JPS61112085A - アルキルハロシランの製造方法 - Google Patents
アルキルハロシランの製造方法Info
- Publication number
- JPS61112085A JPS61112085A JP60239659A JP23965985A JPS61112085A JP S61112085 A JPS61112085 A JP S61112085A JP 60239659 A JP60239659 A JP 60239659A JP 23965985 A JP23965985 A JP 23965985A JP S61112085 A JPS61112085 A JP S61112085A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- fluidized bed
- chloride
- reactor
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical group ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- WCCJDBZJUYKDBF-UHFFFAOYSA-N copper silicon Chemical compound [Si].[Cu] WCCJDBZJUYKDBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 18
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 7
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QJXRQZKOCJPXGW-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Si](Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound [Cu].[Si](Cl)(Cl)(Cl)Cl QJXRQZKOCJPXGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- -1 methylchloro-O-silane Chemical compound 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical class C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical class Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背崇
本発明はアルキルハロシラン類を製造する方法に関する
。さらに詳しくは、本発明は塩化銅触媒(15よび少星
のフュームドシリカの存在下〇塩化メブルと粉末珪素と
の反応を行う工程を含む方法に関する。
。さらに詳しくは、本発明は塩化銅触媒(15よび少星
のフュームドシリカの存在下〇塩化メブルと粉末珪素と
の反応を行う工程を含む方法に関する。
ロツチtつ(ROChOw ) −8Fシリコ1−ンの
化学(Chemistry or 311icones
) l第2版、ジョン・ウイツク・アンド・1ナンズ(
John W 1ley& 5ons)、1951年に
記載されているように、塩化第一銅を還元により珪素粒
子上に唯積して、塩化メチルと粉末珪素からり臼ロシラ
ンを合成するのに適ツ1な反応性接触体を得ることかぐ
きる。当業者には、塩化第一銅が230℃以−1−の温
度に加熱されると焼結する傾向をもも、これが塩化第一
銅を流動床反応器でメチルクロロシランを形成する直接
法に魅力的な銅源として用いるのを妨げていることが知
られている。例えば、塩化第一銅と粉末珪素の混合物の
凝塊またはグーキングが流動床内で起り、これが塩化メ
チルと粉末珪素をメチルクロ[1シランに転化゛りる際
の、銅−珪素接触体の作用を妨害づ゛ることが知られて
いる。、塩化第−銅一粉末珪素接触体の凝集は、例えば
スタークにより与えられる機械的11によっ(ある程度
緩和できる。とはいえ、流動床中で銅−珪素接触体の形
成に先立って塩化第−銅一粉末珪素混合物が凝集すると
流動床の性能がひどく妨げられる。他の形態の銅化合物
、例えば酸化銅を使用できるので、塩化第一銅を流動床
内の銅源として使用できれば好適である。
化学(Chemistry or 311icones
) l第2版、ジョン・ウイツク・アンド・1ナンズ(
John W 1ley& 5ons)、1951年に
記載されているように、塩化第一銅を還元により珪素粒
子上に唯積して、塩化メチルと粉末珪素からり臼ロシラ
ンを合成するのに適ツ1な反応性接触体を得ることかぐ
きる。当業者には、塩化第一銅が230℃以−1−の温
度に加熱されると焼結する傾向をもも、これが塩化第一
銅を流動床反応器でメチルクロロシランを形成する直接
法に魅力的な銅源として用いるのを妨げていることが知
られている。例えば、塩化第一銅と粉末珪素の混合物の
凝塊またはグーキングが流動床内で起り、これが塩化メ
チルと粉末珪素をメチルクロ[1シランに転化゛りる際
の、銅−珪素接触体の作用を妨害づ゛ることが知られて
いる。、塩化第−銅一粉末珪素接触体の凝集は、例えば
スタークにより与えられる機械的11によっ(ある程度
緩和できる。とはいえ、流動床中で銅−珪素接触体の形
成に先立って塩化第−銅一粉末珪素混合物が凝集すると
流動床の性能がひどく妨げられる。他の形態の銅化合物
、例えば酸化銅を使用できるので、塩化第一銅を流動床
内の銅源として使用できれば好適である。
本発明は、粉末珪素フュームドシリカおよび塩化第一銅
よりなる混合物を流動床に間欠的または連続的に供給す
るとケーキングが生じないことを見出してなしたもので
ある。流動床反応器が連続条件下で鋤らいているとき流
動床に凝塊が生じたか否かは、熱電対で不規則な高熱点
が検出されることでわかる。
よりなる混合物を流動床に間欠的または連続的に供給す
るとケーキングが生じないことを見出してなしたもので
ある。流動床反応器が連続条件下で鋤らいているとき流
動床に凝塊が生じたか否かは、熱電対で不規則な高熱点
が検出されることでわかる。
発明の開示
本発明は、流動床反応器でアルキルハロシランを製造す
るにあたり、100部の粉末珪素、0゜001〜0.2
部のフュームドシリカおよび0゜1〜20部の塩化第一
銅よりなる混合物を流動床反応器中に連続条件下で導入
することにより反応器内でその場で生成された銅−珪素
接触体の存在下で、アルキルハライドと粉末11素の接
触をfrうことを特徴とする。
るにあたり、100部の粉末珪素、0゜001〜0.2
部のフュームドシリカおよび0゜1〜20部の塩化第一
銅よりなる混合物を流動床反応器中に連続条件下で導入
することにより反応器内でその場で生成された銅−珪素
接触体の存在下で、アルキルハライドと粉末11素の接
触をfrうことを特徴とする。
本発明の方法を流動床反応器内ぐ連続的にl+い、触媒
分を有する珪素材料を反応器から分離しリリーイクルJ
るのが特に好適である。
分を有する珪素材料を反応器から分離しリリーイクルJ
るのが特に好適である。
具体的開成
本発明の実施にあたっては塩化メチルを用いるのが好ま
しいが、他のC(+−Jlアルキルクロリ1−1例えば
塩化エチル、塩化プロピルなども使用Cさる。
しいが、他のC(+−Jlアルキルクロリ1−1例えば
塩化エチル、塩化プロピルなども使用Cさる。
塩化メチルまたは不活性ガス、例えばアル−1ンまたは
これらの混合物を用いて、触媒分の存在7Jるまたは存
在しない反応器内で珪素粒子の床を流動化することがで
きる。流動床中に存在する珪素は700ミクロン以下の
粒度をもら、平均粒IVが20ミクロン以上300ミク
ロン以下(・ある。珪素粒子の平均直径が100〜15
0ミクロンの範回内にあるのが好ましい。
これらの混合物を用いて、触媒分の存在7Jるまたは存
在しない反応器内で珪素粒子の床を流動化することがで
きる。流動床中に存在する珪素は700ミクロン以下の
粒度をもら、平均粒IVが20ミクロン以上300ミク
ロン以下(・ある。珪素粒子の平均直径が100〜15
0ミクロンの範回内にあるのが好ましい。
珪素は通常98重量%以上の純度で得られ、これを微粉
砕して上記範囲内の珪素粒子にし、必要に応じて適当な
反応器に供給する。流動床が好ましいが、本発明の方法
は他の型式の反応器、例えば固定床や撹拌床にも使用で
きる。流動床反応器を用いるのが好ましいのは、メチル
クロロシランの最適選択率と最大量が得られるからであ
る。本発明の方法は250〜350℃の範囲の温度、好
ましくは270〜330℃の範囲の温度で行うのがよい
。反応は連続条件下でもバッチ反応としても起る。
砕して上記範囲内の珪素粒子にし、必要に応じて適当な
反応器に供給する。流動床が好ましいが、本発明の方法
は他の型式の反応器、例えば固定床や撹拌床にも使用で
きる。流動床反応器を用いるのが好ましいのは、メチル
クロロシランの最適選択率と最大量が得られるからであ
る。本発明の方法は250〜350℃の範囲の温度、好
ましくは270〜330℃の範囲の温度で行うのがよい
。反応は連続条件下でもバッチ反応としても起る。
本発明の方法を1〜10気圧の圧力下で行うのかよい。
塩化メチルを反応器に連続的に適して反応材料を流動化
することができ、気体状メチルクロロシランを未反応塩
化メチルとともに反応器から外へ取出すことができる。
することができ、気体状メチルクロロシランを未反応塩
化メチルとともに反応器から外へ取出すことができる。
気体状粗生成物、混合物およびそれに同伴された反応粒
子を流動化反応器から通過させ、1つ以上のサイクロン
に通して、q−酸物ガス流から大きな粒子を分離する。
子を流動化反応器から通過させ、1つ以上のサイクロン
に通して、q−酸物ガス流から大きな粒子を分離する。
これらの粒子を反応器に戻して本方法にさらに利用し、
こうして珪素からのジメチルジクロロシランの収率を最
大にJることができる。比較的小さな粒子は生成物流と
共に出てくる。次にこの生成物流を凝縮させる。
こうして珪素からのジメチルジクロロシランの収率を最
大にJることができる。比較的小さな粒子は生成物流と
共に出てくる。次にこの生成物流を凝縮させる。
精製塩化メチルを加熱し流動化反応器にリナイクルして
さらにメチルクロロシランの生成に利用する。粗メチル
クロOシラン流を蒸留系列に通して、本方法で生成した
種々のクロロシラン留分を本質的に純粋な形態で留出さ
せる。ジメチルジクロロシランおよび曲のクロロシラン
を蒸留し精製して、これらをシリコーン材料のM 2方
法に利)]1できるようにする必要がある。
さらにメチルクロロシランの生成に利用する。粗メチル
クロOシラン流を蒸留系列に通して、本方法で生成した
種々のクロロシラン留分を本質的に純粋な形態で留出さ
せる。ジメチルジクロロシランおよび曲のクロロシラン
を蒸留し精製して、これらをシリコーン材料のM 2方
法に利)]1できるようにする必要がある。
流動床反応器での直接法に供される塩化メチルをその沸
点より高い温度に加熱し、ガスとして珪素粒子の床を流
動化するのに−1分な流RT:陵応器に通ず。
点より高い温度に加熱し、ガスとして珪素粒子の床を流
動化するのに−1分な流RT:陵応器に通ず。
本発明の方法は底部にジェットミルを有づる流動床反応
器で行うことがて・きる。適当なジェットミルの構造が
ドットソン(1) otson )の米国持ム1第3.
,133,109号にニオζされてよ5つ、ここで大き
な1素粒子を微粉砕する。得られる珪素お上び触媒の細
かい粒子を反応器でさらに使用して所望のアルキルハロ
シランを生成する。
器で行うことがて・きる。適当なジェットミルの構造が
ドットソン(1) otson )の米国持ム1第3.
,133,109号にニオζされてよ5つ、ここで大き
な1素粒子を微粉砕する。得られる珪素お上び触媒の細
かい粒子を反応器でさらに使用して所望のアルキルハロ
シランを生成する。
Ii水素用率を改良する別の方法として、珪素粒子の表
面を9滅する方法がある。大小の珪素粒子の処理が、本
出願人に譲渡されたシエイド(3hadO)の米国特許
第4,281,149号に示されている。この特許を本
発明の先行刊行物として挙げておく。シエイド(S h
ade)の方法は、流動床反応器から小さい珪素粒子を
取出し、その粒子をづ−りつぶし、その後粒子をリサイ
クルするのに有利ぐある。
面を9滅する方法がある。大小の珪素粒子の処理が、本
出願人に譲渡されたシエイド(3hadO)の米国特許
第4,281,149号に示されている。この特許を本
発明の先行刊行物として挙げておく。シエイド(S h
ade)の方法は、流動床反応器から小さい珪素粒子を
取出し、その粒子をづ−りつぶし、その後粒子をリサイ
クルするのに有利ぐある。
ここで使用する用語「塩化第一銅」はASTMメツシュ
で325メツシユ以下の粒度を有する材料を意味する。
で325メツシユ以下の粒度を有する材料を意味する。
用語「フュームドシリカ」は四塩化珪素または他の塩化
珪素化合物、例えばトリクロロシラン蒸気を水素および
酸素の炎中で加水分解することにより得られる生成物を
意味する。これは表面積200〜42012/gを有す
る。用品フユームドシリ力の中にはカーボシル(Cab
−0−3il)、キせボット・コーポレーション(Ca
bot Corporation)製や[アロシル(
Aerosil) 、デグツサ(De Gussa)製
が含まれる。
珪素化合物、例えばトリクロロシラン蒸気を水素および
酸素の炎中で加水分解することにより得られる生成物を
意味する。これは表面積200〜42012/gを有す
る。用品フユームドシリ力の中にはカーボシル(Cab
−0−3il)、キせボット・コーポレーション(Ca
bot Corporation)製や[アロシル(
Aerosil) 、デグツサ(De Gussa)製
が含まれる。
当業者が本発明を適切に実施でさるように、以下に実施
例を限定としてで【よなく例示として示1.。
例を限定としてで【よなく例示として示1.。
部はすべて重量基準である。
実施例
粒状珪素と塩化メチルからのメチルクロロシラン類の直
接合成を、混合酸化銅触媒を含む流動床反応器内で連続
的に行う。銅源は急激にΔSIM−325メツシュの粒
度の塩化第一銅に変わる。
接合成を、混合酸化銅触媒を含む流動床反応器内で連続
的に行う。銅源は急激にΔSIM−325メツシュの粒
度の塩化第一銅に変わる。
100部の珪素、10部の塩化第一銅および0゜1部の
フュームドシリカ(デグツサ社製エアロシル200>の
混合物を反応器に連続的に70時間にわたって供給する
。反応器に多数取付けた熱電対からの湿度点のドリフト
の欠如で示されるような凝集、すなわら流動床のケーキ
ングの徴候はなく、ディフューザプレートΔPの増加や
反応終了 □時に通常見られるものより大きいパ
ストーンや凝!束物″もない。
フュームドシリカ(デグツサ社製エアロシル200>の
混合物を反応器に連続的に70時間にわたって供給する
。反応器に多数取付けた熱電対からの湿度点のドリフト
の欠如で示されるような凝集、すなわら流動床のケーキ
ングの徴候はなく、ディフューザプレートΔPの増加や
反応終了 □時に通常見られるものより大きいパ
ストーンや凝!束物″もない。
同様の実験を流動床反応器で行い、ここでは粒状の薬品
等級の珪素(98−5%Si)と塩化メチルとの直接反
応を280〜300℃で行い、触媒源は天然の沈析物を
基質とする混合酸化鋼であり、これも急激に粉末塩化第
一銅に変わる。塩化第一銅は99%の鋼をCuzClz
として含有し、粒度はASTM−100メツシユである
。塩化第一銅を5重量%の前記酸化銅粉末と予め混合し
て流動性を高め、橢械的−空気圧的送給系の使用を可能
にする。しかし、塩化第一銅を反応器に供給する前にフ
ユームドシリ力を塩化第一銅と予め混合しない。
等級の珪素(98−5%Si)と塩化メチルとの直接反
応を280〜300℃で行い、触媒源は天然の沈析物を
基質とする混合酸化鋼であり、これも急激に粉末塩化第
一銅に変わる。塩化第一銅は99%の鋼をCuzClz
として含有し、粒度はASTM−100メツシユである
。塩化第一銅を5重量%の前記酸化銅粉末と予め混合し
て流動性を高め、橢械的−空気圧的送給系の使用を可能
にする。しかし、塩化第一銅を反応器に供給する前にフ
ユームドシリ力を塩化第一銅と予め混合しない。
72時間の供給時間後、流動床ケーキング、即ら接触体
の凝集が起ったことが確認された。凝集を証明するのは
、(熱雷対による)多点温度測定値の広がり幅、ディフ
ューザプレート間のΔPの増加、そして反応器実験の終
了時に[使用済みの床1を移す際にみられる固形ケーキ
である。
の凝集が起ったことが確認された。凝集を証明するのは
、(熱雷対による)多点温度測定値の広がり幅、ディフ
ューザプレート間のΔPの増加、そして反応器実験の終
了時に[使用済みの床1を移す際にみられる固形ケーキ
である。
これらの結果が示しているのは、本発明に従って塩化第
一銅をフユームドシリ力と共に反応器に供給すれば、凝
集を起すことなく、粉末塩化第一銅を銅触媒源として流
動床反応器に連続条件トで使用できる、ということであ
る。
一銅をフユームドシリ力と共に反応器に供給すれば、凝
集を起すことなく、粉末塩化第一銅を銅触媒源として流
動床反応器に連続条件トで使用できる、ということであ
る。
上記実施例は本発明の7j法を実施するのに使用できる
極めて多数変数のうちごく小数に言及しているだけであ
るが、本発明はもつと広い範囲の、塩化第−銅材料例え
ば他の種々の量の粉末珪素と組合せた塩化第一銅の混合
物およびツー1−ムドシリ力を、促進剤もしく番よ助触
媒として用いられる他の金属または金属化合物と共に、
使用することを包括していることを理解すべき−Cある
。
極めて多数変数のうちごく小数に言及しているだけであ
るが、本発明はもつと広い範囲の、塩化第−銅材料例え
ば他の種々の量の粉末珪素と組合せた塩化第一銅の混合
物およびツー1−ムドシリ力を、促進剤もしく番よ助触
媒として用いられる他の金属または金属化合物と共に、
使用することを包括していることを理解すべき−Cある
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、流動床反応器でアルキルハロシランを製造するにあ
たり、 100部の粉末珪素、0.001〜0.2部のフューム
ドシリカおよび0.1〜20部の塩化第一銅よりなる混
合物を流動床反応器中に連続条件下で導入することによ
り反応器内でその場で生成した銅−珪素接触体の存在下
で、アルキルハライドと粉末珪素の接触を行うことを特
徴とするアルキルハロシランの製造方法。 2、上記アルキルハライドが塩化メチルである特許請求
の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US665878 | 1984-10-29 | ||
US06/665,878 US4554370A (en) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Method for making alkylhalosilanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61112085A true JPS61112085A (ja) | 1986-05-30 |
JPH035396B2 JPH035396B2 (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=24671926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60239659A Granted JPS61112085A (ja) | 1984-10-29 | 1985-10-28 | アルキルハロシランの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4554370A (ja) |
JP (1) | JPS61112085A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6395917B1 (en) | 2000-10-20 | 2002-05-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of organohalosilanes |
JP2018513824A (ja) * | 2015-03-24 | 2018-05-31 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | ケイ化銅の流動化方法及び同方法を用いたハロシランの調製プロセス |
JP2022517459A (ja) * | 2019-03-12 | 2022-03-09 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | オルガノクロロシランの調製方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5061672A (en) * | 1990-01-30 | 1991-10-29 | Elkem Metals Company | Active mass for making organohalosilanes |
US5312948A (en) * | 1993-10-08 | 1994-05-17 | Dow Corning Corporation | Particle size distribution for fluidized-bed process for making alkylhalosilanes |
JP3159029B2 (ja) * | 1996-01-12 | 2001-04-23 | 信越化学工業株式会社 | シラン類の製造方法 |
DE19919337C1 (de) | 1999-04-27 | 2000-05-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU130882A1 (ru) * | 1959-11-30 | 1960-11-30 | Я.И. Вабель | Способ получени метилхлорсиланов |
US3133109A (en) * | 1960-11-28 | 1964-05-12 | Gen Electric | Silicon compound process and apparatus |
SU400594A1 (ru) * | 1962-06-08 | 1973-10-01 | Способ получения метил- и диметилдихлорсиланов | |
US4487950A (en) * | 1982-04-16 | 1984-12-11 | General Electric Company | Method for making methylchlorosilanes |
-
1984
- 1984-10-29 US US06/665,878 patent/US4554370A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-10-28 JP JP60239659A patent/JPS61112085A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6395917B1 (en) | 2000-10-20 | 2002-05-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of organohalosilanes |
JP2018513824A (ja) * | 2015-03-24 | 2018-05-31 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | ケイ化銅の流動化方法及び同方法を用いたハロシランの調製プロセス |
JP2022517459A (ja) * | 2019-03-12 | 2022-03-09 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | オルガノクロロシランの調製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH035396B2 (ja) | 1991-01-25 |
US4554370A (en) | 1985-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6465674B1 (en) | Dust recirculation in the direct synthesis of chlorosilanes and methylchlorosilanes in a fluidized bed | |
US4500724A (en) | Method for making alkylhalosilanes | |
JPH0551596B2 (ja) | ||
JPH0692421B2 (ja) | アルキルハロシラン類の製造方法 | |
US5015751A (en) | Process for the production of organochlorosilanes | |
KR20170047373A (ko) | 유동상 반응기에서의 메틸클로로실란의 직접 합성 방법 | |
US5312948A (en) | Particle size distribution for fluidized-bed process for making alkylhalosilanes | |
JPH02208217A (ja) | トリクロルモノシランの製造方法 | |
JP2003531007A (ja) | 触体の製造方法 | |
JPS61112085A (ja) | アルキルハロシランの製造方法 | |
GB2153697A (en) | Catalysts for the production of organohalosilanes | |
US4487950A (en) | Method for making methylchlorosilanes | |
US6288258B1 (en) | Preparation of organohalosilanes | |
JPH0259590A (ja) | 有機クロルシランの製造法 | |
KR100731205B1 (ko) | 메틸클로로실란의 제조 방법 | |
US6423860B1 (en) | Method for promoting dialkyldihalosilane formation during direct method alkylhalosilane production | |
JPS6360026B2 (ja) | ||
CN111971253B (zh) | 制备氯硅烷的方法 | |
US5986123A (en) | Preparation of alkylhalosilanes | |
JP3248390B2 (ja) | ハロシランの製造方法 | |
JP7381605B2 (ja) | 構造が最適化されたシリコン粒子を有するトリクロロシランの製造方法 | |
JPH0131454B2 (ja) | ||
JP2024028751A (ja) | 構造最適化シリコン粒子を有するトリクロロシランを生成するための方法 |