JPS61112085A - アルキルハロシランの製造方法 - Google Patents

アルキルハロシランの製造方法

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JPS61112085A
JPS61112085A JP60239659A JP23965985A JPS61112085A JP S61112085 A JPS61112085 A JP S61112085A JP 60239659 A JP60239659 A JP 60239659A JP 23965985 A JP23965985 A JP 23965985A JP S61112085 A JPS61112085 A JP S61112085A
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silicon
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reactor
copper
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ウイリアム・ジエサツプ・ワード,サード
アラン・リツツアー
ハイネ・ラピドツト
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/16Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背崇 本発明はアルキルハロシラン類を製造する方法に関する
。さらに詳しくは、本発明は塩化銅触媒(15よび少星
のフュームドシリカの存在下〇塩化メブルと粉末珪素と
の反応を行う工程を含む方法に関する。
ロツチtつ(ROChOw ) −8Fシリコ1−ンの
化学(Chemistry or 311icones
) l第2版、ジョン・ウイツク・アンド・1ナンズ(
John W 1ley& 5ons)、1951年に
記載されているように、塩化第一銅を還元により珪素粒
子上に唯積して、塩化メチルと粉末珪素からり臼ロシラ
ンを合成するのに適ツ1な反応性接触体を得ることかぐ
きる。当業者には、塩化第一銅が230℃以−1−の温
度に加熱されると焼結する傾向をもも、これが塩化第一
銅を流動床反応器でメチルクロロシランを形成する直接
法に魅力的な銅源として用いるのを妨げていることが知
られている。例えば、塩化第一銅と粉末珪素の混合物の
凝塊またはグーキングが流動床内で起り、これが塩化メ
チルと粉末珪素をメチルクロ[1シランに転化゛りる際
の、銅−珪素接触体の作用を妨害づ゛ることが知られて
いる。、塩化第−銅一粉末珪素接触体の凝集は、例えば
スタークにより与えられる機械的11によっ(ある程度
緩和できる。とはいえ、流動床中で銅−珪素接触体の形
成に先立って塩化第−銅一粉末珪素混合物が凝集すると
流動床の性能がひどく妨げられる。他の形態の銅化合物
、例えば酸化銅を使用できるので、塩化第一銅を流動床
内の銅源として使用できれば好適である。
本発明は、粉末珪素フュームドシリカおよび塩化第一銅
よりなる混合物を流動床に間欠的または連続的に供給す
るとケーキングが生じないことを見出してなしたもので
ある。流動床反応器が連続条件下で鋤らいているとき流
動床に凝塊が生じたか否かは、熱電対で不規則な高熱点
が検出されることでわかる。
発明の開示 本発明は、流動床反応器でアルキルハロシランを製造す
るにあたり、100部の粉末珪素、0゜001〜0.2
部のフュームドシリカおよび0゜1〜20部の塩化第一
銅よりなる混合物を流動床反応器中に連続条件下で導入
することにより反応器内でその場で生成された銅−珪素
接触体の存在下で、アルキルハライドと粉末11素の接
触をfrうことを特徴とする。
本発明の方法を流動床反応器内ぐ連続的にl+い、触媒
分を有する珪素材料を反応器から分離しリリーイクルJ
るのが特に好適である。
具体的開成 本発明の実施にあたっては塩化メチルを用いるのが好ま
しいが、他のC(+−Jlアルキルクロリ1−1例えば
塩化エチル、塩化プロピルなども使用Cさる。
塩化メチルまたは不活性ガス、例えばアル−1ンまたは
これらの混合物を用いて、触媒分の存在7Jるまたは存
在しない反応器内で珪素粒子の床を流動化することがで
きる。流動床中に存在する珪素は700ミクロン以下の
粒度をもら、平均粒IVが20ミクロン以上300ミク
ロン以下(・ある。珪素粒子の平均直径が100〜15
0ミクロンの範回内にあるのが好ましい。
珪素は通常98重量%以上の純度で得られ、これを微粉
砕して上記範囲内の珪素粒子にし、必要に応じて適当な
反応器に供給する。流動床が好ましいが、本発明の方法
は他の型式の反応器、例えば固定床や撹拌床にも使用で
きる。流動床反応器を用いるのが好ましいのは、メチル
クロロシランの最適選択率と最大量が得られるからであ
る。本発明の方法は250〜350℃の範囲の温度、好
ましくは270〜330℃の範囲の温度で行うのがよい
。反応は連続条件下でもバッチ反応としても起る。
本発明の方法を1〜10気圧の圧力下で行うのかよい。
塩化メチルを反応器に連続的に適して反応材料を流動化
することができ、気体状メチルクロロシランを未反応塩
化メチルとともに反応器から外へ取出すことができる。
気体状粗生成物、混合物およびそれに同伴された反応粒
子を流動化反応器から通過させ、1つ以上のサイクロン
に通して、q−酸物ガス流から大きな粒子を分離する。
これらの粒子を反応器に戻して本方法にさらに利用し、
こうして珪素からのジメチルジクロロシランの収率を最
大にJることができる。比較的小さな粒子は生成物流と
共に出てくる。次にこの生成物流を凝縮させる。
精製塩化メチルを加熱し流動化反応器にリナイクルして
さらにメチルクロロシランの生成に利用する。粗メチル
クロOシラン流を蒸留系列に通して、本方法で生成した
種々のクロロシラン留分を本質的に純粋な形態で留出さ
せる。ジメチルジクロロシランおよび曲のクロロシラン
を蒸留し精製して、これらをシリコーン材料のM 2方
法に利)]1できるようにする必要がある。
流動床反応器での直接法に供される塩化メチルをその沸
点より高い温度に加熱し、ガスとして珪素粒子の床を流
動化するのに−1分な流RT:陵応器に通ず。
本発明の方法は底部にジェットミルを有づる流動床反応
器で行うことがて・きる。適当なジェットミルの構造が
ドットソン(1) otson )の米国持ム1第3.
,133,109号にニオζされてよ5つ、ここで大き
な1素粒子を微粉砕する。得られる珪素お上び触媒の細
かい粒子を反応器でさらに使用して所望のアルキルハロ
シランを生成する。
Ii水素用率を改良する別の方法として、珪素粒子の表
面を9滅する方法がある。大小の珪素粒子の処理が、本
出願人に譲渡されたシエイド(3hadO)の米国特許
第4,281,149号に示されている。この特許を本
発明の先行刊行物として挙げておく。シエイド(S h
ade)の方法は、流動床反応器から小さい珪素粒子を
取出し、その粒子をづ−りつぶし、その後粒子をリサイ
クルするのに有利ぐある。
ここで使用する用語「塩化第一銅」はASTMメツシュ
で325メツシユ以下の粒度を有する材料を意味する。
用語「フュームドシリカ」は四塩化珪素または他の塩化
珪素化合物、例えばトリクロロシラン蒸気を水素および
酸素の炎中で加水分解することにより得られる生成物を
意味する。これは表面積200〜42012/gを有す
る。用品フユームドシリ力の中にはカーボシル(Cab
−0−3il)、キせボット・コーポレーション(Ca
bot  Corporation)製や[アロシル(
Aerosil) 、デグツサ(De Gussa)製
が含まれる。
当業者が本発明を適切に実施でさるように、以下に実施
例を限定としてで【よなく例示として示1.。
部はすべて重量基準である。
実施例 粒状珪素と塩化メチルからのメチルクロロシラン類の直
接合成を、混合酸化銅触媒を含む流動床反応器内で連続
的に行う。銅源は急激にΔSIM−325メツシュの粒
度の塩化第一銅に変わる。
100部の珪素、10部の塩化第一銅および0゜1部の
フュームドシリカ(デグツサ社製エアロシル200>の
混合物を反応器に連続的に70時間にわたって供給する
。反応器に多数取付けた熱電対からの湿度点のドリフト
の欠如で示されるような凝集、すなわら流動床のケーキ
ングの徴候はなく、ディフューザプレートΔPの増加や
反応終了    □時に通常見られるものより大きいパ
ストーンや凝!束物″もない。
同様の実験を流動床反応器で行い、ここでは粒状の薬品
等級の珪素(98−5%Si)と塩化メチルとの直接反
応を280〜300℃で行い、触媒源は天然の沈析物を
基質とする混合酸化鋼であり、これも急激に粉末塩化第
一銅に変わる。塩化第一銅は99%の鋼をCuzClz
として含有し、粒度はASTM−100メツシユである
。塩化第一銅を5重量%の前記酸化銅粉末と予め混合し
て流動性を高め、橢械的−空気圧的送給系の使用を可能
にする。しかし、塩化第一銅を反応器に供給する前にフ
ユームドシリ力を塩化第一銅と予め混合しない。
72時間の供給時間後、流動床ケーキング、即ら接触体
の凝集が起ったことが確認された。凝集を証明するのは
、(熱雷対による)多点温度測定値の広がり幅、ディフ
ューザプレート間のΔPの増加、そして反応器実験の終
了時に[使用済みの床1を移す際にみられる固形ケーキ
である。
これらの結果が示しているのは、本発明に従って塩化第
一銅をフユームドシリ力と共に反応器に供給すれば、凝
集を起すことなく、粉末塩化第一銅を銅触媒源として流
動床反応器に連続条件トで使用できる、ということであ
る。
上記実施例は本発明の7j法を実施するのに使用できる
極めて多数変数のうちごく小数に言及しているだけであ
るが、本発明はもつと広い範囲の、塩化第−銅材料例え
ば他の種々の量の粉末珪素と組合せた塩化第一銅の混合
物およびツー1−ムドシリ力を、促進剤もしく番よ助触
媒として用いられる他の金属または金属化合物と共に、
使用することを包括していることを理解すべき−Cある

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、流動床反応器でアルキルハロシランを製造するにあ
    たり、 100部の粉末珪素、0.001〜0.2部のフューム
    ドシリカおよび0.1〜20部の塩化第一銅よりなる混
    合物を流動床反応器中に連続条件下で導入することによ
    り反応器内でその場で生成した銅−珪素接触体の存在下
    で、アルキルハライドと粉末珪素の接触を行うことを特
    徴とするアルキルハロシランの製造方法。 2、上記アルキルハライドが塩化メチルである特許請求
    の範囲第1項記載の方法。
JP60239659A 1984-10-29 1985-10-28 アルキルハロシランの製造方法 Granted JPS61112085A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US665878 1984-10-29
US06/665,878 US4554370A (en) 1984-10-29 1984-10-29 Method for making alkylhalosilanes

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JPS61112085A true JPS61112085A (ja) 1986-05-30
JPH035396B2 JPH035396B2 (ja) 1991-01-25

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JPH035396B2 (ja) 1991-01-25
US4554370A (en) 1985-11-19

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