JPS6111233Y2 - - Google Patents

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JPS6111233Y2
JPS6111233Y2 JP1981086670U JP8667081U JPS6111233Y2 JP S6111233 Y2 JPS6111233 Y2 JP S6111233Y2 JP 1981086670 U JP1981086670 U JP 1981086670U JP 8667081 U JP8667081 U JP 8667081U JP S6111233 Y2 JPS6111233 Y2 JP S6111233Y2
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JP
Japan
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slits
cross
shape
spinning
spinneret
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JP1981086670U
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JPS57200567U (ja
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  • Spinning Methods And Devices For Manufacturing Artificial Fibers (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
本考案は、改善された性質を有する異形断面合
成繊維糸条を溶融紡糸するための口金に関するも
のである。 本考案の目的は絹状の光沢とふくらみを有し、
ドライタツチでシヤリ感とを特長とする異形断面
合成繊維糸条を容易に紡糸することができる、新
規な口金を提供することにある。 一般に、合成繊維糸条、特に溶解紡糸によつて
得られた合成繊維糸条は、ロウ状感があり、天然
繊維に比較して手触りが悪く、ぬめり感があり、
光沢も少なく、織物、編物にした場合、天然の絹
製品に比較して劣つたものが得られるという欠点
がある。このような欠点を解消するために糸状の
断面形状を円形以外の異形断面形状とする方法が
行なわれ、そのための紡糸口金も種々提案されて
いる。しかしながら、従来の紡糸口金で得られる
繊維は絹のもつ特有の光沢、ふくらみ、張り、腰
等の特性をある程度出せるようになつたが、これ
らは絹の有する優れた特長の一部にすぎず、シヤ
リ感、ドライタツチ、きしみ(絹鳴り)、気心持
等の柞蚕絹特有の特性は未だ未開拓な状態といえ
る。このような柞蚕絹の有する特長を得んがため
に、例えばPETの場合、原料の中に第3成分を
微量添加し、アルカリ処理によつて繊維表層に混
在する第3成分を放出して繊維の表面にミクログ
ループを発現させることでドライ感を付与する方
法がある。本考案者はこのような方法によつて得
られる繊維と同時にその断面形態について種々検
討を重ねた結果、特殊なスリツト形状からなる紡
糸孔を有する紡糸口金を使用することによつて、
前記特徴を十分に発現する繊維を安定して得るこ
とが可能となることを見い出し、本考案に至つた
のである。 すなわち、本考案は八字形に配したスリツト1
0,20からなる紡糸孔を有する紡糸口金におい
て、スリツト10,20がその長手方向の中心線
を挾んで頂部に相互に直交する二叉状のスリツト
12,13,22,23と、底部に外方に突出す
る小突起状のスリツト14,24を有して八字形
に配設してなる紡糸孔を有することを特徴とする
ものである。 以下、本考案を図面によつて説明する。 第1図は本考案の具体例を示す紡糸孔の平面図
である。図において、10,20はそれぞれ八字
形状に構成したスリツトで、A−A線に対し称的
に配されている。各スリツト10,20はその長
手方向の中心線11,21を挾んで相互に直交す
る二叉状のスリツト12,13,22,23を頂
部に有し、又、底部には外方側に突出する小突起
状のスリツト14,24を有している。スリツト
12,22は相互に対面する内方側に水平に突出
し、その先端部12′,22′は半円状に形成され
ている。スリツト13,23はスリツト12,2
2と直交するように直立し、かつ先端部13′,
23′は半円状に形成されており、又、基点Bか
らの突出長はスリツト12,22よりやや長くす
るのが好ましいが、等しくても或は逆にやや短く
してもよい。スリツト14,24は中心線11,
21より外方側に小間隔離れた点Cを中心とし、
スリツト10,20の巾dの1/2より大きい半径
rで形成された円形状の突起からなる。 各スリツトの方法や間隔は紡糸すべきポリマー
の種類、紡糸条件、紡出糸のデニール等によつて
適宜選定すべきであるが、一般に後述する先欠け
ブーメラン状断面の繊維を安定して得るためには
スリツト10,20の基準長l(点B〜C間)と
巾dとの比l/dが3.0〜4.0、底部巾hと巾dとの比
h/dが1.5〜2.0(通常底部巾h=2rとする)、スリ
ツト10,20の開口角度αは90゜〜100゜にす
るのが好ましい。尚、スリツト10,20の巾d
は紡糸条件等によつて異なるが、通常0.06〜0.1
mmとされるが、この巾dが大きいと吐出溶融ポリ
マーの脈動或はベンデングを生じ易くなるので、
適用範囲の中で出来るだけ狭くするのが好まし
い。 このような紡糸孔を有する紡糸口金を用いて紡
糸を行なうと第2図に示すような断面形状を有す
る繊維が安定して得られる。この繊維はいわゆる
ブーメラン状でその中央部が凹状に形成された先
欠けブーメラン状となるもので、従来の繊維に比
し柞蚕調シルキー素材として優れたものである。 ここでこのような断面形状の繊維を特に安定し
て得るには、頂部のスリツト12,22の先端部
12′と22′との間隙mを0.04〜0.08mmとするの
が好ましく、間隙mが0.08mmを越えると密着不良
を生り易く、2つに分離するものが増え、0.04mm
以下となると逆に先欠け状をなさなくなつて風合
(ふくらみ)を著しく損う傾向が強くなる。 又、底部のスリツト14,24は外方側(外角
側)に突出することが必要であり、内方側(開口
角度α側)に突出すると、この突出部が密着し、
中空円形断面糸が生じ易くなり、安定した糸断面
が得られなくなる。このように外方側にスリツト
14,24を形成した際、スリツト10と20と
の間の開口角度αは前述の如く通常90〜100゜に
されるが、この場合には糸断面の開口角度αが
130〜140゜の安定した断面形状糸が得られる。 本考案はこのような紡糸孔を通常数十個配した
紡糸口金を使用するものであるが、かかる紡糸口
金によつて前記の如き先欠けブーメラン状の特殊
断面を有する、柞蚕調シルキー素材として高級衣
料用に価値の大きい、繊維を連続的に安定して得
ることが可能となる。 実施例 極限粘度0.65(オルトクロールフエノール中で
測定)のポリエチレンテレフタレート(アルキル
スルホン酸ソーダを0.8wt%を含む)を常法によ
り溶融紡糸し、1400m/分で捲取つた後、得られ
た未延伸糸を延伸倍率2.933倍、加熱温度85℃で
延伸し、スリツトヒータ温度180℃で熱セツトし
て800m/分で捲取つた。この際に使用した紡糸
孔の形状、得られた糸断面形状(延伸処理後のも
の)とその断面安定性、シヤリ感等を調べたその
結果を第1表に示す。
【表】
【表】 【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例を示す紡糸孔の平面
図、第2図は第1図の紡糸孔で得られた繊維の断
面図である。 10,20……スリツト、12,13,22,
23……二叉状のスリツト、14,24……小突
起状のスリツト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 八字形に配したスリツト10,20からなる紡
    糸孔を有する紡糸口金において、スリツト10,
    20がその長手方向の中心線を挾んで頂部に相互
    に直交する二叉状のスリツト12,13,22,
    23と、底部に外方に突出する小突起状のスリツ
    ト14,24を有して八字形に配設してなる紡糸
    孔を有することを特徴とする紡糸口金。
JP1981086670U 1981-06-15 1981-06-15 Expired JPS6111233Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1981086670U JPS6111233Y2 (ja) 1981-06-15 1981-06-15

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JP1981086670U JPS6111233Y2 (ja) 1981-06-15 1981-06-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57200567U JPS57200567U (ja) 1982-12-20
JPS6111233Y2 true JPS6111233Y2 (ja) 1986-04-09

Family

ID=29881877

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1981086670U Expired JPS6111233Y2 (ja) 1981-06-15 1981-06-15

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JP (1) JPS6111233Y2 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566444A (en) * 1979-06-28 1981-01-23 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Production of semiconductor device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566444A (en) * 1979-06-28 1981-01-23 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Production of semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57200567U (ja) 1982-12-20

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