JPS6085862A - Method and device for polishing workpiece - Google Patents

Method and device for polishing workpiece

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JPS6085862A
JPS6085862A JP58193942A JP19394283A JPS6085862A JP S6085862 A JPS6085862 A JP S6085862A JP 58193942 A JP58193942 A JP 58193942A JP 19394283 A JP19394283 A JP 19394283A JP S6085862 A JPS6085862 A JP S6085862A
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JP
Japan
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surface plate
workpiece
workpieces
roller
polishing
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JP58193942A
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Yasuyuki Onomi
尾身 康行
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Fujikoshi Machinery Corp
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Fujikoshi Kikai Kogyo KK
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/07Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
    • B24B37/08Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent deflection in polishing to enhance the safety, by providing such an arrangement that a predetermined number of workpiece are successively set on a stool, being pressed by a holding fixture, and center and guide rollers are rotated to revolute the workpieces on the stool while the stool is rotated for polishing the workpieces. CONSTITUTION:When a stool 11 is rotated in the E direction while a center roller 12 is rotated in the F direction, a workpiece 21A moves along the peripheral section of the stool 11, and is held between the center roller 12 and a guide roller 22a at the innermost part of the stool 11 in the rotational direction thereof. After a guide roller 22b is lowered and set on the stool 11 at a position next to the roller 22a in the clockwise direction, a workpiece 21B is set on the stool 11 under operation of an arm 34, and is held between the center and guide rollers 12, 22b, similarly. When workpieces 21A-21D are subjected to polishing by means of top rings 20, the workpieces 21A-21D may be rotated at the same speed under the same condition so that no uneveness in polishing takes place for the workpieces 21A-21D, and further, since the workpieces may be automatically supplied and taken out, no accident may be prevented even if the workpieces are large and heavy.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は研磨方法およびその装置に関し、一層詳細には
、定盤上に配置する複数のワークを自動的に供給しうる
と共に、定盤上にワークを圧接しつつ各ワークを同一速
度で自転させて均一に研磨することのできる研磨方法お
よびその装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a polishing method and an apparatus thereof, and more particularly, it is capable of automatically supplying a plurality of workpieces to be placed on a surface plate, and also polishing each workpiece while pressing the workpieces onto the surface plate. The present invention relates to a polishing method and apparatus capable of uniformly polishing a workpiece by rotating it at the same speed.

従来の研磨装置は、定盤の研磨面と砥粒の太きさとを変
えることによりラッピング装置およびボリシング装置な
どとして用いられている。例えば、ポリシング装置につ
いては第1図に示すように、回転する定盤1上に複数の
ワーク(図示せず)を載置するとともに、保持具たる複
数のトップリング2がワークを定盤1の研磨面たるボリ
シング面に圧接するように保持している。なお、ワーク
は、トップリング2によりボリシング面に直接圧接する
か、円盤状のホルダ(図示せず)の下面に貼りつけ、こ
のホルダをトップリング2に嵌着するが、あるいはホル
ダとポリシング面との間で挟着するなど適宜手段により
ポリシング面に圧接保持する。
Conventional polishing devices are used as lapping devices, boring devices, etc. by changing the polishing surface of the surface plate and the thickness of the abrasive grains. For example, in a polishing device, as shown in FIG. 1, a plurality of workpieces (not shown) are placed on a rotating surface plate 1, and a plurality of top rings 2 serving as holders hold the workpieces on the surface plate 1. It is held so as to be in pressure contact with the boring surface which is the polishing surface. The workpiece may be directly pressed against the polishing surface by the top ring 2, or it may be pasted on the bottom surface of a disc-shaped holder (not shown), and this holder may be fitted onto the top ring 2, or the holder may be brought into contact with the polishing surface. The polishing surface is held in pressure contact with the polishing surface by appropriate means such as being sandwiched between the polishing surface.

また、トップリング2は、定盤本体3に固定されたガイ
ド4の端部に遊転自在に取り付けられた一対のアイドラ
ー5.5に支持されている。6は研磨剤を定盤1のボリ
シング面に供給するためのパイプである。以上のように
構成されたポリシング装置の定盤1を回転させると、ア
イドラー5,5に支持されている各トップリング2は、
定盤1の中心側と外周側との間の周速度の差によってワ
ークと共に自転し、ワークを研磨するものである。
Further, the top ring 2 is supported by a pair of idlers 5.5 that are rotatably attached to the ends of a guide 4 fixed to the surface plate main body 3. Reference numeral 6 denotes a pipe for supplying abrasive to the boring surface of the surface plate 1. When the surface plate 1 of the polishing apparatus configured as described above is rotated, each top ring 2 supported by the idlers 5, 5 is rotated.
It rotates together with the workpiece due to the difference in peripheral speed between the center side and the outer peripheral side of the surface plate 1, and polishes the workpiece.

従来、このようなボリシング装置の定盤1上に研磨すべ
きワークを供給するには、作業者がいちいちワークを手
で持って定盤上に載置していた。
Conventionally, in order to supply workpieces to be polished onto the surface plate 1 of such a boring machine, an operator had to hold each workpiece by hand and place it on the surface plate.

このため作業が煩雑であるばかりでなく、ワークが大型
であったり、重量が大である場合には、定盤上にワーク
を載置するのが極めて困難となり、多大の労力と時間を
要するとともに落下事故等を起こし易いなどの難点があ
り、自動化が切望されていた。
For this reason, not only is the work complicated, but if the work is large or heavy, it is extremely difficult to place the work on the surface plate, which requires a great deal of effort and time. There were drawbacks such as the ease with which falling accidents could occur, so automation was desperately needed.

また一方、従来の装置では各トップリングが独立してア
イドラーに保持されているため、研磨する各ワークの回
転速度などの研磨条件が異なり、研磨むらを生ずるなど
の難点もある。
On the other hand, in the conventional apparatus, each top ring is held independently by an idler, so that the polishing conditions such as the rotational speed of each workpiece to be polished differ, resulting in uneven polishing.

本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、
定盤上へワークを自動的に供給するとともに、複数のワ
ークの研磨条件を同一にして研磨する研磨方法およびそ
の装置を提供することを目的とし、その特徴は、定盤上
に適宜数の研磨すべきワークを配置し、該ワークを定盤
上に保持具によってそれぞれ圧接させつつ定盤を回転さ
せてワークを研磨する研磨方法において、前記定盤の中
央にはセンターローラを配置し、また定盤の周辺には、
センターローラとの間で前記の各保持具を当接保持する
ガイドローラを所定間隔をあけて設け、また定盤の一画
に臨み、定盤の一定位置に順次ワークを定盤上に供給す
るワーク供給装置を設けて、ワークを定盤上に配置すべ
く、まずこのワーク供給位置に対する前記定盤の回転方
向最奥部に位置する第1のガイドローラを定盤周辺の所
定位置にセットするとともに、前記ワーク供給装置から
は1つのワークを定盤の一定位置に供給し、この供給さ
れたワークを定盤を回転することによってワークが前記
の第1のガイドローラとセンターローラとの間に当接保
持される位置まで搬送し、次いで定盤の反回転方向に隣
接する第2のガイドローラを所定位置にセットするとと
もに、前記ワーク供給装置からは1つのワークを定盤の
一定位置に供給し、この供給されたワークを定盤を回転
することによってワークが前記の第2のガイドロ−ラと
センターローラとの間に当接保持される位置まで搬送す
るというように、ワーク供給位置に対する定盤の回転方
向最奥部から順次−個宛ワークを定盤上に所定数配置し
、該配置作業の適宜時期に前記保持具によって各ワーク
を定盤上に圧接し、前記センクーローラおよび/または
ガイドローラを回転させて各保持具と共に各ワークを定
盤上で自転させて各保持具とともに各ワークを定盤上で
自転させつつ定盤を回転させて研磨するところにある。
The present invention has been made to solve the above problems,
The purpose is to provide a polishing method and device that automatically supplies workpieces onto a surface plate and polishes multiple workpieces under the same polishing conditions. In the polishing method, a workpiece to be polished is placed, and the workpiece is pressed onto a surface plate by a holder, and the surface plate is rotated to polish the workpiece. Around the board,
Guide rollers that hold each of the above-mentioned holders in contact with the center roller are provided at a predetermined interval, and facing one section of the surface plate, sequentially feed the workpieces onto the surface plate at fixed positions on the surface plate. A work supply device is provided, and in order to place the work on the surface plate, first, a first guide roller located at the innermost part in the rotational direction of the surface plate with respect to the work supply position is set at a predetermined position around the surface plate. At the same time, one work is supplied from the work supply device to a fixed position on the surface plate, and by rotating the surface plate, the work is placed between the first guide roller and the center roller. The workpiece is conveyed to a position where it is held in contact with the workpiece, and then a second guide roller adjacent to the surface plate in the counter-rotation direction is set at a predetermined position, and one workpiece is supplied from the workpiece feeding device to a fixed position on the surface plate. Then, by rotating the surface plate, the supplied workpiece is conveyed to a position where it is held in contact between the second guide roller and the center roller. A predetermined number of individual workpieces are placed on the surface plate sequentially from the innermost part in the rotational direction of the disk, and at an appropriate time during the arrangement work, each workpiece is pressed onto the surface plate by the holder, and the sencooler roller and/or guide are pressed. The polishing is performed by rotating the rollers to rotate each workpiece together with each holder on the surface plate, and rotating the surface plate while rotating each workpiece together with each holder on the surface plate.

以下本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて詳細に
説明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

第2図tag、 fb)は本発明によるボリシング装置
の要部平面図及び要部断面図、第3図は斜視図を示すも
のである。11は駆動軸(図示せず)により回転する定
盤、12はセンターローラで、定盤11の中央に駆動軸
により回転可能に設置している。
FIGS. 2(a) and 2(fb) show a plan view and a sectional view of a main part of a boring device according to the present invention, and FIG. 3 shows a perspective view thereof. 11 is a surface plate rotated by a drive shaft (not shown), and 12 is a center roller, which is installed in the center of the surface plate 11 so as to be rotatable by the drive shaft.

20.20・・・は定盤ll上に配置するトップリング
で、センターローラ12に摩擦により、あるいは歯車に
より当接しており、ワーク21.21・・・をボリシン
グ面に圧接保持するためのものである。
20.20... is a top ring placed on the surface plate 11, which is in contact with the center roller 12 by friction or by a gear, and is used to hold the workpieces 21, 21... in pressure contact with the boring surface. It is.

22.22・・・はガイドローラで、トップリング20
゜20・・・に対応する数だけ定盤11の周辺に遊転可
能に設置している。各ガイドローラ22.22・・・ば
、それぞれ対応するトップリング20.20・・・をセ
ンターローラ12との間に当接保持するためのもので、
トップリング20.20・・・が定盤ll上の周辺部に
沿って回転移動しないように所定位置に固定することに
より、各トップリング20゜20・・・の回転速度を一
定に保持することができる。
22.22... is a guide roller, and the top ring 20
A number corresponding to .degree.20... are installed around the surface plate 11 so as to be freely rotatable. Each guide roller 22, 22... is for holding the corresponding top ring 20, 20... in contact with the center roller 12,
By fixing the top rings 20, 20... in a predetermined position so that they do not rotate along the periphery of the surface plate ll, the rotational speed of each top ring 20, 20... is maintained constant. I can do it.

また、各トップリング20.20・・・は、上下方向へ
適宜手段により移動自在に設けられている。前記ガイド
ローラ22は第4図に示すようにブラケット25にガイ
ド軸23により軸支され、このブラケット25は定盤本
体3に固定されているブラケット26に軸28止めされ
ている。このため、ガイドローラ22は軸28を中心と
して後方へ反転することができる。また、ガイドローラ
22はガイド軸23を介してブラケット25上に装着さ
れたシリンダ24により上下に移動できる。
Further, each of the top rings 20, 20, . . . is provided so as to be movable in the vertical direction by appropriate means. The guide roller 22 is supported by a guide shaft 23 on a bracket 25, as shown in FIG. Therefore, the guide roller 22 can be reversed rearward about the shaft 28. Further, the guide roller 22 can be moved up and down by a cylinder 24 mounted on a bracket 25 via a guide shaft 23.

なお、センターローラ12を駆動する代りに、ガイドロ
ーラ22に駆動源を接続して、これを駆動軸とし、ガイ
ドローラ22の方を回転してトップリング20を自転さ
せるように構成してもよい。
Note that instead of driving the center roller 12, a drive source may be connected to the guide roller 22, and this may be used as a drive shaft, and the top ring 20 may be configured to rotate by rotating the guide roller 22. .

全体符号33は、ワーク供給装置であり、このワーク供
給装置33は、ワーク21を所定位置に搬送するための
ベルトコンベア42と、このベルトコンベア42により
搬送されたワークを定盤ll上に載置するためのアーム
34とから構成されている。
The overall reference numeral 33 is a work supply device, and this work supply device 33 includes a belt conveyor 42 for conveying the work 21 to a predetermined position, and a workpiece conveyed by the belt conveyor 42 is placed on a surface plate ll. It consists of an arm 34 for

21は円盤状のワークであり、34はワーク21゜21
・・・を定盤11上に供給するためのアームである。こ
のアーム34の先端部分にはワーク21゜21・・・を
把持供給するためのチャック35が設けられている。チ
ャック35は、アーム本体36に固定された2本の爪部
35a、35aと、アーム本体36に設けられたチャッ
ク開閉用シリンダ37に連動し、チャック35の開閉動
作をする爪部35bとにより形成されている。一方、ア
ーム34他端にはウェイト38を取り付けるための取付
部39を形成しており、ワーク21の重さに伴いウェイ
ト38の重さを調整し、アーム34のバランスを保つよ
うにしている。アーム34は、保持台40上面に設けら
れた昇降用シリンダ43により保持台40の4本の支柱
4(lに沿って昇降する。
21 is a disk-shaped workpiece, 34 is a workpiece 21° 21
... onto the surface plate 11. A chuck 35 for gripping and supplying the workpieces 21, 21, . . . is provided at the tip of the arm 34. The chuck 35 is formed by two claws 35a, 35a fixed to the arm body 36, and a claw 35b that opens and closes the chuck 35 in conjunction with a chuck opening/closing cylinder 37 provided on the arm body 36. has been done. On the other hand, an attachment part 39 for attaching a weight 38 is formed at the other end of the arm 34, and the weight of the weight 38 is adjusted according to the weight of the workpiece 21 to maintain the balance of the arm 34. The arm 34 moves up and down along the four pillars 4 (l) of the holding stand 40 by means of a lifting cylinder 43 provided on the upper surface of the holding stand 40.

42はアーム34の動きに連動してワーク21゜21・
・・を搬送するためのベルトコンベアである。
42 is linked to the movement of the arm 34 to move the workpieces 21°21.
A belt conveyor for transporting...

このベルトコンベア42に沿って長手方向に延設された
レール44には、保持台4oが固定された摺動部41が
移動可能に装着されている。
A sliding portion 41 to which a holding table 4o is fixed is movably mounted on a rail 44 extending longitudinally along the belt conveyor 42.

続いて、上述した装置を用いて行う本発明の方法を、装
置の作用とともに第2図ないし第5図に基づいて説明す
る。
Next, the method of the present invention using the above-mentioned apparatus will be explained based on FIGS. 2 to 5 together with the operation of the apparatus.

ベルトコンベア42上にワーク21を4個載置する(第
5図(a))。一方、ガイドローラ22aをセットし、
他のガイドローラ22b〜22dをシリンダ24により
上方へ移動させ、定盤11上を移動するワークの妨げに
ならないようにする。続いて、アーム34の摺動部41
を後方に移動させた後、昇降用シリンダ43によりアー
ム34を第1のワーク21Aの把持位置まで下降させる
と共に、チャック開閉用シリンダ37を可動させること
により、シリンダ37に連動しているチャック35の爪
部35bが可動し、チャック35が閉じてワーク21A
を把持する。そして、昇降用シリンダ43によりアーム
3jを上昇させ、再び了−ム34の摺動部41を前方に
移動させワーク21Aを定盤11上方に位置させる。さ
らに、昇降用シリンダ43によりアーム34を下降させ
ると共にチャック開閉用シリンダ37によりチャック3
5を開きワーク21Aを定盤11上に載置する(第5図
(b))。
Four works 21 are placed on the belt conveyor 42 (FIG. 5(a)). On the other hand, set the guide roller 22a,
The other guide rollers 22b to 22d are moved upward by the cylinder 24 so that they do not interfere with the workpiece moving on the surface plate 11. Next, the sliding portion 41 of the arm 34
After moving the arm 34 backward, the lifting cylinder 43 lowers the arm 34 to the gripping position of the first workpiece 21A, and the chuck opening/closing cylinder 37 is moved to open the chuck 35 linked to the cylinder 37. The claw portion 35b moves, the chuck 35 closes, and the workpiece 21A
grasp. Then, the arm 3j is raised by the lifting cylinder 43, and the sliding portion 41 of the end arm 34 is moved forward again to position the workpiece 21A above the surface plate 11. Furthermore, the arm 34 is lowered by the lifting cylinder 43, and the chuck 3 is lowered by the chuck opening/closing cylinder 37.
5 and place the workpiece 21A on the surface plate 11 (FIG. 5(b)).

定盤11を矢印E方向に、センターローラ12を矢印F
方向に回転するので、ワーク21Aは定盤11の周辺部
に沿って移動し、定盤11の回転方向最奥部のセンター
ローラ12とガイドローラ22aとの間に保持される(
第5itC))。
The surface plate 11 is moved in the direction of arrow E, and the center roller 12 is moved in the direction of arrow F.
Since the workpiece 21A rotates in the direction, the workpiece 21A moves along the peripheral part of the surface plate 11 and is held between the center roller 12 and the guide roller 22a at the innermost part of the surface plate 11 in the rotational direction (
5th itC)).

次いで、定盤11の反時計方向に隣接する第2のガイド
ローラ22bを下降させ、セットした後、所定位置に搬
送されている第2のワーク21Bを、アーム34を上記
同様に作動させることにより定盤11上に載置しく第5
図(dl)、上記と同様にワーク21Bは定盤11の周
辺部を回転して、センターローラ12とガイドローラ2
2bとの間に保持される(第5図(e))。このように
して、第5図([1〜(tl)に示すように之順次ガイ
ドローラ22C322dを定盤11の周辺に下降しセン
トすると共に、ベルトコンベア42により順次搬送され
る′ワーク22C,22Dをアーム34により定盤上に
載置した後、各ワーク21A〜21Dをトップリング2
0.20・・・によりボリシング面に圧接保持し、ポリ
シングを開始する。この際、各トップリング20.20
・・・はセンターローラ12と各ガイドローラ22.2
2・・・との間に保持されて自転するから、すべて同一
速度で、同一条件で回転することができ、各ワーク21
A〜21Dには、ポリシングのむらが発生することもな
い。
Next, the second guide roller 22b adjacent to the surface plate 11 in the counterclockwise direction is lowered and set, and then the second workpiece 21B being conveyed to a predetermined position is moved by operating the arm 34 in the same manner as described above. Place it on the surface plate 11.
Figure (dl), similarly to the above, the workpiece 21B rotates around the surface plate 11, and the center roller 12 and guide roller 2
2b (FIG. 5(e)). In this way, as shown in FIG. is placed on the surface plate by the arm 34, and then each of the works 21A to 21D is placed on the top ring 2.
0.20... is held in pressure contact with the polishing surface, and polishing is started. At this time, each top ring 20.20
... is the center roller 12 and each guide roller 22.2
Since the workpieces 21 and 2 rotate and are held between
No uneven polishing occurs in A to 21D.

ボリシングが終了後、前記アーム34の供給順序を逆行
すれば各ワーク21A〜21Dの取り出しを自動的に行
うことができる。また第5図(i)に示すように、各ト
ップリング20.20・・・を上昇させた後、別途設け
られた前記同様のアーム34により各ワーク21A〜2
1Dを取り出すようにしてもよい。
After the boring is completed, by reversing the feeding order of the arm 34, each of the works 21A to 21D can be automatically taken out. Further, as shown in FIG. 5(i), after each top ring 20, 20... is raised, each work 21A to 2
1D may also be taken out.

以上本発明の好適な実施例としてボリシング装置を例に
種々説明してきだが、定盤の研磨面および砥粒の大きさ
を変えることによりラッピング装置として使用できるこ
とはもちろんである。なお、ワークの保持具としてトッ
プリングと同じ構造のキャリアリングを用いる。
The preferred embodiment of the present invention has been described above using a boring machine as an example, but it goes without saying that it can also be used as a lapping machine by changing the polishing surface of the surface plate and the size of the abrasive grains. Note that a carrier ring having the same structure as the top ring is used as a workpiece holder.

以上述べたように、本発明によれば、センターローラと
各ガイドローラとの間にそれぞれワークおよびリング状
の保持具を当接保持して自転させているので、各保持具
に保持されているワークの研磨条件を同一条件とするこ
とができ研磨の偏りが発生することもない。また、各ガ
イドローラはワークおよび保持具に接離動自在に設けら
れているので、定盤上へのワークの供給、取り出しを自
動的に行うことができ、ワークが大型であったり、重量
が大であっても人手を煩わずことがなく事故を未然に防
ぐことができるなどの著効を奏することができる。
As described above, according to the present invention, the workpiece and the ring-shaped holder are held in contact with each other between the center roller and each guide roller and rotated. The workpieces can be polished under the same conditions, and uneven polishing does not occur. In addition, each guide roller is provided so that it can freely move toward and away from the workpiece and the holder, so the workpiece can be automatically fed onto and removed from the surface plate. Even if the system is large, it does not require much manpower and can be very effective in preventing accidents.

以上本発明につき好適な実施例を挙げて種々説明したが
、本発明はこの実施例に限定されるものではな(、発明
の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのは
もちろんのことである。
Although the present invention has been variously explained above with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments (it goes without saying that many modifications can be made without departing from the spirit of the invention). That's true.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のボリシング装置の平面図、第2図〜第4
図は本考案の実施例を示すもので、第2図+a)、 t
b)はそれぞれ要部平面図及び要部側面図、第3図は斜
視図、第4図はガイドローラの側面図、第5図はワーク
の配置手順を示す説明図である。 1・・・定盤、2・・・トップリング。 3・・・定盤本体、4・・・ガイド、5・・・アイドラ
ー、6・・・パイプ、 11・・・定盤、12・・・セ
ンターローラ、20・・・トップリング、21・・・ワ
ーク、22・・・ガイドローラ、23・・・ガイド軸。 24・・・シリンダ、 25.26・・・ブラケyト、
 28・・・軸、33・・・ワーク供給装置、34・・
・アーム、35・・・チャック、35a、35b・・・
爪部、 3.6・・−アーム本体、37・・・チャック
開閉用シリンダ、38・・・ウェイト 39・・・取付
部。 40・・・保持台、401・・・支柱、 41・・・摺
動s、 42・・・ベルトコンベア。 43・・・昇降用シリンダ、44・・・レール。 特許出願人 不二越機械工業株式会社 代表者市川知命 第1図 第3図 第4図 第5図 1A 第5図 1A
Figure 1 is a plan view of a conventional boring machine, Figures 2 to 4
The figure shows an embodiment of the present invention, and Figure 2 +a), t
FIG. 3 is a perspective view, FIG. 4 is a side view of a guide roller, and FIG. 5 is an explanatory diagram showing a procedure for arranging a workpiece. 1...Surface plate, 2...Top ring. 3... Surface plate body, 4... Guide, 5... Idler, 6... Pipe, 11... Surface plate, 12... Center roller, 20... Top ring, 21... - Workpiece, 22... Guide roller, 23... Guide shaft. 24...Cylinder, 25.26...Bracket,
28... Axis, 33... Work supply device, 34...
・Arm, 35...Chuck, 35a, 35b...
Claw portion, 3.6...-Arm body, 37... Cylinder for chuck opening/closing, 38... Weight 39... Mounting part. 40... Holding stand, 401... Support column, 41... Sliding s, 42... Belt conveyor. 43... Cylinder for lifting and lowering, 44... Rail. Patent applicant Fujikoshi Machine Industry Co., Ltd. Representative Tomomi Ichikawa Figure 1 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 1A Figure 5 1A

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、定盤上に適宜数の研磨すべきワークを配置し、該ワ
ークを定盤上に保持具によってそれぞれ圧接させつつ定
盤を回転させてワークを□ 研磨する研磨方法において
、前記一定盤の中央にはセンターローラを配置し、また
定盤の周辺には、センターローラとの間で前記の各保持
具を当接保持するガイドローラを所定間隔をあけて設け
、また定盤の一画に臨み、定盤の一定位置に順次ワーク
を定盤上に供給するワーク供給装置を設けて、ワークを
定盤上に配置すべく、まずこのワーク供給位置に対する
前記定盤の回転方向最奥部に位置する第1のガイドロー
ラを定盤周辺の所定位置にセットするとともに、前記ワ
ーク供給装置からは1つのワークを定盤の一定位置に供
給し、この供給されたワークを定盤を回転することによ
ってワークが前記の第1のガイドローラとセンターロー
ラとの間に当接保持される位置まで搬送し、次いで定盤
の反回転方向に隣接する第2のガイドローラを所定位置
にセットするとともに、前記ワーク供給装置からは1つ
のワークを定盤の一定位置に供給し、この供給されたワ
ークを定盤を回転することによってワークが前記の第2
のガイドローラとセンターローラとの間に当接保持され
る位置まで搬送するというように、ワーク供給位置に対
する定盤の回転方向最奥部から順次−個宛ワークを定盤
上に所定数配置し、該配置作業の適宜時期に前記保持具
によって各ワークを定盤上に圧接し、前記センターロー
ラおよび/またはガイドローラを回転させて各保持具と
共に各ワークを定盤上で自転させて各保持具とともに各
ワークを定盤上で自転させつつ定盤を回転させて研磨す
ることを特徴とする研磨方法。 2、ワークを設置する複数の保持具を定盤上に配置する
とともに、この保持具でワークを前記定盤に圧接しつつ
定盤を回転させてワークを研磨する研磨装置において、 前記定盤の中央部に回転可能に設置され、前記各保持具
が当接するセンターローラと、定盤の一画に臨み、定盤
の一定位置に順次ワークを定盤上に供給するワーク供給
装置と、前記各保持具に対応する数であって、この保持
具をそれぞれ前記センターローラとの間に回転可能に保
持するとともに、前記保持具と接離動自在に定盤の周辺
に設けたガイドローラと、 を具備したことを特徴とする研磨装置。
[Claims] 1. A polishing method in which an appropriate number of workpieces to be polished are placed on a surface plate, and the workpieces are pressed onto the surface plate by a holder while rotating the surface plate to polish the workpieces. A center roller is arranged in the center of the fixed plate, and guide rollers are provided around the fixed plate at predetermined intervals for holding each of the holders in contact with the center roller, and A work supply device facing one area of the surface plate and sequentially feeding workpieces onto the surface plate is provided at a certain position on the surface plate. The first guide roller located at the innermost part in the rotational direction is set at a predetermined position around the surface plate, and one workpiece is supplied from the work supply device to a fixed position on the surface plate, and this supplied workpiece is By rotating the surface plate, the workpiece is conveyed to a position where it is held in contact with the first guide roller and the center roller, and then the second guide roller adjacent to the surface plate in the counter-rotation direction is moved to a predetermined position. At the same time, one workpiece is supplied from the workpiece supply device to a fixed position on the surface plate, and by rotating the surface plate, the workpiece is placed in the second position.
A predetermined number of workpieces are sequentially placed on the surface plate from the innermost part in the direction of rotation of the surface plate with respect to the work supply position, such that the workpieces are transported to a position where they are held in contact between the guide roller and the center roller. , At an appropriate time during the arrangement work, each workpiece is pressed onto the surface plate by the holder, and the center roller and/or guide roller is rotated to rotate each workpiece together with each holder on the surface plate to hold each workpiece. A polishing method characterized by polishing by rotating each workpiece together with the tool on a surface plate while rotating the surface plate. 2. A polishing device in which a plurality of holders for setting a workpiece are arranged on a surface plate, and the workpiece is pressed against the surface plate by the holders, and the surface plate is rotated to polish the workpiece. a center roller which is rotatably installed in the center and which each of the holders abuts; a work supply device which faces one section of the surface plate and sequentially supplies the workpieces onto the surface plate at a fixed position on the surface plate; a number of guide rollers corresponding to the holders, each of which is rotatably held between the holders and the center roller, and provided around the surface plate so as to be movable toward and away from the holders; A polishing device characterized by:
JP58193942A 1983-10-17 1983-10-17 Method and device for polishing workpiece Granted JPS6085862A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63123668A (en) * 1986-11-11 1988-05-27 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Grinding machine
EP0307573A2 (en) * 1987-09-14 1989-03-22 Peter Wolters Ag Honing, lapping and polishing machine
JPH01301057A (en) * 1988-05-26 1989-12-05 Toshin Seiki Kk Polishing machine

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63123668A (en) * 1986-11-11 1988-05-27 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Grinding machine
EP0307573A2 (en) * 1987-09-14 1989-03-22 Peter Wolters Ag Honing, lapping and polishing machine
JPH01301057A (en) * 1988-05-26 1989-12-05 Toshin Seiki Kk Polishing machine

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JPS6320674B2 (en) 1988-04-28

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