-23 1985-01-23 Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61168947A true JPS61168947A (en) 1986-07-30

Family

ID=11708678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP901085A Pending JPS61168947A (en) 1985-01-23 1985-01-23 Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61168947A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63213953A (en) * 1987-03-02 1988-09-06 Nec Corp Sip type semiconductor device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63213953A (en) * 1987-03-02 1988-09-06 Nec Corp Sip type semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4917112B2 (en) Semiconductor device
US7019388B2 (en) Semiconductor device
JPS61168947A (en) Manufacture of semiconductor device and leadframe used in said device
JP3691790B2 (en) Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufactured by the method
JPS60136248A (en) Manufacture of lead frame
JP2524645B2 (en) Lead frame and manufacturing method thereof
JP4764608B2 (en) Semiconductor device
JP2816757B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP2697743B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JPS63104457A (en) Lead frame
JPH07201928A (en) Film carrier and semiconductor device
JP2756857B2 (en) Lead frame manufacturing method
JP2727251B2 (en) Lead frame and manufacturing method thereof
KR0184108B1 (en) Window taping method for manufacturing integrated circuit package and window tape
JP3230318B2 (en) Lead frame for semiconductor device
JPS60251636A (en) Semiconductor device
JPH06104314A (en) Film carrier
JPH01231333A (en) Manufacture of semiconductor device
JP2515882B2 (en) Lead frame, method of manufacturing lead frame, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device
JPH03102859A (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH03245560A (en) Lead frame
JPH03284868A (en) Lead frame and semiconductor device using the same
JP2000150768A (en) Lead frame member, its manufacture, and resin-sealing semiconductor device
JPH02229457A (en) Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device using same
JPH04315462A (en) Two-stage lead frame