JPS61168935A - ダイシングフイルム - Google Patents

ダイシングフイルム

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Publication number
JPS61168935A
JPS61168935A JP60009508A JP950885A JPS61168935A JP S61168935 A JPS61168935 A JP S61168935A JP 60009508 A JP60009508 A JP 60009508A JP 950885 A JP950885 A JP 950885A JP S61168935 A JPS61168935 A JP S61168935A
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JP
Japan
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film
pts
dicing
composite material
added
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Pending
Application number
JP60009508A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Yamabe
山辺 悟
Masaki Shingyouchi
新行内 正樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd, Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP60009508A priority Critical patent/JPS61168935A/ja
Publication of JPS61168935A publication Critical patent/JPS61168935A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はダイシングフィルム、特には半導体用シリコン
ウェーへのグイシング工程で用いられるる。
(従来の技術) シリコンウェーへのダイシングはシリコンウェーハに粘
着性を有する軟質のポリ塩化ビニルフィルムや天然ゴム
あるいは合成高分子系の粘着剤を各種フィルムに塗布し
たものを粘着し、ダイシングブレードで切断するという
方法で行なわれている。
このダイシングには2つの方法があり、このハーフカッ
ト法と呼ばれている方法は、粘着性を有するダイシング
フィルムで固定したシリコンウェーハをダイシングブレ
ードでウェーへの途中までカットし、ついでブレーキン
グと称されているゴムロールなどKよる加圧を行なって
ウェーハをそのハーフカット部分ρ)ら割I)砕いて1
個づつのチップに分離し、つぎにウェーハを固定してい
るダイシングフィルムを延伸してチップ間隔!拡げてツ
クアップしてマウントするものであ1)、もう一つのフ
ルカット法はダイシングフィルムで固定されているシリ
コンウェー八をダイシングブレードで完全くカットする
と共にダイシングフィルムも数10μ扉の深さまでカッ
トし、ついでこのウェーハチップを八−プカットと同じ
方法でピックアップし、マウントするものであるが、こ
のピックアップマウントについては突上げビンでダイシ
ングフィルムの下面からウェーハチップを突上げるとい
う方法も行なわれている。
そして、このダイシングフィルムについてはカット後の
延伸、突上げピンによる突上げの工程上における問題処
理のために通冨はポリ塩化ビニルフィルムが多用されて
いるが、シリコンウェーへの固着のためにその一面にア
クリル酸エステル系の粘着剤を塗布したものも使用され
ている。
しかし、特に粘着剤を塗布したダイシングフィルムを使
用したものは八−フカット時に粘着剤が約650℃のダ
イボンド工程−約350℃のワイヤボンド工程で分解し
、この反応ガスによってチップが損傷するという不利が
あるし、フルカットではダイシングフィルムまでカット
され、ダイシングブレードに付着した有機物がチップ上
に飛散するために同様な事故が発生するという欠点があ
り、このダイシングフィルムとしてプラスチック性のも
のを使用した場合にはピックアップ、マウント時におけ
る姿上げKよってこのフィルムが永久変形ケおこし、ピ
ックアップに支障が生じるという不利もある。
そのため1本出願人はさきにシリコーンゴムを主材とす
るダイシングフィルムを開発し、これによればこのもの
が適度の粘着性を有してお13.この切断破片は有害な
ガスを発生することがなく。
突上げビンによる突上げ時にも弾性変形はするがピック
アップ後にはフィルム形状に復元するということ、また
このものは離型性がすぐれているのでピックアップ時の
チップの離型が容易になるということを確認した(特願
昭59−203709号参照)が、このシリコーンゴム
フィルムは本質的に帯電し易いために塵埃を吸着すると
いう不利があ13.これにはまたこの静電気がシリコン
ウェー八を静電気破壊させる原因になるという欠点をも
つものであることが判った。
(発明の構成) 本発明はこのような不利を解決したシリコーンゴムフィ
ルムを主材とするダイシングフィルムに関するものであ
り、これは帯電防止特性な有するシリコーンゴムフィル
ムを主材としてなることを特徴とするものである。
すなわち1本発明者らは前記したような不利を伴なわな
いダイシングフィルムについて種々検討した結果−これ
を箒當防富ト總袢をもつシリコーンゴムフィルムを主材
とするものとすればこの帯電による静電気障害を防止す
ることができるということを見出すと共に、これがシリ
コーンフィルムであることから前記したように適度の粘
着性を有しているので他の粘着剤を塗布する必要のない
こと、シリコンウェーへのフルカット時にこの切断破片
がチップに付着してもダイボンド工程、ワイヤボンド工
程で有害ガスを発生することがないこと、チップマウン
ド時における突上げピンによる突上げでもそれがエラス
トマーであることから弾性変形はするがピックアップ後
にはフィルム状に復元し変形することがないこと、さら
にはこれが離型性をもつシリコーンゴム製とされている
のでピックアップ時のチップの離型が容易であるという
ことを再確認し、このシリコーンゴムフィルムの帯電防
止処理方法などくついての研究を進めて本発明を完成さ
せた。
電防正特性をもつシリコーンゴムフィルムは、平均単位
式が Ra8104−a で示され−このRがメチル基
、ビニル基、フェニル基、3,3.3−)リフルオロプ
ロピル基などで例示される。その少なくとも80モル%
がメチル基で好ましくは0.1〜1.0モル%がビニル
基とされる同一または異種の非置換または置換1価炭化
水素基、&が1.9〜2.05の正数とされる1分子鎖
末端が水酸基、メチル基またはビニル基で封鎖されてい
るシリコーン生ゴム100重量部に対し、帯電防止剤と
して公知とされる鉄、ニッケル、アルミニワム、ステン
レススチール、銅、各種合金粉末などの金属粉。
アセチレンブラック、ケッチェンブラック、グラファイ
トなどのカーボンブラックなどを5〜300重量部添加
して、この組成物の体積固有抵抗が10  Ω51以下
、好ましくはlO〜10 Ω倒以下となるようにし、さ
らにこの組成物から作ら面積が100イ/I以上の煙霧
質シリカまたは湿式シリカ10〜200重量部を茄えた
組成物を押出し成形、カレンダーロール成形などによっ
てフィルム状に成形し、ついで適宜の手段でこれを加硫
、1!!化させることKよって得ることができる。
このvi、形品の加硫は公知の有機過酸化物による方法
、オルガノハイドロジエンポリシロキサンを架橋剤とし
て白金系触媒の存在下に付加反応させる方法のいずれと
してもよ(、この有機過酸化物による場合は上記の組成
物にベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベン
ゾイルパーオキサイドなどを添加し、成形後加熱加圧処
理すればよいが、この組成物がカーボンブラックなどを
配合されたものであるとき忙はジクミルパーオキサイド
、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2.5−ビス(t−
ブチルパーオキシ)2.5−ジメチルヘキサンなどを添
加することがよい。また、この加硫を付加反応で行なわ
せるときには上記したシリコーン生ゴムをビニル基を含
有するものとして。
これにその分子中に少なくとも2個の281H基を有す
る次式 %式%) で示されるようなオルガノハイドロジエンポリシロキサ
ンをシリコーン生ゴム中のビニル1&@IC対し一=8
1E基が =s1a/ミ5iOH±0H2=0.5〜5
.0(モル比)となる範囲で添加し、これに白金黒また
は白金をアルZすなどに担持させた白金系触媒あるいは
塩化白金酸、塩化白金酸とオレフィンとの鉛酸、塩化白
金酸とビニルシロキサンとの錯塩などを触媒量添加した
組成物を成形し、ついで茄熟すればよい。
本発明のダイシングフィルムの厚さは従来公知の軟質塩
化ビニル樹脂フィルムと同様に0.05〜1、OBのも
のとすればよいが、これは他のプラスチックフィルム、
例えば塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のフィルム、各種ゴムシート、例えば天然ゴム、イソプ
レン、スチレンブタジェン、クロロプレン、ウレタン、
エピクロルヒドリン、エチレンプロピレン系などの合成
ゴムのシートと積層した状態で使用してもよい。
なお1本発明のダイシングフィルムはシリコンウェー八
に貼着使用されるものであるので、これはシリコンウェ
ー八と密着させる必要があり、この点からはシリコンウ
ェー八と接する面を鏡面状態に仕上げておくことがよい
ので、この↓造に当っては圧縮成形時に使用するプレス
板をクロムメッキを施したものとしたり、カレンダート
ッピング成形用のロールをクロムメッキしたものとする
ことがよい。
つぎに本発明の実施例をあげるが1例中の部は重量部を
、粘度は25℃での測定値を示したものである。
実施例1 分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖された。
粘度が1,000,000c8のジメチルメチルビニル
ポリシロキサン生ゴム100部に、アセチレンブラック
50部と2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)2,5
−ジメチルヘキサン2.0部を添加し、二本ロールで均
一に混練りして得た導電性シリコーンゴム組成物をカレ
ンダーロールな用いて厚さ0.5 ws X縦300i
mX横300111のフィルムとして予備成形してから
、これをクロムメッキされた鏡面板間に仕込み、175
℃で10分間、301に/+4の条件でプレス成形して
帯電防止性シリコーンゴムフィルムを作った。
つぎKこのフィルムの上に直径5インチ、厚さ0.4龍
のシリコンウェー八1枚を載置してフィルムに密着させ
たのち、このウェー八をディスコ社製の厚さ0.02m
のダイシングブレードでフルカット法でカットし、つい
でこのフィルムを延伸してカットされたチップを約0.
5 ym間隔としてから0、5 xw、 lの突上げピ
ンで突上げ、エアピンセットで取出してマウントしたと
ころ、このものはこのフィルムがウェー八に密着してい
たことからグイシングカットずれがなかった。また−こ
のフィルムはシリコーンゴムの弾性のために加熱せずに
延伸することができるし、延伸後は弾性復帰するので突
上げ時には突上げストロークをl龍と大針(とることが
でき、これはまた永久変形もないのでつぎのチップ突上
げ時の妨げとなることもなく。
ピックアップロスが減少した。
なお、このフィルムは粘着剤などwfM布しなくてもシ
リコーンゴムの粘着性でシリコンウェーへ行による不利
はな(、さらに帯電防止性であることから静電気による
異物の付着もないので、このチップtI″t、tilち
に次の工程に送ることができた。
実施例2 分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖された。
ビニル基を0.3そル%含有する粘度が1.000,0
OOoSのジメチルメチルビニルポリシロキサン生ゴム
100部に、アセチレンブラック30部1式 で示されるメチルへイドロジエンボリシロキサン3部お
よび塩化白金酸のイソプロピルアルコール10重量%溶
液0.05部を加え、2本ロールで均一に混線番)シた
のち、これを厚さ100μ−巾300WKのポリエステ
ルフィルム上に3本カレンダーロールを用いて厚さ30
0μで塗布し、ついでこれ7250℃に保持された茄熱
炉に3分間W熱されるような速度で通過させて連続的に
硬化させ、厚さ0.3 wg、中300Bの帯電防止性
シリコーンゴムフィルムラ作った。
つぎにこのフィルムからポリエステルフィルムケはがし
たシリコーンフィルム上に直径5インチ。
厚さ0.4鵡のシリコンウェー八を載せてこれをフイル
ウ上に粘着固定させ、1!施例1で使用したものと同じ
ダイシングブレードでフルカットしたのち、このフィル
ムを延伸してカットされたチップを約0.5111間隔
とし、0.5waljの突上げビンで突上げ、エアピン
セットで取り出してマウントしたところ、実施例1と同
様に、このチップはそのまま次工程に送ることができた

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、帯電防止特性を有するシリコーンゴムフィルムを主
    材としてなることを特徴とするダイシングフィルム。 2、シリコーンゴムフィルムのシリコンウェーハに接触
    する面が鏡面仕上げされたものである特許請求の範囲第
    1項記載のダイシングフィルム。
JP60009508A 1985-01-22 1985-01-22 ダイシングフイルム Pending JPS61168935A (ja)

Priority Applications (1)

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JP60009508A JPS61168935A (ja) 1985-01-22 1985-01-22 ダイシングフイルム

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JP60009508A JPS61168935A (ja) 1985-01-22 1985-01-22 ダイシングフイルム

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JPS61168935A true JPS61168935A (ja) 1986-07-30

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ID=11722183

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JP (1) JPS61168935A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5494549A (en) * 1992-01-08 1996-02-27 Rohm Co., Ltd. Dicing method
JP2000169808A (ja) * 1998-09-30 2000-06-20 Nitto Denko Corp 熱剥離型粘着シ―ト

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