JPS61131866A - 研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法およびその装置 - Google Patents
研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法およびその装置Info
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- JPS61131866A JPS61131866A JP59251768A JP25176884A JPS61131866A JP S61131866 A JPS61131866 A JP S61131866A JP 59251768 A JP59251768 A JP 59251768A JP 25176884 A JP25176884 A JP 25176884A JP S61131866 A JPS61131866 A JP S61131866A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は研ｌＩＩ機において研摩剤用の流量計を洗浄す
る洗浄方法およびその装置に関する。
る洗浄方法およびその装置に関する。
〔発明の技術的背景およびその問題点〕例えば半導体チ
ップを製造する工程においては、半導体の単結晶をスラ
イスして形成したクエへに対し研摩機によシ研摩加工を
施している。
ップを製造する工程においては、半導体の単結晶をスラ
イスして形成したクエへに対し研摩機によシ研摩加工を
施している。
一般にこの研摩加工で、は、研摩時に研摩剤を供給しつ
つ被加工物を研摩するとともに、研摩終了時に純水を供
給して被加工物に付着した研摩剤を洗い流すようにした
研摩機を用いている。
つ被加工物を研摩するとともに、研摩終了時に純水を供
給して被加工物に付着した研摩剤を洗い流すようにした
研摩機を用いている。
第３図はこの研摩機における従来の研摩剤供給回路及び
純水供給回路の概略的構成を示している。図中１はｆｉ
ｌｌ’ｌ摩機で、この研摩ｔｊＡＩＶｃ電磁弁５Ｖ−Ｊ
と流量計ＦＭ−ｘを１個の管路で接続して研摩剤供給回
路Ｌ−ｘを構成し、また研摩機１に電磁弁８Ｖ−；ｔと
流量計ＦＭ−、？ｔ−１個の管路で接続して純水供給回
路Ｌ−２を構成している。電磁弁８Ｖ−ｚは研摩剤供給
ライン（図示せず）に、電磁弁８Ｖ−Ｊは純水供給ライ
ン（図示せず）Ｋ各々接続される。そして、研摩機１で
被加工物を研摩加工する時は、電磁弁８Ｖ−ｚを開放し
て研摩側供給回路Ｌ−１を開き、研摩剤を電磁弁８Ｖ−
７及び流量計ＦＭ−１を介して研摩機１に供給する。流
量弁ＰＭ−Ｉｆ−１研摩剤供給回路Ｌ−１を流れる研摩
剤の流量１ｃ調整する。研摩機ＩＫよる被加工物の研摩
加工を終了すると、電磁弁８Ｖ−１ｔ−閉成して研摩側
供給回路Ｌ−１を閉じ研摩剤の供給を停止する。次に電
磁弁８Ｖ−ｘを開放して純水供給回路Ｌ−２ｔ−開き、
純水を電磁弁８Ｖ−２及び流量針ＦＭ−２を介して研摩
機１に供給して被加工物に付着している研摩剤を洗い流
す。
純水供給回路の概略的構成を示している。図中１はｆｉ
ｌｌ’ｌ摩機で、この研摩ｔｊＡＩＶｃ電磁弁５Ｖ−Ｊ
と流量計ＦＭ−ｘを１個の管路で接続して研摩剤供給回
路Ｌ−ｘを構成し、また研摩機１に電磁弁８Ｖ−；ｔと
流量計ＦＭ−、？ｔ−１個の管路で接続して純水供給回
路Ｌ−２を構成している。電磁弁８Ｖ−ｚは研摩剤供給
ライン（図示せず）に、電磁弁８Ｖ−Ｊは純水供給ライ
ン（図示せず）Ｋ各々接続される。そして、研摩機１で
被加工物を研摩加工する時は、電磁弁８Ｖ−ｚを開放し
て研摩側供給回路Ｌ−１を開き、研摩剤を電磁弁８Ｖ−
７及び流量計ＦＭ−１を介して研摩機１に供給する。流
量弁ＰＭ−Ｉｆ−１研摩剤供給回路Ｌ−１を流れる研摩
剤の流量１ｃ調整する。研摩機ＩＫよる被加工物の研摩
加工を終了すると、電磁弁８Ｖ−１ｔ−閉成して研摩側
供給回路Ｌ−１を閉じ研摩剤の供給を停止する。次に電
磁弁８Ｖ−ｘを開放して純水供給回路Ｌ−２ｔ−開き、
純水を電磁弁８Ｖ−２及び流量針ＦＭ−２を介して研摩
機１に供給して被加工物に付着している研摩剤を洗い流
す。
流量計ＦＭ−２は純水供給回路Ｌ−，？を流れる純水の
流量を調整する。
流量を調整する。
しかしながらこのような従来の構成においては、研摩剤
を流量計ＦＭ−Ｊ’ｉ介して研摩機１へ供給する時に、
研摩剤に含まれる砥粒などが流量計ＦＭ−１に付着する
。そしてこの状態が長期にわ九って継続すると流量計Ｆ
Ｍ−１が目詰シを起し、研摩剤が流量計ＦＭ−ＩＶＣ遮
ぎられて研摩機ｌへ供給することが困難となシ研摩加工
に支障をきたすという問題がある。しかも流量計ＦＭ−
１の目詰シを取シ除くためには流量計を研摩側供給回路
Ｌ−１から取）外して洗浄する必要があシ、洗浄作業に
大変手間がかかる。
を流量計ＦＭ−Ｊ’ｉ介して研摩機１へ供給する時に、
研摩剤に含まれる砥粒などが流量計ＦＭ−１に付着する
。そしてこの状態が長期にわ九って継続すると流量計Ｆ
Ｍ−１が目詰シを起し、研摩剤が流量計ＦＭ−ＩＶＣ遮
ぎられて研摩機ｌへ供給することが困難となシ研摩加工
に支障をきたすという問題がある。しかも流量計ＦＭ−
１の目詰シを取シ除くためには流量計を研摩側供給回路
Ｌ−１から取）外して洗浄する必要があシ、洗浄作業に
大変手間がかかる。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、研摩剤用の
流量計を洗浄してその目詰シを防止でき研摩機への研摩
剤の供給を良好に行なえるようにし九研摩機における研
摩剤流量計の洗浄方法およびその装置を提供することを
目的とするＯ 〔発明の概要〕 本発明による研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法は
、研摩機による研摩の終了後に研摩機に純水を供給して
被加工物を洗浄する時に、研摩剤用の流量計に純水を流
して流量計を洗浄するこ七を特徴とするものである。
流量計を洗浄してその目詰シを防止でき研摩機への研摩
剤の供給を良好に行なえるようにし九研摩機における研
摩剤流量計の洗浄方法およびその装置を提供することを
目的とするＯ 〔発明の概要〕 本発明による研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法は
、研摩機による研摩の終了後に研摩機に純水を供給して
被加工物を洗浄する時に、研摩剤用の流量計に純水を流
して流量計を洗浄するこ七を特徴とするものである。
また本発明による研摩剤流量計の洗浄装置は、研摩剤用
の流量計の上流側に流量計に純水を流すための純水供給
源を切換弁を介して接続したことを特徴とするものであ
る。
の流量計の上流側に流量計に純水を流すための純水供給
源を切換弁を介して接続したことを特徴とするものであ
る。
以下本発明を図面で示す実施例について説明する。
第１図は本発明の一実施例における研摩機の研摩側供給
回路および純水供給回路を示す概略的構成図であシ、こ
の図において第３図と同一部分は同一符号を付して示し
ている。すなわち、研摩機１に電磁弁８Ｖ−１と流量計
ＦＭ−１を接続して研摩側供給回路Ｌ −Ｊ ｆ＠成し
、且つ研摩機１に電磁弁８Ｖ−２と流量計ＦＭ−ｘを接
続して純水供給回路Ｌ−２を構成している。
回路および純水供給回路を示す概略的構成図であシ、こ
の図において第３図と同一部分は同一符号を付して示し
ている。すなわち、研摩機１に電磁弁８Ｖ−１と流量計
ＦＭ−１を接続して研摩側供給回路Ｌ −Ｊ ｆ＠成し
、且つ研摩機１に電磁弁８Ｖ−２と流量計ＦＭ−ｘを接
続して純水供給回路Ｌ−２を構成している。
さらに研摩剤供給回路Ｌ−ｆＫ設けた流量計ＦＭ−ｚの
上、流部と、純水供給回路Ｌ−２に設けた流量計ＦＭ−
２の上流部との間には、切換弁である電磁弁５Ｖ−Ｊを
接続して研摩側流量計用純水供給回路Ｌ−３を構成しで
ある。すなわちこの純水供給回路Ｌ−Ｊは、研摩剤用の
流量計ＦＭ−１の上流部を切換弁を介して純水供給源で
ある被加工物洗浄用の純水供給回路り一２と接続するも
のである。
上、流部と、純水供給回路Ｌ−２に設けた流量計ＦＭ−
２の上流部との間には、切換弁である電磁弁５Ｖ−Ｊを
接続して研摩側流量計用純水供給回路Ｌ−３を構成しで
ある。すなわちこの純水供給回路Ｌ−Ｊは、研摩剤用の
流量計ＦＭ−１の上流部を切換弁を介して純水供給源で
ある被加工物洗浄用の純水供給回路り一２と接続するも
のである。
そして、研１１１ｍ１が被加工物の研摩加工を行なう場
合には、電磁弁５Ｖ−１ｔ−開放して研摩側供給回路Ｌ
−１を開き、研摩剤を電磁弁５Ｖ−１および流量計ＦＭ
−１を介して研摩Ｍａｌに供給する。研摩機１による被
加工物の研摩加工が終了した後は、電磁弁８Ｖ−１ｔ−
閉塞して研摩側供給回路Ｌ−１’ｉ閉じ、研摩９．１に
対する研摩剤の供給を停止する。次いで、電磁弁５Ｖ−
２ｔ−開放して純水供給回路Ｌ−２を開き、純水を電磁
弁８ｖ−２および流量計ＦＭ−；ｒを介して研摩ｖＡ１
／Ｃ供給して被加工物に付着し之研摩剤を洗い流す。ま
た電磁弁８Ｖ−ｊを開放して給水回路Ｌ−ｓを開く。こ
のため純水供給回路Ｌ−，？において電磁弁ＳＶ−，？
を通過した純水の一部は、電磁弁５Ｖ−３を通って研摩
剤供給回路Ｌ−１に設けた流量計ＦＭ−１へ流れ、さら
に純水は流量計ＦＭ−１を通過して研摩機１に流入する
。ここで、純水が流量計ＦＭ−１を通過する時に、流量
針ＦＭ−１に付着している研摩剤を洗い流して洗浄を行
なう。研摩機１に流入した純水は被加工物の洗浄に使用
される。
合には、電磁弁５Ｖ−１ｔ−開放して研摩側供給回路Ｌ
−１を開き、研摩剤を電磁弁５Ｖ−１および流量計ＦＭ
−１を介して研摩Ｍａｌに供給する。研摩機１による被
加工物の研摩加工が終了した後は、電磁弁８Ｖ−１ｔ−
閉塞して研摩側供給回路Ｌ−１’ｉ閉じ、研摩９．１に
対する研摩剤の供給を停止する。次いで、電磁弁５Ｖ−
２ｔ−開放して純水供給回路Ｌ−２を開き、純水を電磁
弁８ｖ−２および流量計ＦＭ−；ｒを介して研摩ｖＡ１
／Ｃ供給して被加工物に付着し之研摩剤を洗い流す。ま
た電磁弁８Ｖ−ｊを開放して給水回路Ｌ−ｓを開く。こ
のため純水供給回路Ｌ−，？において電磁弁ＳＶ−，？
を通過した純水の一部は、電磁弁５Ｖ−３を通って研摩
剤供給回路Ｌ−１に設けた流量計ＦＭ−１へ流れ、さら
に純水は流量計ＦＭ−１を通過して研摩機１に流入する
。ここで、純水が流量計ＦＭ−１を通過する時に、流量
針ＦＭ−１に付着している研摩剤を洗い流して洗浄を行
なう。研摩機１に流入した純水は被加工物の洗浄に使用
される。
なお、電磁弁８Ｖ−ｊおよび流量計ＦＭ−Ｚを通って研
ｐｓｍｘへ流れる純水の流量は、この流量計ＦＭ−Ｊに
よって調整する。
ｐｓｍｘへ流れる純水の流量は、この流量計ＦＭ−Ｊに
よって調整する。
このような方法によりは研摩機１による研摩加工を終了
して被加工物の洗浄を行なうために研Ｍ機１に純水を供
給する度に、研摩剤用の流量計ＰＭ−７に純水を・通し
て洗浄を行なうので、流量計ＦＭ−１の目詰シを容易に
防止できる口しかも流量計ＦＭ−１の洗浄は、流量計Ｆ
Ｍ−１を研摩側供給回路Ｌ−ＪＫ組込んだままで純水を
流して行なうので作業が容易である。
して被加工物の洗浄を行なうために研Ｍ機１に純水を供
給する度に、研摩剤用の流量計ＰＭ−７に純水を・通し
て洗浄を行なうので、流量計ＦＭ−１の目詰シを容易に
防止できる口しかも流量計ＦＭ−１の洗浄は、流量計Ｆ
Ｍ−１を研摩側供給回路Ｌ−ＪＫ組込んだままで純水を
流して行なうので作業が容易である。
第２図は本発明の他の実施例を示す研摩１８における研
摩剤供給回路および純水供給回路の概略的構成図である
。この実施例は、研摩剤用流量計ＦＭ−７の洗浄を行な
うための純水の供給源として、純水供給回路Ｌ−Ｊを用
いずＫこれとは異なる他の純水供給ラインを用いたもの
である。すなわち、電磁弁８Ｖ−Ｊを流量計ＦＭ−１の
上流部に接続するととも（、図示しない純水供給ライン
に接続して研摩剤流量社用の純水供給回路Ｌ−Ｊを構成
する。この場合には電磁弁８Ｖ−ｘを閉じて研摩剤の供
給を停止した状態にして電磁弁５Ｖ−Ｓを開放すると、
純水供給ラインから供給された純水が電磁弁８ｖ−３を
介して流量計ＦＭ−１に流れ、さらに流量計ＦＭ−ｒを
通過して研摩機１へ流れることＫよシ流量計ＦＭ−７の
洗浄を行なえる。また、この実施例では純水供給回路Ｌ
−２に対して独立して流量計ＦＭ−Ｊに純水を流すこと
ができるので、純水供給回路Ｌ−２で純水を供給して被
加工物の洗浄を行なう時だけでなく、他の場合にも流量
計ＦＭ−Ｊの洗浄を行ないその目詰りを防止することが
できる。
摩剤供給回路および純水供給回路の概略的構成図である
。この実施例は、研摩剤用流量計ＦＭ−７の洗浄を行な
うための純水の供給源として、純水供給回路Ｌ−Ｊを用
いずＫこれとは異なる他の純水供給ラインを用いたもの
である。すなわち、電磁弁８Ｖ−Ｊを流量計ＦＭ−１の
上流部に接続するととも（、図示しない純水供給ライン
に接続して研摩剤流量社用の純水供給回路Ｌ−Ｊを構成
する。この場合には電磁弁８Ｖ−ｘを閉じて研摩剤の供
給を停止した状態にして電磁弁５Ｖ−Ｓを開放すると、
純水供給ラインから供給された純水が電磁弁８ｖ−３を
介して流量計ＦＭ−１に流れ、さらに流量計ＦＭ−ｒを
通過して研摩機１へ流れることＫよシ流量計ＦＭ−７の
洗浄を行なえる。また、この実施例では純水供給回路Ｌ
−２に対して独立して流量計ＦＭ−Ｊに純水を流すこと
ができるので、純水供給回路Ｌ−２で純水を供給して被
加工物の洗浄を行なう時だけでなく、他の場合にも流量
計ＦＭ−Ｊの洗浄を行ないその目詰りを防止することが
できる。
なお、研摩剤用の流量計ＦＭ−ＪＫ接続する切換弁とし
ては電磁弁に限らず、他の型式の弁であっても良い。
ては電磁弁に限らず、他の型式の弁であっても良い。
本発明は半導体製造工程におけるクエハ研摩用の研摩機
に限らず、他の用途の研摩機（も広く適用できる。
に限らず、他の用途の研摩機（も広く適用できる。
以上説明したように本発明の研摩機における研摩剤流量
計の洗浄方法およびその装置によれば、研摩剤用の流量
計の洗浄を容易に行なえ、この流量計の目詰シを確実に
防止して研摩機への研摩剤の供給を良好に行なうように
することができる。
計の洗浄方法およびその装置によれば、研摩剤用の流量
計の洗浄を容易に行なえ、この流量計の目詰シを確実に
防止して研摩機への研摩剤の供給を良好に行なうように
することができる。
第１図および第２図は各々本発明の互いに異なる実施例
を示す研摩機における研摩剤供給回路および純水供給回
路の概略的構成図、第３図は従来例を示す研摩機におけ
る研摩剤供給回路および純水供給回路の概略的構成図で
ある。 １−ｆｉＪｆ摩機、８Ｖ−１，５Ｖ−２，８Ｖ−３・・
・電磁弁、ＦＭ−１、ＦＭ−７・・・流量計、Ｌ−１・
・・研摩剤供給回路、Ｌ−ｊ、Ｌ−３・・・純水供給回
路。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図 第３図 手続補正書 、、６ｃｊ、！ｌ・噛５８ 特許庁長官 志 賀 学 殿１、事件の表示 特願昭５９−２５１７６８４ ２、発明の名称 研摩機における研摩側流量計の洗浄方法およびその装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （３０７） 株式会社 東芝 （ほか２名） ４、代理人 生新 東京都港区虎ノ門１丁目２６番５号 第１７森ピ
ル５、自発補正 ７、補正の内容 （１） ｌｉ書の標題に「特許法第３８条ただし書の
規定による特許出願」を加入する。 （２）願書の「発明の名称」の欄の次に、新たに「特許
請求の範囲に記載された発明の数」の欄を設けるととも
に、発明の数「２」を加入する。
を示す研摩機における研摩剤供給回路および純水供給回
路の概略的構成図、第３図は従来例を示す研摩機におけ
る研摩剤供給回路および純水供給回路の概略的構成図で
ある。 １−ｆｉＪｆ摩機、８Ｖ−１，５Ｖ−２，８Ｖ−３・・
・電磁弁、ＦＭ−１、ＦＭ−７・・・流量計、Ｌ−１・
・・研摩剤供給回路、Ｌ−ｊ、Ｌ−３・・・純水供給回
路。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図 第３図 手続補正書 、、６ｃｊ、！ｌ・噛５８ 特許庁長官 志 賀 学 殿１、事件の表示 特願昭５９−２５１７６８４ ２、発明の名称 研摩機における研摩側流量計の洗浄方法およびその装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （３０７） 株式会社 東芝 （ほか２名） ４、代理人 生新 東京都港区虎ノ門１丁目２６番５号 第１７森ピ
ル５、自発補正 ７、補正の内容 （１） ｌｉ書の標題に「特許法第３８条ただし書の
規定による特許出願」を加入する。 （２）願書の「発明の名称」の欄の次に、新たに「特許
請求の範囲に記載された発明の数」の欄を設けるととも
に、発明の数「２」を加入する。
Claims (2)
- （１）流量計を介して研摩剤を供給しつつ被加工物を研
摩するとともに、研摩終了後に純水を供給して前記被加
工物に付着した研摩剤を洗い流すようにした研摩機にお
いて、研摩、終了後の純水供給時に純水を前記研摩剤用
の流量計に流すことを特徴とする研摩機における研摩剤
流量計の洗浄方法。 - （２）流量計を介して研摩剤を供給しつつ被加工物を研
摩するとともに、研摩終了後に純水を供給して前記被加
工物に付着した研摩剤を洗い流すようにした研摩機にお
いて、前記研摩剤用の流量計の上流側に切換弁を介して
純水供給源を接続したことを特徴とする研摩機における
研摩剤流量計の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59251768A JPS61131866A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59251768A JPS61131866A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61131866A true JPS61131866A (ja) | 1986-06-19 |
| JPH044100B2 JPH044100B2 (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=17227626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59251768A Granted JPS61131866A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 研摩機における研摩剤流量計の洗浄方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61131866A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6393565A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-23 | Nec Kyushu Ltd | 裏面研削装置 |
| WO1998014305A1 (en) * | 1996-10-02 | 1998-04-09 | Speedfam Corporation | Methods and apparatus for measuring and dispensing processing solutions to a cmp machine |
| JP2016501759A (ja) * | 2012-10-05 | 2016-01-21 | ロバート， ダブリュ． パーシュ， | 通貨式タイヤ充填・修復装置及び方法 |
| US20190168470A1 (en) * | 2016-08-15 | 2019-06-06 | Consumer Products International Llc. | Currency Operated Tire Inflation and Repair Apparatus and Methods |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5461391A (en) * | 1977-10-24 | 1979-05-17 | Shibayama Kikai Kk | Water grinding for polishing machine |
| JPS58203890A (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-28 | 東洋食品機械株式会社 | ピストン式充填機の洗滌装置 |
-
1984
- 1984-11-30 JP JP59251768A patent/JPS61131866A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5461391A (en) * | 1977-10-24 | 1979-05-17 | Shibayama Kikai Kk | Water grinding for polishing machine |
| JPS58203890A (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-28 | 東洋食品機械株式会社 | ピストン式充填機の洗滌装置 |
Cited By (6)
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| JPS6393565A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-23 | Nec Kyushu Ltd | 裏面研削装置 |
| WO1998014305A1 (en) * | 1996-10-02 | 1998-04-09 | Speedfam Corporation | Methods and apparatus for measuring and dispensing processing solutions to a cmp machine |
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| US10071531B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-09-11 | Consumer Products International Llc. | Currency operated tire inflation and repair apparatus and methods |
| JP2019116270A (ja) * | 2012-10-05 | 2019-07-18 | コンシューマー プロダクツ インターナショナル エルエルシー． | 通貨式タイヤ充填・修復装置及び方法 |
| US20190168470A1 (en) * | 2016-08-15 | 2019-06-06 | Consumer Products International Llc. | Currency Operated Tire Inflation and Repair Apparatus and Methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH044100B2 (ja) | 1992-01-27 |
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