JPS61131298A - Non-volatile memory circuit - Google Patents

Non-volatile memory circuit

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Publication number
JPS61131298A
JPS61131298A JP59252614A JP25261484A JPS61131298A JP S61131298 A JPS61131298 A JP S61131298A JP 59252614 A JP59252614 A JP 59252614A JP 25261484 A JP25261484 A JP 25261484A JP S61131298 A JPS61131298 A JP S61131298A
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JP
Japan
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voltage
writing
external noise
terminal
limiting element
Prior art date
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Application number
JP59252614A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Terajima
義幸 寺島
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent an erroneous writing due to an external noise of a static electricity, etc., by connecting prescribedly a voltage limit element, an electric current limit element, etc. CONSTITUTION:To non-volatile memories 201, 202... between a terminal for electric power source voltage VDD or VSS and a terminal for high electric power source VDD of negative for writing, an electron is poured through a voltage VPP,and the writing is executed. Between these terminals, voltage control elements 203 and 204 are connected and electric current limit elements 206, 205, etc., of a transistor, a coil, etc., are connected between the terminal and the memories 201, 202... to which the voltage VPP is supplied, the electron to the memories 201, 202... due to the external noise of a static electricity, etc., is not poured, and the erroneous writing due to the external noise can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はI P ROM (Brasable Pro
grammable ROM )、 K K FROM
 (Blectrical Erasable Pro
gramma−bleROM>を同一チ6ツプ上に形成
した電子ウォヴチ用集積回路において、ROMに外から
データを書込むための回路及び消去するための回路の改
良に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to an IP ROM (Brasable Pro
grammable ROM), K K FROM
(Blectrical Erasable Pro
The present invention relates to improvements in a circuit for writing data from the outside into a ROM and a circuit for erasing data in an electronic integrated circuit in which a ROM is formed on the same chip.

r従来技術〕 第1図は電子ウォIチ用集積回路に内蔵されるF  A
  M  OS  (Floating−crn、te
  Ava、1anchein、iectAonMO8
)を利用した従来のFiPROMの書込入口路である。
rPrior art] Figure 1 shows an FA built in an integrated circuit for an electronic watch.
M OS (Floating-crn,te
Ava, 1anchain, iectAonMO8
) is the write entry path of a conventional FiPROM.

A、B端子をVTITl= [I J 、 Vss= 
ro J  のどちらかに設定し、vTIDに対してV
PP K負の高電圧をかけると「0」に設定したトラン
ジスタとシリーズに接続されているFAMO8Icg子
が注入ばれる( 103 、 104がFAMO8)。
Connect A and B terminals to VTITl= [I J , Vss=
ro J and set V to vTID.
When a high negative voltage is applied to PPK, the FAMO8Icg element connected in series with the transistor set to "0" is injected (103 and 104 are FAMO8).

注入これた電子は半永久的に保持これるため、FAMO
8は書込可能な半導体メモリとなり得る。
Since the injected electrons can be retained semi-permanently, FAMO
8 can be a writable semiconductor memory.

ところが電子ウオ・・チ用集積回路に第1図で示ジれる
回路を内蔵した場合、F A IIOSのドレイン同志
を結線して直接PADに出して書込用高電圧印加端子y
ppとしていたため、外部よりのノイズ、靜雷気が加わ
った場合、誤ってFAMO8に電子が注入上れるという
欠点があった。
However, if the circuit shown in Figure 1 is built into the electronic watch integrated circuit, the drains of F
Since it was set to pp, there was a drawback that electrons could be erroneously injected into the FAMO 8 when external noise or thunder and lightning were added.

〔目的〕〔the purpose〕

本発明の目的は、書込み及び消去如必要な高電圧に対し
てはその電圧を制限することなくFAMO8K伝達し、
静電気などの外部ノイズに対しては常圧と電流を制限す
るよ)な書込回路及び書込消去回路を提供することに、
aる。
The purpose of the present invention is to transmit FAMO8K without limiting the high voltage required for writing and erasing, and
To provide a write circuit and a write/erase circuit that limit normal voltage and current against external noise such as static electricity,
Al.

〔概要〕〔overview〕

第2図は本発明の概要を示すブロック図である201.
202は不揮発性メモリで必要数が同一構造で配置ばれ
ている。203. 204は電圧制限素子でVI’lD
あるいはvsS端子とypp端子に並列に配置され、必
要とする書込電圧、消去電圧を越える高電圧が加わった
場合、その高電圧を制限する役割を果たす。電圧制限素
子としては抵抗、トランジスタ、ダイオード、コンデン
サなどである。また、205、 206は急峻なり微抜
は電流を制限するための素子で、ypp端子と不揮発性
メモリ間に直列に配置てれている。電流制限素子として
は抵抗、トランジスタ、コイルrCどである。このよう
に電圧制限素子と電流制限素子を設けることにより、誤
書込、誤消去の防止カー可能となる。
FIG. 2 is a block diagram 201.
Reference numeral 202 denotes non-volatile memory, and a required number of non-volatile memories are arranged in the same structure. 203. 204 is a voltage limiting element VI'ID
Alternatively, it is arranged in parallel to the vsS terminal and the ypp terminal, and when a high voltage exceeding the required write voltage and erase voltage is applied, it serves to limit the high voltage. Voltage limiting elements include resistors, transistors, diodes, capacitors, and the like. Further, 205 and 206 are elements for limiting current with a steep slope or a slight slope, and are arranged in series between the ypp terminal and the nonvolatile memory. The current limiting element may be a resistor, a transistor, a coil rC, or the like. By providing the voltage limiting element and the current limiting element in this way, it is possible to prevent erroneous writing and erasing.

第4図は本発明による別の実施例である。電圧制限素子
はP  −N  によるダイオード、P  −Nによる
コンデンサ606〜608で構成これる。電流制限素子
は高耐圧M OS )ランジスタ409,410である
。ダイオード405は通常集積回路上で寄生的にできる
ダイオードに対し、N−の濃度コントロールを行ない、
逆方向のブレークダウン電圧を低下シせる。逆方向のブ
レークダウン重圧は、−15V程度と正常な書込電圧範
囲の中にはいるようにする。このようにすると、直流成
分の割合が比較的大きい外部ノイズが印加ばれた場合、
そのピークレベル力15 V程度にカットばれる。カッ
トこれた電圧は、止常書込範凹の電圧であるから、トラ
ンジスタ401 、 402がONL、ていない限りF
’AMO8403,404のゲートに電荷がチャージす
ることはない。ダイオードを除く高耐圧トランジスタ、
コンデンサはやけりローパスフィルタの役割    □
を果たす。
FIG. 4 shows another embodiment according to the invention. The voltage limiting element is composed of a P -N diode and P -N capacitors 606 to 608. The current limiting elements are high voltage MOS transistors 409 and 410. The diode 405 performs N- concentration control for diodes that are normally formed parasitically on integrated circuits.
Reduces reverse breakdown voltage. The breakdown pressure in the reverse direction is set to about -15V, which is within the normal write voltage range. In this way, when external noise with a relatively large proportion of DC components is applied,
The peak level force is cut to about 15 V. The voltage that has been cut is the voltage below the normal write range, so unless the transistors 401 and 402 are ONL, F
'The gates of the AMOs 8403 and 404 are never charged. High voltage transistors excluding diodes,
Role of capacitor and low-pass filter □
fulfill.

第3図は本発明による実施例である。電流制限素子とし
てP−wellによる直流抵抗305. 306及びア
ルミニウム配線による寄生インダクタンス307.30
8を使へ。また電圧制限素子としてp+−N ICよる
コンデンサを使う。このような配置をすることによって
ローパスフィルタを構成し、外部ノイズ、静電気などに
よる高周波成分を除去することができる。実際にデータ
を書き込む場合は、これらの保護回路を入れる前に比べ
て、時定数分だけ長く高言、圧を印加しなければならな
いが、これは数m5ec程度であり、問題とはならない
FIG. 3 shows an embodiment according to the present invention. DC resistance 305 by P-well as a current limiting element. 306 and parasitic inductance due to aluminum wiring 307.30
Use 8. In addition, a capacitor based on p+-NIC is used as a voltage limiting element. With such an arrangement, a low-pass filter can be configured, and high frequency components caused by external noise, static electricity, etc. can be removed. When actually writing data, it is necessary to apply high pressure for a longer time constant than before installing these protection circuits, but this is only about a few m5ec and does not pose a problem.

ローパスフィルターの構成は抵抗と容量、インダクタン
スと容量などで構成されるが、一対だけではフィルター
として高周波成分を除去するのけ不充分な場合が冬く、
実際には段を重ねて使用する。第3図は2段構成である
が、段を重ねる程抵抗305,306による電圧降下h
′−大きく、書込電圧と外部ノイズの周波数スペクトラ
ムを考慮した段数設計とするのがよい。
The structure of a low-pass filter is made up of resistance and capacitance, inductance and capacitance, etc., but in winter there are cases where just one pair is insufficient to remove high frequency components as a filter.
In reality, it is used in layers. Figure 3 shows a two-stage configuration, but the more stages are stacked, the more the voltage drop h due to resistors 305 and 306.
It is preferable to design the number of stages in consideration of the frequency spectrum of the write voltage and external noise.

第5図は本発明による別の実施例である。第3図、第4
図との相違点は富流制限用素子として、Pチャンネル、
NチャンネルのMOS)ランジスタを使用したことと、
コンデンサ506、抵抗507で構成これる時定数回路
があるといろことである。
FIG. 5 shows another embodiment according to the invention. Figures 3 and 4
The difference from the figure is that the P channel,
The use of N-channel MOS) transistors,
A time constant circuit consisting of a capacitor 506 and a resistor 507 is useful.

第5図に添って説明すると、電圧制限素子はダイオード
505であり、第4図のそわと同一の製造方法及び動作
を干る。Nチャンネルトランジスタ509、Pチャンネ
ルトランジスタ510が電流制限素子である。データを
書き込むときはVPPlc−15V程度の電圧を与える
。インバータ508のゲート電圧けVDD = OVか
ら506と507で構成ばれる時定数で負の方向に電圧
が低下していく。インバータのスレシホールド電圧を横
ぎるとP、N)ランジスタ510. 509がONI、
て、yppに印加された電圧がFAMO8503、50
4K伝わり、A、Bによって選択ばれているF A M
 OSに電荷カー注入される。
Explaining with reference to FIG. 5, the voltage limiting element is a diode 505, and the manufacturing method and operation are the same as those shown in FIG. N-channel transistor 509 and P-channel transistor 510 are current limiting elements. When writing data, a voltage of about VPPlc-15V is applied. From the gate voltage of the inverter 508 (VDD=OV), the voltage decreases in the negative direction with a time constant composed of 506 and 507. When the threshold voltage of the inverter is crossed, P, N) transistor 510. 509 is ONI,
Therefore, the voltage applied to ypp is FAMO8503, 50
4K transmitted, F A M selected by A and B
Charge is injected into the OS.

次に静電ノイズなど、電圧が高く巾の短いパルスが加わ
った場合507,506VCよる時定数を長くとってお
けば、7点の電圧は負の方向に引っばられず、Vl)D
の状態を俳つ。従ってP、Nトランジスタ509’、 
 510はONせず、yppに加わった静電ノイズを力
、トすることができる。つまりVPP Kある一定時間
以−ヒ電圧をかけないと、その電圧はメモリであるFA
MO8に伝達これない回路構成をとっている。
Next, when high voltage and short pulses such as electrostatic noise are applied, if the time constant of 507,506 VC is set long, the voltage at the 7 points will not be pulled in the negative direction, and Vl)D
expresses the state of Therefore, P, N transistor 509',
510 is not turned on, and the electrostatic noise added to ypp can be suppressed. In other words, if VPPK is not applied for a certain period of time, that voltage will be applied to the FA which is a memory.
It has a circuit configuration that does not transmit this to MO8.

次に、EKPROMに第5図の惺護回路を適用した例を
第6図に示す。601,602が選択用トランジスタ、
603. 604力一二層ゲート構造のメモリ用トラン
ジスタである。データの書込は次のようにして行なう。
Next, FIG. 6 shows an example in which the protection circuit of FIG. 5 is applied to an EKPROM. 601 and 602 are selection transistors,
603. This is a memory transistor with a 604-layer gate structure. Data writing is performed as follows.

603に書き込む場合A、= Vl)D 、  A2=
v8Sとしてトランジスタ501 e ON #せ60
3のゲートに+21Vを印加する。603の上部ゲート
は+21v、ドレインけvSSとなるため、トンネル効
果によって雷、子がフローティングゲートに蓄積ざわ、
しきい値電圧は上昇する。逆に消去する場合はA、= 
VT)D 、  A2= + 21 Vとして、603
のゲートにvSSを与え、ドレインに+21Vを与えて
電子を逃がしてやる。消去は書込と逆の極性の電圧を与
えればよい。603. 604はそのフローティングゲ
ートとドレイン間の嘆厚のみ部分的に薄くなっているた
め、トンネル効果が起こり易くなっている。
When writing to 603 A, = Vl)D, A2 =
Transistor 501 e ON #se60 as v8S
Apply +21V to the gate of No.3. Since the upper gate of 603 is +21V and the drain voltage is VSS, lightning and particles accumulate on the floating gate due to the tunnel effect.
The threshold voltage increases. Conversely, if you want to delete, use A, =
VT) D, A2= + 21 V, 603
Apply vSS to the gate and +21V to the drain to release electrons. Erasing can be performed by applying a voltage with a polarity opposite to that of writing. 603. Since 604 is partially thinned only in the thickness between the floating gate and the drain, a tunnel effect is likely to occur.

このよへな原理に基づくEEPROMは、書込時消去時
に高電圧端子Vlll+1 (+ 21 V )と78
8間に直流回路は形成でれないため、書込、消去のため
のエネルギーはほんのわずかでよい。このため外部ノイ
ズ、静電ノイズに敏感で、ソフトエライ誤書込、誤消去
)が生ずる。
An EEPROM based on this different principle has high voltage terminals Vllll+1 (+21 V) and 78 V during writing and erasing.
Since no DC circuit can be formed between 8 and 8, only a small amount of energy is required for writing and erasing. Therefore, it is sensitive to external noise and electrostatic noise, resulting in soft errors (erroneous writing and erasing).

このため僅護回路が必要となり電圧制限素子としてPチ
ャンネルトランジスタ605、電流制限素子としてP、
N)ランジスタロ10. 609 f使う。
Therefore, a protection circuit is required, and the P channel transistor 605 is used as a voltage limiting element, and the P channel transistor 605 is used as a current limiting element.
N) Langistaro10. I use 609 f.

動作は第5図のffl8回路とまったく同じで、EEF
ROMの場合ypp端子に書込の場合+21V、消去の
場合vss = o vが加わる。いずわにしても、6
10 、 609 h″−ONするには一定の時間h″
−−必要り、抵抗607、容量606による時定数以内
の): /l/スについてはメモリ60ろ、604など
のゲートに電圧を伝達しない。
The operation is exactly the same as the ffl8 circuit shown in Figure 5, and the EEF
In the case of ROM, +21V is applied to the ypp terminal for writing, and vss = ov is applied for erasing. Even if Izuwa, 6
10, 609 h″-a certain time h″ to turn on
-- Necessary, within the time constant due to the resistor 607 and capacitor 606): For /l/s, no voltage is transmitted to the gates of the memories 60, 604, etc.

〔効果〕〔effect〕

不揮発性メモリ書込回路K ’m v)てけ、鎮3図〜
第6図に示したように電圧制限素子として抵抗、ダイオ
ード、トランジスタ、コンデンサなど電流制限素子とし
て抵抗、トランジスタ、コイA・などを設けこ′hらの
絹合せ、段数の追加により各種装置より発生するノイズ
、人体より発生子る静電更による誤書込が防+Fできる
Non-volatile memory writing circuit K'm v)
As shown in Figure 6, resistors, diodes, transistors, capacitors are used as voltage limiting elements, and resistors, transistors, coils A, etc. are used as current limiting elements. Erroneous writing due to noise generated by the human body and static electricity generated by the human body can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図・・従来の書込回路を示す同 第2図・・本発明のブロック図 第3図、第4図、第5図、第6図・・本発明による実施
例を示す図 1Q1 、101・・・・・・Pチャンネルトランジス
タ103 、104・・・・・・F AM O5201
、202・・・・・・不揮発性メモリ203 、204
・・・・・・電圧制限素子205 、206・・・・・
・電流制限素子301 、302・・・・・・Pチャン
ネルトランジスタ503、304・・・・・・FAMO
8305、306、507、/+07・・・・・・抵抗
307 、308・・・・・・インダクタンス309 
、310 、506.606・・・・・・コンデンサ4
01、  AO2,409,410・・・・・・Pチャ
ンネルトランジスタ403.404.503.5n4 
・・・・・・FA↑JO8405、5n5・・・・・・
ダイオード406 、407 、408・・・・・・コ
ンデンサ508 、608・・・・・・インバータ50
9.609・・・・・・Nチャンネルトランジスタ51
0 、610 、15・・・・・・Pチャンネルトラン
ジスタ603 、604・・・・・・二層ゲート構造の
メモリ用トランジスタ [ソ+
Figure 1... Figure 2 shows a conventional write circuit. Figure 2 is a block diagram of the present invention. Figure 3, Figure 4, Figure 5, Figure 6... Figure 1Q1 shows an embodiment according to the present invention. 101...P channel transistors 103, 104...FAM O5201
, 202...Nonvolatile memory 203, 204
...Voltage limiting elements 205, 206...
-Current limiting elements 301, 302...P channel transistors 503, 304...FAMO
8305, 306, 507, /+07...Resistance 307, 308...Inductance 309
, 310, 506.606...Capacitor 4
01, AO2,409,410...P channel transistor 403.404.503.5n4
...FA↑JO8405, 5n5...
Diodes 406, 407, 408... Capacitors 508, 608... Inverter 50
9.609...N-channel transistor 51
0, 610, 15...P channel transistors 603, 604... Memory transistors with double-layer gate structure [So+

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)不揮発性メモリを同一チップ上に形成した電子ウ
オツチ用MOS集積回路において、データ書込用高電圧
印加端子と電源端子間に電圧制限素子を配置し、前記デ
ータ書込用高電圧印加端子と不揮発性メモリ間に電流制
限素子を配置して外部ノイズの侵入を防止することを特
徴とする不揮発性メモリ回路。
(1) In a MOS integrated circuit for an electronic watch in which a nonvolatile memory is formed on the same chip, a voltage limiting element is disposed between a high voltage application terminal for data writing and a power supply terminal, and a voltage limiting element is arranged between the high voltage application terminal for data writing. A nonvolatile memory circuit characterized in that a current limiting element is arranged between the nonvolatile memory and the nonvolatile memory to prevent intrusion of external noise.
JP59252614A 1984-05-28 1984-11-29 Non-volatile memory circuit Pending JPS61131298A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59252614A JPS61131298A (en) 1984-11-29 1984-11-29 Non-volatile memory circuit
GB08512986A GB2160049B (en) 1984-05-28 1985-05-22 A non-volatile memory circuit
US06/738,791 US4733375A (en) 1984-05-28 1985-05-28 Non-volatile memory circuit
HK982/89A HK98289A (en) 1984-05-28 1989-12-14 A non-volatile memory circuit
US07/500,613 USRE34974E (en) 1984-05-28 1990-03-22 Non-volatile memory circuit

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01105389A (en) * 1987-10-19 1989-04-21 Hitachi Ltd Data latch circuit
JP2005311383A (en) * 2005-04-27 2005-11-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and device for analyzing electromagnetic wave interference, and method for manufacturing semiconductor device using them

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