JPS61137845A - ジアミノアルコールおよびその製造法ならびにそれを用いる酸性ガスの除去方法 - Google Patents

ジアミノアルコールおよびその製造法ならびにそれを用いる酸性ガスの除去方法

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JPS61137845A
JPS61137845A JP60272386A JP27238685A JPS61137845A JP S61137845 A JPS61137845 A JP S61137845A JP 60272386 A JP60272386 A JP 60272386A JP 27238685 A JP27238685 A JP 27238685A JP S61137845 A JPS61137845 A JP S61137845A
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carbon atoms
alkyl group
formula
group
pressure
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グイド サータリ
ユージン エル ストグリン
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ExxonMobil Technology and Engineering Co
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Exxon Research and Engineering Co
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 主皿且宵旦 本発明は、溶媒と組合わせたとき、常態でガス状の混合
物から酸性ガス、すなわちC,OzおよびHz S、゛
を除去するのに有用な、3個の炭素原子で隔てられた第
三アミノ基と立体障害第ニアミノ基とを含有するジアミ
ノアルコールに関する。本発明は、これらのジアミノア
ルコールおよびジー第ニアミノアルコール同族体の新規
な2工程製造法にも関する。
CO□、Has 、(、St 5HCN 、 COSな
らびにc、〜C4炭化水素の酸素誘導体および硫黄誘導
体を含む酸性ガスを含有する混合物のようなガスをアミ
ン溶液で処理してこれら酸性ガスを除去することは技術
上公知である。アミンは、通常、吸収塔中−でアミン含
有水溶液として酸性ガスと接触し、アミン水溶液は向流
的に酸性ガスと接触する。
アミン溶液による酸性ガス混合物の処理は、典型的・に
、実質的な量の酸性ガスの同時除去をもたら実。例えば
、“水性アミン法(aqueous amineρro
cess )  ”と一般に呼ばれている1つのかかる
方法では、比較的?I4Wなアミン)容液を用いる。こ
の方法の最近の改良には、CO2およびHas のよう
な酸性ガスのほぼ完全な除去を得るための、米国特許第
4,112.052号に記載されているような立体障害
アミンの使用が含まれる。この型の方法は、CO2およ
び関連ガスの分圧が低い場合に用いることができる。
CO2の分圧が極度に高くかつ(あるいは)多くの酸性
ガス、例えば1Izs、 COS 、 CHzSH、C
Sz 1が存在する場合の特殊な用途のためにしばしば
用いられるもう1つの方法には、一般に“非水系溶媒法
”と呼ばれる、物理的吸収剤と組み合わせたアミンの使
用が含まれる。この方法の改良には、米国特許第4.1
12.051号および第4,100,257号に記載さ
れているような、アミノアルコールを含む立体障害アミ
ンと物理的吸収剤としての有機溶媒との使用が含まれる
やはり酸性ガスの吸収のために有効に用いられている、
非立体障害の第一および第ニアミノアルコールの例は、
モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ジブロバ
ノールアミン、ヒドロキシエトキシアミン、ジイソプロ
パツールアミン、メチルジェタノールアミン、ジエチル
モノエタノールアミルである。
□酸性ガス洗浄にアミノアルコールの使用を記載して□
いる他の特許は、米国特許第3,954.873号、第
3.959.170号、第4.074,013号、第4
.09fi、085号□、第4,217,238号であ
る。米国特許第4.217,238号は□、酸性ガスの
除去のためth′1ある種の立体障害脂肪族ジアミノア
ルコールの使用を記載してい“るがJ米国特許第3,9
54.873号は、3個のヒドロキシ基を有するジー第
三アミノアルコールがこの目的に有用だと記載している
米国特許第3,197,510号は、式(上記式中、R
およびR′はアルキル基でありかつそれらの間の炭素原
子の総数は2〜50であり、nは2〜4であり、R”は
HまたはCz ”’ Csアルキル基である) を有する潤滑油添加剤として有用な化合物を記載してい
る。これらの化合物は、ケトンとアミノアルキルアルカ
ノールアミンとの還元的アルキル化によって製造される
。また、米国特許第3,869.145号には、3位お
よび6位に窒素原子がある米国特許第3,197,51
0号のジアミノアルコールよりも短鎖を有するジアミノ
、アルコールも潤滑油添加剤として有用だと記載されて
いる。
米国特許第3.288,748号は、弐のポリオレフィ
ン用安定剤を記載している。
凹I 今回、第ニア・ミノと第三アミンとの間に3個のメチレ
ン基を含有しかつ水性アミン法および非水系溶媒法の両
方に於てCOzおよびH,S の除去に有用な新規ジア
ミノアルコ−・ル組成物が発見された。
特に、本発明は、式 (上記式中、R1は3〜5個の炭素原子を存する第二ア
ルキル基であり、R2ば1〜3個の炭素原子を有するア
ルキル基であり、R1およびR1ば、独立に水素または
メチル基であり、R1とR2とは、R7およびR2の炭
素原子の総数が6以下になるように選ばれる) を有するジアミノアルコール組成物に関する。
これらの組成物は、(alアクリロニトリルを式%式% (上記式中、R2は1〜3個の炭素原子を有するアルキ
ル基である) の2−アミノエタノールと反応させて式%式% のニトリロ2−アミノエタノールを生成させる工程と、
(b)工程ialからのニトリロアミノエタノールを、
水素ガスと水素化触媒との存在下で、適当な生成物が得
られるまで、水素化条件下で、3〜5個の炭素原子を含
有するケトンと反応させ′る工程とからなる製造法で製
造することができる。
これらのジアミノアルコールは、水または物理的吸収剤
またはそれらの混合物から選ばれる溶媒と組み合わせた
とき、常態でガス状の混合物から酸性ガスを除去するの
に有用な吸収剤溶液を形成する。この方法は、常態でガ
ス状混合物を、酸性ガスが該混合物から吸収される条件
下で吸収剤溶液と接触させる工程と、吸収された酸性ガ
スの少なくとも一部分を該溶液から脱着させる工程とを
含む。
先行技術の類似のジー第ニアミノアルコールはCOを除
去条件下で実質的に劣った性質を示す。
というのは、本発明者らは、該アミンが本発明のジアミ
ノアルコールよりずっと速やかに分解すると考えている
からである。その上、米国特許第3.288.748号
のようにジアミノアルコール中の炭素原子の総数が11
個を越すと、アミンは、典型的な脱着条件下で2相を示
し、かくして酸性ガス洗浄に役立たない。
しかし、未発明のジアミノアルコールは米国特許第4.
112.051号および第4.112.052号に記載
されている化合物と匹敵するCO2除去を示し、本発明
の化合物群は、COzに富む条件下での分解に対する安
定性がこれら後者の化合物より優れている。
本発明のジアミノアルコールは、式 (上記式中、R1は3〜5個の炭素原子を有する第二ア
ルキル基、好ましくはイソプロピル基であり、R2は1
〜3個の炭素原子を有するアルキル基、好ましくはメチ
ルまたはエチルまたはイソプロピル基であり、R1およ
びR4は、独立に水素またはメチルである) を有する。かくして、R2基は直鎖アルキル基でも分枝
鎖アルキル基でもよい。化合物が酸性ガス除去剤として
確実に有用となるためには、化合物の炭素原子の総数が
11を越えてはならず、好ましくはR3およびR4が水
素でありかつR3およびR2中の炭素原子の総数が6以
下である。炭素原子の総数がこの最大値を越えると、化
合物は、酸性ガス吸収条件下で可溶性でなくなる。
適当な本発明の化合物の例は、3.7−ジアザ−3,8
−ジメチル−1−ノナノール、3.7−ジアザ−3−エ
チル−8−メチル−1−ノナノール、3,7−ジアザ−
3−イソプロピル−8−メチル−1−ノナノール、3,
7−ジアザ−3,8−ジメチル−■−デカノールなとで
ある。最も好ましい本発明の化合物は下記の化合物であ
る。
C1h−C11−NH−(:HzClltCIh−N−
L;Hzし11zLllI3.7−:ソマザー3.8−
ジメチルー1−ノナノール(D D N) 3.7−ジアザ−3−エチル−8−メチル−1−ノナノ
ール(DEMN) 3.7−ジアザ−3−イソプロピル−8−メチル−1−
ノナノール この新規の化合物群は、少なくとも2つの異なる製造法
で製造することができる。この化合物の3工程製造法で
は、式 %式% (上記式中、R2は1〜3個の炭素原子を有するアルキ
ル基である) の2−第ニアミノエタノールをまずアクリロニトリルと
反応させて、式 %式% のニトリロ第三アミノエタノールを生成させる。
典型的には、この反応は、アクリロニトリルを除徐に(
すなわちアクリロニトリルの量によるが、数時間にわた
って)アミノアルコールへ添加することによって行うこ
とができる。この反応は発熱反応なので、アクリロニト
リルを添加して行くと、反応混合物の温度は上昇する0
反応器合物へ外部熱源を適用する必要はない、この工程
のために用いられる装置は、一般に、攪拌機、物質の損
失を防ぐための冷却器、アクリロニトリル添加用の滴下
漏斗、温度監視用温度計を備えている。温度は、好まし
くは、アクリロニトリル添加巾約130℃を越えさせな
いようにすべきでありかつ外部冷却源の適用によって調
節することができる。より好ましくは、温度は、約10
0℃を越えないようにすべきである。添加終了後、生成
物を、−aに室温へ冷却させる。
この3工程製造法の第2工程では、第1工程からの未精
製ニトリロ化合物をを還元してニトリロ基から第一アミ
ンを生成させる。この還元は、一般にオートクレーブ中
で水素化によって行われる。
この水素化工程は、技術上既知の任意の方法で行うこと
ができる。1つの方法では、ニトリロ化合物をメタノー
ルまたはエタノールのような不活性溶媒で希釈し、Na
011のよう4塩基および例えばPd担持炭素またはラ
ニーニッケルであることができる水素化触媒と一緒にオ
ートクレーブ中に入れる。触媒は、通常、使用前に、用
いられる溶媒で予め洗浄しておく。水素化は、反応器中
へ水素ガスを導入しかつ温度および圧力を上げることに
よって行われる。一般に、温度は約30℃〜100℃、
好ましくは30℃〜約55℃の範囲であることができ、
圧力は約7.03〜約105.45kg/aj(約10
0〜約1500psi)、好ましくは約10.545〜
約98.42kg/cg&(約150−1400psi
 )の範囲であることができる。水素化の所要時間は、
温度、圧力、使用触媒によって異なるが、一般に少なく
とも約2時間である。
反応混合物から水素化生成物を回収するため、適当な手
段、例えば蒸留、によって生成物から溶媒を分離する。
生成物は、釜残から、例えば塔による分留により、ある
いは他の精製方法によって精製することができる。
3工程製造法の第3工程では、水素化生成物(第一アミ
ン)を第ニアミノ基を生成させるようにアルキル化し、
最終生成物が第三アミンと第三アミンの両方を含むよう
にする。このアルキル化は、水素化条件下で、第一アミ
ンを3〜5個の炭素原子を含有するケトン<R,aを示
し、好ましくはアセトンである)と反応させることによ
って行われる。かくして、典型的には、第2工程の生成
物とケトンと水素化触媒とをオートクレーブ中に入れ、
上述のようにして水素化を行う0次に、混合物から濾過
によって触媒を分離し、濾液を蒸留して精製生成物を得
る。
本発明のジアミノアルコールのもう1つの製造法は、水
素化工程とアルキル化工程とを組み合わせて同時に起こ
るようにした2工程法である。この製造法は、長たらし
い第一アミン中間体製造工程を省くことによって3工程
法よりも好ましい方法である。この製造法は、本発明の
新規第ニー第三ジアミノアルコール群の製造に用いるこ
とかできるばかりでなく、以前には3工程法でΦみ製造
されている類似のジー第ニアミノアルコールの製造にも
使用することができる。この2工程法は、本発明のガス
処理剤ばかりでなく、油井添加剤として有用な米国特許
第3,197,510号記載の商業的に有用なアミノア
ルコールの製造にも有用である。
この2工程法の第1工程では、アクリロニトリルを式 %式% (上記式中、R,は1〜3個の炭素を有するアルキル基
である) の2−アミノエタノールと反応させて式%式% のニトリロ−2−アミノエタノールを生成させる。
この反応は、3工程法の第1工程について上述した方法
と同じ方法で行われるが、ここでは2−アミノエタノー
ル反応剤が第ニアミノアルコールと同様に第一アミノア
ルコールでもよいことだけが異なる。
この2工程法では、第1工程からの未精製ニトリロ化合
物が同時に還元およびアルキル化されて第二アミンにな
る。かくして、水素化条件下で、水素ガスおよび水素化
触媒の存在下に於て、3工程法について上述したように
ニトリロ化合物を3〜5個の炭素原子を含有するケトン
と、適当な生成物が得られるまで反応させる。この工程
では、典型的には、ニトリロ化合物を適当なケトンと混
合し、例えばI’d担持炭素またはラニーニッケルのよ
うな水素化触媒および適当なケトンと一緒にオートクレ
ーブろこ入れる。この場合に用いるのに好ましい触媒は
ラニーニッケルである。ラニーニッケルは、好ましくは
ケトンで予め洗浄され、Pd担持炭素は、水で予め洗浄
することができる。次に、反応器中へ水素ガスを導入し
かつ温度および圧力を上げることによって水素化を行う
。一般に、温度は約り0℃〜約130℃、好ましくは約
り0℃〜約70℃の範囲であり、圧力は約7.03〜約
105.45kg/cod (約lOO〜約1500p
si)、好ましくは約10.545〜約98.42kg
/cd(約150〜約1400ρsi )の範囲である
。水素化の所要時間は、用いられる温度および圧力によ
って異なるが、−aに少なくとも約2時間である。
生成物の量は、ガスクロマトグラフの使用によって監視
することができる。水素化は、幾つかのバッチで行い、
後でこれらのバッチを混合して行ってもよい。水素化完
了後、生成物は、任意の適当な方法で回収することがで
きる。典型的には、反応混合物を予備コーティングされ
たブフナー(Buechner)漏斗のような漏斗で濾
過し、塔または真空を用いて濃縮して低沸点物質を除去
する。次に、残留物を蒸留して精製生成物を得る。
本発明のアミノアルコールは、酸性ガスの吸収に用いる
ことができる。より詳しくは、通常ガス状混合物(すな
わち包囲条件下でガス状の混合物)を、吸収条件下で本
発明のジアミノアルコールを含有する吸収剤溶液と接触
させかつ吸収された酸性ガスの少なくとも一部分を該溶
液から脱着させることによって、通常ガス状混合物から
酸性ガスを除去することができる。脱着後得られる再生
された溶液は、連続法を行う場合には、次に新鮮な混合
物と接触させることによって再wi環させることができ
る。
吸収剤溶液は、アミノアルコールに加えてN媒を含有す
る。好ましくは、但しもっばらそうではないが1.二の
溶媒は水または物理的吸収剤または水と物理的吸収剤と
の混合物である。物理的吸収剤(化学的吸収剤であるア
ミノアルコールに対して)である溶媒は、例えば米国特
許第4,112.051最中に記載されており、この特
許の全記載は参照文として本明細書に含まれるものとす
る。これらの溶媒には、例えば脂肪族酸アミド、N−ア
ルキル化ピロリドン、スルホン、スルホキシド、グリコ
ールおよびグリコールのモノ−およびジ−エステルが含
まれる。本発明に於ける好ましい物理的吸収剤はスルホ
ンであり、最も特別にはスルホランである。
吸収剤溶液は、使用される特別なジアミノアルコールお
よび使用される溶媒系に主として依存するが、一般に約
0.1〜6モル/l全溶液、好ましくは1〜4モル/1
のジアミノアルコール濃度を有する。溶媒系が水と物理
的吸収剤との混合物である場合には、用いられる物理的
吸収剤の典型的な有効量は、用いられるジアミノアルコ
ールの型に主として依存するが、0.1〜5モル/l全
溶液、好ましくは0.5〜3モル/l全溶液の範囲であ
ることができる。
本発明の吸収剤溶液は、ガス除去法に於て典型的に用い
られる種々の添加剤、例えば消泡剤、酸化防止剤、腐食
防止剤などを含むことができる。
かかる添加剤の例には、無水亜ヒ酸、亜セレン酸、亜テ
ルル酸、アミノ酸(例えばグリシン)、酸化バナジウム
(例えばVzOs)などが含まれる。これらの添加剤の
量は、典型的にはそれらが有効である範囲の量、すなわ
ら、有効量である。
本発明のジアミノアルコールは、他のアミノ化合物、例
えば既知のガス除去剤であるジアミノエーテル、アミノ
エーテル、アミノアルコールなどとブレンドとして混合
してもよい。本発明のジアミノアルコールと混合される
特別なアミノ化合物は、例えば除去されるべき特別な酸
性ガスに依存する。1つの好ましいかかる化合物はメチ
ルジェタノールアミンである。それぞれのアミノ化合物
の比は広範囲に変わることができ、例えば各アミノ化合
物のl:99%ル%から99:1モル%まで変わること
ができる。
通常CO□を含む酸性ガスは、しばしばガス混合物中に
依存するとき、HzS、SOz 、S03、C3t 5
f(CN、CO3およびC9〜C4炭化水素の酸素誘導
体および硫黄誘導体のようなガスをも!l1)rの量で
含むことがありうる。COz以外の□これらの酸性ガス
は、ガス混合物内に痕跡量で存在することができる。 
  。
本発明の吸収工程は、一般に、任意の適当な接触容器内
でガス流を吸収剤溶液と接触させることを含む。かかる
工程では、酸性ガスをそれから除去しようとする通常ガ
ス状混合物を、例えばリングまたは綱目ブシートを充填
した塔または容器あるいは泡鐘反応塔(bubble 
reactor)のような通常の手段を用いて吸収剤溶
液と密に接触させることができる。
本発明の1つの好ましい実施方式に於て、ガス混合物を
吸収塔の下部または基底中へ供給しながら、新鮮な吸収
剤溶液および(または)再生吸収゛剤溶液を塔の上部領
域中へ供給することによって吸収工程を行う。大部分の
酸性ガス、例えばCO2が無くなったガス状混合物は塔
の上部から出る。
好ましくは、吸収工程中の吸収剤溶液の入口温度は約2
0〜約100℃、より好ましくは40〜約60℃の、範
囲である。圧力は広範囲に変、わることができ、受容で
きる圧力は吸収塔中に於て0.3515〜140.6k
g/−絶対圧(5〜2000psia)、好ましくは7
.03〜105.45kg/cm2絶対圧(100〜1
500psia) 、最も好ましくは14.06〜70
.3kg/−絶対圧(200〜1000psia)であ
る。接触は、CO□が溶液に吸収されるような条件下で
行われる。吸収中、溶液は単−相で保持される。
本発明の方法の除去段階のための1つの好ましい操作は
、複数のトレイを含む塔中で、低温、例えば45℃未満
に於てかつガスの作動圧力によるが、少なくとも約9.
15cm/秒(0,3ft/秒)(“活性”または曝気
トレイ表面に対して)のガス速度で、ガス混合物とジア
ミノアルコール水溶液との向流接触によるCO□の吸収
からなる。該トレイ塔は20個未満の接触トレイを有し
、例えば4〜16個のトレイが典型的に用いられる。
吸収剤溶液がCO2のような酸性ガスで飽和または部分
的に飽和されるようになるガス混合物と吸収剤溶液との
接触後、溶液を吸収塔へ送り返すことができるように少
なくとも部分的に再生することができる。吸収の場合の
ように、再生は単一液相で行わねばならない。再生すな
わち吸収剤溶液からのCO□の脱着は、吸収されたCO
□がフラッシュ除去される点まで溶液を減圧または昇温
する通常の手段によって、あるいは吸収工程で用いたと
同様な構造の容器中へ、その容器の上部に溶液を流入さ
せ、該容器中を、空気または窒素または好ましくはスチ
ームを上方に向かって流すことによって達成される。再
生工程中の溶液の温度は、好ましくは約50〜約170
℃、より好ましくは約80〜150℃の範囲であり、再
生時の溶液の圧力は、約0.03515〜約7.03k
g/−絶対圧(約0.5〜約100psia) 、好ま
しくは0.0703〜約3.515kg/−絶対圧(1
〜約50psia)の範囲であるべきである。CO□の
少な(とも一部分を除去した後の吸収剤溶液は、吸収容
器へ送り返すことができる。必要に応じて補充吸収剤を
添加することができる。
好ましい再生方法に於ては、高圧吸収塔からのCOtに
富んだ溶液はまずフラッシュ室へ送られる。このフラッ
シュ室でフラッシュ除去されるスチームと幾らかのCo
tとは、一般にフラッシュおよびストリッパー中で回収
される正味のCO□の約35〜40%であろう。フラン
シュドラムからの溶液は、次に、ストリッピング用スチ
ームがストリッパーの基底のりボイラー中で発生されて
いる充填塔またはプレート塔中でスチームストリッピン
グされる。フラッジエトラムおよびストリッパー中の圧
力は、通常0.0703〜約3.515kg/c+11
絶対圧(1〜50psia) 、好ましくは1.054
5〜約2.109kg/−絶対圧(15〜約30psi
a)であり、温度は、典型的には約50〜170℃、好
ましくは約80〜150℃の範囲である。ストリッパー
およびフラッシュ温度は、勿論、ストリッパー圧力に依
存し、かくして脱着中、約1.0545〜2.109k
Ir/−絶対圧(15〜30psia)のストリッパー
圧力に於ては、温度は約80〜約150℃である。被再
生溶液の加熱は、低圧スチームによる間接加熱によって
極めて相応しく行うことができる。しかし、直接注入ス
チームを用いることも可能である。
本発明の最も好ましい実施態様に於ては、COtを含有
する通常ガス状供給物からの二酸化炭素および酸性ガス
の実質的に完全な除去は、(1)該供給物を本発明のジ
アミノアルコールと水および(または)物理的吸収剤と
から本質的になる水性洗浄溶液と接触させる工程であっ
て、該溶液中のジアミノアルコール濃度が約1〜6モル
濃度、好ましくは3〜約5モル濃度であり、かつ供給物
ガス中の二酸化炭素が該洗浄溶液中に吸収される条件下
で、かつ好ましくは約20″〜約100℃、より好まし
くは約40’〜約60℃の範囲の温度および約0.35
15〜約140.6ksr/−ゲージ圧(約5〜200
0psig) 、好ましくは7.03〜約105、45
 kg/cdゲージ圧(100〜約1500psig)
 、最も好ましくは14.06〜7.03kg/cdゲ
ージ圧(200〜約1000’psig)の範囲の圧力
に於て該接触が行われる接触工程と、(2)該洗浄溶液
を、該COzが該洗浄溶液から脱着される条件下で、好
ましくは約50″〜約170℃、より好ましくは80”
〜約150℃の範囲の温度および約0.0703〜約3
.515 kg/ad絶対圧(約1−約50psia)
 、より好ましくは約1.0545〜約2.109 k
g/aj絶対圧(約15〜約3Qpsia)の範囲の圧
力に於て再生する工程との逐次工程からなる連続方法で
達成される。
本発明の方法は、米国特許第4,112.052号記載
のように抛作すること、すなわち工程(1)(吸収工程
)の終了時に於て吸収されるCO2のモル数と工程(2
)(脱着工程)の終了時に於て脱着されるC Otのモ
ル数との差が、気−液系の熱力学的平衡(反応混合物の
気−液平衡等温図から決定される)に於て、モノエタノ
ールアミンがガス状供給物組成、洗浄溶液組成、温度、
圧力、アミン濃度のほぼ同じ条件下で用いられる唯一つ
のアミンである水性アミンCOを洗浄法よりも太き(な
る条件下で操作することができる。再生されたアミン洗
浄溶液は、その後で吸収塔へそのまま再循環させてもよ
く、あるいは新鮮な補充洗浄溶液と混合してもよい。 
   ・ ガス状混合物と水性アミン洗浄溶液との接触時間は有効
な時間量である。すなわち所定量の酸性ガスを除去する
のに所要な時間である。
水性アミン洗浄溶液の少なくとも80%、あるいは好ま
しくは少なくとも90%の能力が利用されるまでガス状
混合物を水性アミン洗浄塗液と接触させた後、洗浄溶液
を再生しなければならない。
水性アミン洗浄(吸収)溶液の再生は、吸収された二酸
化炭素がフラッシュ除去される点まで、洗浄溶液の圧力
を減少しかつ(または)温度を上げることによって達成
される。洗浄溶液の再生中に於ける不活性ガス(例えば
N!またはスチーム)の添加も本発明の範囲内にある。
この再生方法は、より特別には米国特許第3,848.
057号に記載されており、この特許の記載は参照文と
して本明細書に含まれるものとする。
勿論、他の酸性ガス洗浄方法と共に本発明の方法を用い
ることは可能である0例えば二酸化炭素に富む溶液をま
ず例えば米国特許第4.217,238号に記載されて
いるような“ホットポット(hot pot)”法を用
いるバルク洗浄法で洗浄した後、本発明の方法で処理し
て二酸化炭素含有ガスの最終痕跡を除去することができ
る。
使用されるジアミノアルコールは、それらが所要の溶解
性(すなわち吸収条件下および脱着条件下で1相である
こと)を確実に有するようにそれらが含有する総炭素原
子数を基準にして選択されねばならない0.さらに、選
択されるジアミノアルコールは、吸収中および脱着中に
損失しないように比較的低い揮発性を有することが好ま
しい。好ましくは、本発明のジアミノアルコールは少な
くとも約100℃、好ましくは少なくとも180℃の沸
点を有する。
以下、実施例によって本発明の詳細な説明する。以下の
実施例中、特に断らない限り、部および%はすべで重量
によるものであり、温度はすべて℃である。
1隻勇1 3.7−ジアザ−3−エチル−8−メチル−1−ノ ノ
ール(DEMN)の2工  ゛ 全量2kg(22,5モル)の27千チルアミノエタノ
ールを、撹拌機、冷却器1滴加漏斗、温度計を備えた5
Ilの3つ日丸底フラスコに入れ、それに1248g(
23,5モル)ψアクリロニトリルを2時間にわたって
添加した。この添加中、温度が94℃を越えないように
した。
かくして得られた付加物を640gずつの5部分に分割
した。各部分をアセトンで2.21に希釈しかつ3.7
857!(1ガロン)オートクレーブ中で100℃、4
9.21〜84.36−/csa(700〜1200p
si)に於てラニーニッケル上で水素化した。ニッケル
の全使用量は116.6gであった。
かくして得られた各バッチを予備被覆ブフナー漏斗で濾
過し、水流ポンプを用いて濃縮した。全量2927.8
 gの、沸点80〜83℃/ 0.4 msHgのDE
MNが得られた。生成物の全収率は、出発エチルアミノ
エタノールに対して69.5%であった。
去m 3.7−ジアザ−3,8−ジメチル−1、−ノナノール
(DDN)の ゛ 全1t2kg(26,6モル)の2−メチルアミノエタ
ノールを実施例1記載のフラスコに入れた0滴加漏斗か
ら1553g(29,3モル)のアクリロニトリルを2
時間にわたって添加した。温度は°120℃に達した。
得られた付加物を、バッチに分けて、アセトンの存在下
に於て水素化した。かくして、付加物の505.7gず
つの試料をアセトンで2.21に希釈し、3.785N
(1ガロン)オートクレーブ中へ仕込んだ、全ff14
9gのラニーニッケルを250mjIずつのアセトンで
3回洗浄し、オートクレーブに入れた。50〜65℃、
28.12〜98.421g/cIJ(400〜140
0psi)に於て、ガスクロマトグラフが唯一つの生成
物のみを示すまで、水素化を行った。触媒を濾過によっ
て除去し、低沸点物を、水流ポンプを用いてストリッピ
ングした。生成物DDNは、132℃/ 20 mmH
Hに於て、510gの予(理論数計の75%)で留出し
た。
去血適主 3.7−ジアIJ’−3−イソプロピル−8−メチルニ
」ニンニこムニ水9g’6−−−−−−−−−−−−市
版から得た全量429g(2,7モル)の3゜7−ジア
ザ−8−メチルノナノールを、21のアセトンおよび水
で潤滑させた5%Pd担持97゜5gと共に3.785
I C1ガロン)オートクレーブに入れた。50〜68
℃、59.755〜84.36kg/cnl (850
〜1200psi )に於て日時量水素化を行った。1
12゜48 kg/cJ (1600psi )の全圧
力降下が観察された。
冷後、オートクレーブの内容物を濾過し、30cI11
の塔を用いて歪温度160℃まで濃縮した。水流ポンプ
を用いて蒸留を続行し、沸点142℃/15mmHHの
生成吻合ff1407.4g(収率75%)を得た。元
素分析の結果は、65.3%C,,12,95%H11
3,8%Nの理論値に対して、64.6%C113、0
8%H113,5%Nであった。
実施±↓ 3.7−ジアザ−3−エチル−8−メチル−1−ノナノ
ール(DEMN)の3工程製造 実施例【で用いた装置中へ全量2kg(22,4モル)
の2−エチルアミノエタノールを仕込んだ後、1650
m1 (25モル)のアクリロニトリルを4.5時間に
わたって添加した。温度は室温から100℃に上昇した
。付加生成物を1晩中に室温、へ冷却させた。
上記付加物の全量をおのおの1108gの3つの部分に
分割して、3.7854’(1ガロン)オートクレーブ
中で還元を行った。
第1の1108gの付加物をメタノールで27!に希釈
した。この溶液を、次に、5°gの水酸化ナトリウムペ
レットと予め300m6ずつのメタノールで3回洗浄し
であるラニーニッケル155gと共に3.785J(1
ガロン)オートクレーブ中に入れた。70.3〜98.
42kg/crA (1000〜140Qpsi ) 
、30〜40℃で7時間水素化を行った。生成物を濾過
して触媒を除いた。
第2の1108gの付加物を上記のようにして水素化し
た。但し、213gのラニーニッケルを用いた。水素化
は、38〜44℃、45.695〜91.39kg/c
nl (650〜l 300psi )に於て、2時間
で完了17た。
第3の1108gの付加物を、204gのラニーニッケ
ル上に、10.545〜703 kg/c+J(150
〜10000ps′L)、最高温度51℃に於て2時間
水素化した。
この3つの水素化生成物を合わせ、蒸留してメタノール
を完全に除去した。沸点88〜90℃10、05 mm
Hgの生成物N−エチル−N−ヒドロキシエチル−1,
3−プコパンジアミンが全量で2300g得られた。約
lρの釜残を捨てた。このジアミノアルコールを30C
II+の塔で分留し、沸点128”C/ 15 mm1
l(Hの精製生成物2109g (収率64.5%)が
得られた。
第3工程に於て、この精製生成物1 kgとアセトン1
1と10%Pd担持炭5gとを3.7856(1ガロン
)オートクレーブに仕込み、30〜35℃、63、27
〜91.39kg/cm  (900〜I 300ps
i)に於て4時間水素化を行った。
第2の1 kgの精製生成物を、同じ方法で、10gの
lO%Pd/Cを用い、35℃に於て1.3時間水素化
した。2つの水素化生成物を合わせ、濾過によって触媒
を分離し、濾液を蒸留した。沸点112〜113℃/ 
20 mm11gの最終アルキル化生成物(DEMN)
2282gを得た。水素化工程゛の収率は88.3%で
あった。
実施例5 3.7−ジアザ−3,8−ジメチル−1−デカノールの
製造 全景462.7 gのN−(3−アミノプロピル)−N
−メチルアミノエタブール(3,5モル)をメチルエチ
ルケトン(MEK)で1.7Nに希釈した後、メタノー
ルで21に希釈した。10gの10%Pd担持Cを添加
し、63.27〜77.33kg/ant(900〜1
100psi )で水素化を行った。
44、289 kg/cj (630psi )の水素
が30分以内に吸収された。
触媒を濾過によって除去し、溶媒を、水流ポンプで16
0°C/34mmまでストリッピングした。
生成物は145℃/ 15 mm11gで留出し、量は
508g (収率77.2%)である。元素分析値は、
63.8%C,12,85%H114,9%Nの理論値
に対して62.4%C,12,6%H114,6%Nで
あった。
実施例6 CO□ガス処理に於けるジアミノアルコールの使用 用いた実験的反応装置を第1図に示す。この装置は、加
熱用ジャケットを備えた、容量約2.51、直径10c
+aの反応器■である。撹拌機の軸には2個の3枚ブレ
ードプロペラが付いており、上のブレードは液体を押し
下げ、下のブレードは液体を押し上げる。ポンプP1は
液体を反応器の底部から取り出し、ステンレス鋼スパー
ジャ−を経て気−液界面へ送り返す。垂直パンフルが液
−気量の接触をさらに増加する。熱電対Tで液体の温度
を読むことができる。還流冷却器の頂部はU字形開端圧
力計Mに連結している。装置は、タップT1を通してポ
ンプP2で排気することができる。窒素およびCotは
、タップT2を用いてスパージャ−82から反応器の底
部へ供給され;シリンダーから来るCO□は初めにバラ
ストとして作用するリザーバタンクRを通り、次に3 
l湿代試験メーターWTMを通り、次にバブラー81を
通って、バブラーB+ で水で飽和される。Hgバブラ
ーB、は、リザーバタンクR中へ空気が確実に吸引され
ないようにする。
CO□通路には、細いチューブやタップのようなくびれ
が慎重に避けられている。かかる通路中に挿入された唯
一つのものであるタップT2は大きい穴(8mm)のあ
るキーを有する。
収脱着再吸収 験の詳亀rim里 下記第1表に示すアミン55重量%とtho3゜%とス
ルホラン15%とを含む重量766gの種々の溶液を個
々に吸吸塔中へ入れ、その温度が40℃になるまで41
27分の速度でポンプでItさせた。この時点に於て、
溶液が沸騰し始めるまでセルを減圧した。次に、タップ
T1を閉じ、撹拌機を始動させ、Cotを導入した。各
実験は、11のCOzの吸収に10分以上かかるまで続
行した。
得られたCO,に冨む溶液を脱着塔へ移し、還流させた
。この点に於て、窒素を約0.217分の速度で脱着塔
の基底へ供給した。還流を15分間続行した。再生され
た溶液を、次に吸収塔へ移し返し、その温度が40℃に
達するまでポンプで循環させた。次に、セルを、溶液が
沸騰し始めるまで減圧した。タップT1を閉じ、撹拌機
を始動させ、COtを導入した。11のCO2の吸収に
10分以上かかったとき、再び実験を停止した。
各アミンに吸収されたCO2の総量は下記第1表に示し
である。
実f   。
第2表に示したジアミノアルコール55重量%とHzo
30重量%とスルホラン15重■%とを含む3種の溶液
をボンベに仕込み、指示した量のCO2を吸収させた0
次に、この溶液のジアミノアルコール百分率を測定した
後、アンプル中、140℃に於て16日間エージングさ
せた。エージング後、各溶液中のジアミノアルコールの
百分率を測定した。
これらの結果は、ジー第ニアミノアルコールの場合には
より少量のCOtを用いたけれども、本発明の第ニー第
三アミノアルコールの方が、エージング後により高い百
分率のアミンが存在していることで示されるように、C
Otに対する安定性が遥かに優れていることを示してい
る。かくして、本発明のアミノアルコールは、米国特許
第3.197,510号記載の型のジー第ニアミノアル
コールと比べて、酸性ガス除去条件下に於て改良された
安定性を示す。
第3表に示したジアミノアルコール55重量%と010
30重量%とスルホラン15重量%とを含む6種の溶液
をフラスコに入れ、102℃に於て加熱還流させた。還
流温度および室温に於ける相の数を測定し、測定結果を
第3表に示す。
第    3 結果は、本発明のアミノアルコールが、吸収条件下で酸
性ガス除去のために相応しく可溶であるように、全部で
11個未満の炭素原子を含まねばならないことを示す。
従って、米国特許第3.288,748号記載のジアミ
ノアルコールは、本発明の化合物のようにガス処理剤と
して適当ではない。
要するに、本発明は、通常ガス状混合物からのCO2の
除去に有用でありかつCOtに冨んだ条件下で分解に対
する優れた抵抗を示し、第三アミノ基と第ニアミノ基と
の両方および炭素原子の一定の最大数を有するジアミノ
アルコール群を提供することがわかった。これらのジア
ミノアルコールは、ニトリルを製造した後水素化とアル
キル化とを同時に行うを効な2工程法で製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、ガス流から二酸化炭素を除去するための実験
的反応装置を示す概略のフローシートである。 神・

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上記式中、R_1は3〜5個の炭素原子を有する第二
    アルキル基であり、R_2は1〜3個の炭素原子を有す
    るアルキル基であり、R_3およびR_4は、独立に水
    素またはメチル基であり、R_1とR_2とは、R_1
    およびR_2中の炭素原子の総数が6よりも大きくない
    ように選ばれる) を有するジアミノアルコール組成物。
  2. (2)R_1がイソプロピル基であり、R_2がメチル
    またはエチルまたはイソプロピル基であり、R_3およ
    びR_4が水素である特許請求の範囲第(1)項記載の
    組成物。
  3. (3)第三アミノ化合物と組み合わせた特許請求の範囲
    第(1)項記載のジアミノアルコール組成物。
  4. (4)第三アミノ化合物がメチルジエタノールアミンで
    ある特許請求の範囲第(3)項記載の組成物。
  5. (5)水または物理的吸収剤またはそれらの混合物から
    なる群から選ばれる溶媒と組み合わせた、R_3とR_
    4とが水素である特許請求の範囲第(1)項記載のジア
    ミノアルコール組成物。
  6. (6)溶媒がスルホンまたはスルホキシドまたはグリコ
    ールまたはグリコールモノエーテルまたはグリコールジ
    エーテルからなる物理的溶媒であり、かつ消泡剤、酸化
    防止剤、腐食防止剤からなる群から選ばれる添加剤をも
    含む特許請求の範囲第(5)項記載のジアミノアルコー
    ル組成物。
  7. (7)約0.1〜5モル/lの該溶媒と0.1〜6モル
    /lの該ジアミノアルコールとを含む、特許請求の範囲
    第(5)項または第(6)項のいずれか1項に記載の組
    成物。
  8. (8)(a)常態でガス状の混合物を、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上記式中、R_1は3〜5個の炭素原子を有する第二
    アルキル基であり、R_2は1〜3個の炭素原子を有す
    るアルキル基であり、R_3およびR_4は、独立に水
    素またはメチル基であり、R_1とR_2とは、R_1
    およびR_2中の炭素原子の総数が6を超えないように
    選ばれる) のジアミノアルコールからなる吸収剤溶液とCO_2吸
    収条件のもとで接触させる工程と、 (b)該溶液から吸収されたCO_2の少なくとも一部
    分を脱着させる工程と からなる、常態でガス状の混合物からのCO_2および
    他の酸性ガスの除去方法。
  9. (9)約20〜100℃の範囲の温度および約0.35
    15〜140.6kg/cm^2絶対圧(5〜2000
    psia)の範囲の圧力に於て接触工程を行い、かつ約
    50〜170℃の範囲の温度および0.3515〜約7
    .03kg/cm^2絶対圧(0.5〜100psia
    )の範囲の圧力に於て溶液を加熱することによって脱着
    工程を行う特許請求の範囲第(8)項記載の方法。
  10. (10)R_1がイソプロピル基であり、R_2がメチ
    ルまたはエチルまたはイソプロピル基であり、R_3お
    よびR_4のおのおのが水素である特許請求の範囲第(
    9)項記載の方法。
  11. (11)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上記式中、R_1は3〜5個の炭素原子を有する第二
    アルキル基であり、R_2は1〜3個の炭素原子を有す
    るアルキル基であり、かつR_1とR_2とは、R_1
    およびR_2中の炭素原子の総数が6よりも大きくない
    ように選ばれる) のジアミノアルコールの製造法であって、 (a)アクリロニトリルを式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上記式中、R_2は1〜3個の炭素原子を有するアル
    キル基である) の2−アミノエタノールと反応させて式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のニトリロアミノエタノールを生成させる工程と、 (b)工程(a)から得たニトリロアミノエタノールを
    、水素ガスと水素化触媒との存在下に於て、水素化条件
    の下で、3〜5個の炭素原子を含むケトンと、ジアミノ
    アルコールが生成するまで反応させる工程 とからなる製造法。
  12. (12)130℃以下の温度に於て工程(a)を行い、
    かつラニーニッケルを触媒として用い、30〜70℃、
    10.545〜98.42kg/cm^2(150〜1
    400psi)の圧力に於て工程(b)を行う特許請求
    の範囲第(11)項記載の製造法。
JP60272386A 1984-12-03 1985-12-03 ジアミノアルコールおよびその製造法ならびにそれを用いる酸性ガスの除去方法 Pending JPS61137845A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994022560A1 (en) * 1993-03-30 1994-10-13 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Carbon dioxide absorbent
CN104507904A (zh) * 2012-02-10 2015-04-08 罗地亚经营管理公司 用于生产氨基丙基甲基乙醇胺的方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1994022560A1 (en) * 1993-03-30 1994-10-13 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Carbon dioxide absorbent
CN104507904A (zh) * 2012-02-10 2015-04-08 罗地亚经营管理公司 用于生产氨基丙基甲基乙醇胺的方法
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