JPS61166529U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS61166529U JPS61166529U JP4967685U JP4967685U JPS61166529U JP S61166529 U JPS61166529 U JP S61166529U JP 4967685 U JP4967685 U JP 4967685U JP 4967685 U JP4967685 U JP 4967685U JP S61166529 U JPS61166529 U JP S61166529U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- oven
- mask
- imparting
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Description
第１図１，２は本考案の一実施例である対流式
オーブンの説明に供する斜視図であり、同図１は
同対流式オーブンの全体図、同図２は同主要部分
拡大図である。第２図は本考案の他の実施例の主
要部分を示す斜視図である。 符号の説明、１：オーブン本体、２：扉部、３
：バスケツト、４：マスク（ウエハ）、５：ター
ンテーブル、６：マスク（ウエハ）、７：ホルダ
。
オーブンの説明に供する斜視図であり、同図１は
同対流式オーブンの全体図、同図２は同主要部分
拡大図である。第２図は本考案の他の実施例の主
要部分を示す斜視図である。 符号の説明、１：オーブン本体、２：扉部、３
：バスケツト、４：マスク（ウエハ）、５：ター
ンテーブル、６：マスク（ウエハ）、７：ホルダ
。
Claims (1)
- ウエハ、マスクの作成工程に於いて使用される
熱処理用のオーブンに於いて、ウエハ、マスクに
所定の回転運動を与える手段を設けたことを特徴
とするオーブン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4967685U JPS61166529U (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4967685U JPS61166529U (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61166529U true JPS61166529U (ja) | 1986-10-16 |
Family
ID=30567090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4967685U Pending JPS61166529U (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61166529U (ja) |
-
1985
- 1985-04-02 JP JP4967685U patent/JPS61166529U/ja active Pending