JPS61134763A - リソグラフイ−用マスク構造体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Ｘ線等を利用するリソグラフィーにおいて用
いられるリソグラフィー用マスク構造体に関する。

（従来の技術〕 リソグラフィー技術を用いて被加工材表面な部分的に変
質せしめることにより各種製品を製造することが工業上
特に電子工業の分野において広く利用されており、この
方法によればパターンが同一の表面変質部を有する製品
を大量に製造することができる。

被加工材の表面変質は各種エネルギーの照射により行わ
れ、この際のパターン形成のため、部分的にエネルギー
遮断材を配置してなるマスクが用いられる。この様なマ
スクとしては、照射エネルギーが可視光の場合にはガラ
ス又は石英等の透明基板上に黒色の塗料を部分的に塗布
したり又は金属等の可視光不透過性の薄板を部分的に付
午したものが用いられていた。

しかるに、近年、より微細なパターン形成が求められ更
により短詩間でのリソグラフィー加工が求められるにつ
れて、照射エネルギーとしてＸ線更にはイオン線等の粒
子像が用いられる様になってきた。これらのエネルギー
は上記可視光の場合にマスク形成部材として用いられた
ガラス板や石英板を通過せしめると大部分吸収されてし
まう。

このため、これらエネルギーを用いる場合にはガラス板
や石英板を用いてマスクを形成することは好ましくない
。そこで、Ｘ線や粒子線を照射エネルギーとして用いる
リソグラフィーにおいては各種の無機ｆｉｌｖ膜例えば
チッ化シリコン、チッ化ホウ素又は酸化シリコン等の薄
膜、あるいは各種の有機薄膜例えばポリイミド、ポリア
ミド又はポリエステル等の薄膜、更にはこれらの複合薄
膜をエネルギー透過体として用い、これらの面」−に金
、白金、ニッケル、パラジウム、ロジウム又はインジウ
ム等の金属をエネルギー不透過体として部分的に付与す
ることにより、マスクを形成することが行われている。

このマスクは自己保形性がないので適宜の保持体に保持
される。かくして構成されるマスク構造体として、従来
第４図に断面図を示す如きものが用いられていた。これ
はエネルギー吸収性のマスク部材１を所望のパターンに
て片面に付与されたエネルギー透過性の保持薄膜２の周
辺部を環状保持基板３の一端面（図においては」ニ端面
）に接着剤４を用いて接着することにより形成されてい
た。尚、第５図は保持基板３の平面図である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、以１−の如き従来のマスク構造体においては
、接着剤４の塗布のやり方によりその厚みに不均一が生
じたり、保持薄膜２の周辺部から接着剤がはみ出したり
、更に接着後の保持薄膜２の周辺部切除によるめくれ」
−りが生じたりするため、保持薄膜２の平面度を良好に
保つことが困難であった。これにともないリソグラフィ
ーにおける精度不良が発生し易かった。又、平面度を保
つため保持薄膜２に引っばり応力等を加えるとリソグラ
フィー行程中に接着のはがれが生じ、破損し曝 たりマスク部材１が表面に出ているため、マスクの繰り
返し使用の際、パターンが変形したりする事が度々あっ
た。

又Ｘ線リソグラフィーでは、半影ぼけなどの防止のため
、マスクとそのパターンを転写する基板との高精度のア
ライメントが要求され、装置製作上では大きな問題の１
つとなっている。

〔発明の目的〕

本発明は以］−の如き従来技術に鑑み成されたもので、
保持基板にマスク材保持薄膜を接着してなるリソグラフ
ィー用マスク構造体において、保持薄膜と保持基板と接
着力を強化し、また保持薄膜の平面度を向」ニさせ、マ
スク材を保護しアライメントを簡便にする事を目的とす
る。

〔発明の構成〕

本発明はマスク部材を保持するマスク部材保持薄膜と、
該マスク部材保持薄膜の周辺部を間に挟持する内側及び
外側２つの環状保持基板とを具備するリソグラフィー用
マスク構造体において、前記内側保持基板の最上部より
下方位置で、前記マスク部材保持薄膜は前記内側及び外
側の保持基板とに接着され且つ前記外側保持基板の最上
部が前記内側保持基板の最上部より上方に位置している
事を特徴とする。

〔本発明の実施例〕

第１図は本発明によるマスク構造体の第１の実施例の断
面図である。マスク材１は保持薄膜２の片面に所望のパ
ターンにて伺与されている。マスク材１としては例えば
金、白金、ニッケル、パラジウム、ロジウム、インジウ
ム等の０．７１Ｌ程度の薄膜が用いられる。保持薄膜２
としては例えばチツ化シリコン、チツ化ホウ素、酸化シ
リコン。

チタン等の無ａＳ膜又はポリイミド、ポリアミド、ポリ
エステル等の有機薄膜又はこれらの複合膜が用いられ、
その厚さは例えば２〜１２ＩＬであるのが望ましい。保
持薄膜２の周辺部は接着剤４により環状保持基板３及び
５に接着されている。

尚、第２図は内側保持基板３の平面図である。内側保持
基板３の最」二部平端面３ａには接着剤５が塗布されて
おらず、該平端面３ａの外側に角度θにて交わる面３ｂ
にのみ接着剤４が塗布されている。角度θは０度を超え
る値であれば特に制限はないが、好ましくは５〜９０度
、より好ましくは５〜６０度、最適には１５〜３０度と
されるのが望ましい。

又、第３図は外側保持基板５の平面図である。

外側保持基板５の下側斜面部５ｂは上記の平端面３ｂと
同じ角度の面であり、接着剤が塗布されている。また、
外側保持基板５のに端面５ａは内側保持基板３の最−１
一部平端面３ａより−Ｌ方に位置する。５ａ−３ａ間の
距離は第６図のように露光装置の機能によって定められ
る。

保持基板３．５としては例えばシリコン、ガラス、イン
バー、石莢、リン青銅、色調、鉄、ニッケル、ステンレ
ス等が用いられる。接着剤４としては例えば溶剤型接着
剤（ブタジェン系合成ゴム接着剤、クロロブレン系合成
ゴム接着剤等）、無溶剤型接着剤（エポキシ接着剤、シ
アノアクリレート接着剤等）が用いられてる。

第７図は本発明によるマスク構造体の第２の実施例の断
面図である。この場合、外側保持基板５は内側保持基板
３」二に固定される。

第８図は本発明によるマスク構造体の第３の実施例の断
面図である。この場合は０が９０°に相当し、汁つ接着
剤塗布面として更に第３の面５ｃが形成されている。

ｐｊＳ９図は本発明によるマスク構造体の第４の実施例
の断面図である。この場合、内側保持基板３は第８図と
同様の形をなすが、外側保持基板５は内側保持基板３１
−に固定される。

第１０図は本発明によるマスク構造体の第５の実施例の
断面図である。この場合、内側保持基板３の最上部上端
面３ａの外側に、該平端面３ａと滑らかに連なる面３ｂ
が形成されている。面３ｂは曲面となっており、外側保
持基板５の下側面５ｂも核部３ｂと同形状となっている
。

第１１図は本発明によるマスク構造体の第６の実施例の
断面図である。この場合、内側保持基板３は第１０図と
同様の形をなすが、外側保持基板５は内側保持基板３上
に固定される。　　　　　　　　　　１〔効　　果〕 以」−の如き本発明のマスク構造体によれば、保持薄膜
２と保持基板３，５との接着は保持薄膜２のマスク材１
保持平面外において行われるので、接着剤４の塗布及び
保持薄膜２の周辺切除によっでは、マスク材１保持面の
平面度は影響を受けず良好な平面度を保ち、外側保持基
板５によって保護されるため、繰り返し使用中にもパタ
ーンの変形が起こることなく且つ保持薄膜２が２つの保
持基板３，５間に保持されているため、保持薄膜２と保
持基板３．５の接着力を強化することができ、使用する
露光装置の機能に従って５ａ−３ａ間の距離が定められ
、外側保持基板５が作成されているので、高精度のアラ
イメントを簡便に行うことができる。従って、リソグラ
フィー行程中に本発明マスク構造体の構造を雑持し容易
に扱う事ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるマスク構造体の断面図であり、第
２図はその内側保持基板の平面図であり、第３図はその
外側保持基板の平面図である。 第４図は従来のマスク構造体の断面図であり、第５図は
その保持基板の平面図である。 第６図は第１図乃至第３図で説明したマスク構造体を露
光装置内にセットした場合の模式的断面図である。 第７図、第８図、第９図、第１０図、第１１図はいずれ
も本発明によるマスク構造体の別の実施例の模式的断面
図である。 １；マスク材　２；保持薄膜　３；内側保持基板　４；
接着剤　５；外側保持基板　６；レジスト　７；基板　
８．Ｘ！！等

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　マスク部材を保持するマスク部材保持薄膜と、該マス
   ク部材保持薄膜の周辺部を間に挟持する内側及び外側２
   つの環状保持基板とを具備するリソグラフィー用マスク
   構造体において、前記内側保持基板の最上部より下方位
   置で、前記マスク部材保持薄膜は前記内側及び外側の保
   持基板とに接着され且つ前記外側保持基板の最上部が前
   記内側保持基板の最上部より上方に位置している事を特
   徴とするリソグラフィー用マスク構造体。